JPH04355404A - 撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法 - Google Patents
撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH04355404A JPH04355404A JP3155217A JP15521791A JPH04355404A JP H04355404 A JPH04355404 A JP H04355404A JP 3155217 A JP3155217 A JP 3155217A JP 15521791 A JP15521791 A JP 15521791A JP H04355404 A JPH04355404 A JP H04355404A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- water
- refractive index
- film
- repellent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 46
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 39
- 239000005871 repellent Substances 0.000 title claims description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 27
- 230000002940 repellent Effects 0.000 title description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims abstract description 8
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims abstract description 5
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 6
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 5
- 238000007865 diluting Methods 0.000 abstract description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 10
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001481789 Rupicapra Species 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- BOXDGARPTQEUBR-UHFFFAOYSA-N azane silane Chemical class N.[SiH4] BOXDGARPTQEUBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N chromium dioxide Chemical compound O=[Cr]=O AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、撥水性能の耐久性に優
れた撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法に関
する。
れた撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】レンズ等の光学部材に施された反射防止
膜は、一般にZrO2 、SiO2 などの無機酸化物
を用いて真空蒸着法により形成されている。そのため、
汗、指紋などによる汚れが付着しやすく、且つこれらの
汚れを除去することが困難であった。これらの問題を解
決する方法としては、撥水組成物に光学部材を浸漬硬化
、塗布硬化させて撥水性薄膜を形成する方法が知られて
いる。その例として、特開昭60−221470号公報
には、パーフルオロアルキル基置換アンモニウムシラン
の希釈溶液に樹脂(光学基板)を浸漬硬化又は塗布硬化
させて撥水性薄膜を形成する方法が開示されている。ま
た特開昭62−148902号公報にはパーフルオロア
ルキル基置換アンモニウムシランの希釈溶液に樹脂(光
学基板)を浸漬硬化又は塗布硬化させて撥水性薄膜を形
成する方法が開示されている。
膜は、一般にZrO2 、SiO2 などの無機酸化物
