JPH04349645A - 連続成膜装置 - Google Patents

連続成膜装置

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JPH04349645A
JPH04349645A JP15256991A JP15256991A JPH04349645A JP H04349645 A JPH04349645 A JP H04349645A JP 15256991 A JP15256991 A JP 15256991A JP 15256991 A JP15256991 A JP 15256991A JP H04349645 A JPH04349645 A JP H04349645A
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substrate
pinion
rack
cart
substrate cart
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Fusao Nakamura
富佐雄 中村
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板カート搬送機構、
特に、それぞれ基板が保持された複数の基板カートを連
続して搬送しつつ、各基板に成膜処理を行うための連続
成膜装置用基板カート搬送機構に関する。
【0002】
【従来の技術及びその課題】たとえばスパッタリング装
置等の成膜装置において、複数の基板に成膜処理を行う
ために、連続移動成膜方式が採用されている。この成膜
方式は、複数の基板のそれぞれをターゲットと対向させ
つつ、連続して移動させながら、ターゲットと各基板と
の間で放電を起こさせ、基板上に膜形成を行うものであ
る。
【0003】このような成膜方式において、基板を移動
させるための搬送機構は、一般に、チャンバ内に設けら
れたコロと、コロを駆動するためのモータ及び歯車機構
等から構成される駆動系と、基板を保持するとともに前
記コロ上を移動する基板カートとから構成される。
【0004】前述のような移動成膜を行う場合には、基
板上に形成される膜厚分布を均一にするために、基板の
移動速度、すなわち基板カート搬送速度を一定にする必
要がある。しかし、前記コロを用いた搬送機構では、コ
ロの摩擦や滑り等で搬送速度が変化し、膜厚分布を均一
化するのは困難である。
【0005】そこで、チャンバ側のコロをピニオンで構
成するとともに、基板カート側にこれと噛み合うラック
を設け、これらのラック及びピニオンの噛み合いによっ
て搬送時の滑りをなくし、搬送速度を一定にしたものも
提案されている。
【0006】前記ピニオン及びラックによる搬送機構を
用いて基板の搬送を行う場合、各ピニオンは複数の独立
した駆動系で駆動されることが多い。したがって、別々
の駆動系で駆動されているピニオン間を基板カートが移
動する際に、ピニオン及びラックの各歯の位相が合わず
、この結果、基板カートのラックがピニオン上に乗り上
げたりして、基板カートの移動がスムーズに行えないと
いう問題が生じる。
【0007】一方、隣り合う各基板カート間に、ピニオ
ンのモジュールに応じた一定の隙間を設けることも考え
られるが、この隙間調整は容易ではない。
【0008】本発明の目的は、ラック及びピニオンの噛
み合いをスムーズに行わせ、基板カートを一定速度で搬
送できる基板カート搬送機構を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明に係る基板カート
搬送機構は、それぞれ基板が保持された複数の基板カー
トを連続して搬送しつつ、各基板に成膜処理を行うもの
である。この搬送機構は、第1ラック列と、第2ラック
列と、第1及び第2ピニオンと、位置決め手段とを備え
ている。
【0010】前記第1ラック列は、各基板カートに設け
られ、基板カート前端部から搬送方向中央部に延びるも
のである。前記第2ラック列は、各基板カートの第1ラ
ック列側方に設けられ、基板カート後端部から搬送方向
中央部に延びるものである。前記第1及び第2ピニオン
は、成膜装置側に設けられ、それぞれ第1及び第2ラッ
ク列と噛み合う回転可能なものである。前記位置決め手
段は、第1及び第2ピニオンの各回転位置をそれぞれ位
置決めするための手段である。
【0011】
【作用】本発明では、基板が保持された基板カートが成
膜装置内に搬入されると、成膜装置側の第1ピニオンが
基板カートの第1ラック列と噛み合う。そして、第1ピ
ニオンが回転することにより、基板カートが搬送される
。また、第2ピニオンは基板カート後端部から搬送方向
中央部に延びており、第1ピニオンによる基板カートの
搬送途中に、第2ピニオンが基板カートの第2ラック列
と噛み合う。そして、第2ピニオンの回転により基板カ
