JPH04334491A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
- Publication number
- JPH04334491A JPH04334491A JP3133327A JP13332791A JPH04334491A JP H04334491 A JPH04334491 A JP H04334491A JP 3133327 A JP3133327 A JP 3133327A JP 13332791 A JP13332791 A JP 13332791A JP H04334491 A JPH04334491 A JP H04334491A
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- amorphous
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- Pending
Links
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、記録、再生、消去がで
きる光情報記録媒体に関する。
きる光情報記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光情報媒体としては、記録された
情報を読み出すだけの再生専用型、レーザー光照射によ
り記録膜にピットを形成して情報を恒久的に記録する追
記型、及び情報の記録、再生、消去を任意に行うことが
できる書換型が知られており、それぞれの特徴を生かし
て使用されている。このうち書換型には光磁気効果を利
用した光磁気型、結晶相と非結晶相の二つの状態変化を
利用して記録、消去を行う相変化型等が知られている。 相変化型の記録材料としてはすでに各種の材料が提案さ
れているが、それらのいずれも相変化型記録材料として
十分満足できるものではない。例えば、ＴｅおよびＴｅ
系材料は低融点材料であり、結晶化温度が低く、かつ、
結晶化温度と融点の温度幅が狭く、多少の湿気にも弱く
表面が変質してしまうという欠点をもっている。また、
Ａｕ−Ｓｉ系、ＡｕＡｌ２系などでは非晶質化が難しく
、Ｐｄ−Ｓｉ系では融点が比較的高く、基板の損傷が大
きくなる恐れがある。なお、上述の化合物はＴｅ、Ａｕ
、Ｐｄが希少金属であるため、実際面では高価であると
いう欠点を有している。また、ＴｅおよびＴｅ系材料は
、蒸気圧が高いので書き込み時、材料が飛散しやすく、
繰り返し使用に耐えきれない欠点を有している。
情報を読み出すだけの再生専用型、レーザー光照射によ
り記録膜にピットを形成して情報を恒久的に記録する追
記型、及び情報の記録、再生、消去を任意に行うことが
できる書換型が知られており、それぞれの特徴を生かし
て使用されている。このうち書換型には光磁気効果を利
用した光磁気型、結晶相と非結晶相の二つの状態変化を
利用して記録、消去を行う相変化型等が知られている。 相変化型の記録材料としてはすでに各種の材料が提案さ
れているが、それらのいずれも相変化型記録材料として
十分満足できるものではない。例えば、ＴｅおよびＴｅ
系材料は低融点材料であり、結晶化温度が低く、かつ、
結晶化温度と融点の温度幅が狭く、多少の湿気にも弱く
表面が変質してしまうという欠点をもっている。また、
Ａｕ−Ｓｉ系、ＡｕＡｌ２系などでは非晶質化が難しく
、Ｐｄ−Ｓｉ系では融点が比較的高く、基板の損傷が大
きくなる恐れがある。なお、上述の化合物はＴｅ、Ａｕ
、Ｐｄが希少金属であるため、実際面では高価であると
いう欠点を有している。また、ＴｅおよびＴｅ系材料は
、蒸気圧が高いので書き込み時、材料が飛散しやすく、
繰り返し使用に耐えきれない欠点を有している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
の従来技術の問題点を解決して、結晶化温度と融点の温
度幅を十分に有し、書き込み、消去特性に優れた光記録
媒体を提供することにある。
の従来技術の問題点を解決して、結晶化温度と融点の温
度幅を十分に有し、書き込み、消去特性に優れた光記録
媒体を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討し
た結果、特定の合金が相変化型の光記録用材料として有
用であることを知見し、本発明に至った。すなわち、本
発明は、一般式：ＺａＸｂＡｌｃ（ただし、Ｚ：Ｚｒ、
Ｈｆから選ばれる一種もしくは二種の金属元素、Ｘ：Ｍ
ｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕから選ばれる一種もしくは
二種以上の金属元素、ａ、ｂ、ｃは原子パーセントで４
５≦ａ≦８０ ５≦ｂ≦５５ ０＜ｃ≦３０） で示される組成を有し、レーザー加熱により非晶質、結