を用いて真空蒸着法により形成されている。そのため、
汗、指紋などによる汚れが付着しやすく、且つこれらの
汚れを除去することが困難であった。これらの問題を解
決する方法としては、撥水組成物に光学部材を浸漬硬化
、塗布硬化させて撥水性薄膜を形成する方法が知られて
いる。その例として、特開昭60−221470号公報
には、パーフルオロアルキル基置換アンモニウムシラン
の希釈溶液に樹脂(光学基板)を浸漬硬化又は塗布硬化
させて撥水性薄膜を形成する方法が開示されている。ま
た特開昭62−148902号公報にはパーフルオロア
ルキル基置換アンモニウムシランの希釈溶液に樹脂(光
学基板)を浸漬硬化又は塗布硬化させて撥水性薄膜を形
成する方法が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
60−221470号公報、特開昭62−148902
号公報などに開示されている撥水組成物に光学部材を浸
漬硬化、塗布硬化させてなる薄膜は、撥水性能の耐久性
に乏しく、使用とともに撥水性能が大きく低下するとい
う欠点を有していた。
60−221470号公報、特開昭62−148902
号公報などに開示されている撥水組成物に光学部材を浸
漬硬化、塗布硬化させてなる薄膜は、撥水性能の耐久性
に乏しく、使用とともに撥水性能が大きく低下するとい
う欠点を有していた。
【0004】そこで、本発明の目的は、耐久性に優れた
撥水性薄膜を有する光学部材を提供することにある。さ
らに、本発明の目的は、眼鏡レンズ等の光学部材に、耐
久性に優れた撥水性薄膜を形成する方法を提供すること
にある。
撥水性薄膜を有する光学部材を提供することにある。さ
らに、本発明の目的は、眼鏡レンズ等の光学部材に、耐
久性に優れた撥水性薄膜を形成する方法を提供すること
にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上述した目的は以下の発
明により達成された。 その第1の発明は、下記一般式(I)
明により達成された。 その第1の発明は、下記一般式(I)
【0006】
【化3】
【0007】RはCH3 またはOCH3 を示し、m
とnは1以上の整数 で表される有機ケイ素化合物を用いて真空蒸着法により
形成した薄膜を光学基板上に備えたことを特徴とする撥
水性薄膜を有する光学部材である。
とnは1以上の整数 で表される有機ケイ素化合物を用いて真空蒸着法により
形成した薄膜を光学基板上に備えたことを特徴とする撥
水性薄膜を有する光学部材である。
【0008】その第2の発明は、下記一般式(I)
【0
009】
009】
【化4】
【0010】RはCH3 またはOCH3 を示し、m
とnは1以上の整数 で表される有機ケイ素化合物を真空下、加熱蒸発させ、
光学基板上に付着させて、この光学基板上に薄膜を形成
したことを特徴とする撥水性薄膜を有する光学部材の製
造方法である。
とnは1以上の整数 で表される有機ケイ素化合物を真空下、加熱蒸発させ、
光学基板上に付着させて、この光学基板上に薄膜を形成
したことを特徴とする撥水性薄膜を有する光学部材の製
造方法である。
【0011】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明で用いる一般式(I)で表される有機ケイ素化合物
においてmとnは1以上の整数であり、より好ましくは
アミン当量が300〜30000である。このアミン当
量の範囲内であれば撥水性能の耐久性に優れた薄膜を形
成しやすくなる。
発明で用いる一般式(I)で表される有機ケイ素化合物
においてmとnは1以上の整数であり、より好ましくは
アミン当量が300〜30000である。このアミン当
量の範囲内であれば撥水性能の耐久性に優れた薄膜を形
成しやすくなる。
【0012】一般式(I)で示される有機ケイ素化合物
、すなわちγ−(2−アミノエチルイミノ)プロピル変
性ポリジメチルシロキサンとしては、例えば以下のよう
なものが挙げられる。
、すなわちγ−(2−アミノエチルイミノ)プロピル変
性ポリジメチルシロキサンとしては、例えば以下のよう
なものが挙げられる。
【0013】
【化5】
【0014】
【化6】
【0015】
【化7】
【0016】
【化8】
【0017】
【化9】
【0018】上記化合物は、単独でも、2種以上を混合
して用いることもできる。
して用いることもできる。
【0019】本発明の製造方法は、レンズ等の光学部材
に一般に用いられている真空蒸着装置を用いて行うこと
ができる。以下、製法の一例を示す。
に一般に用いられている真空蒸着装置を用いて行うこと
ができる。以下、製法の一例を示す。
【0020】一般式(I)で示されるγ−(2−アミノ
