JPH04316354A - 半導体装置  - Google Patents

半導体装置 

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JPH04316354A
JPH04316354A JP11093991A JP11093991A JPH04316354A JP H04316354 A JPH04316354 A JP H04316354A JP 11093991 A JP11093991 A JP 11093991A JP 11093991 A JP11093991 A JP 11093991A JP H04316354 A JPH04316354 A JP H04316354A
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JP
Japan
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lid
resin
container
outside
semiconductor device
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JP11093991A
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Mitsuhiro Kojima
児島 光宏
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武 山本
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、パワーデバイス、特
にパワーモジュールの構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図3は先に本出願人の出願(特願平1−
44322)に係るこの種の従来装置を示すものであり
、これはパワーモジュールの内、樹脂封止構造では最も
一般的なシリコーンゲルなど柔軟な樹脂とエポキシ樹脂
等硬い樹脂との二層構造の問題点を克服するために提案
されたものである。
【0003】即ち、図3において、1はベース板、2は
絶縁板、3は端子、7はケース、8はシリコーンゲル、
9はエポキシ樹脂、10は連通開口、11は空間部、1
2は開口穴を示している。このようなものにおいて、パ
ワーモジュールが通電などによる発熱でケース全体の温
度が上昇した時、図3の例の場合の柔軟な樹脂であるシ
リコーンゲル8は硬い樹脂であるエポキシ樹脂9に比較
して熱膨張係数が約50倍も大きいので、内部のシリコ
ーンゲルの膨張のために内圧が増大し、エポキシ樹脂層
を上部に押し上げる力が作用するため、エポキシ樹脂9
に固着されている端子類も同時に押し上げ、端子を接着
させている半田疲労を早期に生じさせることがある。図
3のものはその問題の解決を意図したものである。
【0004】ここで図3において、内側壁72によって
隔離された空隙部分73は連通開口部10によって内部
とつながり、シリコーンゲル8が空隙部分73の内部に
も入っている。これによりこの空隙部分の上部には空間
11が形成され、この空間11は開口穴12によって外
部に通じている。このため、シリコーンゲル8が温度上
昇により膨張しても、両側の空隙部分73内のシリコー
ンゲルの面が若干上昇するのみで、内圧が増大すること
はなく、したがって半田疲労が早期に発生することもな
い。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図3の
ものでは、基本的に外形、寸法を変更することなく内圧
増大を吸収する空隙部分を作ることができるようなスペ
ースの余裕が必要であり、スペースの余裕のないものは
、寸法、形状を大きくすることが必要になる。
【0006】即ち図2は上記のようなスペースの余裕の
ない従来例としてのパワーモジュールの概略断面図を示
したものである。銅ベース板21上に、下から順に絶縁
基板22、アノード端子23、アノードモリブデン24
、ダイオードチップ25、カソードモリブデン板26、
及びカソード端子27が半田により固着されている。そ
してその全体を収容するように樹脂ケース28が銅ベー
ス板21に接着され、その中に、シリコーンゲル29が
注入、キュアされ、そして樹脂のフタ30がケース28
にはめこまれた後、右の開口部31からエポキシ樹脂3
2が注入され、フタ30とケース28とがエポキシ樹脂
32の硬化によって固着されている。この図の全体の構
造は、図3の空隙部分73に相当する部分を形成するス
ペースはない。
【0007】この発明は以上のような問題点を解決し、
スペースの余裕のないパワーモジュールにも、図3と同
様の効果を得ようとするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体装
置は、樹脂容器内に、半導体チップを覆って保護するよ
うに充填された柔軟な樹脂と硬い樹脂を備えたものにお
いて、上記硬い樹脂層の上にかぶせて装着されるフタの
下部に管状の突起部を設けるとともに、この突起部と外
部とを連通する貫通穴を配設したものである。
【0009】
【作用】この発明においては、硬い樹脂層の上に被着さ
れたフタに、下層の柔軟な樹脂層に達する管状の突起部
、及び外部と連通する貫通穴を設けたことにより、内部
の柔軟な樹脂の膨張のために内圧が増大しても、上記突
起部から貫通穴を通して外部に逃げる作用をなす。
【0010】
【実施例】以下この発明の一実施例を図1について説明
する。全体構造は図2とほぼ同様であるが、相違してい
る部分は、フタ30に管状突起部30aと貫通穴30b
がある点である。この突起部30aはフタ30の一部と
して形成され、図のようにエポキシ樹脂層32を貫通し
てシリコーンゲル層29に達している。そして管状突起
部30aの内部は、モジュールの外部と通じる貫通穴3
0bが形成され、図3の開口穴12の場合と同様の役割
を果たしている。
【0011】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、スペー
スの余裕のないパワーモジュールにおいても、簡単な構
成で、内圧増大を吸収することのできる、信頼性の高い
半導体装置が得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示す断面図である。
【図2】従来例を示す断面図である。
【図3】選考技術としての先願のものの断面図である。
【符号の説明】
21      銅ベース板 22      絶縁基板 23      アノード端子 24      アノードモリブデン板25     
 ダイオードチップ 26      カソードモリブデン板27     
 カソード端子 28      ケース 29      エポキシ樹脂 30      フタ 30a      管状突起部 30b      貫通穴 31      開口部 32      シリコーンゲル

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  樹脂容器内に収容された半導体チップ
    の周辺を柔軟な樹脂で覆い、更にその外部に硬い樹脂を
    充填して、その上部からフタをかぶせて、硬い樹脂によ
    って容器とフタとを固着封止した半導体装置において、
    上記フタの下部に上記硬い樹脂層を貫通して柔軟な樹脂
    層に達する管状の突起部を設け、該突起部には外部と通
    じる貫通穴を配置したことを特徴とする半導体装置。
JP3110939A 1991-04-15 1991-04-15 半導体装置 Expired - Lifetime JP2585890B2 (ja)

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JPH04316354A true JPH04316354A (ja) 1992-11-06
JP2585890B2 JP2585890B2 (ja) 1997-02-26

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010533988A (ja) * 2007-07-20 2010-10-28 アーベーベー・テヒノロギー・アーゲー 半導体モジュール

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010533988A (ja) * 2007-07-20 2010-10-28 アーベーベー・テヒノロギー・アーゲー 半導体モジュール

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JP2585890B2 (ja) 1997-02-26

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