JPH06138311A - 無位相反射鏡 - Google Patents
無位相反射鏡Info
- Publication number
- JPH06138311A JPH06138311A JP29132592A JP29132592A JPH06138311A JP H06138311 A JPH06138311 A JP H06138311A JP 29132592 A JP29132592 A JP 29132592A JP 29132592 A JP29132592 A JP 29132592A JP H06138311 A JPH06138311 A JP H06138311A
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- Japan
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- thin film
- reflection
- metallic thin
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 優れた位相特性と高い反射特性を有する無位
相反射鏡を提供すること。 【構成】 透明基板の片面上に反射層として金属薄膜を
有する無位相反射鏡において、該反射層側の最外層がＭ
ｇＦ2 層であることを特徴とする無位相反射鏡である。
相反射鏡を提供すること。 【構成】 透明基板の片面上に反射層として金属薄膜を
有する無位相反射鏡において、該反射層側の最外層がＭ
ｇＦ2 層であることを特徴とする無位相反射鏡である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＯＡ機器、光通信装
置、光情報処理装置、光学用製造装置あるいはカメラ等
の光学機器等に使用される反射鏡に関する。
置、光情報処理装置、光学用製造装置あるいはカメラ等
の光学機器等に使用される反射鏡に関する。
【０００２】
【従来技術及びその問題点】従来から、光の反射を利用
して光の進行方向を変えたり、像を結ばせたりするた
め、反射鏡が一般的に使用されてきた。反射鏡として
は、従来、ガラスの表面を研磨して銀、アルミニウムな
どの金属薄膜を蒸着したものと、誘電体多層膜を蒸着し
たものが知られている。一方、最近では光学系が著しく
複雑になり、光路の変更が光量の減少をできるだけ伴わ
ずに自由に出来ることが要求されている。また、Ｓ偏光
とＰ偏光の位相の差が無い反射鏡が求められている。
して光の進行方向を変えたり、像を結ばせたりするた
め、反射鏡が一般的に使用されてきた。反射鏡として
は、従来、ガラスの表面を研磨して銀、アルミニウムな
どの金属薄膜を蒸着したものと、誘電体多層膜を蒸着し
たものが知られている。一方、最近では光学系が著しく
複雑になり、光路の変更が光量の減少をできるだけ伴わ
ずに自由に出来ることが要求されている。また、Ｓ偏光
とＰ偏光の位相の差が無い反射鏡が求められている。
【０００３】しかしながら、金属薄膜を蒸着した反射鏡
のうち、金や銀を用いたものは、反射率が高く、位相差
の小さい無位相反射鏡が得られるが、著しく高価である
と同時に耐摩耗性が悪いため実用的でなく、アルミニウ
ムを用いた反射鏡は安価であるが、位相差が大きい。ま
た、金属薄膜を用いた反射鏡では、耐久性に劣るものも
ある。他方、誘電体を用いる場合は、位相差が小さく、
性能の良いものを作成できるが、なかなか反射率が上が
らないため、数層から十数層の誘電体薄膜を重ねてコー
トしなければならず、コストの面でかなり負担がかかっ
ていた。
のうち、金や銀を用いたものは、反射率が高く、位相差
の小さい無位相反射鏡が得られるが、著しく高価である
と同時に耐摩耗性が悪いため実用的でなく、アルミニウ
ムを用いた反射鏡は安価であるが、位相差が大きい。ま
た、金属薄膜を用いた反射鏡では、耐久性に劣るものも
ある。他方、誘電体を用いる場合は、位相差が小さく、
性能の良いものを作成できるが、なかなか反射率が上が
らないため、数層から十数層の誘電体薄膜を重ねてコー
トしなければならず、コストの面でかなり負担がかかっ
ていた。
【０００４】
【発明の目的】本発明は、前記従来技術の問題点を解消
し、優れた位相特性と高い反射特性を有する無位相反射
鏡を提供することを目的とする。
し、優れた位相特性と高い反射特性を有する無位相反射
鏡を提供することを目的とする。
【０００５】
【発明の概要】本発明は、反射層の最外層としてＭｇＦ
2 を用いることによって上記目的を達成したものであ
る。すなわち、本発明の無位相反射鏡は、透明基板の片
面上に反射層として金属薄膜を有する無位相反射鏡にお
いて、反射層側の最外層がＭｇＦ2 層であることを特徴
とする。
2 を用いることによって上記目的を達成したものであ
る。すなわち、本発明の無位相反射鏡は、透明基板の片
面上に反射層として金属薄膜を有する無位相反射鏡にお
いて、反射層側の最外層がＭｇＦ2 層であることを特徴