ートの搬送が行われる。
【0012】一方、第1ラック列は基板カート前端部か
ら搬送方向中央部に設けられているので、第2ピニオン
及び第2ラック列による搬送途中に、第1ピニオンが第
1ラック列から離れる。この状態から、位置決め手段が
第1ピニオンの回転位置を所定位置に位置決めする。
【0013】基板カートが連続して搬入される場合、次
に搬入された基板カートの第1ラック列と噛み合う第1
ピニオンは、上述のように、位置決め手段により所定の
回転位置に位置決めされる。したがって、第1ラック列
との噛み合いはスムーズに行われる。また、第2ピニオ
ンは、この基板カートの第2ラック列と噛み合うまでの
間に、同様に位置決め手段により所定の回転位置に位置
決めされる。したがって、第2ピニオンと第2ラック列
との噛み合いもスムーズに行われる。
【0014】このように、各ピニオンの回転位置を位置
決めしつつ基板カートの搬送を行うので、ラック及びピ
ニオンの噛み合いをスムーズに行わせることができ、基
板カートの搬送を一定速度で行える。
【0015】
【実施例】図1は本発明の一実施例が採用されたスパッ
タリング装置を示している。ここでは、サイドスパッタ
型(基板縦置型)を例にとる。図1において、成膜室1
内の下部には、1対のローラ2が対向配置されている。 各ローラ2は、所定間隔を隔てて配置されており、それ
ぞれ回転自在に支持されている。また、図示していない
が、ローラ2は、基板カート搬送方向(図1の紙面直角
方向)に複数対設けられている。ローラ2の上方には、
1対のコロ3及び4が設けられている。各コロ3,4は
、それぞれ所定間隔を隔てて配置されており、上下方向
の軸の回りに回転自在になっている。また、成膜室1内
には、上下方向及び基板カート搬送方向に延びるターゲ
ット5が設けられている。ターゲット5は、図示しない
スパッタ電源に接続されている。
【0016】成膜すべき基板6,7は、それぞれ上下に
配置された基板カート8,9に保持されている。基板カ
ート8,9は、その下部において基板カート基部10に
支持されている。基板カート基部10の下部には、基板
カート搬送方向に延びる脚部11が左右に設けられてい
る。各脚部11は、それぞれ各ローラ2上に載置されて
いる。これにより、基板カート8,9は、各ローラ2上
を図1の紙面直角方向に移動自在となっている。また、
各基板カート8,9の下部は、それぞれコロ3,3及び
コロ4,4の間に挿入されており、各コロ3及び4によ
って左右方向から支持されている。
【0017】また、基板カート基部10の下部には、そ
れぞれ基板カート搬送方向に延びるラック15,16が
配設されている。ラック15は、図2に示すように、基
板カート基部10の前端部10aから中央部にかけて配
設されている。また、ラック16は、基板カート基部1
0の後端部10bから中央部にかけて配設されている。 ラック15の後方(図2左方)及びラック16の前方(
同図右方)には、それぞれラックの延在しないスペース
Sが形成されている。また、ラック15の後端部及びラ
ック16の前端部は互いにオーバーラップしている。
【0018】一方、基板カート基部10の下方には、そ
れぞれラック15及び16と噛み合うピニオン17,1
8が対向配置されている。各ピニオン17,18は、そ
れぞれ成膜室1下部に回転自在に支持されており、後述
する駆動モータにより駆動されるようになっている。ま
た、ピニオン17,18は、成膜室1内に搬入される複
数の基板カートの各々に対応してそれぞれ複数個設けら
れている。
【0019】次に、ピニオン17の駆動系及び位置決め
機構について図3及び図4を用いて説明する。なお、ピ
ニオン18側についても同様の駆動系及び位置決め機構
が設けられており、ここではピニオン17側についての
み説明する。
【0020】成膜室1下部を貫通して回転軸20が設け
られている。ピニオン17は、この回転軸20先端に固
定されている。また、回転軸20は、成膜室1外部に設
けられた流体継手21内を貫通しており、この流体継手
21により回転自在に支持されている。回転軸20の他
端には、カム22が固定されている。
【0021】カム22は、図4に示すように、概ね円板
状の部材であり、その外周に円弧状の切欠き22a,2
2b,22c及び22dが4か所に形成されている。こ
れらの切欠き22a,22b,22c及び22dは90
°間隔で配置されている。また、ピニオン17の刃数は
12枚であり、ピニオン17の歯数とカム22の切欠き
数の比は整数比(3:1)になっている。
【0022】カム22の側方には、位置決めレバー23
が設けられている。位置決めレバー23の上端部には、
ハウジング24(図3)に取り付けられたピン25が装
着されている。位置決めレバー23は、このピン25の
回りに回動自在になっている。また、位置決めレバー2
