JPH04336916A - 水油両用の形彫型放電加工方法およびその装置 - Google Patents

水油両用の形彫型放電加工方法およびその装置

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JPH04336916A
JPH04336916A JP3135529A JP13552991A JPH04336916A JP H04336916 A JPH04336916 A JP H04336916A JP 3135529 A JP3135529 A JP 3135529A JP 13552991 A JP13552991 A JP 13552991A JP H04336916 A JPH04336916 A JP H04336916A
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water
oil
fluid
voltage
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Yasuhito Terui
康仁 照井
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Sodick Co Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23HWORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
    • B23H1/00Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
    • B23H1/10Supply or regeneration of working media

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、比抵抗値が1000Ω
cm以上の水系加工液と油系加工液とを両用する形彫型
放電加工方法およびその装置に関する。
【0002】
【背景技術】水系加工液と油系加工液とを両用する従来
の形彫型放電加工機では、水系加工液を使用して荒加工
を行ない、油系加工液を使用して仕上加工を行なうよう
にしている。これは、水系加工液を使用すると加工速度
が速く、油系加工液を使用すると面粗度が向上するから
である。
【0003】図11〜図12は、ワークW1を無垢の状
態から放電加工する場合に考えられる装置の説明図であ
り、図11(1)、(2)、図12(1)、(2)の順
で動作する。
【0004】なお、以下の記載において、水系加工液を
単に、「水」といい、油系加工液を単に、「油」という
。図面においても同様に、単に、「水」、「油」と記載
してある。
【0005】上記背景技術において、加工タンクTの中
にワークW1が設置され、電極EL1が上下動し、その
電極EL1には、水用ポンプPw1、逆止弁B1を介し
て水用タンクTwから水10が供給され、油用ポンプP
o1、逆止弁B2を介して油用タンクToから油11が
供給される。また、水用ポンプPw2、逆止弁B3を介
して水用タンクTwから加工タンクTに水10が供給さ
れ、油用ポンプPo2、逆止弁B4を介して油用タンク
Toから油11が供給される。
【0006】加工タンクTに溜られた水10は、ドレン
D、水用回収タンクを経由して水用タンクTwに送られ
、加工タンクTに溜られた油11は、ドレンD、油用回
収タンクを経由して油用タンクToに送られる。なお、
水用回収タンク、油用回収タンク内の加工液は、図示し
ない水用フィルタまたは油用フィルタを介して分離装置
に送られ、水と油とに分別され、上記各回収タンクに再
び戻るようになっている。
【0007】この背景技術において、まず最初に、ワー
クW1を加工タンクT内に設置し、図11(1)に示す
ように、水用ポンプPw1、PW2を駆動して水用タン
クTwからそれぞれ、電極EL1、加工タンクTに水1
0を供給する。この場合、油用ポンプPo1、Po2を
停止しておく。
【0008】そして、ワークW1と電極EL1との間に
、荒加工用の加工条件に基づいて、電極EL1とワーク
W1との間に加工パルスを供給して水による荒加工を行
い、その荒加工が終了すると、図11(2)に示すよう
に、水用ポンプPw1、Pw2を停止させるとともに、
加工タンクT内の水10をドレンDを経由して水用回収
タンクに送る。この場合、ワークW1の加工部Aに電極
EL1が食い込んだ状態を維持する。
【0009】その後、図12(1)に示すように、加工
部Aに電極EL1が食い込んだ状態で、油用ポンプPo
1、Po2を駆動し、電極EL1を経由して加工部Aに
油11を強い圧力で供給する。水の排出が完了した後、
放電加工で形成されたワークW1の窪み部(加工部A)
には水が残っているおり、ポンプPo1によって油11
を強力に加工部Aに、噴射することによって、加工部A
の底部に残っている水10をその圧力で加工部Aからワ
ークW1の外側に押し出すようにしている。これによっ