晶質相転移を行い、記録および消去の可能な記録材料か
らなる記録層を備えることを特徴とする光記録媒体であ
る。
た結果、特定の合金が相変化型の光記録用材料として有
用であることを知見し、本発明に至った。すなわち、本
発明は、一般式：ＺａＸｂＡｌｃ（ただし、Ｚ：Ｚｒ、
Ｈｆから選ばれる一種もしくは二種の金属元素、Ｘ：Ｍ
ｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕから選ばれる一種もしくは
二種以上の金属元素、ａ、ｂ、ｃは原子パーセントで４
５≦ａ≦８０ ５≦ｂ≦５５ ０＜ｃ≦３０） で示される組成を有し、レーザー加熱により非晶質、結
晶質相転移を行い、記録および消去の可能な記録材料か
らなる記録層を備えることを特徴とする光記録媒体であ
る。
【０００５】上記、Ｚ−Ｘ−Ａｌ合金は特願平１−２９
７４９４で示されるように非常に非晶質形成能が高く、
結晶化温度が ５２３Ｋ以上と室温よりはるかに高温で
あるので室温付近では非晶質相の安定性は非常に高い。 また、融点近傍での蒸気圧が低くＴｅ系化合物のように
材料が飛散する恐れは全くない。さらに上述の合金の融
点は１０００Ｋ以下であり、書き込みに際し加熱しても
基板が熱による影響を受ける可能性が小さい。上述の合
金を構成する元素はＰｄ、Ａｕ、Ｔｅなどに比べると地
殻における元素の存在度がはるかに多く、したがって非
常に実用的である。上述のように本発明の光ディスクで
は書き込み消去を容易かつ安定に行うことができ、また
、安価に供給することができる。なお、ＺａＸｂＡｌｃ
において、 ４５≦ａ≦８０ ５≦ｂ≦５５ ０＜ｃ≦３０ と組成を限定したのは、この組成範囲以外では非晶質化
が困難になったり、融点が非常に高くなるためである。 又、ａの組成範囲は５５≦ａ≦８５ａｔ％であることが
より好ましい。
７４９４で示されるように非常に非晶質形成能が高く、
結晶化温度が ５２３Ｋ以上と室温よりはるかに高温で
あるので室温付近では非晶質相の安定性は非常に高い。 また、融点近傍での蒸気圧が低くＴｅ系化合物のように
材料が飛散する恐れは全くない。さらに上述の合金の融
点は１０００Ｋ以下であり、書き込みに際し加熱しても
基板が熱による影響を受ける可能性が小さい。上述の合
金を構成する元素はＰｄ、Ａｕ、Ｔｅなどに比べると地
殻における元素の存在度がはるかに多く、したがって非
常に実用的である。上述のように本発明の光ディスクで
は書き込み消去を容易かつ安定に行うことができ、また
、安価に供給することができる。なお、ＺａＸｂＡｌｃ
において、 ４５≦ａ≦８０ ５≦ｂ≦５５ ０＜ｃ≦３０ と組成を限定したのは、この組成範囲以外では非晶質化
が困難になったり、融点が非常に高くなるためである。 又、ａの組成範囲は５５≦ａ≦８５ａｔ％であることが
より好ましい。
【０００６】上記記録材料として特に好ましいものを例
示すれば、例えば、Ｚｒ６５Ｃｕ３０Ａｌ５ 、Ｚｒ６
５Ｃｏ２０Ａｌ１５、Ｚｒ６０Ｆｅ２０Ａｌ２０、Ｈｆ
５５Ｎｉ２５Ａｌ２０等を挙げることができる。本発明
の光記録媒体は、記録層を構成する材料に上記の特定の
合金材料を使用することが重要であり、光記録媒体を構
成する他の部材、例えば基板、保護層等についてはとく
に制限はなく、いずれのものでも使用することができる
。
示すれば、例えば、Ｚｒ６５Ｃｕ３０Ａｌ５ 、Ｚｒ６
５Ｃｏ２０Ａｌ１５、Ｚｒ６０Ｆｅ２０Ａｌ２０、Ｈｆ
５５Ｎｉ２５Ａｌ２０等を挙げることができる。本発明
の光記録媒体は、記録層を構成する材料に上記の特定の
合金材料を使用することが重要であり、光記録媒体を構
成する他の部材、例えば基板、保護層等についてはとく
に制限はなく、いずれのものでも使用することができる
。
【０００７】
【実施例】以下に本発明を実施例により説明するが、こ
れらの実施例は本発明の具体的態様を例示するものであ
って本発明の範囲を何等制限するものではない。
れらの実施例は本発明の具体的態様を例示するものであ
って本発明の範囲を何等制限するものではない。
【０００８】実施例１
Ｚｒ６５Ｃｕ３０Ａｌ５をターゲットとしてスパッタ法
で約１００ｎｍ の厚さの膜を形成した。この合金は結
晶化温度 ７３７Ｋで透過電子顕微鏡観察で非晶質であ
ることを確認した。この膜に５ｍＷ／μｍ２のパワー密
度を有するレーザービームを１μｓｅｃ照射したところ
、結晶質に転移して約１１％の反射率の低下を示した。 同一領域に１０ｍＷ／μｍ２のパワー密度で５０ｎｓｅ
ｃ照射し、冷却したところ非晶質に転移し、初期の反射
率に戻った。この現象は繰り返し発生させることができ
、ＰＭＭＡ基板を使用して作製したＺｒ６５Ｃｕ３０Ａ
ｌ５の光ディスクで記録、消去が可能であった。なお、
上記合金の融点は１０８３Ｋである。
で約１００ｎｍ の厚さの膜を形成した。この合金は結
晶化温度 ７３７Ｋで透過電子顕微鏡観察で非晶質であ
