JPH04346957A - 含フッ素化合物及びその製造法 - Google Patents

含フッ素化合物及びその製造法

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JPH04346957A
JPH04346957A JP14669291A JP14669291A JPH04346957A JP H04346957 A JPH04346957 A JP H04346957A JP 14669291 A JP14669291 A JP 14669291A JP 14669291 A JP14669291 A JP 14669291A JP H04346957 A JPH04346957 A JP H04346957A
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heptadiene
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一也 大春
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規含フッ素化合物及
びその製造法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】本発明のCF2=CFOCF2CF(C
F3)CX=CY2 (式中、X 及びY は同一また
は相異なり、水素またはフッ素)は、文献未載の新規化
合物であり反応性の異なる二種類の二重結合を有する。 このような例は、特公昭60ー45619号公報により
、CF2=CFOCF2CF=CF2なるものが知られ
ており、また特開平1−143840号公報により、C
F2=CF(CF2)nCH=CH2なるものが知られ
ており、また特開平1−143843号公報により、C
F2=CFO(CF2)nCF=CF2 なるものが知
られており、また特開平1ー143844号公報により
、CF2=CF[OCF2CF(CF3)]nOCF2
CF2CF=CF2 なるものが知られている。 さらに、2つの二重結合を連結する原子の数が2〜4で
ありかつ分子内にトリフルオロメチル基を有するような
例は、特開平2ー 42038号公報により、CF2=
CFOCF(CF3)CF=CF2なるものが知られて
いるが、安定性が不良でありクライゼン転移反応を起こ
す。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、熱的に安定
で従来知られていなかった一般式 CF2=CFOCF
2CF(CF3)CX=CY2(式中、X 及びY は
同一または相異なり、水素またはフッ素)で表される新
規含フッ素化合物、さらに詳しくは、1,1,2,4,
4,5−ヘキサフルオロ−3− オキサー5ー トリフ
ルオロメチル−1,6− ヘプタジエン(X=H,Y=
H) 、1,1,2,4,4,5,7,7−オクタフル
オロ−3− オキサー5ー トリフルオロメチル−1,
6− ヘプタジエン(X=H,Y=F) 、1,1,2
,4,4,5,6,7,7−ノナフルオロ−3− オキ
サー5ー トリフルオロメチル−1,6− ヘプタジエ
ン(X=F,Y=F) を新規に提供することを目的と
するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、第一に、一般
式 CF2=CFOCF2CF(CF3)CX=CY2
(式中、X 及びYは同一または相異なり、水素または
フッ素)で表される新規含フッ素化合物を提供するもの
であり、第二に、一般式CF2Z1CFZ2OCF2C
F(CF3)CX=CY2(式中、X 及びY は同一
または相異なり、水素またはフッ素、Z1及びZ2は同
一または相異なり、フッ素を除くハロゲンから選ばれる
。)で表される含フッ素化合物と脱ハロゲン化剤とを反
応させて脱ハロゲン化させることを特徴とする一般式 
 CF2=CFOCF2CF(CF3)CX=CY2 
で表される新規含フッ素化合物の製造法を提供するもの
である。
【0005】本発明の新規含フッ素化合物は、含フッ素
ポリマーを合成する際のコモノマーとして、また単独重
合のためのモノマーとして有効であり例えば次のように
して合成することができる。
【0006】
【化1】
【0007】即ち、含フッ素化合物(A)は、イオン交
換膜製造用モノマーとして知られている。(A)の二重
結合をハロゲンで保護した後、熱分解する。5フッ化ヨ
ウ素とヨウ素の混合物と反応させた後エチレン、フッ化
ビニリデン、または、トリフルオロエチレンと反応させ
る。脱ヨウ化水素、脱ハロゲンすることにより、含フッ
素化合物(G)を得ることができる。
【0008】(A)と塩素、臭素などのハロゲン化合物
との反応は、速やかに進行し、(B)を定量的に与える
。このときの反応温度は0℃〜80℃である。
【0009】(C)は、(B)と水酸化アルカリとを反
応して得られるカルボン酸アルカリ塩の熱分解により得
ることができる。熱分解の反応温度は、150℃〜30
0℃、好ましくは、200℃〜280℃である。反応温
度が低い場合には転化率が低くなり、また高い場合には
、分解生成物量が多くなる。
【0010】(D)は、(C)と5フッ化ヨウ素とヨウ
素を触媒量のニオブ、タンタルなどの遷移金属触媒存在
下反応させることにより得ることができる。5フッ化ヨ
ウ素は、(C)の1〜1.2倍モル、ヨウ素は、(C)
の2〜2.4倍モル、触媒は、(C)の0.0001〜
0.1モル倍であり、反応温度は、50℃〜150℃で
ある。
【0011】(E)とエチレン、フッ化ビニリデン、ま
たは、トリフルオロエチレンとの反応は、過酸化物、ア
ゾ化合物等のラジカル開始剤の存在下、通常は20℃〜
150℃、好ましくは、60℃〜100℃で、エチレン
、フッ化ビニリデン、または、トリフルオロエチレンを
10気圧以下、好ましくは、5気圧以下に保ちながら行
うことにより、(E)を得ることができる。ラジカル開
始剤は、(D)の1〜0.001モル倍であり、好まし
くは、0.01〜0.05倍である。
【0012】(E)を少過剰の塩基と反応させることに
より脱ヨウ化水素した化合物(F)を得ることができる
。この際、塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、ナトリウムエトキシド等を採用可能であり、ま
た溶剤を用いても無溶剤でも反応する。溶剤としては例
えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、ジオキサン