て、水、油の交換動作が終了する。
【0010】このようにして、加工部Aから水10が排
除された後、図12(2)に示すように、電極EL1を
一旦、上昇し、その後、油用ポンプPo1、Po2を駆
動し、油用タンクToから電極EL1、加工タンクTに
油11を供給し、油11の加工液によって仕上加工を行
なう。
【0011】図13、図14は、他の背景技術の説明図
である。
【0012】この背景技術は、ワークW2の形状の一部
分が既に加工され、その後に別の形状で加工する場合の
例であり、図13(1)、(2)、図14(1)、(2
)の順で動作する。
【0013】この背景技術は、電磁弁B6が設けられ、
電極EL1を介して、水10を吸引するために吸引ポン
プPが設けられ、吸引された水10が水用回収タンクに
集められる。
【0014】図13に示す背景技術において、同図(1
)に示すように、ワークW2はその形状の一部分が既に
加工され、その状態で更に別の加工を行なうときに、そ
の荒加工に際して、電磁弁B5を開くとともに水用ポン
プPw1、Pw2を駆動し、水用タンクTwからそれぞ
れ電極EL1、加工タンクTに水10を供給する。この
ときに油用ポンプPo1、Po2を停止し、電磁弁B6
を閉じ、吸引ポンプPを停止する。
【0015】そして、新たな電極EL1による荒加工(
水を加工液として使用した加工)が終了したときに、図
13(2)に示すように、ドレンDを開き、電極EL1
を新たな加工部A1に食い込ませたまま、電磁弁B5を
閉じ、水用ポンプPw1、Pw2を停止し、電磁弁B6
を開き、吸引ポンプPを駆動する。これによって、加工
部A1に溜っている水10を電極EL1の先端から吸引
し、その吸引された水10が水用回収タンクに送り込ま
れる。
【0016】そして、加工タンクT内の水10がドレン
Dを介して排出されたときに、図14(1)に示すよう
に、油用ポンプPo2を動作させ、油用タンクToから
加工タンクTに油11を供給する。このときにも、ワー
クW2の加工部A1内に残っている水10を、吸引ポン
プPを動作させることによって吸引する。
【0017】そして、加工部A1内の水10が全て吸引
されたときに、図14(2)に示すように、電磁弁B6
を閉じ、吸引ポンプPを停止させ、電磁弁B5を開き、
油用ポンプPo1を動作させて、電極EL1に油11を
供給する。この後は、油11を加工液として使用して仕
上加工を行なう。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】上記背景技術において
は、水加工後に、油の噴流によって水を飛散させたり、
水を吸引することによって、水を除去するようにしてい
るが、電極の噴流穴(または吸引穴)の設計に制約があ
るという問題がある。すなわち、図15(1)に示すよ
うに、ワークW3の加工部A2に作られた加工溝Hが小
さい場合には、その加工溝Hに対応する電極部分に吸引
穴を設けることが困難である。また、この場合には、図
15(2)に示すように、加工溝H内で、電極EL2を
上下動させることが考えられるが、それにしても水を1
00%除去できないという問題がある。なお、電極の噴
流穴の設計が容易であったとしても、水加工液を100
%除去することができないという問題が残る。
【0019】そして、油中に水滴が残ると、仕上加工時
にアークが発生し、加工が不安定になるという問題があ
り、また電極の消耗が大きくなる等の問題がある。
【0020】一方、手作業によって水加工液を除去する
ようにすれば水加工液を100%除去することができる
が、このようにするには、ワークを取り外す等の作業が
必要であり、このワーク取り外し等の作業が、時間、労
力ともに非常にかかり、ワークをテーブル上から一旦、
取りはずすと、電極とワークとの位置決めが再び必要に
なり、またもとの位置関係に正確に戻すことが困難であ
るとともに、水加工から油加工への切換えを自動的に行
うことができないという問題がある。
【0021】本発明は、水から油の加工液に切換えると
きに、ワーク中の加工部における水をほぼ完全に除去す
ることができ、しかも容易に除去することができる水油
両用の形彫型放電加工方法およびその装置を提供するこ
とを目的とする。
【0022】
【課題を解決するための手段】本発明は、水を用いて放
電加工した後に、その水を排出し、加工部分を油に入れ
換え、加工部分に残された水を放電加工によって除去し
、この後に、所望の加工条件で油を用いて加工を行なう
ものである。
【0023】
【実施例】図1は、本発明の一実施例の説明図である。
【0024】なお、以下の説明においても、水系加工液
を単に、「水」といい、油系加工液を単に、「油」とい
う。この実施例において、加工タンクTの下部に設けら
れたドレンDにドレン用電磁弁DVが設けられ、この電
磁弁DVを介して回収分離タンク14に加工液が送られ
、その途中であって、回収分離タンク14の水用タンク
側、油用タンク側にはそれぞれ、電磁弁V1、V2が設
けられている。また、回収分離タンク14の水用タンク
