JPH04338382A - ラクトン誘導体の製造法 - Google Patents
ラクトン誘導体の製造法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、医、農薬等の中間体、
特にプロスタグランジン類の合成中間体として有用なコ
ーリーラクトン誘導体の製造法に関するものである。
特にプロスタグランジン類の合成中間体として有用なコ
ーリーラクトン誘導体の製造法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プロスタグランジン類は生体の恒常性維
持に根源的な役割を担っている生理活性物質であり、種
々の分野の医薬品として利用されている。プロスタグラ
ンジン類の製造法としては、ω鎖を有するコーリーラク
トン(C)又は(D)を出発原料とする方法が知られて
いる。
持に根源的な役割を担っている生理活性物質であり、種
々の分野の医薬品として利用されている。プロスタグラ
ンジン類の製造法としては、ω鎖を有するコーリーラク
トン(C)又は(D)を出発原料とする方法が知られて
いる。
【0003】
【化5】
【0004】〔式中、Z1 、Z2 は前記に同じ。〕
この方法は比較的短い工程でプロスタグランジン類を製
造できるうえ、各種のα鎖を有するプロスタグランジン
誘導体の展開にも便利である。又、出発原料コーリーラ
クトン(C)の製造法としては、ジオール(A)を白金
の存在下酸素酸化し化合物(B)を得る方法〔ジェイ・
フリード等、テトラヘドロン、レターズ(Tetrah
edron Letters)、3899頁、1973
年〕が知られ、更に化合物(B)を選択水素添加して化
合物(C)とする必要がある。
この方法は比較的短い工程でプロスタグランジン類を製
造できるうえ、各種のα鎖を有するプロスタグランジン
誘導体の展開にも便利である。又、出発原料コーリーラ
クトン(C)の製造法としては、ジオール(A)を白金
の存在下酸素酸化し化合物(B)を得る方法〔ジェイ・
フリード等、テトラヘドロン、レターズ(Tetrah
edron Letters)、3899頁、1973
年〕が知られ、更に化合物(B)を選択水素添加して化
合物(C)とする必要がある。
【0005】
【化6】
【0006】〔式中、Z1 、Z2 は前記に同じ。〕
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、テトラヘドロ
ン、レターズ(Tetrahedron Letter
s)、3899頁、1973年のジオール(A)を酸素
酸化し化合物(B)を得る方法は、高価な白金を当量以
上使用する必要があるうえ、反応が長時間に及ぶ等の欠
点を有している。又、反応を中間段階で停止してコーリ
ーラクトールとすることができない。
ン、レターズ(Tetrahedron Letter
s)、3899頁、1973年のジオール(A)を酸素
酸化し化合物(B)を得る方法は、高価な白金を当量以
上使用する必要があるうえ、反応が長時間に及ぶ等の欠
点を有している。又、反応を中間段階で停止してコーリ
ーラクトールとすることができない。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意努力検討の結果、安価な亜ハロゲン酸
アルカリ金属塩及び/又は次亜ハロゲン酸アルカリ土類
金属塩を使用する酸化法〔鳥居等、ジャーナル、オルガ
ニック、ケミストリー(J.Org.Chem)、46
2頁、1990年〕を一般式(I)で表されるジオール
誘導体へ適用することを試み、一般式(III)で表さ
れるコーリーラクトン誘導体が高収率で得られることを
見出し本発明を完成するに至った。
を解決すべく鋭意努力検討の結果、安価な亜ハロゲン酸
アルカリ金属塩及び/又は次亜ハロゲン酸アルカリ土類
金属塩を使用する酸化法〔鳥居等、ジャーナル、オルガ
ニック、ケミストリー(J.Org.Chem)、46
2頁、1990年〕を一般式(I)で表されるジオール
誘導体へ適用することを試み、一般式(III)で表さ
れるコーリーラクトン誘導体が高収率で得られることを
見出し本発明を完成するに至った。
【0009】即ち、本発明は、一般式(I)
【0010
】
】
【化7】
【0011】〔式中、Xは(α−OZ1 、β−H)又
は(α−H、β−OZ1 )を示し、Z1 は水素原子
又は水酸基の保護基を示す。Yは(α−H、β−R1
)又は(α−R1 、β−H)を示し、R1 はCH2
OZ2 又は、
は(α−H、β−OZ1 )を示し、Z1 は水素原子
又は水酸基の保護基を示す。Yは(α−H、β−R1
)又は(α−R1 、β−H)を示し、R1 はCH2
OZ2 又は、
【0012】
【化8】
【0013】で示される基で、TはCH2CH2 、C
H=CH、C≡Cより選ばれる基、kは0又は1の整数
、R2 は置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル
基、置換又は非置換の炭素数2〜10のアルケニル基、
置換又は非置換の炭素数2〜10のアルキニル基、置換
又は非置換の炭素数6〜15のアリール基を示し、Z2
は水素原子又は水酸基の保護基を示しZ1 と同一又
は異なっていても良い。〕で表されるジオール誘導体を
、一般式(II)
H=CH、C≡Cより選ばれる基、kは0又は1の整数
、R2 は置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル
基、置換又は非置換の炭素数2〜10のアルケニル基、
