JPH04340522A - 透明導電性フィルム - Google Patents
透明導電性フィルムInfo
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- JPH04340522A JPH04340522A JP11146791A JP11146791A JPH04340522A JP H04340522 A JPH04340522 A JP H04340522A JP 11146791 A JP11146791 A JP 11146791A JP 11146791 A JP11146791 A JP 11146791A JP H04340522 A JPH04340522 A JP H04340522A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラスチックフィルム
またはシートを基板とした透明導電性フィルムに関する
。さらに詳しくは、液晶表示用電極、電場発光用電極等
、オプトエレクトロニクス、電気分野に広く利用可能な
シート抵抗の低いプラスチックフィルムまたはシートを
基板とした透明導電性フィルムに関する。
またはシートを基板とした透明導電性フィルムに関する
。さらに詳しくは、液晶表示用電極、電場発光用電極等
、オプトエレクトロニクス、電気分野に広く利用可能な
シート抵抗の低いプラスチックフィルムまたはシートを
基板とした透明導電性フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、汎用されている透明電極には、ガ
ラス基板上に酸化錫膜やＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ
Ｏｘｉｄｅ）膜等を形成した透明導電性積層物が広く
用いられている。 しかしながら、これらは、基板がガラスであるために、
可撓性、加工性等が劣る為、用途面での制約を受け、さ
らには薄型化、量産化の期待にも答えることが困難であ
った。
ラス基板上に酸化錫膜やＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ
Ｏｘｉｄｅ）膜等を形成した透明導電性積層物が広く
用いられている。 しかしながら、これらは、基板がガラスであるために、
可撓性、加工性等が劣る為、用途面での制約を受け、さ
らには薄型化、量産化の期待にも答えることが困難であ
った。
【０００３】そこで、近年、プラスチックフィルムまた
はシートを基板とした透明導電性フィルムが、可撓性、
加工性、耐衝撃性、薄型化、軽量化、連続生産性等で注
目され、一部実用化され始めている。
はシートを基板とした透明導電性フィルムが、可撓性、
加工性、耐衝撃性、薄型化、軽量化、連続生産性等で注
目され、一部実用化され始めている。
【０００４】しかしながら、プラスチックフィルムまた
はシート基板にＩＴＯなどの透明電極を形成した従来品
の透明導電性フィルムは、シート抵抗が １００Ω／□
程度となり、電卓や時計用には充分であったが、表示容
量の大きなものには不充分であった。その為、液晶表示
素子の大面積化を行う為には、透明導電膜の低抵抗化が
必要であり、具体的には、１２インチ画面で駆動デュー
ティが１／２００の場合には、シート抵抗が１０Ω／□
以下の電極膜が必要であった。
はシート基板にＩＴＯなどの透明電極を形成した従来品
の透明導電性フィルムは、シート抵抗が １００Ω／□
程度となり、電卓や時計用には充分であったが、表示容
量の大きなものには不充分であった。その為、液晶表示
素子の大面積化を行う為には、透明導電膜の低抵抗化が
必要であり、具体的には、１２インチ画面で駆動デュー
ティが１／２００の場合には、シート抵抗が１０Ω／□
以下の電極膜が必要であった。
【０００５】シート抵抗の低い電極膜を得るためには、
透明導電膜の膜厚を厚くすることが従来行われてきたが
、透明導電膜の膜厚が厚くなった場合、可視光線透過率
が低下したり、膜厚が厚くなったことにより、透明導電
膜にクラックが発生し易くなり、表示素子が暗くなった
り、プラスチックフィルムがカールしたり、透明導電性
フィルムの可撓性が損なわれ、クラックが発生しやすく
なるという問題が発生した。
透明導電膜の膜厚を厚くすることが従来行われてきたが
、透明導電膜の膜厚が厚くなった場合、可視光線透過率
が低下したり、膜厚が厚くなったことにより、透明導電
膜にクラックが発生し易くなり、表示素子が暗くなった
り、プラスチックフィルムがカールしたり、透明導電性
フィルムの可撓性が損なわれ、クラックが発生しやすく
なるという問題が発生した。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、常温でシー
ト抵抗の低い透明導電性フィルムを提供することを目的
とするものである。
ト抵抗の低い透明導電性フィルムを提供することを目的
とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、銀を主成分と
する薄膜を金属酸化物層で積層した透明導電膜を用いる
ことにより、常温でプラスチックフィルム上に低抵抗、
かつ透明性の高い導電膜の形成された透明導電性フィル
ムである。
する薄膜を金属酸化物層で積層した透明導電膜を用いる
ことにより、常温でプラスチックフィルム上に低抵抗、
かつ透明性の高い導電膜の形成された透明導電性フィル
ムである。
【０００８】本発明に用いられる透明導電膜は、基板で
あるプラスチックフィルム上に銀の薄膜層を、酸化イン
ジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモ
ン、酸化タングステン等の透明酸化物膜で挟み合わせて
形成されたものであり、特に酸化インジウムまたはＩＴ
Ｏで挟み合わせたものが好ましい。銀の薄膜層は、少な
くとも、銀を主成分として８０％以上含むことが望まし
く、電気特性、光学特性および耐久性から金、銅、白金
、パラジウムなどの金属を１％〜１５％の範囲で含む事
が好ましい。
あるプラスチックフィルム上に銀の薄膜層を、酸化イン
ジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモ
ン、酸化タングステン等の透明酸化物膜で挟み合わせて
形成されたものであり、特に酸化インジウムまたはＩＴ
Ｏで挟み合わせたものが好ましい。銀の薄膜層は、少な
くとも、銀を主成分として８０％以上含むことが望まし
く、電気特性、光学特性および耐久性から金、銅、白金
、パラジウムなどの金属を１％〜１５％の範囲で含む事
が好ましい。
【０００９】透明導電膜のシート抵抗の低下と光線透過
率の向上の為には、銀薄膜層を複数層設けたものが好ま
しい。
率の向上の為には、銀薄膜層を複数層設けたものが好ま
しい。
【００１０】本発明で、基板として使用されるプラスチ
ックフィルムは、 ６００ｎｍの波長における光線透過
率が少なくとも８０％以上、好ましくは８５％以上であ
ることが望ましい。
ックフィルムは、 ６００ｎｍの波長における光線透過
率が少なくとも８０％以上、好ましくは８５％以上であ
ることが望ましい。
【００１１】また、フィルムの素材としては疎水性樹脂
が望ましく、好ましい樹脂を例示するならば、ポリエス
テル、ポリアミド、ポリエーテル、ポリスルフォン、ポ
リアリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリカーボネ
ート、ポリエーテルエーテルケトンなどのホモポリマー
またはコポリマー等があげられる。液晶表示素子用には
、プラスチックフィルム基板に酸素および水蒸気に対す
るバリヤー層を設けたものを用いるのが好ましい。
が望ましく、好ましい樹脂を例示するならば、ポリエス
テル、ポリアミド、ポリエーテル、ポリスルフォン、ポ
リアリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリカーボネ
ート、ポリエーテルエーテルケトンなどのホモポリマー
またはコポリマー等があげられる。液晶表示素子用には
、プラスチックフィルム基板に酸素および水蒸気に対す
るバリヤー層を設けたものを用いるのが好ましい。
【００１２】本発明に用いられるプラスチックフィルム
の厚みは、通常５〜 ５００μｍ、好ましくは１０〜
３００μｍであり、さらに好ましくは３０〜 １００μ
ｍが適当である。
の厚みは、通常５〜 ５００μｍ、好ましくは１０〜
３００μｍであり、さらに好ましくは３０〜 １００μ
ｍが適当である。
【００１３】透明導電膜を形成する方法としは、スプレ
ー法、塗布等のほか、真空処理法等の公知の方法が利用
出来る。ここで、真空処理法とは、真空下で金属等の薄
膜を形成する方法であって、真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト
蒸着法、イオンクラスタービーム法等が挙げられる。以
下、実施例により本発明を詳しく説明する。
ー法、塗布等のほか、真空処理法等の公知の方法が利用
出来る。ここで、真空処理法とは、真空下で金属等の薄
膜を形成する方法であって、真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト
蒸着法、イオンクラスタービーム法等が挙げられる。以
下、実施例により本発明を詳しく説明する。
【００１４】
【実施例】実施例１
厚み １００μｍのポリエーテルスルホン製未延伸フィ
ルムの片面に、ＩＴＯ（４００Å）／銀（１００Å）／
ＩＴＯ（４００Å）からなる透明導電膜をＤＣマグネト
ロンスパッタリング法により形成した。得られた透明導
電性フィルムの ６００ｎｍにおける光線透過率は８６
％であり、シート抵抗は１０Ω／□であった。
ルムの片面に、ＩＴＯ（４００Å）／銀（１００Å）／
ＩＴＯ（４００Å）からなる透明導電膜をＤＣマグネト
ロンスパッタリング法により形成した。得られた透明導
電性フィルムの ６００ｎｍにおける光線透過率は８６
％であり、シート抵抗は１０Ω／□であった。
【００１５】得られた透明導電性フィルムを用いて、１
２インチサイズの単純マトリックス型液晶表示装置（Ｌ
ＣＤ）を作製した。作製したＬＣＤに表示のムラは認め
られなかった。
２インチサイズの単純マトリックス型液晶表示装置（Ｌ
ＣＤ）を作製した。作製したＬＣＤに表示のムラは認め
られなかった。
【００１６】実施例２
厚み７５μｍのポリスルホン製フィルムの片面に、ＩＴ
Ｏ（５００Å）／銀（１５０Å）／ＩＴＯ（５００Å）
からなる透明導電膜をイオンプレーティングにより形成
した。得られた透明導電性フィルムの光線透過率は８０
％であり、シート抵抗は５Ω／□であった。得られた透
明導電性フィルムを用いて実施例１と同様のＬＣＤを作
製したが、表示ムラは認められなかった。
Ｏ（５００Å）／銀（１５０Å）／ＩＴＯ（５００Å）
からなる透明導電膜をイオンプレーティングにより形成
した。得られた透明導電性フィルムの光線透過率は８０
％であり、シート抵抗は５Ω／□であった。得られた透
明導電性フィルムを用いて実施例１と同様のＬＣＤを作
製したが、表示ムラは認められなかった。
【００１７】実施例３
厚み７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの
片面に、酸化インジウム（３００Å）／銀（１００Å）
／酸化インジウム（２００Å）／銀（１００Å）／酸化