とする。
【０００６】本発明の反射鏡において透明基板として
は、通常、ガラス基板が用いられる。この基板上に反射
層として施される金属薄膜には、位相特性、反射特性、
成膜性及び価格を考慮すると、銅を使用するのが好まし
いが、銅に限定されるものではない。金属薄膜は、一般
に、６０〜１０００ｎｍの膜厚で設けられる。この膜厚
が６０ｎｍ未満では不透明にならず、銅本来の反射率が
得られず、１０００ｎｍ（１μｍ）を超えると、クラッ
クが生じることがある。金属薄膜は、真空蒸着、スパッ
タリング等の公知手段で設けることができる。
は、通常、ガラス基板が用いられる。この基板上に反射
層として施される金属薄膜には、位相特性、反射特性、
成膜性及び価格を考慮すると、銅を使用するのが好まし
いが、銅に限定されるものではない。金属薄膜は、一般
に、６０〜１０００ｎｍの膜厚で設けられる。この膜厚
が６０ｎｍ未満では不透明にならず、銅本来の反射率が
得られず、１０００ｎｍ（１μｍ）を超えると、クラッ
クが生じることがある。金属薄膜は、真空蒸着、スパッ
タリング等の公知手段で設けることができる。
【０００７】上記のような金属薄膜の空気側に反射率の
調整、耐候性や耐久性の改善、位相特性の向上などを目
的として、別の層を１層以上設けることができる。例え
ば、金属薄膜の空気側にＡｌ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ
2 、ＺｒＯ2 などの層を設けることができ、特にアルミ
ナ層を設けることによって耐候性が改善される。この層
は、通常、５０〜１０００ｎｍ（１μｍ）、好ましくは
５０〜３００ｎｍ、より好ましくは７５〜２５０ｎｍの
層厚で設ける。この層厚が５０ｎｍ未満であると、耐候
性の改善が充分に発揮されず、１０００ｎｍを超える
と、クラックが入る可能性が多くなる。これらの層は、
真空蒸着、スパッタリング等の公知手段で設けることが
できる。
調整、耐候性や耐久性の改善、位相特性の向上などを目
的として、別の層を１層以上設けることができる。例え
ば、金属薄膜の空気側にＡｌ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＳｉＯ
2 、ＺｒＯ2 などの層を設けることができ、特にアルミ
ナ層を設けることによって耐候性が改善される。この層
は、通常、５０〜１０００ｎｍ（１μｍ）、好ましくは
５０〜３００ｎｍ、より好ましくは７５〜２５０ｎｍの
層厚で設ける。この層厚が５０ｎｍ未満であると、耐候
性の改善が充分に発揮されず、１０００ｎｍを超える
と、クラックが入る可能性が多くなる。これらの層は、
真空蒸着、スパッタリング等の公知手段で設けることが
できる。
【０００８】本発明の反射鏡においては、反射層の最外
層としてＭｇＦ2 層を有することが必要である。この層
は、通常、５０〜１０００ｎｍ、好ましくは５０〜３０
０ｎｍ、より好ましくは７５〜２５０ｎｍの層厚で設け
られる。この最外層としてのＭｇＦ2 層は、位相差の小
さい範囲を広くする効果を奏し、使用する波長範囲によ
って好適な膜厚が変動する。この層は、真空蒸着、スパ
ッタリング等の公知手段で設けることができる。
層としてＭｇＦ2 層を有することが必要である。この層
は、通常、５０〜１０００ｎｍ、好ましくは５０〜３０
０ｎｍ、より好ましくは７５〜２５０ｎｍの層厚で設け
られる。この最外層としてのＭｇＦ2 層は、位相差の小
さい範囲を広くする効果を奏し、使用する波長範囲によ
って好適な膜厚が変動する。この層は、真空蒸着、スパ
ッタリング等の公知手段で設けることができる。
【０００９】
【発明の実施例】次に、実施例に基づいて本発明を詳述
するが、本発明はこれによって制限されるものではな
い。
するが、本発明はこれによって制限されるものではな
い。
【００１０】実施例１及び２ 屈折率１．５１のガラス基板の片面に表１に示す層を下
記の方法で設けた。上記ガラス基板を精密洗浄した後、
表１に示した層を表１に示した順に真空蒸着法によって
コートした。
記の方法で設けた。上記ガラス基板を精密洗浄した後、
表１に示した層を表１に示した順に真空蒸着法によって
コートした。
【００１１】
【表１】
【００１２】得られた反射鏡について、７００〜９００
ｎｍの波長範囲における位相差及び反射率を測定した。
実施例１で作製した反射鏡の位相差を図１、反射率を図
２に示し、実施例２で作製した反射鏡の位相差を図３に
示す。これらの結果から本発明の反射鏡は、位相差が小
さく、反射率が高いことが分かる。すなわち、上記のよ
うにして得られた本発明の反射鏡は、７８０ｎｍの波長
の光に対しては位相差がゼロであり、７００〜９００ｎ
ｍの広い波長範囲にわたって位相差が±１０程度と小さ
く、Ｐ偏光でも７００ｎｍ以上のかなり広い波長範囲に
おいて９８％以上の高い反射率を示す。
ｎｍの波長範囲における位相差及び反射率を測定した。
実施例１で作製した反射鏡の位相差を図１、反射率を図
２に示し、実施例２で作製した反射鏡の位相差を図３に
