JPH04340905A - 表面反射鏡 - Google Patents
表面反射鏡Info
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- JPH04340905A JPH04340905A JP3113251A JP11325191A JPH04340905A JP H04340905 A JPH04340905 A JP H04340905A JP 3113251 A JP3113251 A JP 3113251A JP 11325191 A JP11325191 A JP 11325191A JP H04340905 A JPH04340905 A JP H04340905A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、表面反射鏡に関する
。
。
【０００２】
【従来の技術】反射鏡は極めて汎用性の高い光学素子で
あり、種々の用途に使用されるが、表面反射鏡では、使
用環境により反射面が物理的・化学的に悪影響を受ける
のを防止するため、反射面上に保護層を設けることが一
般に行われている。
あり、種々の用途に使用されるが、表面反射鏡では、使
用環境により反射面が物理的・化学的に悪影響を受ける
のを防止するため、反射面上に保護層を設けることが一
般に行われている。
【０００３】従来、反射鏡の保護膜の材料としてはＳｉ
Ｏ，ＳｉＯ２，ＭｇＦ２が知られ、これらの材料により
、反射面上に直接もしくは複数の誘電体膜を介して保護
層を成膜形成している。上記複数の誘電体膜は増反射膜
等、分光反射率を調整するための膜を構成する。
Ｏ，ＳｉＯ２，ＭｇＦ２が知られ、これらの材料により
、反射面上に直接もしくは複数の誘電体膜を介して保護
層を成膜形成している。上記複数の誘電体膜は増反射膜
等、分光反射率を調整するための膜を構成する。
【０００４】従来、保護層の材料として知られた、上記
ＳｉＯ，ＳｉＯ２，ＭｇＦ２は、いずれも薄膜として形
成した場合、パッキング密度がバルク密度の９０〜９８
％程度で、ポーラスな膜となる。このため、これら材料
による保護層は機械的には優れた保護機能を発揮するも
のの、化学的な保護機能は必ずしも十分でなく、特に長
期使用の場合に湿度の影響が反射面や誘電体層に及び易
いという問題があった。
ＳｉＯ，ＳｉＯ２，ＭｇＦ２は、いずれも薄膜として形
成した場合、パッキング密度がバルク密度の９０〜９８
％程度で、ポーラスな膜となる。このため、これら材料
による保護層は機械的には優れた保護機能を発揮するも
のの、化学的な保護機能は必ずしも十分でなく、特に長
期使用の場合に湿度の影響が反射面や誘電体層に及び易
いという問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上記の如き
問題を解決するためになされたものであって、物理的・
化学的に強靱で耐環境性に優れた反射鏡の提供を目的と
している。
問題を解決するためになされたものであって、物理的・
化学的に強靱で耐環境性に優れた反射鏡の提供を目的と
している。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明の反射鏡は、「
金属反射面上に直接もしくは複数の誘電体膜を介して保
護層を形成して」なり、上記保護層が「Ａｌ２Ｏ３を成
分とする薄膜層」であることを特徴とする。
金属反射面上に直接もしくは複数の誘電体膜を介して保
護層を形成して」なり、上記保護層が「Ａｌ２Ｏ３を成
分とする薄膜層」であることを特徴とする。
【０００７】金属反射面は「ガラス・プラスチック・セ
ラミックによる基板の上に形成された金属薄膜の表面」
でも良いし（請求項２）、研磨やダイヤモンドターニン
グ等で「金属基板の表面を鏡面に形成したもの」でも良
い（請求項３）。
ラミックによる基板の上に形成された金属薄膜の表面」
でも良いし（請求項２）、研磨やダイヤモンドターニン
グ等で「金属基板の表面を鏡面に形成したもの」でも良
い（請求項３）。
【０００８】また上記のように、保護層は金属反射面上
に直接形成しても良いが、複数の誘電体膜を介して形成
しても良い。複数の誘電体膜は、分光反射率を調整する
ために設けられ、特に「増反射膜」として構成すること
ができる。
に直接形成しても良いが、複数の誘電体膜を介して形成
しても良い。複数の誘電体膜は、分光反射率を調整する
ために設けられ、特に「増反射膜」として構成すること
ができる。
【０００９】
【作用】発明者らの研究により、Ａｌ２Ｏ３は、成膜し
た場合のパッキング密度が高く、極めて稠密な構造の膜
が形成できることが分かった。
た場合のパッキング密度が高く、極めて稠密な構造の膜
が形成できることが分かった。
【００１０】
【実施例】以下、具体的な実施例を説明する。
【００１１】図１に於いて、符号１はガラス基板、符号
２は金属薄膜、符号３は増反射膜、符号４は保護層を示
している。このような構造の反射鏡を、以下のように作
製した。ガラス基板１上に、摂氏１５０度の基板温度で
Ａｌを１０００Åの厚さに真空蒸着して金属薄膜２とし
た。この金属薄膜２の表面が金属反射面である。
２は金属薄膜、符号３は増反射膜、符号４は保護層を示
している。このような構造の反射鏡を、以下のように作
製した。ガラス基板１上に、摂氏１５０度の基板温度で
Ａｌを１０００Åの厚さに真空蒸着して金属薄膜２とし
た。この金属薄膜２の表面が金属反射面である。
【００１２】金属薄膜２を形成したのち、摂氏３００度
まで昇温し、ＭｇＦ２を９００Åの厚さに真空蒸着して
誘電体層３１とし、さらにその上にＴｉＯ２を５００Å
の厚さに形成して誘電体層３２とした。これら誘電体層