3の中央部には、カムフォロワ26が回転自在に取り付
けられている。カムフォロワ26は、カム22の各切欠
き22a〜22d内に係止し得るようになっている。位
置決めレバー23の下端は、ばね27によって常時カム
22側に付勢されている。
【0023】カムフォロワ26の上方には、エアシリン
ダ28が設けられている。エアシリンダ28のピストン
ロッド先端は、位置決めレバー23に連結されている。 位置決めレバー23下端には、光電スイッチ30が設け
られている。この光電スイッチ30は、位置決めレバー
23がピン25の回りに回動しカムフォロワ26がカム
22の切欠き22a〜22dから離れたことを検出する
ためのものである。
【0024】また、回転軸20の下方には、駆動軸31
(図3)が配設されている。駆動軸31は、ハウジング
24の下部に設けられた支持部32によって回転自在に
支持されている。駆動軸31の一端には、ベベルギア3
3が固定されている。駆動軸31側方には、図示しない
駆動モータが配置されている。この駆動モータの軸端に
は、ベベルギア33と噛み合うベベルギアが取り付けら
れている。駆動軸31には、駆動ギア34が固定されて
いる。一方、回転軸20上には、駆動ギア34と噛み合
う伝達ギア35が回転自在に設けられている。伝達ギア
35側方において回転軸20上には、電磁クラッチ36
が設けられている。この電磁クラッチ36のオン,オフ
によって、伝達ギア35の回転力は回転軸20に対して
伝達または遮断されるようになっている。
【0025】次に、動作について説明する。成膜室1内
に基板カート8,9が搬入されていない状態では、図4
に示すように、位置決めレバー23はばね27によって
カム22側に付勢され、カムフォロワ26がカム22の
いずれかの切欠き、たとえば切欠き22dに係止してい
る。また、このとき、ピニオン17は、図3に示すよう
に、いずれかの歯の歯先が真上にきた状態となっている
【0026】成膜室1内に搬入された基板カート8,9
がピニオン17の位置にくると、ラック15がピニオン
17に噛み合って回転軸20が回転する。この回転軸2
0の回転により、カム22が回転する。これにより、カ
ムフォロワ26がカム22の切欠き22dから抜け出る
。すると、位置決めレバー23が、ばね27のばね力に
抗して時計方向に回動する。この位置決めレバー23の
回動は、光電スイッチ30によって検出される。この光
電スイッチ30からの検出信号によって、エアシリンダ
28が作動し、そのピストンロッドが突出する。これに
より、位置決めレバー23がさらに時計方向に回動し、
カムフォロワ26がカム22の切欠き22dから離れる
。これにより、以後の動作においてピニオン17が駆動
された際に、ばね27の付勢によってピニオン17の回
転に余分な負荷が加わるのが回避されている。
【0027】次に、基板カート8,9が移動してラック
15がピニオン17上方に配置されたことが、図示しな
い検出スイッチにより検出されると、この検出信号によ
り電磁クラッチ36が通電され、電磁クラッチ36がオ
ンする。これにより、電磁クラッチ36を介して伝達ギ
ア35と回転軸20が連結される。一方、駆動モータが
駆動されており、駆動モータの回転力は、ベベルギア3
3、駆動軸31及び駆動ギア34を介して伝達ギア35
に伝達され、さらに電磁クラッチ36及び回転軸20を
介してピニオン17に伝達される。そして、ピニオン1
7の回転により、ラック15を介して基板カート8,9
が搬送される。
【0028】一方、ピニオン17による搬送中には、ピ
ニオン18が同様の位置決め機構によって位置決めされ
ており、そのいずれかの歯の歯先が真上に向いた状態と
なっている。ピニオン17によって搬送されてきた基板
カート8,9がピニオン18の位置にくると、ラック1
6がピニオン18に噛み合い、ピニオン18側の回転軸
が回転する。すると、上述したピニオン17の場合と同
様に、ピニオン18側のカムが回転し、ピニオン18側
のカムフォロワがカムの切欠きから離れた状態となる。 そして、ピニオン18側の駆動系が駆動されてピニオン
18が回転を開始し、これによりラック16を介して基
板カート8,9が搬送される。
【0029】また、基板カート8,9の搬送により、ラ
ック15後端部がピニオン17から離れスペースS部分
がピニオン17上方に位置すると、基板カート8,9の
位置が図示しない検出スイッチにより検出され、この検
出信号によりピニオン17側の駆動モータがオフとなる
。また、上記検出信号によりエアシリンダ28がオフに
なる。これにより、位置決めレバー23がばね27によ
ってカム22側に付勢され、カムフォロワ26がカム2
2の外周面に当接する。そして、カムフォロワ26がカ
ム22の切欠き22a〜22dのいずれかに嵌まり込む
と、光電スイッチ30がこれを検出する。この検出によ
って電磁クラッチ36がオフとなり、この結果、伝達ギ
