JPH04346288A - 描画方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子機器等に使用され
るプリント回路基板（以後、基板と称す）を製造する工
程の１つである、パターン形成を行う描画装置における
描画方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来は、スクリーン版を用いて、パター
ンを形成するペーストを、基板上に印刷・焼成する作業
を繰り返して、パターンを形成していたが、最近では、
生産性を向上させるために、ＸＹＺ方向に相対移動する
描画ノズルを用いて、パターンを形成するペーストを、
基板に直接に描画する描画装置が注目されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の描画装
置では、描画ノズルから出るペーストの量と圧力と描画
速度の量産条件を既存の標準データから設定しているの
で、既存の標準データ設定時と量産時との間の微妙な条
件の変化によって、設定量産条件が不適切なことがあり
、描画のカスレ（描画不足）やニジミ（描画過多）又は
描画幅のバラツキ等が生じ、描画の後工程で、描画を修
正することが必要になり、コスト面、品質面での問題点
があった。

【０００４】本発明は、上記の問題点を解決して、描画
のカスレやニジミ、描画幅のバラツキがない安定した描
画を得る描画装置を提供することをその課題としている
。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本願の第１発明の描画方
法は、上記課題を解決するために、ペースト吐出圧調節
手段を有する描画ノズルを移動させて、基板上に電子回
路パターンを描画する描画装置における描画方法におい
て、演算制御手段により、描画すべき電子回路標準パタ
ーンに対する標準描画条件を記憶し、この標準描画条件
に基づいて量産すべき描画のペースト吐出圧試作条件を
設定し、このペースト吐出圧試作条件によって描画装置
を制御して試作描画を作成し、カメラ計測手段により、
試作描画を計測して、この試作描画計測結果を前記演算
制御手段に与え、前記演算制御手段により、この試作描
画計測結果を描画すべき前記電子回路標準パターンと比
較して、この試作描画が前記電子回路標準パターンに適
合するように、前記ペースト吐出圧試作条件を繰り返し
順次修正し、この修正結果に基づいて、前記ペースト吐
出圧調節手段のペースト吐出圧の量産条件を決定し、こ
の量産条件に基づいて量産描画を量産することを特徴と
する。

【０００６】本願の第２発明の描画方法は、上記課題を
解決するために、描画ノズルと基板との描画時の相対速
度を制御する相対移動速度制御手段を有する描画ノズル
を移動させて、基板上に電子回路パターンを描画する描
画装置における描画方法において、演算制御手段により
、描画すべき電子回路標準パターンに対する標準描画条
件を記憶し、この標準描画条件に基づいて量産すべき描
画の相対速度試作条件を設定し、この試作条件によって
描画装置を制御して試作描画を作成し、カメラ計測手段
により、試作描画を計測して、この試作描画計測結果を
前記演算制御手段に与え、前記演算制御手段により、こ
の試作描画計測結果を描画すべき前記電子回路標準パタ
ーンと比較して、この試作描画が前記電子回路標準パタ
ーンに適合するように、前記試作条件を繰り返し順次修
正し、この修正結果に基づいて、描画ノズルと基板との
相対移動速度の量産条件を決定し、この量産条件に基づ
いて量産描画を量産することを特徴とする。

【０００７】

【作用】本願の第１発明の描画方法は、上記の方法によ
り、演算制御手段に、描画すべき電子回路標準パターン
に対する標準描画条件を記憶させ、この標準描画条件に
基づいて量産描画のペースト吐出圧試作条件を設定し、
この設定によって描画装置を制御して試作描画を作成し
、この試作描画が前記電子回路標準パターンに適合する
ように、前記カメラ計測手段の試作描画計測結果と前記
電子回路標準パターンとを比較して、カスレがあればペ
ースト吐出圧を大きくし、ニジミがあればペースト吐出
圧を小さくして、前記ペースト吐出圧試作条件を繰り返
し順次修正し、この修正結果に基づいて、ペースト吐出
圧調節手段のペースト吐出圧の量産条件を決定し、この
量産条件に基づいて量産描画を量産することにより、既
存の標準描画条件設定時と量産時との間の微妙な条件の
変化の影響をなくして、描画のカスレやニジミがない量
産描画を安定して得ることができ、後工程での描画修正
を省くことができる。

【０００８】又、試作描画計測結果と標準パターンとの
比較によって、描画装置の材料ペースト切れやその他の
異常発生を不良品発生前に知り、不良品発生を防止する
ことができる。

【０００９】本願の第２発明の描画方法は、本願の第１
発明の描画方法において、ペースト吐出圧試作条件を繰
り返し順次修正しているのに代えて、描画ノズルと基板
との描画時の相対速度試作条件を繰り返し順次修正して
いるものである。

【００１０】この場合には、描画のカスレやニジミがな
い量産描画を安定して得ることができるだけではなく、
相対移動速度を大きくすれば、量産能力を向上すること
ができる。