エチルイミノ)プロピル変性ポリジメチルシロキサン(
以下、「有機ケイ素化合物(I)」と記す)を真空下、
加熱蒸発させて光学基板上に薄膜を形成する。この薄膜
の膜厚は、基本的には有機ケイ素化合物(I)の蒸発量
に依存して変化する。本発明の撥水性薄膜は、薄膜の膜
厚をオングストロームオーダーで制御することにより、
良好な撥水性を有し、且つ反射防止特性の低下を防止可
能にした薄膜を得ることができる。したがって本発明で
は、有機ケイ素化合物(I)の蒸発量をより正確に調節
することが好ましい。そこで、この蒸発量をより正確に
調節する目的で、有機ケイ素化合物(I)を、例えばイ
ソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコー
ルに溶解して使用することができる。有機ケイ素化合物
(I)を希釈することで、蒸発量を精密に調節でき、そ
の結果、目的とする膜厚を有した薄膜を容易に得ること
ができる。溶液中の有機ケイ素化合物(I)の濃度は、
上記の目的を果たせれば特に制限はなく、有機ケイ素化
合物(I)の種類及び薄膜の膜厚等により適宜決めるこ
とができる。
エチルイミノ)プロピル変性ポリジメチルシロキサン(
以下、「有機ケイ素化合物(I)」と記す)を真空下、
加熱蒸発させて光学基板上に薄膜を形成する。この薄膜
の膜厚は、基本的には有機ケイ素化合物(I)の蒸発量
に依存して変化する。本発明の撥水性薄膜は、薄膜の膜
厚をオングストロームオーダーで制御することにより、
良好な撥水性を有し、且つ反射防止特性の低下を防止可
能にした薄膜を得ることができる。したがって本発明で
は、有機ケイ素化合物(I)の蒸発量をより正確に調節
することが好ましい。そこで、この蒸発量をより正確に
調節する目的で、有機ケイ素化合物(I)を、例えばイ
ソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコー
ルに溶解して使用することができる。有機ケイ素化合物
(I)を希釈することで、蒸発量を精密に調節でき、そ
の結果、目的とする膜厚を有した薄膜を容易に得ること
ができる。溶液中の有機ケイ素化合物(I)の濃度は、
上記の目的を果たせれば特に制限はなく、有機ケイ素化
合物(I)の種類及び薄膜の膜厚等により適宜決めるこ
とができる。
【0021】上記有機ケイ素化合物溶液は、適当な容器
に入れ、加熱蒸発させる。特に好ましい容器は、多孔性
材料であり、この多孔性材料に上記溶液を含浸させ、加
熱することにより適度な蒸着速度を得ることが可能であ
る。多孔性材料は、より具体的には銅などの熱伝導性の
高い金属粉末を焼結した焼結フィルターを用いることが
好ましい。又、多孔性材料は、適度な蒸着速度を得ると
いう観点からそのメッシュを40〜200ミクロン、好
ましくは、80〜120ミクロンとすることが適当であ
る。
に入れ、加熱蒸発させる。特に好ましい容器は、多孔性
材料であり、この多孔性材料に上記溶液を含浸させ、加
熱することにより適度な蒸着速度を得ることが可能であ
る。多孔性材料は、より具体的には銅などの熱伝導性の
高い金属粉末を焼結した焼結フィルターを用いることが
好ましい。又、多孔性材料は、適度な蒸着速度を得ると
いう観点からそのメッシュを40〜200ミクロン、好
ましくは、80〜120ミクロンとすることが適当であ
る。
【0022】又、有機ケイ素化合物(I)溶液を含む容
器の加熱温度は、200〜300℃、好ましくは200
〜240℃とすることが適当な蒸着速度を得るという観
点から好ましい。
器の加熱温度は、200〜300℃、好ましくは200
〜240℃とすることが適当な蒸着速度を得るという観
点から好ましい。
【0023】真空蒸着装置内の真空度は、10−3〜1
0−5Torr、好ましくは5×10−3〜5×10−
4Torrとすることが適度な蒸着速度を得るために好
ましい。
0−5Torr、好ましくは5×10−3〜5×10−
4Torrとすることが適度な蒸着速度を得るために好
ましい。
【0024】尚、蒸着速度は1×10−3mg/cm2
秒〜1×10−5mg/cm2 秒の範囲に調節する
ことが均一な薄膜を得る上で好ましく、上記諸条件を調
整することで、この範囲の蒸着速度を得ることができる
。
秒〜1×10−5mg/cm2 秒の範囲に調節する
ことが均一な薄膜を得る上で好ましく、上記諸条件を調
整することで、この範囲の蒸着速度を得ることができる
。
【0025】蒸発した有機ケイ素化合物(I)は、真空
蒸着装置内の光学基板上に付着して薄膜を形成する。本
発明において一般式(I)の有機ケイ素化合物に限定し
ている理由は、他の有機ケイ素化合物で真空蒸着法によ
