JPH04312517A - 紫外線防御組成物 - Google Patents
紫外線防御組成物Info
- Publication number
- JPH04312517A JPH04312517A JP7790091A JP7790091A JPH04312517A JP H04312517 A JPH04312517 A JP H04312517A JP 7790091 A JP7790091 A JP 7790091A JP 7790091 A JP7790091 A JP 7790091A JP H04312517 A JPH04312517 A JP H04312517A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- ultraviolet
- methyl
- ultraviolet ray
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 230000002633 protecting effect Effects 0.000 title abstract 3
- RXVBJUZEFSAYPW-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenylpropane-1,2,3-trione Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 RXVBJUZEFSAYPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 14
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000005452 alkenyloxyalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 claims description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 17
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 5
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 5
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 5
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 6
- YJPCOIXWUQSYGK-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(4,4-dimethyl-3-oxopentanoyl)phenyl]-4,4-dimethylpentane-1,3-dione Chemical compound CC(C)(C)C(=O)CC(=O)C1=CC=C(C(=O)CC(=O)C(C)(C)C)C=C1 YJPCOIXWUQSYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract 2
- -1 n-propyloxy group Chemical group 0.000 description 91
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 35
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 33
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 24
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N hydrochloric acid Substances Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 21
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 19
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 18
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 13
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 12
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 12
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 12
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 9
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 8
- WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N dimethyl terephthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 8
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 6
- YRHYCMZPEVDGFQ-UHFFFAOYSA-N methyl decanoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OC YRHYCMZPEVDGFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylbutan-2-one Chemical compound CC(C)C(C)=O SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 5
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 5
- 229940057995 liquid paraffin Drugs 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 4
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 2-octanone Chemical compound CCCCCCC(C)=O ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000700198 Cavia Species 0.000 description 2
- XUMBMVFBXHLACL-UHFFFAOYSA-N Melanin Chemical compound O=C1C(=O)C(C2=CNC3=C(C(C(=O)C4=C32)=O)C)=C2C4=CNC2=C1C XUMBMVFBXHLACL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLIACVVOZYBSBS-UHFFFAOYSA-N Methyl palmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC FLIACVVOZYBSBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPEUJPJOZXNMSJ-UHFFFAOYSA-N Methyl stearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC HPEUJPJOZXNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDISMIMTGUMORD-UHFFFAOYSA-N N-acetylpiperidine Natural products CC(=O)N1CCCCC1 KDISMIMTGUMORD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N dibenzoylmethane Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYLTWLWJTAJDSS-UHFFFAOYSA-N dimethyl 4-methoxybenzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(OC)C(C(=O)OC)=C1 VYLTWLWJTAJDSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGXWDWUGBIJHDO-UHFFFAOYSA-N ethyl decanoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OCC RGXWDWUGBIJHDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPXUHEORWJQRHJ-UHFFFAOYSA-N ethyl isovalerate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)C PPXUHEORWJQRHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- KDQIFKKWPMBNOH-UHFFFAOYSA-N methyl 16-methylheptadecanoate Chemical compound COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC(C)C KDQIFKKWPMBNOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BIGQPYZPEWAPBG-UHFFFAOYSA-N methyl 3,4-dimethoxybenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 BIGQPYZPEWAPBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUKZAGXMHTUAFE-UHFFFAOYSA-N methyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC NUKZAGXMHTUAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BHIWKHZACMWKOJ-UHFFFAOYSA-N methyl isobutyrate Chemical compound COC(=O)C(C)C BHIWKHZACMWKOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAZKJZBWRNNLDS-UHFFFAOYSA-N methyl tetradecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(=O)OC ZAZKJZBWRNNLDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XPQPWPZFBULGKT-UHFFFAOYSA-N methyl undecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCC(=O)OC XPQPWPZFBULGKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DACIGVIOAFXPHW-UHFFFAOYSA-N 1-(1-adamantyl)ethanone Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(C(=O)C)C3 DACIGVIOAFXPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQZBBBJJIMBYIW-UHFFFAOYSA-N 1-(3,4-dimethoxyphenyl)-4,4-dimethylpentane-1,3-dione Chemical compound COC1=CC=C(C(=O)CC(=O)C(C)(C)C)C=C1OC SQZBBBJJIMBYIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKBBQSLSGRSQAJ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-acetylphenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 SKBBQSLSGRSQAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHOBIYUNEXFTHP-UHFFFAOYSA-N 1-[3,5-bis(4,4-dimethyl-3-oxopentanoyl)phenyl]-4,4-dimethylpentane-1,3-dione Chemical compound CC(C)(C)C(=O)CC(=O)C1=CC(C(=O)CC(=O)C(C)(C)C)=CC(C(=O)CC(=O)C(C)(C)C)=C1 FHOBIYUNEXFTHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOCSWRKIVAXPSJ-UHFFFAOYSA-N 1-[3-(4,4-dimethyl-3-oxopentanoyl)-4-methoxyphenyl]-4,4-dimethylpentane-1,3-dione Chemical compound COC1=CC=C(C(=O)CC(=O)C(C)(C)C)C=C1C(=O)CC(=O)C(C)(C)C JOCSWRKIVAXPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAICRZUSRUMTKQ-UHFFFAOYSA-N 1-[3-(4,4-dimethyl-3-oxopentanoyl)phenyl]-4,4-dimethylpentane-1,3-dione Chemical compound CC(C)(C)C(=O)CC(=O)C1=CC=CC(C(=O)CC(=O)C(C)(C)C)=C1 WAICRZUSRUMTKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBVNTNVGDOCBOH-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(3-oxopentanoyl)phenyl]pentane-1,3-dione Chemical compound CCC(=O)CC(=O)C1=CC=C(C(=O)CC(=O)CC)C=C1 BBVNTNVGDOCBOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIFKADJTWUGDOV-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylethanone Chemical compound CC(=O)C1CCCCC1 RIFKADJTWUGDOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXKAZTSHVRMSRT-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-one Chemical compound CCOCC(C)=O CXKAZTSHVRMSRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUZLJOLBIRPEFB-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-one Chemical compound COCC(C)=O CUZLJOLBIRPEFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYWXRBNOYGGPIZ-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylethanone Chemical compound CC(=O)N1CCOCC1 KYWXRBNOYGGPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LALVCWMSKLEQMK-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-3-(4-propan-2-ylphenyl)propane-1,3-dione Chemical compound C1=CC(C(C)C)=CC=C1C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 LALVCWMSKLEQMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDUMOUTWQVQHII-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-one Chemical compound CCCOCC(C)=O XDUMOUTWQVQHII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNWWQYYLZVZXKS-UHFFFAOYSA-N 1-pyrrolidin-1-ylethanone Chemical compound CC(=O)N1CCCC1 LNWWQYYLZVZXKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUAXHMVRKOTJKP-UHFFFAOYSA-M 2,2-dimethylbutanoate Chemical compound CCC(C)(C)C([O-])=O VUAXHMVRKOTJKP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YJWGKXIQTRYZSH-UHFFFAOYSA-N 2,4-diiodoaniline Chemical compound NC1=CC=C(I)C=C1I YJWGKXIQTRYZSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSDQQJHSRVEGTJ-UHFFFAOYSA-N 2-(6-amino-1h-indol-3-yl)acetonitrile Chemical compound NC1=CC=C2C(CC#N)=CNC2=C1 ZSDQQJHSRVEGTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHWCWTZNVDCVPV-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(4-methoxyphenyl)-3-oxopropanoyl]benzoic acid Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O OHWCWTZNVDCVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZVFNJMJUYLXMY-UHFFFAOYSA-N 3-(1-ethoxyethoxy)-3-methylbutan-2-one Chemical compound CCOC(C)OC(C)(C)C(C)=O UZVFNJMJUYLXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNDRWEVUODOUDW-UHFFFAOYSA-N 3-Hydroxy-3-methylbutan-2-one Chemical compound CC(=O)C(C)(C)O BNDRWEVUODOUDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGZDSEUHIPFUTB-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(4,4-dimethyl-3-oxopentanoyl)phenyl]-n,n-dimethyl-3-oxopropanamide Chemical compound CN(C)C(=O)CC(=O)C1=CC=C(C(=O)CC(=O)C(C)(C)C)C=C1 UGZDSEUHIPFUTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJNXSZPLHWSWIT-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[3-(dimethylamino)-3-oxopropanoyl]phenyl]-n,n-dimethyl-3-oxopropanamide Chemical compound CN(C)C(=O)CC(=O)C1=CC=C(C(=O)CC(=O)N(C)C)C=C1 BJNXSZPLHWSWIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLPGPGQJLPODMY-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutan-2-one Chemical compound COC(C)C(C)=O DLPGPGQJLPODMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBKVEIVCWRZXML-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-1-[4-(4-hydroxy-4-methyl-3-oxopentanoyl)phenyl]-4-methylpentane-1,3-dione Chemical compound CC(C)(O)C(=O)CC(=O)C1=CC=C(C(=O)CC(=O)C(C)(C)O)C=C1 RBKVEIVCWRZXML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIYQRJUFTUGUPT-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-[4-(4-methyl-3-oxopentanoyl)phenyl]pentane-1,3-dione Chemical compound CC(C)C(=O)CC(=O)C1=CC=C(C(=O)CC(=O)C(C)C)C=C1 CIYQRJUFTUGUPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNDVGJZUHCKENF-UHFFFAOYSA-N 5-hexen-2-one Chemical compound CC(=O)CCC=C RNDVGJZUHCKENF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDBLNMQDEWOUIB-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1,3-benzoxazole Chemical compound N=1C2=CC(C)=CC=C2OC=1C1=CC=CC=C1 RDBLNMQDEWOUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical class CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- 235000007119 Ananas comosus Nutrition 0.000 description 1
- 244000099147 Ananas comosus Species 0.000 description 1
- 241000416162 Astragalus gummifer Species 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 241000723346 Cinnamomum camphora Species 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- 206010014970 Ephelides Diseases 0.000 description 1