置換又は非置換の炭素数2〜10のアルキニル基、置換
又は非置換の炭素数6〜15のアリール基を示し、Z2
は水素原子又は水酸基の保護基を示しZ1 と同一又
は異なっていても良い。〕で表されるジオール誘導体を
、一般式(II)
【0014】
【化9】
【0015】〔式中、R3 は水素原子、置換又は非置
換の炭素数1〜6のアルキル基、置換又は非置換の炭素
数1〜6のアルキルオキシ基、置換又は非置換の炭素数
2〜10のアシルオキシ基、〔(2,2,6,6− テ
トラメチルピペリジン−1− オキシル−4− イル)
カルボニル〕置換炭素数1〜10のアルキル基又はベ
ンゾイルオキシ基を示す。〕で表される2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−1− オキシル誘導体の存
在下、亜ハロゲン酸アルカリ金属塩及び/又は次亜ハロ
ゲン酸アルカリ土類金属塩で酸化し、必要に応じて水酸
基の保護基を脱離することを特徴とする一般式(III
)
換の炭素数1〜6のアルキル基、置換又は非置換の炭素
数1〜6のアルキルオキシ基、置換又は非置換の炭素数
2〜10のアシルオキシ基、〔(2,2,6,6− テ
トラメチルピペリジン−1− オキシル−4− イル)
カルボニル〕置換炭素数1〜10のアルキル基又はベ
ンゾイルオキシ基を示す。〕で表される2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−1− オキシル誘導体の存
在下、亜ハロゲン酸アルカリ金属塩及び/又は次亜ハロ
ゲン酸アルカリ土類金属塩で酸化し、必要に応じて水酸
基の保護基を脱離することを特徴とする一般式(III
)
【0016】
【化10】
【0017】〔式中、Wは酸素原子又は(H,OH)を
示し、X及びYは前記に同じ。〕で表されるコーリーラ
クトン誘導体の製造法。以下、本発明を詳細に説明する
。水酸基の保護基であるZ1 、Z2 としては、トリ
メチルシリル基、メチルジi−プロピルシリル基、トリ
エチルシリル基、i−プロピルジメチルシリル基、t−
ブチルジメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル
基、トリフェニルシリル基等の3置換シリル基を挙げる
ことができる。
示し、X及びYは前記に同じ。〕で表されるコーリーラ
クトン誘導体の製造法。以下、本発明を詳細に説明する
。水酸基の保護基であるZ1 、Z2 としては、トリ
メチルシリル基、メチルジi−プロピルシリル基、トリ
エチルシリル基、i−プロピルジメチルシリル基、t−
ブチルジメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル
基、トリフェニルシリル基等の3置換シリル基を挙げる
ことができる。
【0018】メトキシメチル基、1−エトキシエチル基
、2−メトキシエトキシメチル基、1−メチル−1−
メトキシエチル基等のアルコキシアルキル基を挙げるこ
とができる。P−トリルオキシメチル基、ベンジルオキ
シメチル基等のアラルキルオキシメチル基を挙げること
ができる。 アセチル基、t−ブチルカルボニル基、モノフルオロア
セチル基等のアセチル基を挙げることができる。
、2−メトキシエトキシメチル基、1−メチル−1−
メトキシエチル基等のアルコキシアルキル基を挙げるこ
とができる。P−トリルオキシメチル基、ベンジルオキ
シメチル基等のアラルキルオキシメチル基を挙げること
ができる。 アセチル基、t−ブチルカルボニル基、モノフルオロア
セチル基等のアセチル基を挙げることができる。
【0019】p−フェニルベンゾイル基、p−メトキシ
ベンゾイル基、ベンゾイル基、p−トリフルオロメチル
ベンゾイル基等の置換又は非置換ベンゾイル基を挙げる
ことができる。ベンジル基、p−クロロベンジル基、p
−メトキシベンジル基等の置換又は非置換ベンジル基を
挙げることができる。
ベンゾイル基、ベンゾイル基、p−トリフルオロメチル
ベンゾイル基等の置換又は非置換ベンゾイル基を挙げる
ことができる。ベンジル基、p−クロロベンジル基、p
−メトキシベンジル基等の置換又は非置換ベンジル基を
挙げることができる。
【0020】その他、トリチル基、テトララヒドロピラ
ニル基等を挙げることができる。R2 の置換又は非置
換の炭素数1〜10のアルキル基、アルキル基としては
、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル
基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、
t−ブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、n−
ヘキシル基、2−ヘキシル基、n−ヘプチル基、2−メ
チルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、メ
トエトキシエチル基、3−エトキシ−2− メチル−
プロパン−2− イル基、5−メトキシヘキシル基、n
−ペンチルオキシメチル基、1−エトキシ−2− メチ
ル− プロパン−2− イル基、2−(トリメチルシリ
ルオキシ)−2− ヘキシル基、3−メトキシカルボニ
ルプロピル基、モノフルオロメチル基、フルオロn−ヘ
プチル基、クロロn−ヘプチル基、フルオロn−オクチ
ル基、フルオロn−ノニル基、クロロn−ノニル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメ
チル基、1−ブチル− シクロプロピル基、3−エチル
− シクロペンチル基、フェノキシメチル基、o−フル
オロフェノキシメチル基、m−フルオロフェノキシメチ
ル基、p−フルオロフェノキシメチル基、o−クロロフ
ェノキシメチル基、m−クロロフェノキシメチル基、p
−クロロフェノキシメチル基、o−トリフルオロメチル
− フェノキシメチル基、m−トリフルオロメチル−
フェノキシメチル基、p−トリフルオロメチル− フェ
ノキシメチル基等を挙げることができる。
ニル基等を挙げることができる。R2 の置換又は非置
換の炭素数1〜10のアルキル基、アルキル基としては
、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル
基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、
t−ブチル基、n−ペンチル基、i−ペンチル基、n−
ヘキシル基、2−ヘキシル基、n−ヘプチル基、2−メ
チルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、メ
トエトキシエチル基、3−エトキシ−2− メチル−
プロパン−2− イル基、5−メトキシヘキシル基、n
−ペンチルオキシメチル基、1−エトキシ−2− メチ
ル− プロパン−2− イル基、2−(トリメチルシリ
ルオキシ)−2− ヘキシル基、3−メトキシカルボニ
ルプロピル基、モノフルオロメチル基、フルオロn−ヘ
プチル基、クロロn−ヘプチル基、フルオロn−オクチ
ル基、フルオロn−ノニル基、クロロn−ノニル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメ
チル基、1−ブチル− シクロプロピル基、3−エチル
− シクロペンチル基、フェノキシメチル基、o−フル
オロフェノキシメチル基、m−フルオロフェノキシメチ
ル基、p−フルオロフェノキシメチル基、o−クロロフ
ェノキシメチル基、m−クロロフェノキシメチル基、p
−クロロフェノキシメチル基、o−トリフルオロメチル
− フェノキシメチル基、m−トリフルオロメチル−
フェノキシメチル基、p−トリフルオロメチル− フェ
ノキシメチル基等を挙げることができる。
【0021】置換又は非置換の炭素数2〜10のアルケ
ニル基としては、ビニル基、ペンタ−1− エン−1−
イル基、ペンタ−2− エン−1− イル基、ヘキサ
−1− エン−2− イル基、ヘキサ−1− エン−2
− イル基、2,6−ジメチル− ヘプタ−5− エン
−1− イル基、2−オクテニル基等を挙げることがで
きる。置換又は非置換の炭素数2〜10のアルキニル基
としては、ヘキサ−4− イン−2− イル基、ヘプタ
−4− イン−2− イル基、フェニルアセチレニル基
等を挙げることができる。
ニル基としては、ビニル基、ペンタ−1− エン−1−
イル基、ペンタ−2− エン−1− イル基、ヘキサ
−1− エン−2− イル基、ヘキサ−1− エン−2
− イル基、2,6−ジメチル− ヘプタ−5− エン
−1− イル基、2−オクテニル基等を挙げることがで
きる。置換又は非置換の炭素数2〜10のアルキニル基
としては、ヘキサ−4− イン−2− イル基、ヘプタ
−4− イン−2− イル基、フェニルアセチレニル基
等を挙げることができる。
【0022】置換又は非置換の炭素数6〜15のアリー
ル基としては、フェニル基、ベンジル基、2−フェニル
エチル基、o−フルオロフェニル基、m−フルオロフェ
ニル基、p−フルオロフェニル基、o−クロロフェニル
基、m−クロロフェニル基、p−クロロフェニル基等が
挙げられる。 R3 の炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基
、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブ
チル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基等を挙げること
ができる。
ル基としては、フェニル基、ベンジル基、2−フェニル
エチル基、o−フルオロフェニル基、m−フルオロフェ
ニル基、p−フルオロフェニル基、o−クロロフェニル
基、m−クロロフェニル基、p−クロロフェニル基等が
挙げられる。 R3 の炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基
、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブ
チル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基等を挙げること
ができる。
【0023】炭素数1〜6のアルキルオキシ基としては
、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プ
ロポキシ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、sec
−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペントキシ基、i
−ペントキシ基、n−ヘキソキシ基、i−ヘキソキシ基
等を挙げることができる。炭素数2〜10のアシルオキ
シ基としては、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオ
キシ基、t−ブチルカルボニルオキシ基等を挙げること