り薄膜を形成しても基板との密着が弱く薄膜がすぐに剥
がれやすい場合が大半であるためである。
蒸着装置内の光学基板上に付着して薄膜を形成する。本
発明において一般式(I)の有機ケイ素化合物に限定し
ている理由は、他の有機ケイ素化合物で真空蒸着法によ
り薄膜を形成しても基板との密着が弱く薄膜がすぐに剥
がれやすい場合が大半であるためである。
【0026】本発明の方法によれば、従来法では困難で
あった薄膜の屈折率及び膜厚を自由に制御することがで
きる。即ち、薄膜の屈折率を制御することで撥水性の強
弱をコントロールできる。又、膜厚を制御することで撥
水性の強弱と反射防止特性の低下を防止(干渉色の変化
防止)することができる。さらに、真空蒸着法で薄膜を
形成しているため有機化合物(I)間の結合が強く、撥
水性能の耐久性にも優れている。
あった薄膜の屈折率及び膜厚を自由に制御することがで
きる。即ち、薄膜の屈折率を制御することで撥水性の強
弱をコントロールできる。又、膜厚を制御することで撥
水性の強弱と反射防止特性の低下を防止(干渉色の変化
防止)することができる。さらに、真空蒸着法で薄膜を
形成しているため有機化合物(I)間の結合が強く、撥
水性能の耐久性にも優れている。
【0027】上記の観点に基づいて、本発明では、反射
防止特性の低下を防止した屈折率が1.35〜1.42
(λ=633nm)であり、かつ膜厚が1〜70オング
ストロームの撥水性薄膜を有する光学部材を提供するこ
とができる。従来の方法では屈折率と膜厚の両者をこの
範囲にすることはほとんど不可能であった。
防止特性の低下を防止した屈折率が1.35〜1.42
(λ=633nm)であり、かつ膜厚が1〜70オング
ストロームの撥水性薄膜を有する光学部材を提供するこ
とができる。従来の方法では屈折率と膜厚の両者をこの
範囲にすることはほとんど不可能であった。
【0028】尚、本発明において光学部材とは、眼鏡レ
ンズのみならず、カメラレンズ、ワードプロセッサーの
ディスプレー等に付設する光学フィルター、自動車の窓
ガラス等に用いられる広義の光学部材を意味する。
ンズのみならず、カメラレンズ、ワードプロセッサーの
ディスプレー等に付設する光学フィルター、自動車の窓
ガラス等に用いられる広義の光学部材を意味する。
【0029】本発明に用いる光学基板としては、メチル
メタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと1
種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体
、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重
合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと
1種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合
体、イオウ含有共重合体、ハロゲン含有共重合体、ポリ
カーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和
ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレ
タンなどのプラスチック製光学基板、あるいは無機ガラ
ス製光学基板などが挙げられる。
メタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと1
種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体
、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重
合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと
1種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合
体、イオウ含有共重合体、ハロゲン含有共重合体、ポリ
カーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和
ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレ
タンなどのプラスチック製光学基板、あるいは無機ガラ
ス製光学基板などが挙げられる。
【0030】さらに、これら基板上にハードコート層や
反射防止膜を有するものも光学基板に含める。従って、
光学基板としては、上記基板素材のみの基板、基板素材
上にハードコート層又は反射防止膜を設けた基板、さら
