JPH0432038A - 光ピックアップ装置 - Google Patents
光ピックアップ装置Info
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- JPH0432038A JPH0432038A JP2138893A JP13889390A JPH0432038A JP H0432038 A JPH0432038 A JP H0432038A JP 2138893 A JP2138893 A JP 2138893A JP 13889390 A JP13889390 A JP 13889390A JP H0432038 A JPH0432038 A JP H0432038A
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 81
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 31
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 7
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- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 101100537937 Caenorhabditis elegans arc-1 gene Proteins 0.000 description 1
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
- G11B7/1353—Diffractive elements, e.g. holograms or gratings
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- G—PHYSICS
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- G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
- G11B7/09—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
-
- G—PHYSICS
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- G11B7/09—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B7/094—Methods and circuits for servo offset compensation
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- G11B7/13—Optical detectors therefor
- G11B7/131—Arrangement of detectors in a multiple array
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- G11B7/1398—Means for shaping the cross-section of the beam, e.g. into circular or elliptical cross-section
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- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、光ディスクのような記録媒体に対して情報の
記録および再生する光学式記録再生装置の光ピックアッ
プ装置に関する。
記録および再生する光学式記録再生装置の光ピックアッ
プ装置に関する。
(従来の技術)
光ディスク等の記録媒体には、情報が、光学式記録再生
装置の光ピックアップ装置により、帯状のトラックに記
録および再生される。
装置の光ピックアップ装置により、帯状のトラックに記
録および再生される。
従来の光ピックアップ装置の一例を、第8図に示す。こ
の光ピックアップ装置は、レーザ光源81を有しており
、該レーザ光源81から断面強度が楕円状のレーザビー
ムが放射状に発振される。該レーザビームは、回折素子
82を透過して、コリメートレンズ83に入射され、該
コリメートレンズ83により平行ビームとされて、整形
プリズム84に入射される。該整形プリズム84は、平
行になったレーザビームの断面強度を真円形状に整形し
、整形されたレーザビームは対物レンズ85を介して光
ディスク70のトラック71に照射される。
の光ピックアップ装置は、レーザ光源81を有しており
、該レーザ光源81から断面強度が楕円状のレーザビー
ムが放射状に発振される。該レーザビームは、回折素子
82を透過して、コリメートレンズ83に入射され、該
コリメートレンズ83により平行ビームとされて、整形
プリズム84に入射される。該整形プリズム84は、平
行になったレーザビームの断面強度を真円形状に整形し
、整形されたレーザビームは対物レンズ85を介して光
ディスク70のトラック71に照射される。
光ディスク70は、対物レンズ85から照射されるレー
ザビームに対して、ミクロ的に矢印A方向となるように
回転され、対物レンズ85は、光デイスク70上にレー
ザビームが合焦状態で照射されるように、光ディスク7
0に対して接近および離隔される。また、対物レンズ8
5は、矢印Aで示す回転方向とは直交するラジアル方向
にも移動される。
ザビームに対して、ミクロ的に矢印A方向となるように
回転され、対物レンズ85は、光デイスク70上にレー
ザビームが合焦状態で照射されるように、光ディスク7
0に対して接近および離隔される。また、対物レンズ8
5は、矢印Aで示す回転方向とは直交するラジアル方向
にも移動される。
光ディスク70にて反射された反射ビームは、該光ディ
スク70への入射経路を、反対方間に通って、円板状の
回折素子82に照射される。
スク70への入射経路を、反対方間に通って、円板状の
回折素子82に照射される。
レーザ光源81は、例えば、X軸方向にレーザビームを
発振するようになっており、回折素子82、コリメート
レンズ83の光軸も、該レーザビームの発振方向である
X軸方向になっている。該レーザ光源81から発振され
るレーザビームの断面弧1布は楕円形状になっており、
その楕円形状の長軸方向がX軸方向になるように、レー
ザ光源81が配置されている。回折素子82は、分割線
82aにより三等分されており、該分割線82aにより
分割されたそれぞれの領域には、反射ビームを回折する
ための回折格子82bおよび82cがそれぞれ設けられ
ている。
発振するようになっており、回折素子82、コリメート
レンズ83の光軸も、該レーザビームの発振方向である
X軸方向になっている。該レーザ光源81から発振され
るレーザビームの断面弧1布は楕円形状になっており、
その楕円形状の長軸方向がX軸方向になるように、レー
ザ光源81が配置されている。回折素子82は、分割線
82aにより三等分されており、該分割線82aにより
分割されたそれぞれの領域には、反射ビームを回折する
ための回折格子82bおよび82cがそれぞれ設けられ
ている。
該分割線82aは、光ディスク70にて反射されて、該
回折素子82に入射される反射ビームに対して、楕円形
状の断面強度分布の短軸方向であるy軸方向に延びてい
る。
回折素子82に入射される反射ビームに対して、楕円形
状の断面強度分布の短軸方向であるy軸方向に延びてい
る。
各回折格子は82bおよび82cは、入射される反射ビ
ームを、分割線B2aに沿ったy軸方向へ回折するよう
に、y軸方向(楕円形状の断面強度分布における短軸方
向)に並んだ所定ピッチで設けられており、一方の第1
回折格子82bの格子ピッチが他方の第2回折格子82
cの格子ピッチよりも大きくなっている。従って、第2
回折格子82cの格子は第1回折格子82bよりも密な
状態になっており、該第2回折格子82cにより回折さ
れる反射ビームは、第1回折格子82bにより回折され