側から加工液タンク15の水用タンク側に向かってポン
プP4によって水が送られ、回収分離タンク14の油用
タンク側から加工液タンク15の油用タンク側には、ポ
ンプP5によって油が送られるようになっている。
【0025】回収分離タンク14において、その水用タ
ンク側の加工液のうち、オーバーフローした加工液(油
)が隔壁を超えて、回収分離タンク14の油用タンク側
に入り、水用タンク側の低部に存在する加工液(水)が
ポンプP4によって、加工液タンク15の水用タンク側
に送られる。したがって、タンク14は水と油とを分離
する分離機能を有している。
【0026】さらに、加工液タンク15の油用タンク側
から加工タンクTに向かって、電磁弁と逆止弁とを介し
て、ポンプP1によって油が供給され、加工液タンク1
5の油用タンク側の油は、ポンプP2によって電極EL
の噴流穴に供給されている。ワークWと電極ELとの間
隙内の水は、電極ELの噴流穴を介して、吸引用ポンプ
P3によって回収分離タンク14の水用タンク側に運ば
れ、加工液タンク15の水用タンク側に蓄えられた水は
、逆止弁、電磁弁を経由して、ポンプP6によって、電
極ELの噴流穴に供給されるようになっている。
【0027】一方、検出回路20は、電極ELとワーク
Wとの間で発生した放電による加工状態を検出する回路
であり、電極ELとワークWとの間隙に発生する加工電
圧をサンプリングし、このサンプリングした値をバイナ
リ信号(分解能がたとえば1V)に変更し、すなわち加
工電圧をデジタル信号としてCPU60(なお、CPU
60はNC装置のことを意味する)に供給するものであ
る。
【0028】サーボ駆動回路21は、CPU60からの
半固定信号、サーボ信号等に基づいて、サーボモータM
を駆動するものである。ここで、半固定信号は、電極E
Lの位置を現在位置に保持するか、または、所望の深さ
設定値以下に電極ELが降下しないように指令する信号
である。なお、NCプログラム中に所定の値が与えられ
ていれば、半固定信号をCPU60から出力する必要は
ない。
【0029】平均電圧検出回路31は、間隙の電圧をサ
ンプリングし、その平均電圧を検出するものである。な
お、平均電圧を検出する代わりに、平均電流を検出する
ようにしてもよい。
【0030】比較回路32は、平均電圧検出回路31で
検出した平均電圧の値と基準値発生回路33で発生した
基準電圧の値とを比較し、検出された平均電圧の値が基
準値よりも高くなったときに、水除去作業が完了したと
判断して、水除去完了信号を出力するとともに、サーボ
駆動回路21への半固定信号の供給を停止させる回路で
ある。つまり、比較回路32は、検出回路の出力値と所
定の基準値とを比較し、水の除去状態を示す信号を出力
する比較回路の例である。
【0031】基準値発生回路33は、所定の基準電圧の
値または所定の基準電流の値を発生する基準値発生回路
の例である。また、比較回路32は、平均加工電圧の値
と基準電圧の値との比較、または平均加工電流の値と基
準電流の値との比較を行い、平均加工電圧の値が基準電
圧の値よりも高くなったときに、または平均加工電流の
値が基準電流の値よりも低くなったときに、水除去完了
信号を出力する。なお、比較回路32と基準値発生回路
33とを設ける代わりに、所定の閾値を設定し、検出回
路からの間隙状態を示す値(たとえば電圧)が閾値より
も高いか低いかに応じて、水除去完了信号を出力する構
成を採用してもよい。
【0032】アドレス指定回路40がCPU60から水
・油切換え信号を受けたときに、水除去に適した加工条
件に対応するアドレスをアドレス指定回路40が加工条
件記憶装置51に出力し、比較回路32から水除去完了
信号を受けたときに、NCプログラムに指定された加工
条件に対応するアドレスをアドレス指定回路40が加工
条件記憶装置51に出力する。つまり、アドレス指定回
路40は、水から油に切り換えた後に、後述の加工条件
記憶手段51に記憶されている水除去加工条件に対応す
るアドレスを出力するアドレス指定回路の例であり、比
較回路が出力する除去状態信号に応じた加工条件に対応
するアドレスであって、加工条件記憶手段に記憶されて
いる加工条件に対応するアドレスを出力するアドレス指
定回路の例でもある。
【0033】加工条件記憶装置51には、予め設定され
た加工条件(オンパルスの時間(Ton)、オフパルス
の時間(Toff)、印加電圧(V)、電流波高値(I
p)、サーボ電圧(SV)等の組合せ)が複数個記憶さ
れており、各加工条件のアドレスを指定することによっ
て、所定の加工条件(水除去加工条件を含む)が呼び出
される。なお、通常の荒加工から仕上げ加工を行なう場
合は、NCプログラムに記載された加工条件に応じたア
ドレスをCPU60(NC装置)が指定することによっ
て、仕上げ加工の条件が読み出され、仕上げ加工が実行
される。
【0034】放電パルス発生回路52は、複数の電圧を
発生する直流電源と、複数のスイッチング素子と、複数
の抵抗等とで構成され、加工条件記憶回路51が出力す