には基板素材上にハードコート層を設け、このハードコ
ート層上に反射防止膜を設けた基板の4種を例示するこ
とができる。
反射防止膜を有するものも光学基板に含める。従って、
光学基板としては、上記基板素材のみの基板、基板素材
上にハードコート層又は反射防止膜を設けた基板、さら
には基板素材上にハードコート層を設け、このハードコ
ート層上に反射防止膜を設けた基板の4種を例示するこ
とができる。
【0031】尚、反射防止膜(蒸着膜)とは、例えばレ
ンズ等の光学基板表面の反射を減少させるために設けら
れたZrO2 、SiO2 、TiO2 、Ta2 O
5 、Y2 O3 、MgF2 、Al2 O3 など
から形成される単層または多層膜またCrO2 などの
着色膜のことをいい、これらは真空蒸着法、イオンプレ
ーティング法、スパッタリング法などにより形成される
。
ンズ等の光学基板表面の反射を減少させるために設けら
れたZrO2 、SiO2 、TiO2 、Ta2 O
5 、Y2 O3 、MgF2 、Al2 O3 など
から形成される単層または多層膜またCrO2 などの
着色膜のことをいい、これらは真空蒸着法、イオンプレ
ーティング法、スパッタリング法などにより形成される
。
【0032】又、ハードコート層としては、有機ケイ素
化合物、アクリル化合物等を含んだ硬化膜を例示できる
。
化合物、アクリル化合物等を含んだ硬化膜を例示できる
。
【0033】
【発明の効果】本発明は、有機ケイ素化合物については
知られていない真空蒸着法を用いて、耐久性に優れた撥
水性薄膜を有する光学部材を提供する。さらに、本発明
では、従来困難であった撥水性薄膜の屈折率及び膜厚を
適宜制御することができ、所望の撥水性を有する光学部
材を提供できる。さらに、反射防止膜を有する光学部材
については色設定が難しい反射防止膜の干渉色を変化さ
せることなく、容易に撥水性を付与することもできる。
知られていない真空蒸着法を用いて、耐久性に優れた撥
水性薄膜を有する光学部材を提供する。さらに、本発明
では、従来困難であった撥水性薄膜の屈折率及び膜厚を
適宜制御することができ、所望の撥水性を有する光学部
材を提供できる。さらに、反射防止膜を有する光学部材
については色設定が難しい反射防止膜の干渉色を変化さ
せることなく、容易に撥水性を付与することもできる。
【0034】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 1.撥水性処理剤の調整 一般式(I)で表される化合物(商品名:KF857、
信越化学工業(株)、屈折率1.410、アミン当量8
30)をイソプロピルアルコールで3重量%に希釈した
溶液を撥水処理剤とした。
る。 1.撥水性処理剤の調整 一般式(I)で表される化合物(商品名:KF857、
信越化学工業(株)、屈折率1.410、アミン当量8
30)をイソプロピルアルコールで3重量%に希釈した
溶液を撥水処理剤とした。
【0035】2.反射防止膜付プラスチックレンズの作
成 プラスチックレンズとして、ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート重合体系プラスチックレンズ(HO
YA(株)製Hi−Lux、屈折率1.499度数0.
00)を用い、このプラスチックレンズ上に先ず真空蒸
着法(真空度2×10−5Torr)により二酸化ケイ
素からなる下地層〔屈折率1.46、膜厚0.5λ(λ
は550nmである)〕を形成した。次にこの下地層の
上に、プラスチックレンズを加熱した状態でプラスチッ
クレンズに酸素イオンビームを照射するイオンビームア
シスト法にて二酸化チタンからなる層(膜厚0.06λ
)、真空蒸着法にて二酸化ケイ素からなる層(膜厚0.
12λ)、さらにイオンビームアシスト法にて二酸化チ
タンからなる層(膜厚0.06λ)よりなる3層等価膜
である第1の低屈折率層(屈折率1.70、膜厚0.2
4λ)を形成した。
成 プラスチックレンズとして、ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート重合体系プラスチックレンズ(HO
YA(株)製Hi−Lux、屈折率1.499度数0.
00)を用い、このプラスチックレンズ上に先ず真空蒸
着法(真空度2×10−5Torr)により二酸化ケイ
素からなる下地層〔屈折率1.46、膜厚0.5λ(λ
は550nmである)〕を形成した。次にこの下地層の
上に、プラスチックレンズを加熱した状態でプラスチッ
クレンズに酸素イオンビームを照射するイオンビームア
シスト法にて二酸化チタンからなる層(膜厚0.06λ
)、真空蒸着法にて二酸化ケイ素からなる層(膜厚0.