、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メタノール、エ
タノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等
のエスエル類、N,Nージメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホン、水など任意の溶剤を使用することができる
。また、少過剰の塩化リチウムとN,N−ジメチルホル
ムアミドを用いて反応を行うと副生成物が少なく高収率
で得られる。また、反応温度は20℃〜200℃である
【0013】極性溶媒中、亜鉛等の脱ハロゲン化剤を用
いて(F)を脱ハロゲン化することにより、目的の化合
物 CF2=CFOCF2CF(CF3)CX=CY2
(G)を得ることができる。この反応における溶媒は、
例えばジグライム、メタノール、ジオキサン、水等が好
ましく使用される。また、脱ハロゲン化剤としては、亜
鉛の他にナトリウム、マグネシウム、スズ、銅、鉄等が
挙げられるが、反応速度の上から亜鉛が好ましい。また
、脱ハロゲン化剤のモル比は、(D) の1〜6倍、好
ましくは、1〜4倍である。反応温度は、0〜150℃
、好ましくは、0〜80℃である。
【0014】
【作用】本発明の CF2=CFOCF2CF(CF3
)CX=CY2(式中、X 及びY は同一または相異
なり、水素またはフッ素)で表される新規含フッ素化合
物は、反応性の異なった二種類の二重結合を含んでいる
ことから、単独に環化重合して、主鎖に環状構造を有す
る特殊な溶媒に可溶な含フッ素ポリマーや分子内に二重
結合からなる架橋部位を有する含フッ素ポリマーを提供
することができる。
【0015】また、他のコモノマーと共重合することに
より、主鎖に環状構造を有する特殊な溶媒に可溶な含フ
ッ素ポリマーやポリマー中に二重結合からなる架橋部位
を有する含フッ素ポリマーを提供することができる。ま
たさらにこの二重結合部位を他の官能基に変換すること
もできる。また、トリフルオロメチル基をポリマーに有
することから低屈折率、低表面張力、高軟化点のポリマ
ーを得るという効果もある。
【0016】
【実施例】実施例1 撹拌機、還流コンデンサー、滴下ロートを備えた100
0mlの4つ口フラスコに、亜鉛末 172g(2.6
3mol)、1,4−ジオキサン 350mlを入れる
。そこへCF2ClCFClOCF2CF(CF3)C
F=CF2 262g(0.66mol)を70℃でゆ
っくり滴下する。滴下終了3時間後、反応生成物を留去
する。精製蒸留により純粋な目的物 CF3=CFOC
F2CF(CF3)CF=CF2(1,1,2,4,4
,5,6,7,7−ノナフルオロ−3− オキサー5ー
 トリフルオロメチル−1,6−プタジエン)を142
g(66.0% 収率)得た。沸点 84.8 ℃。
【0017】
【化2】
【0018】19F−NMR(δppm,CFCl3 
基準) a: −113.8, b: −122.2, c: −135.5, d: −81.3, e: −
187.2, f: −75.9,g: −188.0
, h: −87.9, i: −106.3カップリ
ング定数(Hz) JFaFb=84,  JFaFc=65,  JFb
Fc=112, JFbFd=6,JFcFd=6, 
JFdFe=6, JFdFf=9, JFdFg=9
, JFeFf=9,JFeFg=14,JFeFi=
42,  JFfFg=9, JFfFi=4,JFg
Fh=38,JFgFi=116, JFhFi=55
【0019】実施例2 撹拌機、還流コンデンサー、滴下ロートを備えた100
0mlの4つ口フラスコに、亜鉛末 300g(4.5
9mol)、1,4−ジオキサン 600mlを入れる
。そこへCF2ClCFClOCF2CF(CF3)C
H=CF2 435g(1.14mol)を80℃でゆ
っくり滴下する。滴下終了3時間後、反応生成物を留去
する。精製蒸留により純粋な目的物 CF2=CFOC
F2CF(CF3)CH=CF2(1,1,2,4,4
,5,7,7−オクタフルオロ−3− オキサー5ー 
トリフルオロメチル−1,6−プタジエン)を224g
(63.4% 収率)得た。沸点 88.8 ℃。
【0020】
【化3】
【0021】1H−NMR(CDCl3, δppm)
  g:4.62(1H,ddd)19F−NMR(δ
ppm,CFCl3 基準) a: −114.0, 
b: −122.5,c: −135.2, d: −
83.4, e: −185.3, f: −78.0
,h: −70.8, i: −71.4カップリング
定数(Hz) JFaFb=85,  JFaFc=65,  JFb
Fc=112, JFbFd=6,JFcFd=6, 
JFdFf=10,  JFeFf=10,  JFe
Hg=21,JFeFi=33,  JFfFi=5,
 JHgFh=3, JHgFi=21,JFhFi=
10
【0022】実施例3 撹拌機、還流コンデンサー、滴下ロートを備えた100
0mlの4つ口フラスコに、亜鉛末 220g(3.3
6mol)、1,4−ジオキサン 440mlを入れる
。そこへCF2ClCFClOCF2CF(CF3)C
H=CH2 290g(0.84mol)を80℃でゆ
っくり滴下する。滴下終了3時間後、反応生成物を留去
する。精製蒸留により純粋な目的物 CF2=CFOC
F2CF(CF3)CH=CH2(1,1,2,4,4
,5−ヘキサフルオロ−3− オキサー5ー トリフル
オロメチル−1,6− ヘプタジエン)を120g(4
8.9% 収率)得た。沸点 88.3 ℃。
【0023】
【化3】
【0024】1H−NMR(CDCl3, δppm)
  5.8 〜6.0(3H,m)19F−NMR(δ
ppm,CFCl3 基準) a: −118.1, 
b: −125.6,c: −138.4, d: −
77.2, e: −161.3, f: −72.1
カップリング定数(Hz) JFaFb=87,  JFaFc=66,  JFb
Fc=112, JFbFd=6,JFcFd=6, 
JFdFe=6, JFdFf=6, JFeFf=2
【0025】
【発明の効果】本発明の一般式CF2=CFOCF2C
F(CF3)CX=CY2 (式中、X 及びY は同
一または相異なり、水素またはフッ素)は、二種類の反
応性の異なる二重結合を有するので、非常に容易に環化
重合し、主鎖に環状構造を有する特殊な溶媒に可溶な含
フッ素ポリマーを提供することができる。また、トリフ
ルオロメチル基を含有することから撥水性に優れている
という効果もある。
【化4】