る条件設定信号に基づいて、放電加工パルスのオンタイ
ム、オフタイム、電流値、電圧値等が所望の値に設定さ
れた放電加工パルスを発生させる装置である。
【0035】次に上記実施例の動作について説明する。
【0036】図2は、上記実施例の動作を示すフローチ
ャートである。
【0037】水を加工液として使用する荒加工が終了し
た後に、まず、加工タンクTの水を排出する(S1)。 この場合、CPU60が電磁弁V1、ドレン電磁弁DV
を開放し、電磁弁V2を閉じる。これによって、回収分
離タンク14の水用タンク側に加工タンクT内の水が送
られる。なお、荒加工が終了する前には、電磁弁V1が
開放され、ドレン電磁弁DVが閉じられているが、オー
バーフロー管13を介して回収分離タンク14の水用タ
ンク側に水が流れる。ここで、回収分離タンク14の水
用タンク側がオーバーフローした場合、そのオーバーフ
ローする分は水に含まれていた油であり、油のみがオー
バーフローして、回収分離タンク14の油用タンク側に
移動し、また、加工液タンク15の水用タンク側へは、
ポンプP4によって水のみが供給される。
【0038】そして、水・油切換信号をCPU60が出
力するとともに、ポンプP1、P2に駆動を指令し、加
工タンクTに油が供給される(S2)。このときに、ア
ドレス指定回路40は、加工条件記憶回路51に対して
、加工条件指定用アドレス(この場合は、水除去用加工
条件に対応するアドレス)を指定する(S3)。
【0039】また、加工深さDを入力する(S4)。こ
の加工深さDは、最終所望形状、油による仕上げ加工終
了後の形状よりもやや少なめに設定され、加工し過ぎを
防止するものである。水除去工程が終了した後に、油に
よる仕上げ加工を行なうので、この仕上げ加工の取り代
を最終所望深さから差し引いた深さを加工深さDとして
設定する。作業者が所望の加工深さをNCプログラム中
に指定しておけば、NCプログラムで加工深さDを指定
することができる。
【0040】次に、サーボを半固定する(S5)。つま
り、電極ELの位置を現在位置に保持するか、または、
設定された加工深さD以上に電極ELが降下しないよう
に指令する。また、加工深さが充分残っている場合(つ
まり加工深さDが、水除去に必要な加工時間以上、加工
を継続できる値である場合)、この半固定を行なう必要
はない。そして、水除去用条件で加工を行なう(S6)
。このように水除去用条件で放電加工し、この放電に伴
って間隙中の水の温度が上昇し、水が気泡(蒸気)に変
化し、また放電時に発生する圧力によって水が微細な粒
子状になり、この粒子状の水が気泡とともに間隙から離
れ、つまり間隙から水が除去される。また、このときに
、ポンプP2を間欠駆動することによって、油噴流を間
欠的に行ない、間隙からの水除去が促進されるようにし
てもよい。また、サーボが半固定状態になっているので
、電極ELは、加工深さDを越えて降下することがなく
、オーバカット(指定加工深さ以上の加工)を防止でき
る。
【0041】そして、間隙の平均電圧Vgと基準電圧V
rとを比較し(S7)、基準電圧Vrよりも平均電圧V
gが低ければ、加工深さDと現在の深さDeとを比較す
る(S8)。現在の深さDeが加工深さDよりも少なけ
れば、水除去用加工条件で加工を継続しながら、S7、
S8を繰り返す。もし、加工深さDよりも現在の加工深
さDeが大きくなれば、異常表示を行なう(S9)。
【0042】一方、平均電圧Vgが基準電圧Vr以上に
なると(S7)、間隙から水が除去されたと判断し、比
較回路32が水除去完了信号を出力し、これに応じてア
ドレス指定回路40が水除去用加工に関するアドレスの
出力を停止することによって、水除去用加工を停止する
(S10)。また、サーボ半固定を解除し(S11)、
油条件(仕上げ加工の条件)を設定し(S12)、仕上
げ加工を行なう(S13)。なお、油条件設定を行なう
場合、その油条件を作業者が設定するようにしてもよく
、NCプログラムから読み込むようにしてもよい。
【0043】つまり、上記実施例は、水系加工液を用い
て加工する加工工程と、水を排出し、加工部分を油に入
れ換える工程と、この入れ換工程後、加工部分に残され
た水を放電加工によって除去する除去工程と、この除去
工程後、所望の加工条件で油を用いて加工を行なう工程
とを有する。なお、上記除去工程は、放電加工中におけ
る加工電圧の値または加工電流の値が所定値以上になっ
たときに終了するものであり、また、上記除去工程は、
放電加工を所定時間行なったときに終了するものでもあ
る。
【0044】上記実施例によれば、水加工から油加工に
切換える際、電極ELとワークWとの間隙から、水がほ
ぼ100パーセント除去される。
【0045】図3は、本発明の他の実施例の説明図であ
る。
【0046】この実施例は、図1に示す実施例における
比較回路32の代わりにAND回路31aとタイマTM
1とを設け、基準値発生回路33の代わりに水除去デー
タメモリ34を設け、水除去条件による加工が開始され
てから、所定のタイマ時間が経過したときに、水除去が