ができる。
、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プ
ロポキシ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、sec
−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペントキシ基、i
−ペントキシ基、n−ヘキソキシ基、i−ヘキソキシ基
等を挙げることができる。炭素数2〜10のアシルオキ
シ基としては、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオ
キシ基、t−ブチルカルボニルオキシ基等を挙げること
ができる。
【0024】〔(2,2,6,6− テトラメチルピペ
リジン−1− オキシル−4− イル) カルボニル〕
置換炭素数1〜10のアルキル基としては、6−〔(2
,2,6,6− テトラメチルピペリジン−1− オキ
シル−4− イル) カルボニル〕ヘキシル基、8−〔
(2,2,6,6− テトラメチルピペリジン−1−
オキシル−4− イル) カルボニル〕オクチル基等を
挙げることができる。
リジン−1− オキシル−4− イル) カルボニル〕
置換炭素数1〜10のアルキル基としては、6−〔(2
,2,6,6− テトラメチルピペリジン−1− オキ
シル−4− イル) カルボニル〕ヘキシル基、8−〔
(2,2,6,6− テトラメチルピペリジン−1−
オキシル−4− イル) カルボニル〕オクチル基等を
挙げることができる。
【0025】一般式(I)のジオール誘導体は本発明者
等(特願平2−184487号)の方法等により製造す
ることができる。一般式(II)の2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−1− オキシル誘導体の具体例
としては、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
1− オキシル、4−メチル− 2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−1− オキシル、4−シアノ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1− オキ
シル、4−(4−メトキシ)−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−1− オキシル、4−(ベンゾイル
オキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
1− オキシル、4−(4−t−ブチルベンゾイルオキ
シ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−
オキシル、1,6−ビス〔(2,2,6,6− テト
ラメチルピペリジン−1− オキシル−4− イル)
カルボニル〕ヘキサン、1,8−ビス〔(2,2,6,
6− テトラメチルピペリジン−1− オキシル−4−
イル) カルボニル〕オクタン等を挙げることができ
る。
等(特願平2−184487号)の方法等により製造す
ることができる。一般式(II)の2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−1− オキシル誘導体の具体例
としては、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
1− オキシル、4−メチル− 2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−1− オキシル、4−シアノ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1− オキ
シル、4−(4−メトキシ)−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−1− オキシル、4−(ベンゾイル
オキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
1− オキシル、4−(4−t−ブチルベンゾイルオキ
シ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−
オキシル、1,6−ビス〔(2,2,6,6− テト
ラメチルピペリジン−1− オキシル−4− イル)
カルボニル〕ヘキサン、1,8−ビス〔(2,2,6,
6− テトラメチルピペリジン−1− オキシル−4−
イル) カルボニル〕オクタン等を挙げることができ
る。
【0026】一般式(II)の2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−1− オキシル誘導体の使用量とし
ては、通常一般式(I)のジオール誘導体に対して0.
1〜50モル%、好ましくは0.5〜5.0モル%が良
い。亜ハロゲン酸アルカリ金属塩としては、通常亜フッ
素酸リチウム塩、亜塩素酸リチウム塩、亜臭素酸リチウ
ム塩、亜沃素酸リチウム塩、亜フッ素酸ナトリウム塩、
亜塩素酸ナトリウム塩、亜臭素酸ナトリウム塩、亜沃素
酸ナトリウム塩、亜フッ素酸カリウム塩、亜塩素酸カリ
ウム塩、亜臭素酸カリウム塩、亜沃素酸カリウム塩等が
挙げられ、好ましくは亜臭素酸ナトリウム塩が良い。
メチルピペリジン−1− オキシル誘導体の使用量とし
ては、通常一般式(I)のジオール誘導体に対して0.