る反射ビームよりも回折角度が大きくなる。
ームを、分割線B2aに沿ったy軸方向へ回折するよう
に、y軸方向(楕円形状の断面強度分布における短軸方
向)に並んだ所定ピッチで設けられており、一方の第1
回折格子82bの格子ピッチが他方の第2回折格子82
cの格子ピッチよりも大きくなっている。従って、第2
回折格子82cの格子は第1回折格子82bよりも密な
状態になっており、該第2回折格子82cにより回折さ
れる反射ビームは、第1回折格子82bにより回折され
る反射ビームよりも回折角度が大きくなる。
各回折格子82bおよび82cにより回折された反射ビ
ームは、各回折格子82bおよび82cの回折方向であ
るレーザ光源81のy軸方向に並設された光検出器86
の検出面に照射される。該光検出器86の検出面は、X
軸方向(各回折格子82bおよび82cの回折方向とは
直交する方向)に延びる第1分割線86dによりy軸方
向(@近方向)に三等分されており、レーザ光源81側
の第1検出面86a上に、第1回折格子82bにより回
折された回折角度が小さい回折ビームが照射される。光
検出器86の三等分された検出面における他方の領域は
、y軸方向(回折方向)に延びる第2分割線86eによ
り、第2検出面86bおよび第3検出面86cに三等分
されている。
ームは、各回折格子82bおよび82cの回折方向であ
るレーザ光源81のy軸方向に並設された光検出器86
の検出面に照射される。該光検出器86の検出面は、X
軸方向(各回折格子82bおよび82cの回折方向とは
直交する方向)に延びる第1分割線86dによりy軸方
向(@近方向)に三等分されており、レーザ光源81側
の第1検出面86a上に、第1回折格子82bにより回
折された回折角度が小さい回折ビームが照射される。光
検出器86の三等分された検出面における他方の領域は
、y軸方向(回折方向)に延びる第2分割線86eによ
り、第2検出面86bおよび第3検出面86cに三等分
されている。
光ディスク70に合焦状態で照射された基準波長のレー
ザビームは、該光ディスク70にて反射されると、回折
素子82の各回折格子82bおよび82cにより三等分
されて、それぞれ異なる回折角度で回折される。そして
、第1回折格子82bにより回折された回折ビームは光
検出器86の第1検出面82aの中心位置に合焦状態で
照射され、第2回折格子82cにて回折された回折ビー
ムは、第2分割線86eの中心位置に合焦状態で照射さ
れる。光検出器86は、各検出面86a、 86b、
および86eに照射される反射ビームの光強度に応じた
信号をそれぞれ出力する。
ザビームは、該光ディスク70にて反射されると、回折
素子82の各回折格子82bおよび82cにより三等分
されて、それぞれ異なる回折角度で回折される。そして
、第1回折格子82bにより回折された回折ビームは光
検出器86の第1検出面82aの中心位置に合焦状態で
照射され、第2回折格子82cにて回折された回折ビー
ムは、第2分割線86eの中心位置に合焦状態で照射さ
れる。光検出器86は、各検出面86a、 86b、
および86eに照射される反射ビームの光強度に応じた
信号をそれぞれ出力する。
光検出器86における第1検出面86aの出力信号をS
a、第2検出面86bの出力信号をsb、第3検出面8
6cの出力信号をScとすると、光ディスク70に照射
されるレーザビームのフォーカス誤差信号(FES)は
、第2検出面86bの出力信号と第3検出面116cの
出力信号との差、S b −S cにて得られる。そし
て、そのFESがOになるように、対物レンズ85が光
ディスク70に対して接近または離隔されて、先ディス
ク70上にレーザビームが合焦状態で照射される。
a、第2検出面86bの出力信号をsb、第3検出面8
6cの出力信号をScとすると、光ディスク70に照射
されるレーザビームのフォーカス誤差信号(FES)は
、第2検出面86bの出力信号と第3検出面116cの
出力信号との差、S b −S cにて得られる。そし
て、そのFESがOになるように、対物レンズ85が光
ディスク70に対して接近または離隔されて、先ディス
ク70上にレーザビームが合焦状態で照射される。
また、光ディスク70のラジアル方向の誤差信号RES
は、Sa−(Sb+S c)で得られ、該RESが0に
なるように、対物レンズ85は、光ディスク70のラジ
アル方向に移動される。
は、Sa−(Sb+S c)で得られ、該RESが0に
なるように、対物レンズ85は、光ディスク70のラジ
アル方向に移動される。
(発明が解決しようとする課題)
このような光ピックアップ装置に使用されるレーザダイ
オード等のレーザ光源81は、周囲の温度変化によって
発振されるレーザビームの波長が変化する特性を有して
いる。また、回折素子82の各回折格子82bおよび8
2cにより回折されたレーザビームは、波長によって回
折角度が変化する。
オード等のレーザ光源81は、周囲の温度変化によって
発振されるレーザビームの波長が変化する特性を有して
いる。また、回折素子82の各回折格子82bおよび8
2cにより回折されたレーザビームは、波長によって回
折角度が変化する。
例えば、レーザ光源81から発振される基準波長λおの
レーザビームが光デイスク70上に合焦状態で照射され
ると、その反射ビームは、回折素子82の各回折格子8
2bおよび82cにより回折されて、第9図(a)に示
すように、光検出器86の第1検出面86aの中心01
位置、および第2分割線86eの中心位置o2に、それ
ぞれ合焦状態の光スポットを形成する。この場合には、
FES信号は0になる。そして、光ディスク70が対物
レンズ85に対して変位した状態になり、レーザビーム
が光デイスク7o上に合焦状態で照射されない場合には
、第10図に実線で示すように、対物レンズ85に対す
る光ディスク70の変位量に対応したFES信号が発せ
られる。
レーザビームが光デイスク70上に合焦状態で照射され
ると、その反射ビームは、回折素子82の各回折格子8
2bおよび82cにより回折されて、第9図(a)に示
すように、光検出器86の第1検出面86aの中心01
位置、および第2分割線86eの中心位置o2に、それ
ぞれ合焦状態の光スポットを形成する。この場合には、
FES信号は0になる。そして、光ディスク70が対物
レンズ85に対して変位した状態になり、レーザビーム
が光デイスク7o上に合焦状態で照射されない場合には
、第10図に実線で示すように、対物レンズ85に対す
る光ディスク70の変位量に対応したFES信号が発せ
られる。
これに対して、レーザ光源81の周囲温度が上昇すると
、該レーザ光源81から発振されるレーザビームの波長
λは、前記基準波長1日よりも大きくなる。このレーザ
ビームは、光デイスク70上に合焦状態で照射されるが
、該光ディスク70にて反射された反射ビームは、波長
が大きくなっていることにより、回折素子82の各回折
格子82bおよび82cによる回折角度が太き(なり、
各回折ビームは、光検出器86の検出面よりも前方で焦
点を形成する。
、該レーザ光源81から発振されるレーザビームの波長
λは、前記基準波長1日よりも大きくなる。このレーザ
ビームは、光デイスク70上に合焦状態で照射されるが
、該光ディスク70にて反射された反射ビームは、波長
が大きくなっていることにより、回折素子82の各回折
格子82bおよび82cによる回折角度が太き(なり、
各回折ビームは、光検出器86の検出面よりも前方で焦
点を形成する。
その結果、第9図(a)に示すように、それぞれの回折
ビームは、光検出器86の第1検出面86aおよび第2
検出面86b上に半楕円形状の光スポラ)PIおよびP
2を、それぞれ第1検出面86aの中心o1および第2
分割線86eの中心o2に対してレーザ光源81から離
れた位置に形成する。各光スポットPIおよびP2は、
第2分割線86eに対して対称な第1分割線86d方向
に長い半楕円形状になっている。
ビームは、光検出器86の第1検出面86aおよび第2
検出面86b上に半楕円形状の光スポラ)PIおよびP
2を、それぞれ第1検出面86aの中心o1および第2
分割線86eの中心o2に対してレーザ光源81から離
れた位置に形成する。各光スポットPIおよびP2は、
第2分割線86eに対して対称な第1分割線86d方向