12λ)、さらにイオンビームアシスト法にて二酸化チ
タンからなる層(膜厚0.06λ)よりなる3層等価膜
である第1の低屈折率層(屈折率1.70、膜厚0.2
4λ)を形成した。
【0036】次にこの第1の低屈折率層の上に、プラス
チックレンズを約70℃に加熱した状態でプラスチック
レンズに酸素イオンビームを照射するイオンビームアシ
スト法により二酸化チタンからなる高屈折率層(屈折率
2.40、膜厚0.5λ)を形成した。次にこの高屈折
率層の上に、真空蒸着法(真空度2×10−5Torr
)により二酸化ケイ素からなる第2の低屈折率層〔屈折
率1.46、膜厚0.25λ)を形成して、反射防止膜
付きプラスチックレンズを得た。このレンズの視感反射
率は0.4%であった。
チックレンズを約70℃に加熱した状態でプラスチック
レンズに酸素イオンビームを照射するイオンビームアシ
スト法により二酸化チタンからなる高屈折率層(屈折率
2.40、膜厚0.5λ)を形成した。次にこの高屈折
率層の上に、真空蒸着法(真空度2×10−5Torr
)により二酸化ケイ素からなる第2の低屈折率層〔屈折
率1.46、膜厚0.25λ)を形成して、反射防止膜
付きプラスチックレンズを得た。このレンズの視感反射
率は0.4%であった。
【0037】3.物性評価
(1)水に対する静止接触角
接触角計(協和界面化学(株)製品、CA−D型)を使
用し、室温下で直径1.5mmの水滴を針先に作り、こ
れをレンズの凸面の最上部に触れさせて、液滴を作った
。この時に生ずる液滴と面との角度を測定し静止接触角
とした。
用し、室温下で直径1.5mmの水滴を針先に作り、こ
れをレンズの凸面の最上部に触れさせて、液滴を作った
。この時に生ずる液滴と面との角度を測定し静止接触角
とした。
【0038】(2)視感反射率(片面)日立製作所製U
3410型自記分光高度計を用い視感反射率を測定した
。
3410型自記分光高度計を用い視感反射率を測定した
。
【0039】(3)外観
目視にて干渉色の色ムラ及び干渉色変化があるかどうか
を肉眼で調べた。(眼鏡レンズとして使用できる外観か
どうかを調べた)
を肉眼で調べた。(眼鏡レンズとして使用できる外観か
どうかを調べた)
【0040】(4)耐久性
セーム皮を25℃の水に5分間浸漬し、その後空気中に
取出した。このセーム皮で500gの荷重をかけて撥水
性膜を有するプラスチックレンズ表面を500回擦り、
その後(1)で記述した同じ方法で水に対する静止接触
角を測定した。
取出した。このセーム皮で500gの荷重をかけて撥水
性膜を有するプラスチックレンズ表面を500回擦り、
その後(1)で記述した同じ方法で水に対する静止接触
角を測定した。
【0041】(5)薄膜の膜厚測定
エリプソメトリー(偏光反射解析法)で測定した。
溝尻光学製、エリプソメーター
λ=633nm(He−Neレーザ)
【0042】(6)膜屈折率の測定
エリプソメトリー(偏光反射解析法)で測定した。
溝尻光学製、エリプソメーター
λ=633nm(He−Neレーザ)
【0043】(実施例1)
前記撥水処理剤を0.35mlしみ込ませたステンレス
製焼結フィルター(メッシュ80〜100ミクロン、1
8φ×3mm)を真空蒸着装置内にセットし、250℃
に加熱した。装置の真空度は10−4Torrとした。 上記条件で前記プラスチックレンズに成膜を行った。
製焼結フィルター(メッシュ80〜100ミクロン、1
8φ×3mm)を真空蒸着装置内にセットし、250℃
に加熱した。装置の真空度は10−4Torrとした。 上記条件で前記プラスチックレンズに成膜を行った。
【0044】その結果、膜厚30オングストローム、膜
屈折率1.41を有する薄膜が形成された。その水接触
角は100°であった。視感反射率は0.4%と処理前
の反射防止膜の視感反射率と変わらず、また干渉色の色
ムラ及び干渉色変化は見られず、撥水性能の耐久性も良
好であった。
屈折率1.41を有する薄膜が形成された。その水接触
角は100°であった。視感反射率は0.4%と処理前
の反射防止膜の視感反射率と変わらず、また干渉色の色
ムラ及び干渉色変化は見られず、撥水性能の耐久性も良
好であった。
【0045】(実施例2〜4)
前記撥水処理剤を0.26ml(実施例2)、0.32
ml(実施例3)、0.28ml(実施例4)にした以
外は、すべて実施例1と同様に行った。その結果、表1
に示すように実施例1同様に優れた物性をもつ薄膜が形
成された。
ml(実施例3)、0.28ml(実施例4)にした以
外は、すべて実施例1と同様に行った。その結果、表1
に示すように実施例1同様に優れた物性をもつ薄膜が形
成された。
【0046】(実施例5〜12)
前記撥水処理剤を、商品名:KF393、信越化学工業
(株)、屈折率1.421、 アミン当量360 (実施例5)商品名:K
F859、信越化学工業(株)、屈折率1.403、 アミン当量22,500(実施例6) 商品名:KF860、信越化学工業(株)、屈折率1.