1〜50モル%、好ましくは0.5〜5.0モル%が良
い。亜ハロゲン酸アルカリ金属塩としては、通常亜フッ
素酸リチウム塩、亜塩素酸リチウム塩、亜臭素酸リチウ
ム塩、亜沃素酸リチウム塩、亜フッ素酸ナトリウム塩、
亜塩素酸ナトリウム塩、亜臭素酸ナトリウム塩、亜沃素
酸ナトリウム塩、亜フッ素酸カリウム塩、亜塩素酸カリ
ウム塩、亜臭素酸カリウム塩、亜沃素酸カリウム塩等が
挙げられ、好ましくは亜臭素酸ナトリウム塩が良い。
【0027】次亜ハロゲン酸アルカリ土類金属塩として
は、通常次亜フッ素酸カルシウム塩、次亜塩素酸カルシ
ウム塩、次亜臭素酸カルシウム塩、次亜沃素酸カルシウ
ム塩、次亜フッ素酸バリウム塩、次亜塩素酸バリウム塩
、次亜臭素酸バリウム塩、次亜沃素酸バリウム塩等が挙
げられ、好ましくは次亜塩素酸カルシウム塩が良い。 亜ハロゲン酸アルカリ金属塩及び次亜ハロゲン酸アルカ
リ土類金属塩は、例えば電気化学的に反応系内で発生さ
せて使用することもできる〔鳥居等、シンレット(Sy
nlett)、57頁、1990年〕。
は、通常次亜フッ素酸カルシウム塩、次亜塩素酸カルシ
ウム塩、次亜臭素酸カルシウム塩、次亜沃素酸カルシウ
ム塩、次亜フッ素酸バリウム塩、次亜塩素酸バリウム塩
、次亜臭素酸バリウム塩、次亜沃素酸バリウム塩等が挙
げられ、好ましくは次亜塩素酸カルシウム塩が良い。 亜ハロゲン酸アルカリ金属塩及び次亜ハロゲン酸アルカ
リ土類金属塩は、例えば電気化学的に反応系内で発生さ
せて使用することもできる〔鳥居等、シンレット(Sy
nlett)、57頁、1990年〕。
【0028】亜ハロゲン酸アルカリ金属塩と次亜ハロゲ
ン酸アルカリ土類金属塩の使用量の合計としては、通常
一般式(I)のジオール誘導体に対して0.2〜10倍
モル、好ましくは0.5〜5倍モルが良い。亜ハロゲン
酸アルカリ金属塩の使用量としては、通常一般式(I)
のジオール誘導体に対して0.2〜10倍モル、好まし
くは0.5〜5倍モルが良い。
ン酸アルカリ土類金属塩の使用量の合計としては、通常
一般式(I)のジオール誘導体に対して0.2〜10倍
モル、好ましくは0.5〜5倍モルが良い。亜ハロゲン
酸アルカリ金属塩の使用量としては、通常一般式(I)
のジオール誘導体に対して0.2〜10倍モル、好まし
くは0.5〜5倍モルが良い。
【0029】次亜ハロゲン酸アルカリ土類金属塩の使用
量としては、通常一般式(I)のジオール誘導体に対し
て0.2〜10倍モル、好ましくは0.5〜5倍モルが
良い。尚、一般式(III)のコーリーラクトン誘導体
において、本発明の特徴でもあるWが(H,OH)であ
るコーリーラクトールを目的とする場合は、亜ハロゲン
酸アルカリ金属塩と次亜ハロゲン酸アルカリ土類金属塩
の使用量の合計としては、通常一般式(I)のジオール
誘導体に対して0.1〜4倍モル、好ましくは0.5〜
2倍モルが良い。
量としては、通常一般式(I)のジオール誘導体に対し
て0.2〜10倍モル、好ましくは0.5〜5倍モルが
良い。尚、一般式(III)のコーリーラクトン誘導体
において、本発明の特徴でもあるWが(H,OH)であ
るコーリーラクトールを目的とする場合は、亜ハロゲン
酸アルカリ金属塩と次亜ハロゲン酸アルカリ土類金属塩
の使用量の合計としては、通常一般式(I)のジオール
誘導体に対して0.1〜4倍モル、好ましくは0.5〜
2倍モルが良い。
【0030】反応温度としては、通常−40℃〜100
℃が採用されるが、好ましくは−10℃〜30℃が良い
。溶媒としては、通常脂肪族炭化水素系溶媒、ハロゲン
系溶媒、エーテル系溶媒、アセトニトリル、酢酸エチル
から選ばれる有機溶媒とpH7〜10の範囲の緩衝水溶
液との混合液が使用される 脂肪族炭化水素系溶媒としては、n−ペンタン、n−ヘ
キサン、n−ペンタン等が挙げられる。
℃が採用されるが、好ましくは−10℃〜30℃が良い
。溶媒としては、通常脂肪族炭化水素系溶媒、ハロゲン
系溶媒、エーテル系溶媒、アセトニトリル、酢酸エチル
から選ばれる有機溶媒とpH7〜10の範囲の緩衝水溶
液との混合液が使用される 脂肪族炭化水素系溶媒としては、n−ペンタン、n−ヘ
キサン、n−ペンタン等が挙げられる。
【0031】ハロゲン系溶媒としては、ジクロロメタン
、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリク
ロロエタン、テトラクロロエタン等が挙げられる。エー
テル系溶媒としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げ
られる。pH7〜10の範囲の緩衝水溶液としては、炭
酸水素ナトリウム水溶液、燐酸1水素ナトリウム−燐酸
2水素カリウム水溶液、4硼酸ナトリウム水溶液等が挙
げられる。
、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリク
ロロエタン、テトラクロロエタン等が挙げられる。エー
テル系溶媒としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げ
られる。pH7〜10の範囲の緩衝水溶液としては、炭
酸水素ナトリウム水溶液、燐酸1水素ナトリウム−燐酸
2水素カリウム水溶液、4硼酸ナトリウム水溶液等が挙
げられる。
【0032】溶媒の使用量としては、通常一般式(I)
のジオール誘導体1部に対して1〜200重量部、好ま
しくは5〜100量部が良い。有機溶媒とpH7〜10
の範囲の緩衝水溶液の混合比としては、有機溶媒/pH
7〜10の範囲の緩衝水溶液=0.1〜10重量比、好
ましくは0.5〜2重量比が良い。
のジオール誘導体1部に対して1〜200重量部、好ま
しくは5〜100量部が良い。有機溶媒とpH7〜10
の範囲の緩衝水溶液の混合比としては、有機溶媒/pH
7〜10の範囲の緩衝水溶液=0.1〜10重量比、好
ましくは0.5〜2重量比が良い。
【0033】一般式(III)のコーリーラクトン誘導
体において、水酸基の脱離方法としては、塩酸、硫酸等
の希鉱酸による処理、酢酸、トリフルオロ酢酸、トルエ
ンスルホン酸等の有機酸による処理、テトラアルキルア
ンモニウムフルオライド等による処理、3弗化硼素エテ
ラート、塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のルイス酸によ
る処理、水素添加による処理等が挙げられる。
体において、水酸基の脱離方法としては、塩酸、硫酸等
の希鉱酸による処理、酢酸、トリフルオロ酢酸、トルエ
ンスルホン酸等の有機酸による処理、テトラアルキルア
ンモニウムフルオライド等による処理、3弗化硼素エテ
ラート、塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のルイス酸によ
る処理、水素添加による処理等が挙げられる。
【0034】
【発明の効果】本発明方法に従うと、一般式(I)のジ
オール誘導体から一般式(III)のコーリーラクトン
誘導体を安価に高い収率で得ることができる。
オール誘導体から一般式(III)のコーリーラクトン
誘導体を安価に高い収率で得ることができる。
【0035】
【実施例】以下、実施例を挙げ本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1
【0036】
【化11】
【0037】ジオール(1)940mg(2.51ミリ
モル)をジクロロメタン16mlと5重量%炭酸水素ナ
トリウム水溶液32mlの混合液に溶解後、4−(ベン
ゾイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−1− オキシル8mgを加えた。氷冷下、亜臭素
酸ナトリウム3水和物2.61g(12.6ミリモル)
を添加した後、20℃で6時間攪拌を行った。
モル)をジクロロメタン16mlと5重量%炭酸水素ナ
トリウム水溶液32mlの混合液に溶解後、4−(ベン
ゾイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−1− オキシル8mgを加えた。氷冷下、亜臭素
酸ナトリウム3水和物2.61g(12.6ミリモル)
を添加した後、20℃で6時間攪拌を行った。
【0038】反応溶液をジクロロメタン30mlと水1
5mlの混合物に移し分液後、水層をジクロロメタン2
0mlで再抽出した。有機溶媒層を亜硫酸水素ナトリウ
ム水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥
後、有機溶媒を留去し油状物870mgを得た。このも
のをシリカゲルクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン
/酢酸=5/1)精製を行ったところ、コーリーラクト
ン(2)597mg(収率64%)を得た。尚、THP
はテトラヒドロピラニル基を示す。
5mlの混合物に移し分液後、水層をジクロロメタン2
0mlで再抽出した。有機溶媒層を亜硫酸水素ナトリウ
ム水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥
後、有機溶媒を留去し油状物870mgを得た。このも
のをシリカゲルクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン
/酢酸=5/1)精製を行ったところ、コーリーラクト
ン(2)597mg(収率64%)を得た。尚、THP
はテトラヒドロピラニル基を示す。
【0039】
NMR(90MHz,CDCl3,ppm):δ
0.1(s,6H), 0.82(s,9H), 1.