に長い半楕円形状になっている。
反対に、レーザ光源81の周囲の温度が低下して、該レ
ーザ光源81から発振されるレーザビームの波長λが、
基準波長λ砧よりも小さくなると、回折素子82の各回
折格子82bおよび82cによる回折角度が小さくなり
、各回折格子82bおよび82cにより回折されたそれ
ぞれの回折ビームは、第9図(C)に示すように、光検
出器86の第1検出面86aおよび第3検出面86c上
に光スポットP1およびP2をそれぞれ形成する。各光
スポットP1およびP2は、第1検出面86aの中心0
1位置および第2分割線86eの中心o2に対してレー
ザ光源81側に、第2分割線86eに対して対称な半楕
円形状で形成されている。
ーザ光源81から発振されるレーザビームの波長λが、
基準波長λ砧よりも小さくなると、回折素子82の各回
折格子82bおよび82cによる回折角度が小さくなり
、各回折格子82bおよび82cにより回折されたそれ
ぞれの回折ビームは、第9図(C)に示すように、光検
出器86の第1検出面86aおよび第3検出面86c上
に光スポットP1およびP2をそれぞれ形成する。各光
スポットP1およびP2は、第1検出面86aの中心0
1位置および第2分割線86eの中心o2に対してレー
ザ光源81側に、第2分割線86eに対して対称な半楕
円形状で形成されている。
前述のように、レーザ光源81から発振されて光ディス
ク70にて反射された反射ビームは、回折素子82の各
回折格子+12bおよび82cにより、その楕円形状の
断面強度分布の長軸方向に二等分されて回折される。従
って、基準波長λ9からずれた波長λの回折ビームによ
り形成される光スポットPaおよびPbは、光検出器8
6の第2分割線86eに対して直交する方向が長軸にな
った半楕円形状になる。
ク70にて反射された反射ビームは、回折素子82の各
回折格子+12bおよび82cにより、その楕円形状の
断面強度分布の長軸方向に二等分されて回折される。従
って、基準波長λ9からずれた波長λの回折ビームによ
り形成される光スポットPaおよびPbは、光検出器8
6の第2分割線86eに対して直交する方向が長軸にな
った半楕円形状になる。
このように、光ディスク70に対して合焦状態でレーザ
ビームが照射されるにもかかわらず、レーザビームの波
長が変化することにより、光検出器86には、半楕円形
状の光スポラhP1およびP2が形成される。このため
、例えば、レーザビームの波長λが基準波長久のよりも
大きくなった場合には、光ディスク70に合焦状態でレ
ーザビームが照射されるにもかかわらず、第2検出面8
6bから出力信号sbが検出される。その結果、第10
図に破線で示すように、フォーカス誤差信号FESが出
力され、光ディスク70が対物レンズ85に対して適正
位置にあるにもかかわらず、対物レンズ85から遠方に
変位したことを、フォーカス誤差信号FES(Sb−3
c)S2が出力される。従って、FESが0になるよう
に、対物レンズ85が光ディスク70にオフセット量σ
2だけ接近するように移動され、レーザビームは、光デ
ィスク70から遠方位置に形成される。
ビームが照射されるにもかかわらず、レーザビームの波
長が変化することにより、光検出器86には、半楕円形
状の光スポラhP1およびP2が形成される。このため
、例えば、レーザビームの波長λが基準波長久のよりも
大きくなった場合には、光ディスク70に合焦状態でレ
ーザビームが照射されるにもかかわらず、第2検出面8
6bから出力信号sbが検出される。その結果、第10
図に破線で示すように、フォーカス誤差信号FESが出
力され、光ディスク70が対物レンズ85に対して適正
位置にあるにもかかわらず、対物レンズ85から遠方に
変位したことを、フォーカス誤差信号FES(Sb−3
c)S2が出力される。従って、FESが0になるよう
に、対物レンズ85が光ディスク70にオフセット量σ
2だけ接近するように移動され、レーザビームは、光デ
ィスク70から遠方位置に形成される。
その結果、レーザビームはオフセット量σ2だけ変位し
た光デイスク70上に集光せず、従って、光デイスク7
0上に正確に情報を記録することができず、また、光デ
イスク70上の情報を正確に再生することができない。
た光デイスク70上に集光せず、従って、光デイスク7
0上に正確に情報を記録することができず、また、光デ
イスク70上の情報を正確に再生することができない。
本発明は、上記従来の問題を解決するものであり、その
目的は、光ディスクに対して、情報を高精度で記録およ
び再生できる光ピックアップ装置を提供することにある
。
目的は、光ディスクに対して、情報を高精度で記録およ
び再生できる光ピックアップ装置を提供することにある
。
(課題を解決するための手段)
本発明の光ピックアップ装置は、断面強度分布が楕円形
状のレーザビームを発振するレーザ光源と、該レーザ光
源から発振されたレーザビームを断面強度分布が真円状
になるように整形して、記録媒体に照射する光学系と、
該記録媒体にて反射されて、該光学系により断面強度分
布が当初の楕円形状に整形された反射ビームを、該楕円
形状反射ビームの長軸方向と平行な方向に回折する回折
素子と、該回折素子にて回折されたそれぞれの反射ビー
ムの光強度を検出する光検出器と、を具備してなり、そ
のことにより上記目的が達成される。
状のレーザビームを発振するレーザ光源と、該レーザ光
源から発振されたレーザビームを断面強度分布が真円状
になるように整形して、記録媒体に照射する光学系と、
該記録媒体にて反射されて、該光学系により断面強度分
布が当初の楕円形状に整形された反射ビームを、該楕円
形状反射ビームの長軸方向と平行な方向に回折する回折
素子と、該回折素子にて回折されたそれぞれの反射ビー
ムの光強度を検出する光検出器と、を具備してなり、そ
のことにより上記目的が達成される。
(作用)
本発明の光ピックアップ装置は、レーザ光源から発振さ
れた断面強度分布が楕円形状のレーザビームが、光学系
により断面強度分布が真円状に整形されて、光ディスク
に照射される。光ディスクにて反射された反射ビームは
、該光学系により断面強度分布が楕円形状に整形されて
、回折素子に照射される。そして、該回折格子は、反射
ビームを楕円形状の長軸方向に沿って三等分して、それ
ぞれ異なる角度で回折する。それぞれの回折ビームは、
光検出器上に、長軸方向に沿って分割された半楕円形状
の断面強度分布の光スポットを形成する。
れた断面強度分布が楕円形状のレーザビームが、光学系
により断面強度分布が真円状に整形されて、光ディスク
に照射される。光ディスクにて反射された反射ビームは
、該光学系により断面強度分布が楕円形状に整形されて
、回折素子に照射される。そして、該回折格子は、反射
ビームを楕円形状の長軸方向に沿って三等分して、それ
ぞれ異なる角度で回折する。それぞれの回折ビームは、
光検出器上に、長軸方向に沿って分割された半楕円形状
の断面強度分布の光スポットを形成する。
光検出器上に形成される半楕円形状の断面強度分布の光
スポットの大きさは、光学系に対する光ディスクの変位
量に基づいて、長軸方向に変化する。従って、光学系に
対する変位量が小さい場合には、光検出器上の光スポッ
トの断面強度分布の変化量が大きくなる。その結果、レ
ーザ光源から発振されるレーザビームの波長が変動する
と、光学系に対する光ディスクの変位量が0の場合に、
光検出器により検出されるフォーカス誤差信号に基づく
光ディスクのオフセット量も小さくなる。
スポットの大きさは、光学系に対する光ディスクの変位
量に基づいて、長軸方向に変化する。従って、光学系に
対する変位量が小さい場合には、光検出器上の光スポッ
トの断面強度分布の変化量が大きくなる。その結果、レ
ーザ光源から発振されるレーザビームの波長が変動する
と、光学系に対する光ディスクの変位量が0の場合に、
光検出器により検出されるフォーカス誤差信号に基づく
光ディスクのオフセット量も小さくなる。
(実施例)
以下に本発明を実施例について説明する。
本発明のピックアップ装置は、第1図および第2図に示
すように、レーザ光源10を有している。
すように、レーザ光源10を有している。
該レーザ光源10から発振された断面強度分布楕円形状