404、 アミン当量7,600 (実施例7)商品名:KF8
61、信越化学工業(株)、屈折率1.407、 アミン当量2,000 (実施例8)商品名:KF8
62、信越化学工業(株)、屈折率1.407、 アミン当量1,900 (実施例9)商品名:KF8
67、信越化学工業(株)、屈折率1.407、 アミン当量1,700 (実施例10)商品名:KF
869、信越化学工業(株)、屈折率1.405、 アミン当量3,800 (実施例11)商品名:KF
880、信越化学工業(株)、屈折率1.405、 アミン当量1,900 (実施例12)にした以外は
、すべて実施例1と同様に行った。その結果、表1及び
表2に示すように実施例1同様に優れた物性をもつ薄膜
が形成された。尚、実施例5〜7で用いた撥水処理剤は
前述した一般式(I)に該当する化合物である。
(株)、屈折率1.421、 アミン当量360 (実施例5)商品名:K
F859、信越化学工業(株)、屈折率1.403、 アミン当量22,500(実施例6) 商品名:KF860、信越化学工業(株)、屈折率1.
404、 アミン当量7,600 (実施例7)商品名:KF8
61、信越化学工業(株)、屈折率1.407、 アミン当量2,000 (実施例8)商品名:KF8
62、信越化学工業(株)、屈折率1.407、 アミン当量1,900 (実施例9)商品名:KF8
67、信越化学工業(株)、屈折率1.407、 アミン当量1,700 (実施例10)商品名:KF
869、信越化学工業(株)、屈折率1.405、 アミン当量3,800 (実施例11)商品名:KF
880、信越化学工業(株)、屈折率1.405、 アミン当量1,900 (実施例12)にした以外は
、すべて実施例1と同様に行った。その結果、表1及び
表2に示すように実施例1同様に優れた物性をもつ薄膜
が形成された。尚、実施例5〜7で用いた撥水処理剤は
前述した一般式(I)に該当する化合物である。
【0047】(比較例1)
実施例1と同様な反射防止膜付きプラスチックレンズに
撥水処理剤(実施例1と同様)を0.5cm/秒の引き
上げ速度で浸漬塗布した。塗布後50℃、1時間の条件
で加熱処理を行いプラスチックレンズ上に薄膜を形成し
た。膜屈折率は1.41であり、膜厚は100オングス
トロームであった。その結果、表1に示すように水接触
角は95°であったが、反射防止特性が低下し、耐久性
(水接触角)が60°と落ち、更に干渉色の色ムラ、干
渉色変化が見られ、さらに反射防止膜の反射特性を低下
させるものであった。
撥水処理剤(実施例1と同様)を0.5cm/秒の引き
上げ速度で浸漬塗布した。塗布後50℃、1時間の条件
で加熱処理を行いプラスチックレンズ上に薄膜を形成し
た。膜屈折率は1.41であり、膜厚は100オングス
トロームであった。その結果、表1に示すように水接触
角は95°であったが、反射防止特性が低下し、耐久性
(水接触角)が60°と落ち、更に干渉色の色ムラ、干
渉色変化が見られ、さらに反射防止膜の反射特性を低下
させるものであった。
【0048】(比較例2)
撥水処理剤の濃度を0.01重量%にした以外は比較例
1と同様に行った。その結果、表1に示すように、反射
防止膜の反射特性が低下せず、干渉色の色ムラ、干渉色
変化が見られなかったが、水接触角が80°と低く、さ
らに撥水性能の耐久性(水接触角)も50°と低いもの
であった。
1と同様に行った。その結果、表1に示すように、反射
防止膜の反射特性が低下せず、干渉色の色ムラ、干渉色
変化が見られなかったが、水接触角が80°と低く、さ
らに撥水性能の耐久性(水接触角)も50°と低いもの
であった。
【0049】(参考例1)
撥水処理剤にて処理せず、実施例1と同様の反射防止膜
付きプラスチックレンズの水接触角について測定した。 その結果、水接触角が7°であった。
付きプラスチックレンズの水接触角について測定した。 その結果、水接触角が7°であった。
【0050】
【表1】
【0052】
【表2】
Claims (3)
- 【請求項1】 下記一般式(I) 【化1】 RはCH3 またはOCH3 を示し、mとnは1以上
の整数で表される有機ケイ素化合物を用いて真空蒸着法
により形成した薄膜を光学基板上に備えたことを特徴と
する撥水性薄膜を有する光学部材。 - 【請求項2】 下記一般式(I) 【化2】 RはCH3 またはOCH3 を示し、mとnは1以上
の整数で表される有機ケイ素化合物を真空下、加熱蒸発
させ、光学基板上に付着させて、この光学基板上に薄膜
を形成したことを特徴とする撥水性薄膜を有する光学部
材の製造方法。 - 【請求項3】 請求項2記載の光学部材において、前
記薄膜の屈折率が1.35〜1.42であり、且つ膜厚
が1〜70Åであることを特徴とする撥水性薄膜を有す
る光学部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3155217A JPH04355404A (ja) | 1991-05-31 | 1991-05-31 | 撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3155217A JPH04355404A (ja) | 1991-05-31 | 1991-05-31 | 撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04355404A true JPH04355404A (ja) | 1992-12-09 |