1 〜3.0(m,12H)
3.3〜3.5(m,
1H), 3.5(dd,2H,J=8Hz,J=2H
z)
3.6〜4.3(m,2H), 4.6(br
s,1H), 4.7〜5.1(m,1H) IR
(KBr錠剤) :1760,2800,2860cm
−1 MS(m/e) :285(1%,M−C5H
9O)、159(base peak)実施例2
0.1(s,6H), 0.82(s,9H), 1.
1 〜3.0(m,12H)
3.3〜3.5(m,
1H), 3.5(dd,2H,J=8Hz,J=2H
z)
3.6〜4.3(m,2H), 4.6(br
s,1H), 4.7〜5.1(m,1H) IR
(KBr錠剤) :1760,2800,2860cm
−1 MS(m/e) :285(1%,M−C5H
9O)、159(base peak)実施例2
【0040】
【化12】
【0041】ジオール(3)500mg(1.0ミリモ
ル)をジクロロメタン6mlと5重量%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液12mlの混合液に溶解後、4−(ベンゾイ
ルオシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
1− オキシル5mgを加えた。氷冷下、亜臭素酸ナト
リウム3水和物1.04mg(5.0ミリモル)を添加
した後、20℃で6時間攪拌を行った。
ル)をジクロロメタン6mlと5重量%炭酸水素ナトリ
ウム水溶液12mlの混合液に溶解後、4−(ベンゾイ
ルオシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
1− オキシル5mgを加えた。氷冷下、亜臭素酸ナト
リウム3水和物1.04mg(5.0ミリモル)を添加
した後、20℃で6時間攪拌を行った。
【0042】反応溶液をジクロロメタン20mlと水1
0mlの混合液に移し分液後、水層をジクロロメタン2
0mlで再抽出した。有機溶媒層を亜硫酸水素ナトリウ
ム水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥
後、有機溶媒を留去し油状物550mgを得た。このも
のをシリカゲルクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン
/酢酸=5/1)精製を行ったところ、コーリーラクト
ン(4)436mg(収率88%)を得た。
0mlの混合液に移し分液後、水層をジクロロメタン2
0mlで再抽出した。有機溶媒層を亜硫酸水素ナトリウ
ム水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥
後、有機溶媒を留去し油状物550mgを得た。このも
のをシリカゲルクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン
/酢酸=5/1)精製を行ったところ、コーリーラクト
ン(4)436mg(収率88%)を得た。
【0043】
NMR(500MHz,CDCl3,ppm) :
δ 0.02(s,6H), 0.03(s,6H),
0.86(s,9H),
0.87(s,9H
), 1.0〜1.6(m,11H),
1.
97(d,J=11Hz,1H), 2.23(m,1
H),
2.3〜2.9(m,4H),
3.96(dd,J=10Hz,J=5Hz,1
H),
4.03(dd,J=12Hz,J
=6Hz,1H),
4.94(td,J=
7Hz,J=2Hz,1H),
5.36(
dd,J=15Hz,J=6Hz,1H),
5.49(dd,J=15Hz,J=6Hz,1H)
IR(KBr錠剤) :1740,2800,2
860cm−1 MS(m/e) :481(0.3
%、M−Me)、439(base peak 、M−
t−Bu) 実施例3
δ 0.02(s,6H), 0.03(s,6H),
0.86(s,9H),
0.87(s,9H
), 1.0〜1.6(m,11H),
1.