ることを確認した。この膜に５ｍＷ／μｍ２のパワー密
度を有するレーザービームを１μｓｅｃ照射したところ
、結晶質に転移して約１１％の反射率の低下を示した。 同一領域に１０ｍＷ／μｍ２のパワー密度で５０ｎｓｅ
ｃ照射し、冷却したところ非晶質に転移し、初期の反射
率に戻った。この現象は繰り返し発生させることができ
、ＰＭＭＡ基板を使用して作製したＺｒ６５Ｃｕ３０Ａ
ｌ５の光ディスクで記録、消去が可能であった。なお、
上記合金の融点は１０８３Ｋである。
【０００９】実施例２
Ｚｒ６５Ｃｏ２０Ａｌ１５をターゲットとしてスパッタ
法で、ＰＭＭＡ基板を使用して作製したＺｒ６５Ｃｏ２
０Ａｌ１５の光ディスクにおいても、実施例１と同様の
結果が得られた。なお、上記合金の結晶化温度は ７５
６Ｋ、融点は１０９０Ｋである。
法で、ＰＭＭＡ基板を使用して作製したＺｒ６５Ｃｏ２
０Ａｌ１５の光ディスクにおいても、実施例１と同様の
結果が得られた。なお、上記合金の結晶化温度は ７５
６Ｋ、融点は１０９０Ｋである。
【００１０】実施例３
Ｈｆ５５Ｎｉ２５Ａｌ２０をターゲットとしてスパッタ
法で、ＰＭＭＡ基板を使用して作製したＨｆ５５Ｎｉ２
５Ａｌ２０の光ディスクにおいても、実施例１と同様の
結果が得られた。なお、上記合金の結晶化温度は ５９
４Ｋ、融点は ９１４Ｋである。なお、本発明を光ディ
スクに適用した場合で説明したが、上記合金組成を有し
、レーザー加熱により非晶質、結晶質の相転移を利用し
て記憶、消去を行う記録媒体であればいずれにも適用可
能であり、必ずしも全体形状がディスクに限定されるも
のではない。
法で、ＰＭＭＡ基板を使用して作製したＨｆ５５Ｎｉ２
５Ａｌ２０の光ディスクにおいても、実施例１と同様の
結果が得られた。なお、上記合金の結晶化温度は ５９
４Ｋ、融点は ９１４Ｋである。なお、本発明を光ディ
スクに適用した場合で説明したが、上記合金組成を有し
、レーザー加熱により非晶質、結晶質の相転移を利用し
て記憶、消去を行う記録媒体であればいずれにも適用可
能であり、必ずしも全体形状がディスクに限定されるも
のではない。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において使
用する記録材料は、融点が１１５０Ｋ以下であるので基
板を損傷することがなく、かつ、結晶化温度が約 ５０
０Ｋ以上で融点が約 ８５０Ｋ以上であり、結晶化温度
と融点との温度幅が十分にあるので、容易に安定して情
報の書込み、消去を行うことができる。又、記録材料の
結晶化温度が高いので熱的にも安定している。
用する記録材料は、融点が１１５０Ｋ以下であるので基
板を損傷することがなく、かつ、結晶化温度が約 ５０
０Ｋ以上で融点が約 ８５０Ｋ以上であり、結晶化温度
と融点との温度幅が十分にあるので、容易に安定して情
報の書込み、消去を行うことができる。又、記録材料の
結晶化温度が高いので熱的にも安定している。
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式：ＺａＸｂＡｌｃ（ただし、Ｚ
：Ｚｒ、Ｈｆから選ばれる一種もしくは二種の金属元素
、Ｘ：Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕから選ばれる一種
もしくは二種以上の金属元素、ａ、ｂ、ｃは原子パーセ
ントで ４５≦ａ≦８０ ５≦ｂ≦５５ ０＜ｃ≦３０） で示される組成を有し、レーザー加熱により非晶質、結
晶質相転移を行い、記録および消去の可能な記録材料か
らなる記録層を備えることを特徴とする光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3133327A JPH04334491A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3133327A JPH04334491A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04334491A true JPH04334491A (ja) | 1992-11-20 |
Family
ID=15102123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3133327A Pending JPH04334491A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04334491A (ja) |
-
1991
- 1991-05-10 JP JP3133327A patent/JPH04334491A/ja active Pending
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