終了したと判断するものである。
【0047】この実施例において、AND回路31aは
、CPU60からの水・切換信号と平均電圧検出回路3
1からの放電開始検出信号とを同時に受けたときに、に
よるタイマ時間のカウントを開始させるものであり、水
除去データメモリ34は、ワークWにおける加工部の体
積と水除去に必要な時間(タイマ時間)との関係を、加
工電流毎に示すテーブルを有し、CPU60から受けた
ワークWの体積データ(ワークWにおける加工部の体積
のデータ)に基づいて、タイマ時間情報をタイマTM1
に送るものである。なお、水除去データメモリ34を設
ける代りに、データ表に基づいたタイマ時間情報を作業
者がNCプログラムに指定するようにしてもよく、この
場合、CPU60を介して、上記タイマ時間情報がタイ
マに与えられる。つまり、タイマTM1は、水から油に
切り換えて水除去加工を行なう時間をカウントするタイ
マ手段の例である。
【0048】なお、上記テーブルの例を図5に示してあ
り、上記タイマ時間は加工部の体積が大きい程、長くな
る。図5に示すデータは、加工部体積、水の残留量、水
の除去に必要な時間、平均加工電圧の回復時間、消費熱
量を実測した場合のデータ(図6に示す)に基づいてい
る。また、図7は、その実測データのグラフを示す図で
あり、同図(1)は加工部における水の残量と加工部体
積との関係を示し、同図(2)は水の除去時間と加工部
体積との関係を示し、同図(3)は平均加工電圧回復時
間と加工部体積との関係を示してある。
【0049】図4は、図3に示す実施例の動作を示すフ
ローチャートである。
【0050】このフローチャートにおいて、S21〜S
25は、図2に示すS1〜S5と同じである。そして、
サーボを半固定した(S25)後に、水除去用条件で加
工し、タイマTM1をスタートする。このタイマ時間は
、CPU60から送られる体積データに基づいて、水除
去データメモリ34が出力するものである。そのタイマ
時間中に、加工深さDよりも現在の加工深さDeが深く
なれば(S28)、異常表示を行ない(S29)、異常
状態が生じることなくタイマ時間が経過すれば(S27
)、間隙から水が除去されたと判断し、タイマTM1が
水除去完了信号を出力し、これに応じてアドレス指定回
路40がアドレス指定信号の出力を停止し、水除去用加
工を停止する(S30)。また、サーボ半固定を解除し
(S31)、油条件(仕上げ加工の条件)を設定し(S
32)、仕上げ加工を行なう(S33)。この例におい
ても、加工取り代(加工深さ)が充分存在する場合には
、必ずしもサーボを半固定にする必要はない。
【0051】このように、平均電圧の大きさを検出する
代わりに、加工部の体積に応じた時間だけ、水除去用条
件で加工しても、水加工から油加工に切換える際、電極
ELとワークWとの間隙から、水がほぼ100パーセン
ト除去される。
【0052】なお、図3に示す実施例に、基準値発生回
路33と比較回路32とを設け、タイマTM1によるタ
イマ時間経過後に、基準電圧よりも平均電圧が高くなっ
たときに、水が除去されたと判断するようにしてもよい
。つまり、タイマ時間経過後に、平均電圧検出回路31
で検出した平均電圧の値と基準値発生回路33で発生し
た基準電圧の値とを比較し、検出された平均電圧の値が
基準値よりも高くなったときに、水除去作業が完了した
と判断して、水除去完了信号を出力するようにしてもよ
い。このようにすれば、水除去動作に関する確実性が増
加する。
【0053】図8(1)は、本発明の他の実施例の説明
図であり、図8(2)は、τwの説明図である。
【0054】この実施例において、τw検出回路35は
、間隙への電圧の印加回数に対する放電待機時間(間隙
に加工電圧が印加されてから放電が開始するまでの時間
)τwの発生率を検出する回路である。判断回路36は
、放電待機時間τwの発生率が所定の値に達し、しかも
タイマTM2によるタイマ時間が経過したときに、間隙
から水が除去されたと判断するものである。タイマTM
2は、図3に示すタイマTM1と同じであるが、図8(
1)においては、平均電圧検出回路31とAND回路3
1aとの図示を省略してある。
【0055】すなわち、図8(1)に示す実施例におい
ては、サーボを半固定した後に、水除去用条件で加工し
、タイマTM2をスタートする。このタイマ時間は、C
PU61から送られる体積データに基づいて、水除去デ
ータメモリ34が出力するものであり、タイマ時間が経
過したときに、判断回路36が放電待機時間τwの発生
率を検出し、その発生率が90%以上であれば、間隙か
ら水が除去されたと判断し、判断回路36が水除去完了
信号を出力し、これに応じてアドレス指定回路40がア
ドレス指定信号の出力を停止し、サーボ半固定を解除し
、設定された仕上げ加工の油条件で仕上げ加工を行なう
。なお、放電待機時間τwの発生率は90%以外の任意
の割合以上で、間隙から水が除去されたと判断するよう
にしてもよい。
【0056】また、放電待機時間τwは、上記のように