のレーザビームは、発振方向に、順次、放射状に広がり
、回折素子20およびコリメートレンズ30を透過して
整形プリズム40に入射される。本実施例テは、レーザ
光源10のレーザビームの発振方向はZ軸方向となって
いる。レーザ光源10は、発振される断面強度分布が楕
円形状のレーザビームを、その断面強度分布の長軸方向
がy軸方向になるように配置されている。
のレーザビームは、発振方向に、順次、放射状に広がり
、回折素子20およびコリメートレンズ30を透過して
整形プリズム40に入射される。本実施例テは、レーザ
光源10のレーザビームの発振方向はZ軸方向となって
いる。レーザ光源10は、発振される断面強度分布が楕
円形状のレーザビームを、その断面強度分布の長軸方向
がy軸方向になるように配置されている。
レーザ光源10から発振されたレーザビームが透過する
回折素子20は、円板状をしており、x−y平面に沿っ
た状態で配置されている。該回折素子20を透過したレ
ーザビームは、コリメートレンズ30を透過する。コリ
メートレンズ30は、その先軸が2軸方向とされており
、放射状に広がった状態で該コリメートレンズ30に入
射するレーザビームを平行ビームとする。コリメートレ
ンズ30から出射される平行ビームの断面強度分布は、
レーザ光源10から発振されるレーザビームの断面強度
分布と同様に、長軸方向がy軸方向になっている。
回折素子20は、円板状をしており、x−y平面に沿っ
た状態で配置されている。該回折素子20を透過したレ
ーザビームは、コリメートレンズ30を透過する。コリ
メートレンズ30は、その先軸が2軸方向とされており
、放射状に広がった状態で該コリメートレンズ30に入
射するレーザビームを平行ビームとする。コリメートレ
ンズ30から出射される平行ビームの断面強度分布は、
レーザ光源10から発振されるレーザビームの断面強度
分布と同様に、長軸方向がy軸方向になっている。
コリメートレンズ30から出射される平行ビームは、整
形プリズム40に入射される。該整形プリズム40は、
平行ビームが入射される端面41が、y2平面に対して
傾斜した状態になっている。従って、この端面41では
、平行ビームの断面強度分布は、短軸方向に広がり、真
円形状に近づいた状態になっている。整形プリズム40
に入射された平行ビームは、該整形プリズム40の光軸
に沿って進み、他方の端面42から出射される。平行ビ
ームが出射される整形プリズム40の端面42は、該整
形プリズム40の光軸に対して直交状態になっており、
該端面からは、平行ビームが光軸に平行な状態で出射さ
れる。
形プリズム40に入射される。該整形プリズム40は、
平行ビームが入射される端面41が、y2平面に対して
傾斜した状態になっている。従って、この端面41では
、平行ビームの断面強度分布は、短軸方向に広がり、真
円形状に近づいた状態になっている。整形プリズム40
に入射された平行ビームは、該整形プリズム40の光軸
に沿って進み、他方の端面42から出射される。平行ビ
ームが出射される整形プリズム40の端面42は、該整
形プリズム40の光軸に対して直交状態になっており、
該端面からは、平行ビームが光軸に平行な状態で出射さ
れる。
整形プリズム40の端面42から出射された平行ビーム
は、該整形プリズム40の光軸と同軸に配設された対物
レンズ50により、記録媒体である光デイスク70上に
形成されたトラック71上に集光される。
は、該整形プリズム40の光軸と同軸に配設された対物
レンズ50により、記録媒体である光デイスク70上に
形成されたトラック71上に集光される。
光ディスク70は、対物レンズ50の光軸に対して直交
状態に配置されている。光ディスク70のトラック71
は、対物レンズ50により集光されるレーザビームに対
して、接線方向が第1図に矢印Aで示す方向となるよう
に回転される。
状態に配置されている。光ディスク70のトラック71
は、対物レンズ50により集光されるレーザビームに対
して、接線方向が第1図に矢印Aで示す方向となるよう
に回転される。
光ディスク70のトラック71に照射されたレーザビー
ムは、該トラック71にて反射される。トラック71か
らの反射ビームは、該トラック71に照射されるレーザ
ビームと同様の経路を通って、対物レンズ50、整形プ
リズム40、およびコリメートレンズ30を順次通過し
、回折素子20に照射される。整形プリズム40を通過
したレーザビームは、断面強度分布が、真円形状から、
楕円形状の平行ビームとされて、該整形プリズム4oの
端面41がら出射される。そして、この平行ビームはコ
リメートレンズ30により、レーザ光源10のレーザビ
ーム出射端面に集光されるように、回折素子20に向け
て照射される。
ムは、該トラック71にて反射される。トラック71か
らの反射ビームは、該トラック71に照射されるレーザ
ビームと同様の経路を通って、対物レンズ50、整形プ
リズム40、およびコリメートレンズ30を順次通過し
、回折素子20に照射される。整形プリズム40を通過
したレーザビームは、断面強度分布が、真円形状から、
楕円形状の平行ビームとされて、該整形プリズム4oの
端面41がら出射される。そして、この平行ビームはコ
リメートレンズ30により、レーザ光源10のレーザビ
ーム出射端面に集光されるように、回折素子20に向け
て照射される。
反射ビームが入射される回折素子2oの面には、y軸に
平行な分割線21により三等分されている。
平行な分割線21により三等分されている。
この分割線21は、従って、該回折素子2oに入射され
る反射ビームの楕円形状になった断面強度分布における
長軸方向に沿って延びている。分割線21にて分割され
た各領域には、反射ビームを、分割線21に沿った方向
、すなわちy軸方向へ回折させる第1回折格子22およ
び第2回折格子23がそれぞれ設けられている。各回折
格子22および23は、それぞれ所定のピッチになった
分割線21とは直交するX軸方向に延びる多数の平行線
により構成されている。一方の第1回折格子22におけ
る格子のピッチは、他方の第2回折格子23における格
子のピッチよりも大きくなっている。
る反射ビームの楕円形状になった断面強度分布における
長軸方向に沿って延びている。分割線21にて分割され
た各領域には、反射ビームを、分割線21に沿った方向
、すなわちy軸方向へ回折させる第1回折格子22およ
び第2回折格子23がそれぞれ設けられている。各回折
格子22および23は、それぞれ所定のピッチになった
分割線21とは直交するX軸方向に延びる多数の平行線
により構成されている。一方の第1回折格子22におけ
る格子のピッチは、他方の第2回折格子23における格
子のピッチよりも大きくなっている。
トラック61から反射されて該回折素子2oに入射され
る平行ビームは、各回折格子22および23により、そ
れぞれ回折される。各回折格子22および23は、格子
ピッチ方向がy軸方向であるために、各回折格子22お
よび23に入射されるレーザビームは、それぞれy軸方
向に回折される。格子ピッチの大きい第1回折格子22
により回折された反射ビームは、格子ピッチの小さい第
2回折格子23により回折された反射ビームよりも回折
角度が小さくなる。
る平行ビームは、各回折格子22および23により、そ
れぞれ回折される。各回折格子22および23は、格子
ピッチ方向がy軸方向であるために、各回折格子22お
よび23に入射されるレーザビームは、それぞれy軸方
向に回折される。格子ピッチの大きい第1回折格子22
により回折された反射ビームは、格子ピッチの小さい第
2回折格子23により回折された反射ビームよりも回折
角度が小さくなる。
各回折格子22および23により回折されたレーザビー
ムは、光検出器60により照射される。該光検出器60
は、回折ビームが照射される面が光検出面になっている
。該光検出面は、X軸方向に延びる第1分割線64によ
り三等分されており、三等分された一方の面が第1検出
面61になっている。そして、三等分された他方の面が
、さらに、y軸方向に延びる第2分割線65により、第
2検出面62および第3検出面63に三等分されている
。
ムは、光検出器60により照射される。該光検出器60
は、回折ビームが照射される面が光検出面になっている
。該光検出面は、X軸方向に延びる第1分割線64によ