【００１１】

【実施例】本発明の描画方法による描画装置の一実施例
の構成を図１と図２に基づいて説明する。

【００１２】本実施例の描画方法による描画装置は、描
画ノズル１と、カメラ計測手段２と、ノズル支持板３と
、ペースト吐出圧調節手段４と、演算制御手段７と、ノ
ズル支持板駆動手段８とからなる。

【００１３】描画ノズル１とカメラ計測手段２とは、ノ
ズル支持板３上に設置されて、基板５の上方で、ＸＹＺ
方向に移動する。

【００１４】描画ノズル１は、描画ノズル１が吐出する
ペーストの量と圧力を調節するペースト吐出圧調節手段
４を備え、基板５に描画６を描画する。

【００１５】カメラ計測手段２は、描画６を計測し、そ
の計測結果を、演算制御手段７に伝える。

【００１６】演算制御手段７は、カメラ計測手段２の計
測結果と、ノズル支持板３の各方向の移動速度と、ペー
スト吐出圧調節手段４の圧力とを検知し、自己が記憶し
ている標準データと比較演算し、その演算結果に基づい
て、前記ペースト吐出圧調節手段４とノズル支持板駆動
手段８とを制御する。

【００１７】本実施例の動作の第１例を図３に基づいて
説明する。

【００１８】ステップ＃１において、先ず、演算制御手
段７に既存の標準描画条件を記憶させ、量産前の試作を
行うために、演算制御手段７によって、演算制御手段７
に記憶されている標準描画条件の中から、量産するべき
描画の既存の標準描画条件を読出して、それに基づいて
ペースト吐出圧試作条件を設定し、ステップ＃２に進む
。

【００１９】ステップ＃２において、描画ノズル１は、
ステップ＃１の描画試作条件で、基板５上かまたは特定
の捨て描画場所に、捨て描画し、ステップ＃３に進む。

【００２０】ステップ＃３において、カメラ計測手段２
は、ステップ＃３の捨て描画を計測し、試作描画計測結
果を演算制御手段７に伝え、ステップ＃４に進む。

【００２１】ステップ＃４において、演算制御手段７は
、捨て描画のカスレの有無を判断し、カスレが無ければ
ステップ＃５に進み、カスレが有ればステップ＃７に進
む。

【００２２】図５（ａ）は正常な描画を示し、標準描画
幅Ｗ＝測定描画幅Ｗ０　となる。

【００２３】図５（ｂ）はカスレ描画を示し、標準描画
幅Ｗ＜測定描画幅Ｗ０　となる。

【００２４】ステップ＃５において、演算制御手段７は
、ニジミの有無を判断し、ニジミが無ければステップ＃
６に進み、ニジミが有ればステップ＃１２に進む。

【００２５】図５（ｃ）はニジミ描画を示し、標準描画
幅Ｗ＞測定描画幅Ｗ０　となる。

【００２６】ステップ＃６において、描画装置の量産描
画が開始される。

【００２７】ステップ＃７ａにおいて、演算制御手段７
は、ペースト吐出圧調節手段４の圧力を標準と比較し、
標準以上の場合はステップ＃８に進み、標準未満の場合
はステップ＃９ａに進む。

【００２８】ステップ＃８において、演算制御手段７は
、ペースト不足の警報をオペレータに出す。

【００２９】ステップ＃９ａにおいて、演算制御手段７
は、圧力上昇指示を、ステップ＃１０を通して、ステッ
プ＃１に戻す。

【００３０】ステップ＃１０において、演算制御手段７
は、試作回数がＭ回未満であれば、ステップ＃１に戻っ
て試作を繰り返すように描画装置を制御し、試作回数が
Ｍ回以上であれば、ステップ＃１１に進む。

【００３１】ステップ＃１１において、演算制御手段７
は、エラーの警報をオペレータに出す。

【００３２】ステップ＃１２ａにおいて、演算制御手段
７は、ペースト吐出圧調節手段４の圧力を標準と比較し
、標準以下の場合はステップ＃１３に進み、標準を超え
る場合はステップ＃１４ａに進む。

【００３３】ステップ＃１３において、演算制御手段７
は、エラーの警報をオペレータに出す。

【００３４】ステップ＃１４ａにおいて、演算制御手段
７は、圧力上昇指示を、前記ステップ＃１０を通して、
ステップ＃１に戻す。

【００３５】ステップ＃１０において、演算制御手段７
は、試作回数がＭ回未満であれば、ステップ＃１に戻っ
て試作を繰り返すように描画装置を制御し、試作回数が
Ｍ回以上であれば、前記ステップ＃１１に進む。

【００３６】尚、本実施例の動作の第１例では、演算制
御手段７は、ペースト吐出圧調節手段４のペースト吐出
圧力を制御しているが、図４の本実施例の動作の第２例
に示すように、描画ノズル１と基板との相対移動速度を
制御することもできる。