インジウム（３００Å）からなる透明導電膜をイオンプ
レーティングにより形成した。得られた透明導電性フィ
ルムの光線透過率は７９％であり、シート抵抗は２Ω／
□であった。得られた透明導電性フィルムを用いて実施
例１と同様のＬＣＤを作製したが、表示ムラは認められ
なかった。
片面に、酸化インジウム（３００Å）／銀（１００Å）
／酸化インジウム（２００Å）／銀（１００Å）／酸化
インジウム（３００Å）からなる透明導電膜をイオンプ
レーティングにより形成した。得られた透明導電性フィ
ルムの光線透過率は７９％であり、シート抵抗は２Ω／
□であった。得られた透明導電性フィルムを用いて実施
例１と同様のＬＣＤを作製したが、表示ムラは認められ
なかった。
【００１８】比較例１
実施例１と同様のフィルムの片面に、ＩＴＯ（ＳｎＯ２
５％）膜をマグネトロンスパッタリング法により ９０
０Åの厚みで形成した。光線透過率は８４％であり、シ
ート抵抗は８０Ω／□であった。得られた透明導電性フ
ィルムを用いて実施例１と同様のＬＣＤを作製したが、
ＬＣＤ端部で表示にムラが発生した。
５％）膜をマグネトロンスパッタリング法により ９０
０Åの厚みで形成した。光線透過率は８４％であり、シ
ート抵抗は８０Ω／□であった。得られた透明導電性フ
ィルムを用いて実施例１と同様のＬＣＤを作製したが、
ＬＣＤ端部で表示にムラが発生した。
【００１９】
【発明の効果】本発明により、液晶表示用電極、電場発
光体用電極、エレクトロクロミズム用電極などエレクト
ロニクスの分野に広く利用され得るプラスチックフィル
ムを基板とした、シート抵抗の低い透明導電性フィルム
が提供がされ、これにより、プラスチックフィルムを基
板とした透明導電性フィルムを用いた大型パネルの製造
が可能となった。
光体用電極、エレクトロクロミズム用電極などエレクト
ロニクスの分野に広く利用され得るプラスチックフィル
ムを基板とした、シート抵抗の低い透明導電性フィルム
が提供がされ、これにより、プラスチックフィルムを基
板とした透明導電性フィルムを用いた大型パネルの製造
が可能となった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 プラスチックフィルム基板にシート抵
抗１０Ω／□以下、光線透過率７０％以上の透明導電膜
を形成してなることを特徴とする透明導電性フィルム【
請求項２】 透明導電膜が、少なくとも片面もしくは
両面を金属酸化物層で覆われた金属薄膜である請求項１
記載の透明導電性フィルム 【請求項３】 金属酸化物層の少なくとも一層が、酸
化インジウムを含有する薄膜層である請求項２記載の透
明導電性フィルム
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11146791A JPH04340522A (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | 透明導電性フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11146791A JPH04340522A (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | 透明導電性フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04340522A true JPH04340522A (ja) | 1992-11-26 |
Family
ID=14561986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11146791A Pending JPH04340522A (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | 透明導電性フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04340522A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000062083A (ja) * | 1998-08-24 | 2000-02-29 | Toyobo Co Ltd | 導電性フィルム |
| KR100411959B1 (ko) * | 1995-03-22 | 2004-03-30 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 다층도전막,및이것을사용한투명전극판및액정표시장치 |
| JP2006216266A (ja) * | 2005-02-01 | 2006-08-17 | Kitagawa Ind Co Ltd | 透明導電フィルム |
| US8048531B2 (en) | 1996-09-26 | 2011-11-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Protective plate for a plasma display and a method for producing the same |
-
1991
- 1991-05-16 JP JP11146791A patent/JPH04340522A/ja active Pending
Cited By (4)
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|---|---|---|---|---|
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