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式  CF2=CFOCF2CF(C
    F3)CX=CY2 (式中、X 及びY は同一また
    は相異なり、水素またはフッ素)で表される含フッ素化
    合物。
  2. 【請求項2】一般式  CF2Z1CFZ2OCF2C
    F(CF3)CX=CY2(式中、X 及びY は同一
    または相異なり、水素またはフッ素、Z1及びZ2は同
    一または相異なり、フッ素を除くハロゲンから選ばれる
    。)表される含フッ素化合物と脱ハロゲン化剤とを反応
    させて脱ハロゲン化させることを特徴とする一般式  
    CF2=CFOCF2CF(CF3)CX=CY2 で
    表される含フッ素化合物の製造法。
  3. 【請求項3】Z1及びZ2がClである請求項2の製造
    法。
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WO2009104699A1 (ja) 2008-02-22 2009-08-27 旭硝子株式会社 エレクトレットおよび静電誘導型変換素子
JP5028735B2 (ja) * 2000-05-31 2012-09-19 旭硝子株式会社 新規含フッ素化合物、その製造方法およびその重合体

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP5028735B2 (ja) * 2000-05-31 2012-09-19 旭硝子株式会社 新規含フッ素化合物、その製造方法およびその重合体
WO2009104699A1 (ja) 2008-02-22 2009-08-27 旭硝子株式会社 エレクトレットおよび静電誘導型変換素子

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