３１，３２による増反射膜３の上に、Ａｌ２Ｏ３を厚さ
１５０Åに真空蒸着して保護層４とした。かくして実施
例反射鏡が形成された。
まで昇温し、ＭｇＦ２を９００Åの厚さに真空蒸着して
誘電体層３１とし、さらにその上にＴｉＯ２を５００Å
の厚さに形成して誘電体層３２とした。これら誘電体層
３１，３２による増反射膜３の上に、Ａｌ２Ｏ３を厚さ
１５０Åに真空蒸着して保護層４とした。かくして実施
例反射鏡が形成された。
【００１３】比較例として、上記実施例反射鏡と全く同
様にして、ガラス基板１上にＡｌの金属薄膜２、ＭｇＦ
２による誘電体層３１とＴｉＯ２による誘電体層３２に
よる増反射膜３を形成し、増反射膜３の上に保護層４と
してＭｇＦ２を１５０Åに形成した。この反射鏡を比較
例反射鏡と呼ぶ。
様にして、ガラス基板１上にＡｌの金属薄膜２、ＭｇＦ
２による誘電体層３１とＴｉＯ２による誘電体層３２に
よる増反射膜３を形成し、増反射膜３の上に保護層４と
してＭｇＦ２を１５０Åに形成した。この反射鏡を比較
例反射鏡と呼ぶ。
【００１４】これら実施例反射鏡・比較例反射鏡に対し
て、以下の如き対環境性テストを行った。即ち、摂氏７
０度・９５％ＲＨの環境下に２４０時間反射鏡を放置し
、放置前後の分光反射率の変化を調べた。
て、以下の如き対環境性テストを行った。即ち、摂氏７
０度・９５％ＲＨの環境下に２４０時間反射鏡を放置し
、放置前後の分光反射率の変化を調べた。
【００１５】比較例反射鏡の分光反射率は、当初、図３
に実線で示す如きものであったが、上記環境下に２４０
時間放置したのちは同図に破線で示すような分光反射率
となった。即ち、湿度の影響により増反射膜３が影響を
受け、全波長領域で反射率が低下し、特に短波長側でこ
の傾向が著しいことが分かる。
に実線で示す如きものであったが、上記環境下に２４０
時間放置したのちは同図に破線で示すような分光反射率
となった。即ち、湿度の影響により増反射膜３が影響を
受け、全波長領域で反射率が低下し、特に短波長側でこ
の傾向が著しいことが分かる。
【００１６】一方、実施例反射鏡では図２に示すように
、分光反射率は、対環境性テストの前（実線で示す）と
後（破線で示す）とで実質的な変化がなかった。このこ
とからＡｌ２Ｏ３の保護層が極めて高い対水蒸気防護機
能を有していることが分かる。このことは、Ａｌ２Ｏ３
の保護層が極めて稠密な構造を持ち水分子を通さないこ
とを示しており、他の気体原子・気体分子に対しても極
めて有効な防護機能を発揮するものであることが分かる
。
、分光反射率は、対環境性テストの前（実線で示す）と
後（破線で示す）とで実質的な変化がなかった。このこ
とからＡｌ２Ｏ３の保護層が極めて高い対水蒸気防護機
能を有していることが分かる。このことは、Ａｌ２Ｏ３
の保護層が極めて稠密な構造を持ち水分子を通さないこ
とを示しており、他の気体原子・気体分子に対しても極
めて有効な防護機能を発揮するものであることが分かる
。
【００１７】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば新規な
表面反射鏡を提供できる。この表面反射鏡は上記の如く
構成されているから、従来にない極めて良好な耐環境性
を実現できる。
表面反射鏡を提供できる。この表面反射鏡は上記の如く
構成されているから、従来にない極めて良好な耐環境性
を実現できる。
【図１】この発明の表面反射鏡の１実施例の構造を示す
図である。
図である。
【図２】実施例の効果を説明するための図である。
【図３】実施例反射鏡に対する比較例反射鏡の対環境性
を説明するための図である。
を説明するための図である。
１ ガラス基板
２ 金属反射膜
３ 増反射膜
４ 保護層
Claims (4)
- 【請求項１】金属反射面上に直接もしくは複数の誘電体
膜を介して保護層を形成してなり、上記保護層がＡｌ２
Ｏ３を成分とする薄膜層であることを特徴とする表面反
射鏡。 - 【請求項２】請求項１において、金属反射面が、ガラス
・プラスチック・セラミックによる基板の上に形成され
た金属薄膜の表面であることを特徴とする表面反射鏡。 - 【請求項３】請求項１において、金属反射面が、金属基
板の表面を鏡面に形成したものであることを特徴とする
表面反射鏡。 - 【請求項４】請求項１または２または３において、金属
反射面上に積層形成された複数の誘電体膜が、増反射膜
を構成することを特徴とする表面反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3113251A JPH04340905A (ja) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | 表面反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3113251A JPH04340905A (ja) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | 表面反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04340905A true JPH04340905A (ja) | 1992-11-27 |
Family