ア35と回転軸20との連結が解除され、カム22及び
ピニオン17の回転が停止する。また、ピニオン17の
停止時には、ピニオン17のいずれかの歯の歯先が真上
に向いた状態となっている。
【0030】なお、ピニオン17及び18による搬送途
中において、ターゲット5にスパッタ電源からの電圧が
印加され、基板カート8,9にそれぞれ保持された基板
6,7に成膜処理が行われる。
【0031】成膜処理を連続して行う際には、次に処理
すべき基板が保持された各基板カート8,9が、成膜室
1内に次々と搬入される。搬入された基板カート8,9
のラック15に対して、上述のようにピニオン17は位
置決めされており、これによりピニオン17とラック1
5との噛み合いがスムーズに行われる。同様に、ピニオ
ン18がラック16に対して位置決めされているので、
ピニオン18とラック16との噛み合いもスムーズに行
われる。これにより、成膜室1内に搬入される各基板カ
ート8,9について搬送速度にむらが生じることなく、
一定速度で搬送が行われる。
【0032】このように、連続して成膜処理を行う際に
は、カム22がカムフォロワ26及び切欠き22a〜2
2dによって常時一定の回転位置で位置決めされており
、しかもカム22と各ピニオン17,18との歯数比が
整数比となっているので、カム22と各ピニオン17,
18とが同位相となる。したがって、各ピニオン17,
18がそれぞれ基板カート10のスペースS部分で停止
した際、各ピニオン17,18の各歯先がいずれも真上
に向いた姿勢となる。これにより、各ピニオン17,1
8と各ラック15,16とのそれぞれの噛み合いがスム
ーズに行われ、各基板カート8,9の搬送が一定速度で
行われる。
【0033】また、基板カート8,9の各ピニオン17
,18上への乗り上げが防止されることから、成膜処理
すべき基板がガラス基板等の場合に基板の損傷が防止さ
れる。さらに、基板カートの乗り上げ防止により、成膜
室1内でのダストの舞い上がりがなくなり、製品歩留り
が向上する。
【0034】なお、前記実施例では、位置決め機構を構
成するカム22の切欠きの個数を4個としたが、ピニオ
ン17,18の歯数に対して整数比であれば、たとえば
切欠きの個数が6個であってもよい。
【0035】
【発明の効果】本発明に係る基板カート搬送機構では、
各基板カートに第1及び第2ラック列が設けられ、成膜
装置側に、これらと噛み合う第1及び第2ピニオンと、
各ピニオンの位置決め手段とが設けられるので、各ラッ
ク及びピニオンの噛み合いをスムーズに行わせ、一定速
度で基板カートを搬送できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例が採用された成膜室の縦断側
面部分図。
【図2】前記実施例の底面図。
【図3】前記実施例の駆動系部分の縦断面部分図。
【図4】前記駆動系部分の位置決め機構の概略構成図。
【符号の説明】
1  成膜室 6,7  基板 8,9  基板カート 15,16  ラック 17,18  ピニオン 22  カム 23  位置決めレバー

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】それぞれ基板が保持された複数の基板カー
    トを連続して搬送しつつ、各基板に成膜処理を行うため
    の連続成膜装置用基板カート搬送機構であって、前記各
    基板カートに設けられ、基板カート前端部から搬送方向
    中央部に延びる第1ラック列と、前記各基板カートの前
    記第1ラック列側方に設けられ、基板カート後端部から
    搬送方向中央部に延びる第2ラック列と、成膜装置側に
    設けられ、それぞれ前記第1及び第2ラック列とかみ合
    う回転可能な第1及び第2ピニオンと、前記第1及び第
    2ピニオンの各回転位置をそれぞれ位置決めするための
    位置決め手段と、を備えた連続成膜装置用基板カート搬
    送機構。
JP15256991A 1991-05-27 1991-05-27 連続成膜装置 Expired - Lifetime JP2565022B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994021839A1 (en) * 1993-03-15 1994-09-29 Kabushiki Kaisha Kobeseikosho Apparatus and system for arc ion plating
JP2012158805A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Ihi Corp アレイアンテナ式プラズマcvd装置

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