97(d,J=11Hz,1H), 2.23(m,1
H),
2.3〜2.9(m,4H),
3.96(dd,J=10Hz,J=5Hz,1
H),
4.03(dd,J=12Hz,J
=6Hz,1H),
4.94(td,J=
7Hz,J=2Hz,1H),
5.36(
dd,J=15Hz,J=6Hz,1H),
5.49(dd,J=15Hz,J=6Hz,1H)
IR(KBr錠剤) :1740,2800,2
860cm−1 MS(m/e) :481(0.3
%、M−Me)、439(base peak 、M−
t−Bu) 実施例3
【0044】
【化13】
【0045】ジオール(5)165mg(0.31ミリ
モル)をジクロロメタン2mlと5重量%炭酸水素ナト
リウム水溶液4mlの混合液に溶解後、4−(ベンゾイ
ルオシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
1− オキシル1.0mgを加えた。氷冷下、亜臭素酸
ナトリウム3水和物326mg(1.57ミリモル)を
添加した後、20℃で6時間攪拌を行った。
モル)をジクロロメタン2mlと5重量%炭酸水素ナト
リウム水溶液4mlの混合液に溶解後、4−(ベンゾイ
ルオシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
1− オキシル1.0mgを加えた。氷冷下、亜臭素酸
ナトリウム3水和物326mg(1.57ミリモル)を
添加した後、20℃で6時間攪拌を行った。
【0046】反応溶液をジクロロメタン10mlと水5
mlの混合液に移し分液後、水層をジクロロメタン20
mlで再抽出した。有機溶媒層を亜硫酸水素ナトリウム
水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後
、有機溶媒を留去し油状物178mgを得た。このもの
をシリカゲルクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/
酢酸=5/1)精製を行ったところ、コーリーラクトン
(6)148mg(収率90%)を得た。
mlの混合液に移し分液後、水層をジクロロメタン20
mlで再抽出した。有機溶媒層を亜硫酸水素ナトリウム
水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後
、有機溶媒を留去し油状物178mgを得た。このもの
をシリカゲルクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/
酢酸=5/1)精製を行ったところ、コーリーラクトン
(6)148mg(収率90%)を得た。
【0047】
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 〔式中、Xは(α−OZ1 、β−H)又は(α−H、
β−OZ1 )を示し、Z1 は水素原子又は水酸基の
保護基を示す。Yは(α−H、β−R1 )又は(α−
R1 、β−H)を示し、R1 はCH2OZ2 又は
、【化2】 で示される基で、TはCH2CH2 、CH=CH、C
≡Cより選ばれる基、kは0又は1の整数、R2 は置
換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換又は
非置換の炭素数2〜10のアルケニル基、置換又は非置
換の炭素数2〜10のアルキニル基、置換又は非置換の
炭素数6〜15のアリール基を示し、Z2 は水素原子
又は水酸基の保護基を示しZ1 と同一又は異なってい
ても良い。〕で表されるジオール誘導体を、一般式(I
I)【化3】 〔式中、R3 は水素原子、置換又は非置換の炭素数1
〜6のアルキル基、置換又は非置換の炭素数1〜6のア
ルキルオキシ基、置換又は非置換の炭素数2〜10のア
シルオキシ基、〔(2,2,6,6− テトラメチルピ
ペリジン−1− オキシル−4− イル) カルボニル
〕置換炭素数1〜10のアルキル基又はベンゾイルオキ
シ基を示す。〕で表される2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−1− オキシル誘導体の存在下、亜ハロ
ゲン酸アルカリ金属塩及び/又は次亜ハロゲン酸アルカ
リ土類金属塩で酸化し、必要に応じて水酸基の保護基を
脱離することを特徴とする一般式(III) 【化4】 〔式中、Wは酸素原子又は(H,OH)を示し、X及び
Yは前記に同じ。〕で表されるコーリーラクトン誘導体
の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3107174A JP3045194B2 (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | ラクトン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3107174A JP3045194B2 (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | ラクトン誘導体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04338382A true JPH04338382A (ja) | 1992-11-25 |
JP3045194B2 JP3045194B2 (ja) | 2000-05-29 |
Family
ID=14452354
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3107174A Expired - Lifetime JP3045194B2 (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | ラクトン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3045194B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023040101A1 (zh) * | 2021-09-17 | 2023-03-23 | 台州学院 | 一种δ-环戊内酯的制备方法 |
-
1991
- 1991-05-13 JP JP3107174A patent/JP3045194B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023040101A1 (zh) * | 2021-09-17 | 2023-03-23 | 台州学院 | 一种δ-环戊内酯的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3045194B2 (ja) | 2000-05-29 |
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