り三等分されており、三等分された一方の面が第1検出
面61になっている。そして、三等分された他方の面が
、さらに、y軸方向に延びる第2分割線65により、第
2検出面62および第3検出面63に三等分されている
。
レーザ光源10から発振された基準波長のレーザビーム
が、ディスク70のトラック71に合焦点状態で照射さ
れる場合には、トラック71にて反射されて、第1回折
格子22および第2回折格子23により回折された各レ
ーザビームは、光検出器6oの第1検出面61の中心お
よび第2分割線65の中心に、それぞれ合焦状態で照射
される。光検出器60における第1検出面61、第2検
出面62および第3検出面63は、それぞれの検出面に
て受光される回折ビームの強度に対応した信号を出力す
る。
が、ディスク70のトラック71に合焦点状態で照射さ
れる場合には、トラック71にて反射されて、第1回折
格子22および第2回折格子23により回折された各レ
ーザビームは、光検出器6oの第1検出面61の中心お
よび第2分割線65の中心に、それぞれ合焦状態で照射
される。光検出器60における第1検出面61、第2検
出面62および第3検出面63は、それぞれの検出面に
て受光される回折ビームの強度に対応した信号を出力す
る。
このような構成の光ピックアップ装置では、光検出器6
0における第1検出面61、第2検出面62および第3
検出面63からの出力信号に基づいて、対物レンズ50
が制御される。
0における第1検出面61、第2検出面62および第3
検出面63からの出力信号に基づいて、対物レンズ50
が制御される。
対物レンズ50の制御は、次のようにして行われる。
光ディスク70に合焦状態で照射されたレーザビームが
、該光ディスク70にて反射されると、その反射ビーム
は、回折素子20の第1回折格子22および第2回折格
子23により、二分割された状態で回折され、光検出器
60における第1検出面61の中心01(第3図(a)
参照)および第2分割線62の中心02(同様に、第3
図(a)参照)に集光される。
、該光ディスク70にて反射されると、その反射ビーム
は、回折素子20の第1回折格子22および第2回折格
子23により、二分割された状態で回折され、光検出器
60における第1検出面61の中心01(第3図(a)
参照)および第2分割線62の中心02(同様に、第3
図(a)参照)に集光される。
対物レンズ50が光ディスク70に近付いた状態では、
第3図(a)に示すように、格子ピッチが小さい第2回
折格子23により回折された回折ビームが、光検出器6
0における第2分割線65の中心02周辺部から第3検
出面63上に、長軸方向が第2分割線65に長くなった
半楕円状の光スポラ)P2を形成するととも、格子ピッ
チが大きい第1回折格子22により回折された回折ビー
ムは、第3検出面63上に形成される光スポットP2と
は第2分割線65に対して対称な半楕円形状の光スポッ
トP1を、第1検出面61上の中央部において第2分割
線65の延長線に対して第2検出面62側に形成する。
第3図(a)に示すように、格子ピッチが小さい第2回
折格子23により回折された回折ビームが、光検出器6
0における第2分割線65の中心02周辺部から第3検
出面63上に、長軸方向が第2分割線65に長くなった
半楕円状の光スポラ)P2を形成するととも、格子ピッ
チが大きい第1回折格子22により回折された回折ビー
ムは、第3検出面63上に形成される光スポットP2と
は第2分割線65に対して対称な半楕円形状の光スポッ
トP1を、第1検出面61上の中央部において第2分割
線65の延長線に対して第2検出面62側に形成する。
反対に、対物レンズ50が光ディスク70から遠ざかっ
た状態では、第3図(b)に示すように、格子ピッチが
小さい第2回折格子23により回折された回折ビームは
、第2分割線65の中心02周辺の中央部から第2検出
面62上に、長軸方向が第2分割線65に沿った半楕円
状に広がった光スポラ)P2を形成し、格子ピッチが大
きい第1回折格子22により回折された回折ビームは、
第2検出面62上の光スポットP2とは第2分割線65
に対して対称な半楕円形状の光スポットP1を、第1検
出面61上における中央部の第2分割線63の延長線に
対して第3検出面側に形成する。
た状態では、第3図(b)に示すように、格子ピッチが
小さい第2回折格子23により回折された回折ビームは
、第2分割線65の中心02周辺の中央部から第2検出
面62上に、長軸方向が第2分割線65に沿った半楕円
状に広がった光スポラ)P2を形成し、格子ピッチが大
きい第1回折格子22により回折された回折ビームは、
第2検出面62上の光スポットP2とは第2分割線65
に対して対称な半楕円形状の光スポットP1を、第1検
出面61上における中央部の第2分割線63の延長線に
対して第3検出面側に形成する。
第1図および第2図に示す光ピックアップ装置において
、光デイスク70上に合焦状態で照射されたレーザビー
ムの反射ビームは、第4図に示すような状態で整形プリ
ズム40から出射される。第4図において、光ディスク
70からの反射ビームb1が、該整形プリズム4oにお
けるコリメートレンズ3o側の端面41に対して角度α
で入射する場合に、該端面4工からの出射角度をα°、
整形プリズム40の屈折率をnとすると、スネルの法則
により、次式が成立する。
、光デイスク70上に合焦状態で照射されたレーザビー
ムの反射ビームは、第4図に示すような状態で整形プリ
ズム40から出射される。第4図において、光ディスク
70からの反射ビームb1が、該整形プリズム4oにお
けるコリメートレンズ3o側の端面41に対して角度α
で入射する場合に、該端面4工からの出射角度をα°、
整形プリズム40の屈折率をnとすると、スネルの法則
により、次式が成立する。
n sinα= sinα’ −(1)光デイスク
70上に照射されるレーザビームが合焦状態からずれて
その反射ビームb2が前記ビームb1に対して傾いた状
態になった場合には、整形プリズム40の端面41に対
するその反射ビームb20入射角度と前記反射ビームb
1の入射角度αとの差Xと、該反射ビームb2の出射角
度と前記ビームb1との差X°は、次式で表される。
70上に照射されるレーザビームが合焦状態からずれて
その反射ビームb2が前記ビームb1に対して傾いた状
態になった場合には、整形プリズム40の端面41に対
するその反射ビームb20入射角度と前記反射ビームb
1の入射角度αとの差Xと、該反射ビームb2の出射角
度と前記ビームb1との差X°は、次式で表される。
x ’ = sin’″’ (n sinα) −5i
n−’ (n 5in(α−x )1・・・(2) このように、光ディスク70に照射されるレーザビーム
が合焦状態からずれた状態になると、その反射ビームは
、出射側の端面では出射角度の傾きが増幅された状態に
なる。
n−’ (n 5in(α−x )1・・・(2) このように、光ディスク70に照射されるレーザビーム
が合焦状態からずれた状態になると、その反射ビームは
、出射側の端面では出射角度の傾きが増幅された状態に
なる。
光検出器60における第1検出面61からの出力信号を
Sa、第2検出面62からの出力信号をSb1第3検出
面63からの出力信号をScとすると、光ディスク70
と焦点位置とのずれを示すフォーカス誤差信号FESは
、第2検出面62の出力信号sbと第3検出面63の出
力信号Scとの差(S b −S c)により得られる
。前述のように、光ディスク70に照射されるレーザビ
ームの焦点位置がずれた場合における反射ビームの傾き
を、整形プリズム40が増幅する。
Sa、第2検出面62からの出力信号をSb1第3検出
面63からの出力信号をScとすると、光ディスク70
と焦点位置とのずれを示すフォーカス誤差信号FESは
、第2検出面62の出力信号sbと第3検出面63の出
力信号Scとの差(S b −S c)により得られる
。前述のように、光ディスク70に照射されるレーザビ
ームの焦点位置がずれた場合における反射ビームの傾き
を、整形プリズム40が増幅する。
光ディスク70の変位により該光デイスク7o上に照射
されるレーザビームの焦点位置がずれた場合に、第2検
出面62または第3検出面63上に形成される光スポッ