【００３７】第２例は、第１例のステップ＃７ａがステ
ップ＃７ｂに、ステップ＃９ａがステップ＃９ｂに、ス
テップ＃１２ａがステップ＃１２ｂに、ステップ＃１４
ａがステップ＃１４ｂに代わり、圧力が速度に代わる以
外は第１例と同様である。

【００３８】ステップ＃７ｂにおいて、演算制御手段７
は、描画ノズル１と基板との相対移動速度を標準と比較
し、標準未満の場合はステップ＃８に進み、標準以上の
場合はステップ＃９ｂに進む。

【００３９】ステップ＃９ｂにおいて、演算制御手段７
は、速度低下指示を、ステップ＃１０を通して、ステッ
プ＃１に戻す。

【００４０】ステップ＃１２ｂにおいて、演算制御手段
７は、描画ノズル１と基板との相対移動速度を標準と比
較し、標準を超える場合はステップ＃１３に進み、標準
以下の場合はステップ＃１４ｂに進む。

【００４１】ステップ＃１４ｂにおいて、演算制御手段
７は、速度上昇指示を、前記ステップ＃１０を通して、
ステップ＃１に戻す。

【００４２】この場合には、描画のカスレやニジミがな
い量産描画を安定して得ることができるだけではなく、
相対移動速度を大きくすれば、量産能力を向上すること
ができる。

【００４３】又、ペースト吐出圧の制御と描画ノズル１
と基板との相対移動速度の制御を組み合わせることもで
きる。この場合には、描画結果を微妙に制御できるので
、描画のカスレやニジミがない量産描画を更に安定して
得ることができる。

【００４４】又、本実施例では、ノズル支持板３を用い
て、描画ノズル１とカメラ計測手段２とを移動させてい
るが、これとは逆に、基板５を移動さても良い。

【００４５】

【発明の効果】請求項１に記載の本発明の描画方法は、
既存標準描画条件作成時と量産時との微妙な条件の変化
の影響を除いて、カスレやニジミ又は描画幅のバラツキ
が無い量産描画を安定して量産することができ、後工程
での量産描画の修正が不要になるという効果を奏する。

【００４６】又、試作条件の修正中に、描画装置のペー
スト不足やその他の異常を不良品発生前に検知できるの
で、不良品発生を予防できるという効果を奏する。

【００４７】請求項２に記載の本発明の描画方法は、上
記の効果に加えて、相対移動速度を大きくすれば、量産
能力を向上できるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の描画方法による描画装置の一実施例の
構成を示す概略斜視図である。

【図２】図１のブロック図である。

【図３】図１の動作の第１例を示すフローチャートであ
る。

【図４】図１の動作の第２例を示すフローチャートであ
る。

【図５】（ａ）は正常描画の平面図、（ｂ）はカスレ描
画の平面図、（ｂ）はニジミ描画の平面図である。

【符号の説明】

１　　描画ノズル ２　　カメラ計測手段 ３　　ノズル支持板 ４　　ペースト吐出圧調節手段 ５　　基板 ６　　描画 ７　　演算制御手段 ８　　ノズル支持板駆動手段

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　ペースト吐出圧調節手段を有する描画
   ノズルを移動させて、基板上に電子回路パターンを描画
   する描画装置における描画方法において、演算制御手段
   により、描画すべき電子回路標準パターンに対する標準
   描画条件を記憶し、この標準描画条件に基づいて量産す
   べき描画のペースト吐出圧試作条件を設定し、このペー
   スト吐出圧試作条件によって描画装置を制御して試作描
   画を作成し、カメラ計測手段により、試作描画を計測し
   て、この試作描画計測結果を前記演算制御手段に与え、
   前記演算制御手段により、この試作描画計測結果を描画
   すべき前記電子回路標準パターンと比較して、この試作
   描画が前記電子回路標準パターンに適合するように、前
   記ペースト吐出圧試作条件を繰り返し順次修正し、この
   修正結果に基づいて、前記ペースト吐出圧調節手段のペ
   ースト吐出圧の量産条件を決定し、この量産条件に基づ
   いて量産描画を量産することを特徴とする描画方法。
2. 【請求項２】　　描画ノズルと基板との描画時の相対速
   度を制御する相対移動速度制御手段を有する描画ノズル
   を移動させて、基板上に電子回路パターンを描画する描
   画装置における描画方法において、演算制御手段により
   、描画すべき電子回路標準パターンに対する標準描画条
   件を記憶し、この標準描画条件に基づいて量産すべき描
   画の相対速度試作条件を設定し、この試作条件によって
   描画装置を制御して試作描画を作成し、カメラ計測手段
   により、試作描画を計測して、この試作描画計測結果を
   前記演算制御手段に与え、前記演算制御手段により、こ
   の試作描画計測結果を描画すべき前記電子回路標準パタ
   ーンと比較して、この試作描画が前記電子回路標準パタ
   ーンに適合するように、前記試作条件を繰り返し順次修
   正し、この修正結果に基づいて、描画ノズルと基板との
   相対移動速度の量産条件を決定し、この量産条件に基づ
   いて量産描画を量産することを特徴とする描画方法。