、間隙に加工電圧が印加されてから放電が開始するまで
の時間であり、図8(2)に示す例では、左側2つの放
電パルス波形には放電待機時間τwが発生していないが
、右側2つの放電波形には放電待機時間τwが発生して
いる。放電待機時間τw率を測定する場合、その放電待
機時間τwが短くても、放電待機時間τwが1回発生し
たと判断する。もっとも、放電待機時間τwが所定時間
以上である場合に限って、放電待機時間τwが発生した
と判断するようにしてもよい。
【0057】なお、具体的には、τw検出回路35は、
所定の閾値を発生する閾値発生回路と、この閾値と放電
パルスとを比較し、その閾値よりも放電パルスの値が高
いときに、τwが発生したことを示す信号を出力する比
較回路とを有する。判断回路36は、単位時間を測定す
るタイマと、τw検出回路35の出力信号の数をカウン
トするカウンタと、発生率90%に相当する数を出力す
るレジスタと、上記カウンタの出力値とレジスタの値と
を比較する比較回路とを有する。
【0058】図9は、本発明のさらに他の実施例の説明
図である。
【0059】この実施例は、CPU62からの体積デー
タに基づいて、水除去データメモリ34が所定のタイマ
時間を出力し、このタイマ時間が経過するまではタイマ
TM2がスイッチSWをオフして、平均電圧検出回路3
1が出力する平均電圧を比較回路32へ供給することを
阻止し、タイマ時間が経過したときに、タイマTM2が
スイッチSWをオンして、平均電圧検出回路31が出力
する平均電圧を比較回路32に供給し、その平均電圧と
基準値発生回路33が出力する基準値とを比較回路32
が比較する。一方、基準値よりも平均電圧が低いことを
比較回路32が出力したときには、レシプロ条件の変更
、高圧噴流、水の吸引、電源電圧の上昇、加工電流の上
昇をそれぞれ実行し、その都度、前回の平均電圧と今回
の平均電圧とを比較し、前回の平均電圧よりも今回の平
均電圧が高くなったときに、そのときの平均電圧を基準
値と比較し、そのときの平均電圧が基準値よりも高くな
ったときに、水除去加工を終了する。なお、レシプロ条
件は、電極ELとワークWとの間隙を広げたり縮めたり
するために、ワークWに対して電極ELを上下動する場
合の条件であり、1回の上下動と次の上下動との時間間
隔、1回の上下動の時間等の条件である。なお、これら
の条件は、CPU62(NC装置)に予め設定された条
件であり、レシプロ運転指令信号によってそのレシプロ
条件の実行を開始させてもよい。
【0060】スイッチSWは、平均電圧検出回路31と
比較回路32との間に設けられ、タイマTM2がタイマ
時間のカウントを終了するまではオフし、そのカウント
を終了したときにオンするものである。
【0061】メモリ37は、水除去条件制御回路41か
らの制御信号を受けたときに平均電圧検出回路31の出
力信号を順次、記憶するものである。つまり、上記制御
信号は、比較回路32で何回目に比較するかを示す信号
であり、その制御信号が示す回数に応じた記憶内容をメ
モリ37が記憶し、出力する。ただし、平均電圧を比較
する回数が1回目であるときのみ、基準値発生回路33
が基準値を出力する。したがって、最初の状態では、平
均電圧を記憶する回数が1回目であるので、水除去条件
制御回路41の制御信号を「1」とすると、このときに
の平均加工電圧Vg1をメモリ37が記憶し、基準値発
生回路33が基準値を出力し、その制御信号として「2
」が出力されたときに、そのときの平均加工電圧Vg2
をメモリ37が記憶し、平均加工電圧Vg1を比較回路
32にメモリ37が出力する。
【0062】そして、制御信号として「3」が出力され
たときに、そのときの平均加工電圧Vg3をメモリ37
が記憶し、平均加工電圧Vg2を比較回路32にメモリ
37が出力し、制御信号として「4」が出力されたとき
に、そのときの平均加工電圧Vg4をメモリ37が記憶
し、平均加工電圧Vg3を比較回路32にメモリ37が
出力し、制御信号として「5」が出力されたときに、そ
のときの平均加工電圧Vg5をメモリ37が記憶し、平
均加工電圧Vg4を比較回路32にメモリ37が出力し
、制御信号として「6」が出力されたときに、そのとき
の平均加工電圧Vg6をメモリ37が記憶し、平均加工
電圧Vg5を比較回路32にメモリ37が出力し、制御
信号として「7」が出力されたときに、平均加工電圧V
g6を比較回路32にメモリ37が出力するものである
【0063】次に、上記実施例の動作について説明する
【0064】図10は、図9に示す実施例の動作を示す
フローチャートである。
【0065】このフローチャートにおいて、S51〜S
56は、図2に示すS1〜S6と同じである。タイマT
M2のタイマ時間だけ、水除去条件で加工した(S57
)後に、数ミリ秒〜数十ミリ秒の第1所定時間だけ、加
工を継続し(S58)、このときの平均加工電圧Vg1
をメモリ37に記憶するとともに、スイッチSWを介し
て比較回路32に送り(S59)、基準電圧Vrを比較
回路32に出力し(S60)、平均加工電圧Vg1と基