トは、第2分割線65に沿った半楕円形状になる。この
ため、第2検出面62または第3検出面63上に形成さ
れる光スポットは、光ディスク70の変位量に基づいて
同心状態で変形する(第3図(a)参照)。その結果、
光検出器60上に形成される光スポットは、整形プリズ
ム40による整形方向である短軸方向への変形量が、整
形プリズム40により整形を受けない長軸方向に比べて
大きくなるため、該光検出器60によるFES曲線は、
第5図に実線で示すように、レーザビームが光ディスク
70に対して合焦状態かられずかにずれた状態での変化
量が大きく、第10図に示す従来の光ピックアップ装置
のFES曲線に比べて敏感に応答する。
されるレーザビームの焦点位置がずれた場合に、第2検
出面62または第3検出面63上に形成される光スポッ
トは、第2分割線65に沿った半楕円形状になる。この
ため、第2検出面62または第3検出面63上に形成さ
れる光スポットは、光ディスク70の変位量に基づいて
同心状態で変形する(第3図(a)参照)。その結果、
光検出器60上に形成される光スポットは、整形プリズ
ム40による整形方向である短軸方向への変形量が、整
形プリズム40により整形を受けない長軸方向に比べて
大きくなるため、該光検出器60によるFES曲線は、
第5図に実線で示すように、レーザビームが光ディスク
70に対して合焦状態かられずかにずれた状態での変化
量が大きく、第10図に示す従来の光ピックアップ装置
のFES曲線に比べて敏感に応答する。
レーザビームが光ディスク70に合焦状態で照射される
場合において、該レーザ光の波長が基準波長λ2であれ
ば、光検出器60上には、そのレーザビームの反射ビー
ムは、前述のように、第1検出面61の中心01、およ
び第2分割線65の中心02の2点にそれぞれ集光され
る。これに対して、レーザ光源10の周囲の温度が上昇
して、レーザ光源10からせ発振されるレーザ光の波長
λが基準波長久eよりも大きくなれば、回折素子20に
おけるそれぞれの回折格子22および23によるレーザ
ビームの回折角度が大きくなるとともに、それぞれの回
折ビームの焦点が、光検出器60の検出面よりも手前に
なる。その結果、光検出器60には、第6図(a)に示
すように、格子ピッチが大きい第1回折格子22により
回折された回折ビームは、第1検出面61上における第
2分割線65の延長線に対して第3検出面63側の位置
に、該第2分割線65に沿った軸により長軸に沿って三
等分された半楕円形状の光スポットP1を、第1検出面
61の中心o1から回折方向側に片寄った状態で形成す
る。同時に、格子ピッチが小さい第2回折格子23にて
回折された回折ビームが、第2検出面62上に、第2分
割線63に沿った軸により長軸に沿って三等分された半
楕円形状の光スポラ)P2を、回折方向側に片寄った状
態で形成する。光ディスク70からの反射ビームは、第
1図に示すように、回折素子20上に長軸が分割線21
に沿った楕円形状の断面強度分布になりでいるために、
光検出器60上に形成される各光スボ・7トP1および
P2は、それぞれ該光検出器60における第2分割線に
沿って長くなった半楕円状になる。
場合において、該レーザ光の波長が基準波長λ2であれ
ば、光検出器60上には、そのレーザビームの反射ビー
ムは、前述のように、第1検出面61の中心01、およ
び第2分割線65の中心02の2点にそれぞれ集光され
る。これに対して、レーザ光源10の周囲の温度が上昇
して、レーザ光源10からせ発振されるレーザ光の波長
λが基準波長久eよりも大きくなれば、回折素子20に
おけるそれぞれの回折格子22および23によるレーザ
ビームの回折角度が大きくなるとともに、それぞれの回
折ビームの焦点が、光検出器60の検出面よりも手前に
なる。その結果、光検出器60には、第6図(a)に示
すように、格子ピッチが大きい第1回折格子22により
回折された回折ビームは、第1検出面61上における第
2分割線65の延長線に対して第3検出面63側の位置
に、該第2分割線65に沿った軸により長軸に沿って三
等分された半楕円形状の光スポットP1を、第1検出面
61の中心o1から回折方向側に片寄った状態で形成す
る。同時に、格子ピッチが小さい第2回折格子23にて
回折された回折ビームが、第2検出面62上に、第2分
割線63に沿った軸により長軸に沿って三等分された半
楕円形状の光スポラ)P2を、回折方向側に片寄った状
態で形成する。光ディスク70からの反射ビームは、第
1図に示すように、回折素子20上に長軸が分割線21
に沿った楕円形状の断面強度分布になりでいるために、
光検出器60上に形成される各光スボ・7トP1および
P2は、それぞれ該光検出器60における第2分割線に
沿って長くなった半楕円状になる。
反対に、レーザ光源10の周囲の温度が低下して、該レ
ーザ光源10から発振されるレーザ光の波長λが基準波
長λBよりも小さくなれば、回折格子20におけるそれ
ぞれの回折格子22および23によるレーザビームの回
折角度が大きくなるとともに、それぞれの回折ビームの
焦点が、光検出器60の検出面よりも後方になる。その
結果、光検出器60には、第6図(b)に示すように、
格子ピッチが小さい第1回折格子22により回折された
回折ビームは、第1検出面61上における第2分割線6
5の延長線に対して第2検出面62側の位置に、該第2
分割線65に沿った軸により長軸に沿って三等分された
半楕円状の光スポラ)PIを、第1検出面の中心○1か
ら回折方向とは反対側に片寄った状態で形成する。
ーザ光源10から発振されるレーザ光の波長λが基準波
長λBよりも小さくなれば、回折格子20におけるそれ
ぞれの回折格子22および23によるレーザビームの回
折角度が大きくなるとともに、それぞれの回折ビームの
焦点が、光検出器60の検出面よりも後方になる。その
結果、光検出器60には、第6図(b)に示すように、
格子ピッチが小さい第1回折格子22により回折された
回折ビームは、第1検出面61上における第2分割線6
5の延長線に対して第2検出面62側の位置に、該第2
分割線65に沿った軸により長軸に沿って三等分された
半楕円状の光スポラ)PIを、第1検出面の中心○1か
ら回折方向とは反対側に片寄った状態で形成する。
同時に、格子ピッチが大きい第2回折格子23にて回折
された回折ビームが、第3検出面63上に第2分割線6
5に沿った軸により長軸に沿って三等分された半楕円状
の光スポラ)P2を、回折方向とは反対側に片寄った状
態で形成する。
された回折ビームが、第3検出面63上に第2分割線6
5に沿った軸により長軸に沿って三等分された半楕円状
の光スポラ)P2を、回折方向とは反対側に片寄った状
態で形成する。
このような場合においても、フォーカス誤差信号FES
は、前記(3)式(Sb−Sc)により得られる。しか
し、レーザビームが光ディスク70に合焦状態で照射さ
れる場合でも、例えば、レーザ光源10から発振される
レーザ光の波長が基準波長λ8よりも大きくなると、第
6図(a)に示すように、光検出器60の第2検出面6
2上に光スポラ)P2が形成される。この光スポットP
2は、波長の変動に比例して、相似形状に大きくなると
ともにその形成位置がずれる。このために、第2検出面
62の出力信号sbと第3検出面63の出力信号Scと
の差は、0にはならず、第5図に破線で示すように、F
ESがシフトした状態になって、Slで示すFESが検
出される。しかしながら、この光スポットP2は、光検
出器60の第2検出面62における第2分割線65の近
傍に、該第2分割線65に沿って長い半楕円形状に形成
されるために、光検出器60における第2検出面62の
第2分割線65に沿った近傍部分の検出感度を低下させ
ておくことにより、レーザビームの波長が大きくなった
ことによるFES(Sl)を著しく抑制することができ
る。その結果、光ディスク70のオフセット量σ1も、
さらに低減させることができる。このオフセットIσ1
は、第1O図に示す従来のオフセット量σ2よりも十分
に小さくなっている。
は、前記(3)式(Sb−Sc)により得られる。しか
し、レーザビームが光ディスク70に合焦状態で照射さ
れる場合でも、例えば、レーザ光源10から発振される
レーザ光の波長が基準波長λ8よりも大きくなると、第