ID=14607414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3113251A Pending JPH04340905A (ja) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | 表面反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04340905A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0702098A1 (en) * | 1994-08-15 | 1996-03-20 | Applied Materials, Inc. | Corrosion-resistant aluminum article for semiconductor processing equipment |
| US5513039A (en) * | 1993-05-26 | 1996-04-30 | Litton Systems, Inc. | Ultraviolet resistive coated mirror and method of fabrication |
| DE10126364B4 (de) * | 2000-06-05 | 2006-02-09 | Fujinon Corp. | Aluminium-Reflexionsspiegel und Verfahren zu dessen Herstellung |
| JP2007271312A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Nikon Corp | 表面検査装置 |
| WO2013027400A1 (ja) * | 2011-08-25 | 2013-02-28 | 株式会社ニコン | 空間光変調素子の製造方法、空間光変調素子、空間光変調器および露光装置 |
| JP2015119046A (ja) * | 2013-12-18 | 2015-06-25 | スタンレー電気株式会社 | 発光装置及びそれを用いたプロジェクター用光源 |
-
1991
- 1991-05-17 JP JP3113251A patent/JPH04340905A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5513039A (en) * | 1993-05-26 | 1996-04-30 | Litton Systems, Inc. | Ultraviolet resistive coated mirror and method of fabrication |
| EP0702098A1 (en) * | 1994-08-15 | 1996-03-20 | Applied Materials, Inc. | Corrosion-resistant aluminum article for semiconductor processing equipment |
| US5756222A (en) * | 1994-08-15 | 1998-05-26 | Applied Materials, Inc. | Corrosion-resistant aluminum article for semiconductor processing equipment |
| US5811195A (en) * | 1994-08-15 | 1998-09-22 | Applied Materials, Inc. | Corrosion-resistant aluminum article for semiconductor processing equipment |
| DE10126364B4 (de) * | 2000-06-05 | 2006-02-09 | Fujinon Corp. | Aluminium-Reflexionsspiegel und Verfahren zu dessen Herstellung |
| DE10126364B9 (de) * | 2000-06-05 | 2006-07-13 | Fujinon Corp. | Aluminium-Reflexionsspiegel und Verfahren zu dessen Herstellung |
| JP2007271312A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Nikon Corp | 表面検査装置 |
| JP4635939B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2011-02-23 | 株式会社ニコン | 表面検査装置 |
| WO2013027400A1 (ja) * | 2011-08-25 | 2013-02-28 | 株式会社ニコン | 空間光変調素子の製造方法、空間光変調素子、空間光変調器および露光装置 |
| JPWO2013027400A1 (ja) * | 2011-08-25 | 2015-03-05 | 株式会社ニコン | 空間光変調素子の製造方法、空間光変調素子、空間光変調器および露光装置 |
| US9217860B2 (en) | 2011-08-25 | 2015-12-22 | Nikon Corporation | Spatial light modulation elements, method for manufacturing same, and spatial light modulators and exposure apparatus comprising same |
| JP2015119046A (ja) * | 2013-12-18 | 2015-06-25 | スタンレー電気株式会社 | 発光装置及びそれを用いたプロジェクター用光源 |
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