準電圧Vrとを比較し(S61)、平均加工電圧Vg1
が基準電圧Vrよりも高ければ、間隙から水が除去され
たと判断し、CPU63(NC装置)が水除去用加工を
停止する(S62)。また、サーボ半固定を解除し(S
63)、油条件(仕上げ加工の条件)を設定する(S6
4)。この場合、図2のときと同様に、作業者が油条件
を設定しても、またはNCプログラム上に設定しておい
てもよい。そして油条件に切換え、仕上げ加工を行なう
(S65、S66)。
【0066】一方、S61において、平均加工電圧Vg
1が基準電圧Vrよりも低ければ、レシプロ運転指令を
水除去条件制御回路41が出力し、CPU63を介して
、サーボ駆動回路21がレシプロ運転を制御する(S7
1)。つまり、ワークWに対して電極ELを上下動し、
間隙を広げたり縮めたりすることによって、間隙に存在
する水を排除するようにする。なお、S71において、
単にレシプロ運転を行う代わりに、そのレシプロ運転の
条件(1回の上下動と次の上下動との間隔、1回の上下
動に必要な時間等の条件)を変更してレシプロ運転を行
うようにしてもよい。その後、数秒〜数十秒程度の第2
所定時間だけ、上記レシプロ運動を行ないながら加工を
継続し(S72)、上記第2所定時間経過後に、このと
きの平均加工電圧Vg2を読み込み(S73)、平均加
工電圧Vg1とVg2とを比較し(S74)、平均加工
電圧Vg2がVg1よりも高ければ、つまり前回の平均
加工電圧よりも今回の平均加工電圧が高くなっていれば
(S74)、間隙内の水の除去が進んだと判断し、S5
8に戻る。
【0067】しかし、平均加工電圧Vg2がVg1より
も低ければ、つまり前回の平均加工電圧よりも今回の平
均加工電圧が低くなっていれば、間隙内の水の除去をさ
らに強力に行う必要があると判断し、ポンプP2を駆動
することによって、油の高圧噴流を噴出し(S75)、
数秒〜数十秒程度の第3所定時間だけ、油の高圧噴流を
噴出させながら加工を継続し(S76)、上記第3所定
時間経過後に、このときの平均加工電圧Vg3を読み込
み(S77)、平均加工電圧Vg2とVg3とを比較す
る(S78)。このときに、平均加工電圧Vg3がVg
2よりも高ければ、つまり前回の平均加工電圧よりも今
回の平均加工電圧が高くなっていれば、間隙内の水の除
去が進んだと判断し、S58に戻る。
【0068】逆に、平均加工電圧Vg3がVg2よりも
低ければ、つまり前回の平均加工電圧よりも今回の平均
加工電圧が低くなっていれば、間隙内の水の除去をさら
に強力に行う必要があると判断し、吸引用ポンプP3を
動作させて、間隙内の水を吸引し(S81)、数秒〜数
十秒程度の第4所定時間だけ、上記吸引動作を行ないな
がら加工を継続し(S82)、上記第4所定時間経過後
に、このときの平均加工電圧Vg4を読み込み(S83
)、平均加工電圧Vg3とVg4とを比較する(S84
)。このときに、平均加工電圧Vg4がVg3よりも高
ければ、つまり前回の平均加工電圧よりも今回の平均加
工電圧が高くなっていれば、間隙内の水の除去が進んだ
と判断し、S58に戻る。
【0069】この場合、平均加工電圧Vg4がVg3よ
りも低ければ、つまり前回の平均加工電圧よりも今回の
平均加工電圧が低くなっていれば、間隙内の水の除去を
さらに強力に行う必要があると判断し、電源電圧を上昇
させ(S85)、数秒〜数十秒程度の第5所定時間だけ
、加工を継続し(S86)、このときの平均加工電圧V
g5を読み込み(S87)、平均加工電圧Vg4とVg
5とを比較する(S88)。そして、平均加工電圧Vg
5がVg4よりも高ければ、つまり前回の平均加工電圧
よりも今回の平均加工電圧が高くなっていれば、間隙内
の水の除去が進んだと判断し、S58に戻る。
【0070】逆に、平均加工電圧Vg5がVg4よりも
低ければ、つまり前回の平均加工電圧よりも今回の平均
加工電圧が低くなっていれば、間隙内の水の除去をさら
に強力に行う必要があると判断し、加工電流を増加させ
(S91)、数秒〜数十秒程度の第6所定時間だけ、加
工を継続し(S92)、このときの平均加工電圧Vg6
を読み込み(S93)、平均加工電圧Vg6とVg5と
を比較する(S94)。そして、平均加工電圧Vg6が
Vg5よりも高ければ、つまり前回の平均加工電圧より
も今回の平均加工電圧が高くなっていれば、間隙内の水
の除去が進んだと判断し、S58に戻る。
【0071】しかし、平均加工電圧Vg6がVg5より
も低ければ、つまり前回の平均加工電圧よりも今回の平
均加工電圧が低くなっていれば、現在の加工深さDeを
読み込み(S95)、加工深さDよりも現在の加工深さ
Deが大きければ(S96)、異常表示を行なう。加工
深さDよりも現在の加工深さDeが小さければ、S58
に戻る。もちろん、NCプログラムに予め所定値が指定
されていればこの動作を行なう必要はない。
【0072】上記のように、平均加工電圧が基準電圧よ
りも低いときに、レシプロ運転、高圧噴流、水の吸引、
電源電圧の上昇、加工電流の増加を行うことによって、
水除去を強力に実行することができる。この場合、レシ