6図(a)に示すように、光検出器60の第2検出面6
2上に光スポラ)P2が形成される。この光スポットP
2は、波長の変動に比例して、相似形状に大きくなると
ともにその形成位置がずれる。このために、第2検出面
62の出力信号sbと第3検出面63の出力信号Scと
の差は、0にはならず、第5図に破線で示すように、F
ESがシフトした状態になって、Slで示すFESが検
出される。しかしながら、この光スポットP2は、光検
出器60の第2検出面62における第2分割線65の近
傍に、該第2分割線65に沿って長い半楕円形状に形成
されるために、光検出器60における第2検出面62の
第2分割線65に沿った近傍部分の検出感度を低下させ
ておくことにより、レーザビームの波長が大きくなった
ことによるFES(Sl)を著しく抑制することができ
る。その結果、光ディスク70のオフセット量σ1も、
さらに低減させることができる。このオフセットIσ1
は、第1O図に示す従来のオフセット量σ2よりも十分
に小さくなっている。
同様に、光検出器60における第3検出面63上におけ
る第2分割線65に沿った近傍部分の感度を低下させる
ことにより、レーザビームの波長が小さくなったことに
よる検出されるFESを抑制することができる。そして
、前述のように、FESの応答性が向上していることと
ともに、光デイスク70上に照射されるレーザビームが
合焦状態である場合の該光ディスク70のオフセット量
を著しく抑制でき、光ディスク70に対する焦点ずれを
十分に小さくできる。
る第2分割線65に沿った近傍部分の感度を低下させる
ことにより、レーザビームの波長が小さくなったことに
よる検出されるFESを抑制することができる。そして
、前述のように、FESの応答性が向上していることと
ともに、光デイスク70上に照射されるレーザビームが
合焦状態である場合の該光ディスク70のオフセット量
を著しく抑制でき、光ディスク70に対する焦点ずれを
十分に小さくできる。
なお、上記実施例では、整形プリズム40が、レーザ光
源10から発振されるレーザビームが入射される側の端
面41が、該レーザビームに対して傾斜した状態になっ
ており、他方の端面42が屈折されたレーザビームとは
直交状態になっていたが、第7図に示すように、レーザ
光源10から発振されるレーザビームが入射される側の
端面42°が、レーザビームに対して直交状態になって
おり、対物レンズ50側の端面41°が、x−y平面に
対して所定の傾斜角度になった整形プリズム40°を使
用してもよい。
源10から発振されるレーザビームが入射される側の端
面41が、該レーザビームに対して傾斜した状態になっ
ており、他方の端面42が屈折されたレーザビームとは
直交状態になっていたが、第7図に示すように、レーザ
光源10から発振されるレーザビームが入射される側の
端面42°が、レーザビームに対して直交状態になって
おり、対物レンズ50側の端面41°が、x−y平面に
対して所定の傾斜角度になった整形プリズム40°を使
用してもよい。
この場合には、整形プリズム40により断面強度分布が
楕円形状のレーザビームがその楕円形状の長軸方向に整
形されるために、光ディスク70に対する焦点ずれによ
り光検出器60上に形成される光スポットの長軸方向の
変形量は、短軸方向の変形量よりも小さくなる。また、
光検出器60上には、前述の実施例と同様に、長軸方向
が第2分割線65に沿った半楕円形状の光スポットが形
成される。
楕円形状のレーザビームがその楕円形状の長軸方向に整
形されるために、光ディスク70に対する焦点ずれによ
り光検出器60上に形成される光スポットの長軸方向の
変形量は、短軸方向の変形量よりも小さくなる。また、
光検出器60上には、前述の実施例と同様に、長軸方向
が第2分割線65に沿った半楕円形状の光スポットが形
成される。
そのために、光ディスクの変位に対するFES信号の応
答が、第10図に示す従来装置のFES信号の応答より
も敏感になり、レーザビームの波長変動に基づ(FES
信号がシフトした場合の光ディスクのオフセット量が、
第10図に示すオフセット量σ1よりも小さくすること
ができる。
答が、第10図に示す従来装置のFES信号の応答より
も敏感になり、レーザビームの波長変動に基づ(FES
信号がシフトした場合の光ディスクのオフセット量が、
第10図に示すオフセット量σ1よりも小さくすること
ができる。
(発明の効果)
本発明の光ピックアップ装置は、このように、レーザ光
源から発振されるレーザビームの波長が変化した場合に
おけるフォーカス誤差信号のオフセットを著しく抑制で
きるために、記録媒体に対する情報の記録、記録媒体に
記録された情報の再生が、高精度で行える。
源から発振されるレーザビームの波長が変化した場合に
おけるフォーカス誤差信号のオフセットを著しく抑制で
きるために、記録媒体に対する情報の記録、記録媒体に
記録された情報の再生が、高精度で行える。
4、 の なセ 日
第1図は本発明の光ピックアップ装置の斜視図、第2図
はその側面図、第3図(a)および(b)はそれぞれ光
検出器の検出状態を示す平面図、第4図は整形プリズム
の動作説明図、第5図は光検出器の検出信号の一例を示
すグラフ、第6図(a)および(b)はそれぞれ光検出
器の動作説明のための平面図、第7図は本発明の光ピッ
クアップ装置の他の実施例の側面図、第8図は従来の光
ピックアップ装置の斜視図、第9図はその光検出器の動
作説明のための平面図、第10図はその光検出器の検出
信号を示すグラフである。
はその側面図、第3図(a)および(b)はそれぞれ光
検出器の検出状態を示す平面図、第4図は整形プリズム
の動作説明図、第5図は光検出器の検出信号の一例を示
すグラフ、第6図(a)および(b)はそれぞれ光検出
器の動作説明のための平面図、第7図は本発明の光ピッ
クアップ装置の他の実施例の側面図、第8図は従来の光
ピックアップ装置の斜視図、第9図はその光検出器の動
作説明のための平面図、第10図はその光検出器の検出
信号を示すグラフである。
io・・・レーザ光源、20・・・回折素子、21・・
・分割線、22・・・第1回折格子、23・・・第2回
折格子、30・・・コリメータレンズ、40・・・整形
プリズム、50・・・対物レンズ、60・・・光検出器
、61・・・第1検出面、62・・・第2検出面、63
・・・第3検出面、70・・・光ディスク。
・分割線、22・・・第1回折格子、23・・・第2回
折格子、30・・・コリメータレンズ、40・・・整形
プリズム、50・・・対物レンズ、60・・・光検出器
、61・・・第1検出面、62・・・第2検出面、63
・・・第3検出面、70・・・光ディスク。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、断面強度分布が楕円形状のレーザビームを発振する
レーザ光源と、 該レーザ光源から発振されたレーザビームを断面強度分
布が真円状になるように整形して、記録媒体に照射する
光学系と、 該記録媒体にて反射されて、該光学系により断面強度分
布が当初の楕円形状に整形された反射ビームを、該楕円
形状反射ビームの長軸方向と平行な方向に回折する回折
素子と、 該回折素子にて回折されたそれぞれの反射ビームの光強
度を検出する光検出器と、 を具備する光ピックアップ装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2138893A JP2656136B2 (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | 光ピックアップ装置 |
KR1019910008324A KR960011790B1 (ko) | 1990-05-29 | 1991-05-23 | 광헤드장치 |
US07/705,802 US5202869A (en) | 1990-04-20 | 1991-05-28 | Optical head device including diffraction grating |
CA002043387A CA2043387C (en) | 1990-05-29 | 1991-05-28 | Optical head device |