Family
ID=15601081
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3155217A Pending JPH04355404A (ja) | 1991-05-31 | 1991-05-31 | 撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04355404A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6296793B1 (en) | 1998-06-05 | 2001-10-02 | Merck Patent Gesellschaft Mit | Composition for preparing water-repellent coatings on optical substrates |
US6929822B2 (en) | 2001-04-27 | 2005-08-16 | Hoya Corporation | Method for manufacturing optical member having water-repellent thin film |
-
1991
- 1991-05-31 JP JP3155217A patent/JPH04355404A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6296793B1 (en) | 1998-06-05 | 2001-10-02 | Merck Patent Gesellschaft Mit | Composition for preparing water-repellent coatings on optical substrates |
US6929822B2 (en) | 2001-04-27 | 2005-08-16 | Hoya Corporation | Method for manufacturing optical member having water-repellent thin film |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2561395B2 (ja) | 撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法 | |
AU2002313976B2 (en) | Hybrid film, antireflection film comprising it, optical product, and method for restoring the defogging property of hybrid film | |
JPH09258003A (ja) | 防汚性レンズ | |
EP1057048A1 (en) | Antireflection film | |
JPS6280603A (ja) | 反射防止性を有する光学物品及びその製造方法 | |
JPH0461325B2 (ja) | ||
JP4249937B2 (ja) | 撥水性薄膜を有する光学部材およびレンズの製造方法 | |
JPH01309003A (ja) | 撥水性を有する帯電防止物品 | |
JP3449070B2 (ja) | 汚れ防止処理方法 | |
JPH04355404A (ja) | 撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法 | |
JP2004126532A (ja) | 光学部材 | |
JPH07104102A (ja) | ガラス製光学部品の撥水製反射防止膜およびその製造 方法 | |
JPH1026703A (ja) | 撥水処理されたレンズ | |
JP3570134B2 (ja) | 防汚膜の形成方法及び表示素子用フィルター | |
JP3712103B2 (ja) | プラスチックレンズの製造方法及びプラスチックレンズ | |
JP2724260B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学部材 | |
JPS6381033A (ja) | 反射防止物品およびその製造方法 | |
JP3481997B2 (ja) | 耐湿反射防止膜 | |
US5922459A (en) | Plasma-polymerized DMDAS anti-fogging film and method for manufacturing the same | |
JP4744176B2 (ja) | 薄膜及び光学部材の製造方法 | |
JPH0921901A (ja) | 硬化膜付き光学部材 | |
JP2812121B2 (ja) | 光学物品の製造方法 | |
JPH10133001A (ja) | 新規な撥水処理されたレンズ | |
JP2003329802A (ja) | 眼鏡レンズの製造方法 | |
JPH081482B2 (ja) | プラスチツク製ミラ−コ−トレンズ |