プロ運転、高圧噴流、水の吸引、電源電圧の上昇、加工
電流の増加の全てを実行する必要はなく、そのうちの少
なくとも1つを実行すればよい。なお、レシプロ運転、
高圧噴流、水の吸引、電源電圧の上昇、加工電流の増加
の順序は、上記以外の任意の順序でもよいが、電源電圧
の上昇、加工電流の増加等の電気的条件は、それらを実
行することによって水除去加工による加工が進むが、こ
の加工が進みすぎると後の油条件による加工に不都合を
生じる場合もあるので、他の条件よりも後で実行するこ
とが好ましい。
【0073】
【発明の効果】本発明によれば、水から油の加工液に切
換えるときに、ワーク中の加工部における水をほぼ完全
に除去することができ、しかも容易に除去することがで
きるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の説明図である。
【図2】上記実施例の動作を示すフローチャートである
【図3】本発明の他の実施例の説明図である。
【図4】図3に示す実施例の動作を示すフローチャート
である。
【図5】加工部体積と、水除去に必要な時間との関係を
示す図である。
【図6】図5に示す関係の根拠となる実測データを示す
図である。
【図7】図6に示すデータのグラフを示す図である。
【図8】本発明の別の実施例の説明図である。
【図9】本発明のさらに他の実施例の説明図である。
【図10】図9に示す実施例の動作を示すフローチャー
トである。
【図11】背景技術の説明図である。
【図12】図11に示した背景技術と同じものの説明図
である。
【図13】他の背景技術の説明図である。
【図14】図13に示した背景技術と同じものの説明図
である。
【図15】ワークの加工部に作られた加工溝が小さい場
合の説明図である。
【符号の説明】
P1〜P5…ポンプ、 T…加工タンク、 W…ワーク、 20…検出回路、 21…サーボ駆動回路、 31…平均電圧検出回路、 32…比較回路、 33…基準値発生回路、 34…判断データメモリ、 35…τw検出回路、 36…判断回路、 40、41…水除去条件制御回路、 51…加工条件記憶回路、 52…放電パルス発生回路。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  水系加工液と油系加工液とを用いて放
    電加工を行なう型彫放電加工方法において、上記水系加
    工液を用いて加工する加工工程と;上記水系加工液を排
    出し、加工部分を油系加工液に入れ換える工程と;この
    入れ換工程後、加工部分に残された水系加工液を放電加
    工によって除去する除去工程と;この除去工程後、所望
    の加工条件で上記油系加工液を用いて加工を行なう工程
    と;を有することを特徴とする水油両用の形彫型放電加
    工方法。
  2. 【請求項2】  請求項1において、上記除去工程は、
    上記放電加工中における加工電圧の値または加工電流の
    値が所定値以上になったときに終了するものであること
    を特徴とする水油両用の形彫型放電加工方法。
  3. 【請求項3】  請求項1において、上記除去工程は、
    上記放電加工を所定時間行なったときに終了するもので
    あることを特徴とする水油両用の形彫型放電加工方法。
  4. 【請求項4】  水系加工液または油系加工液を介して
    、被加工物と電極とによる加工間隙に、間欠的に加工パ
    ルスエネルギーを印加して放電加工を行なう放電加工装
    置において、上記水除去加工条件を含む複数の加工条件
    を所定のアドレスとともに記憶する加工条件記憶手段と
    ;上記加工間隙の状態を検出する検出回路と;この検出
    回路の出力値と所定の基準値とを比較し、上記水系加工
    液の除去状態を示す信号を出力する比較回路と;この比
    較回路が出力する除去状態信号に応じた加工条件に対応
    するアドレスであって、上記加工条件記憶手段に記憶さ
    れている加工条件に対応するアドレスを出力するアドレ
    ス指定回路と;を有することを特徴とする水油両用の形
    彫型放電加工装置。
  5. 【請求項5】  水系加工液または油系加工液を介して
    、被加工物と電極とによる加工間隙に、間欠的に加工パ
    ルスエネルギーを印加して放電加工を行なう放電加工装
    置において、上記水除去加工条件を含む複数の加工条件
    を所定のアドレスとともに記憶する加工条件記憶手段と
    ;上記水系加工液から上記油系加工液に切り換えた後に
    、上記加工条件記憶手段に記憶されている上記水除去加
    工条件に対応するアドレスを出力するアドレス指定回路
    と;上記水系加工液から上記油系加工液に切り換えて水
    除去加工を行なう時間をカウントするタイマ手段と;を
    有することを特徴とする水油両用の形彫型放電加工装置
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