EP91304820A EP0459764B1 (en) | 1990-05-29 | 1991-05-29 | Optical head device |
DE69123489T DE69123489T2 (de) | 1990-05-29 | 1991-05-29 | Anordnung eines optischen Kopfes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2138893A JP2656136B2 (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | 光ピックアップ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0432038A true JPH0432038A (ja) | 1992-02-04 |
JP2656136B2 JP2656136B2 (ja) | 1997-09-24 |
Family
ID=15232586
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2138893A Expired - Lifetime JP2656136B2 (ja) | 1990-04-20 | 1990-05-29 | 光ピックアップ装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0459764B1 (ja) |
JP (1) | JP2656136B2 (ja) |
KR (1) | KR960011790B1 (ja) |
CA (1) | CA2043387C (ja) |
DE (1) | DE69123489T2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06195743A (ja) * | 1992-09-10 | 1994-07-15 | Toshiba Corp | 光学ヘッド装置 |
US6154433A (en) * | 1992-09-10 | 2000-11-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light beam shaping device to change an anisotropic beam to an isotropic beam for reducing the size of an optical head |
KR100588941B1 (ko) * | 2004-08-03 | 2006-06-09 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | 실린드리컬 방식의 홀로그래픽 데이터 기록 장치 및 그제어 방법 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR0139177B1 (ko) * | 1993-06-11 | 1998-06-01 | 김광호 | 초점에러 및 트랙킹에러를 검출하기 위하여 홀로그램을 사용하는 광헤드 |
DE19530740A1 (de) * | 1995-08-22 | 1997-02-27 | Thomson Brandt Gmbh | Optische Abtasteinrichtung |
JP4083720B2 (ja) * | 2004-09-17 | 2008-04-30 | シャープ株式会社 | 光ピックアップ装置 |
US9746412B2 (en) | 2012-05-30 | 2017-08-29 | Iris International, Inc. | Flow cytometer |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62219340A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Fujitsu Ltd | 光ピツクアツプ |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4333173A (en) * | 1979-06-15 | 1982-06-01 | Hitachi, Ltd. | Optical information processor with prismatic correction of laser beam shape |
DE3889509T2 (de) * | 1987-08-24 | 1994-10-20 | Sharp Kk | Optische Abtastvorrichtung und optische Gitteranordnung dazu. |
JPH0770065B2 (ja) * | 1988-04-20 | 1995-07-31 | シャープ株式会社 | 光ピックアップ装置 |
JPH01279433A (ja) * | 1988-05-02 | 1989-11-09 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光ピックアップ |
JPH0721869B2 (ja) * | 1990-04-20 | 1995-03-08 | シャープ株式会社 | 光ピックアップ装置 |
JP2975395B2 (ja) * | 1990-05-15 | 1999-11-10 | シャープ株式会社 | 光ピックアップ装置 |
-
1990
- 1990-05-29 JP JP2138893A patent/JP2656136B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-05-23 KR KR1019910008324A patent/KR960011790B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-05-28 CA CA002043387A patent/CA2043387C/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-05-29 DE DE69123489T patent/DE69123489T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-05-29 EP EP91304820A patent/EP0459764B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS62219340A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Fujitsu Ltd | 光ピツクアツプ |
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KR100588941B1 (ko) * | 2004-08-03 | 2006-06-09 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | 실린드리컬 방식의 홀로그래픽 데이터 기록 장치 및 그제어 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0459764A2 (en) | 1991-12-04 |
DE69123489D1 (de) | 1997-01-23 |
EP0459764B1 (en) | 1996-12-11 |
EP0459764A3 (en) | 1992-01-29 |
KR910020667A (ko) | 1991-12-20 |
CA2043387A1 (en) | 1991-11-30 |
KR960011790B1 (ko) | 1996-08-30 |
CA2043387C (en) | 1996-03-19 |
DE69123489T2 (de) | 1997-05-28 |
JP2656136B2 (ja) | 1997-09-24 |
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