示す。これらの結果から本発明の反射鏡は、位相差が小
さく、反射率が高いことが分かる。すなわち、上記のよ
うにして得られた本発明の反射鏡は、７８０ｎｍの波長
の光に対しては位相差がゼロであり、７００〜９００ｎ
ｍの広い波長範囲にわたって位相差が±１０程度と小さ
く、Ｐ偏光でも７００ｎｍ以上のかなり広い波長範囲に
おいて９８％以上の高い反射率を示す。
【００１３】なお、位相差の測定は、溝尻光学工業所製
のエリプソメーターによって行い、Ｓ及びＰ偏光の反射
率の測定は、日立製作所製の分光光度計Ｕ−４０００に
よって行った。
のエリプソメーターによって行い、Ｓ及びＰ偏光の反射
率の測定は、日立製作所製の分光光度計Ｕ−４０００に
よって行った。
【００１４】比較例１及び２ 屈折率１．５１のガラス基板の片面に表２に示す層を設
けた。層の形成は、実施例と同様に基板を精密洗浄した
後、真空蒸着によって行った。
けた。層の形成は、実施例と同様に基板を精密洗浄した
後、真空蒸着によって行った。
【００１５】
【表２】
【００１６】得られた反射鏡について、７００〜９００
ｎｍの波長範囲における位相差及び反射率を測定した。
比較例１で作製した反射鏡の位相差を図５、反射率を図
６に示し、比較例２で作製した反射鏡の位相差を図７、
反射率を図８に示す。
ｎｍの波長範囲における位相差及び反射率を測定した。
比較例１で作製した反射鏡の位相差を図５、反射率を図
６に示し、比較例２で作製した反射鏡の位相差を図７、
反射率を図８に示す。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば、優れた位相特性と高い
反射特性を示す無位相反射鏡が得られる。この反射鏡
は、広い波長範囲においてＰ偏光とＳ偏光の位相差が小
さく、吸収が小さく、高い反射率を示すため、各種の光
学系などにおいて光路の変更に有効である。
反射特性を示す無位相反射鏡が得られる。この反射鏡
は、広い波長範囲においてＰ偏光とＳ偏光の位相差が小
さく、吸収が小さく、高い反射率を示すため、各種の光
学系などにおいて光路の変更に有効である。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で作製した反射鏡の位相差を示すグラ
フである。
フである。
【図２】実施例１で作製した反射鏡の反射率を示すグラ
フである。
フである。
【図３】実施例２で作製した反射鏡の位相差を示すグラ
フである。
フである。
【図４】実施例２で作製した反射鏡の反射率を示すグラ
フである。
フである。
【図５】比較例１で作製した反射鏡の位相差を示すグラ
フである。
フである。
【図６】比較例１で作製した反射鏡の反射率を示すグラ
フである。
フである。
【図７】比較例２で作製した反射鏡の位相差を示すグラ
フである。
フである。
【図８】比較例２で作製した反射鏡の反射率を示すグラ
フである。
フである。
実線 Ｓ偏光の反射率 点線 Ｐ偏光の反射率。
Claims (2)
- 【請求項１】 透明基板の片面上に反射層として金属薄
膜を有する無位相反射鏡において、反射層側の最外層が
ＭｇＦ2 層であることを特徴とする無位相反射鏡。 - 【請求項２】 ＭｇＦ2 層が５０〜１０００ｎｍの層厚
を有する請求項１記載の無位相反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29132592A JPH06138311A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 無位相反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29132592A JPH06138311A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 無位相反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06138311A true JPH06138311A (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=17767453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29132592A Pending JPH06138311A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 無位相反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06138311A (ja) |
-
1992
- 1992-10-29 JP JP29132592A patent/JPH06138311A/ja active Pending
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