- 206010015150 Erythema Diseases 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N Isothiocyanatocyclopropane Chemical compound S=C=NC1CC1 JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 208000003351 Melanosis Diseases 0.000 description 1
- 239000005640 Methyl decanoate Substances 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000012641 Pigmentation disease Diseases 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229920001615 Tragacanth Polymers 0.000 description 1
- UEOFNBCUGJADBM-UHFFFAOYSA-N Trimethylaethergallussaeure-aethylester Natural products CCOC(=O)C1=CC(OC)=C(OC)C(OC)=C1 UEOFNBCUGJADBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003869 acetamides Chemical class 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- 235000010419 agar Nutrition 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N butyric acid octyl ester Natural products CCCCCCCCOC(=O)CCC PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930008380 camphor Natural products 0.000 description 1
- 229960000846 camphor Drugs 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- UXTMROKLAAOEQO-UHFFFAOYSA-N chloroform;ethanol Chemical compound CCO.ClC(Cl)Cl UXTMROKLAAOEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAIVIYSBZFEOIU-UHFFFAOYSA-N chloroform;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.ClC(Cl)Cl OAIVIYSBZFEOIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001851 cinnamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 210000001072 colon Anatomy 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003493 decenyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VNGOYPQMJFJDLV-UHFFFAOYSA-N dimethyl benzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OC)=C1 VNGOYPQMJFJDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IPZJQDSFZGZEOY-UHFFFAOYSA-N dimethylmethylene Chemical compound C[C]C IPZJQDSFZGZEOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004914 dipropylamino group Chemical group C(CC)N(CCC)* 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000005066 dodecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- QYDYPVFESGNLHU-UHFFFAOYSA-N elaidic acid methyl ester Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(=O)OC QYDYPVFESGNLHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAMHHLOGFDZBBG-UHFFFAOYSA-N epoxidized methyl oleate Natural products CCCCCCCCC1OC1CCCCCCCC(=O)OC CAMHHLOGFDZBBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000321 erythema Toxicity 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000006232 ethoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- HHEIMYAXCOIQCJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)C HHEIMYAXCOIQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;hexane Chemical compound CCCCCC.CCOC(C)=O OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000003906 humectant Substances 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WDAXFOBOLVPGLV-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)C(C)C WDAXFOBOLVPGLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- KICUISADAVMYCJ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethylhexanoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OC KICUISADAVMYCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- QYDYPVFESGNLHU-KHPPLWFESA-N methyl oleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC QYDYPVFESGNLHU-KHPPLWFESA-N 0.000 description 1
- 229940073769 methyl oleate Drugs 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- KACHFMOHOPLTNX-UHFFFAOYSA-N methyl tri-O-methylgallate Natural products COC(=O)C1=CC(OC)=C(OC)C(OC)=C1 KACHFMOHOPLTNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- KMGFVPGVMMBATJ-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(2-ethylhexyl)acetamide Chemical compound CCCCC(CC)CN(C(C)=O)CC(CC)CCCC KMGFVPGVMMBATJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N n-butyric acid methyl ester Natural products CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGDNHIJGIWHQBL-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-methylacetamide Chemical compound CCN(C)C(C)=O MGDNHIJGIWHQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- GFRVACMBQNSFBM-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-octadecylacetamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN(C)C(C)=O GFRVACMBQNSFBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNBDRPTVWVGKBR-UHFFFAOYSA-N n-pentanoic acid methyl ester Natural products CCCCC(=O)OC HNBDRPTVWVGKBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 125000005064 octadecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFDXODALSZRGIH-UHFFFAOYSA-N p-coumaric acid methyl ether Natural products COC1=CC=C(C=CC(O)=O)C=C1 AFDXODALSZRGIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 230000019612 pigmentation Effects 0.000 description 1
- PJGSXYOJTGTZAV-UHFFFAOYSA-N pinacolone Chemical compound CC(=O)C(C)(C)C PJGSXYOJTGTZAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 125000006233 propoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006225 propoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005767 propoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[#8]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZDYVRSLAEXCVBX-UHFFFAOYSA-N pyridinium p-toluenesulfonate Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 ZDYVRSLAEXCVBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- NGHMEZWZOZEZOH-UHFFFAOYSA-N silicic acid;hydrate Chemical compound O.O[Si](O)(O)O NGHMEZWZOZEZOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009759 skin aging Effects 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- JNUBZSFXMKCDFD-UHFFFAOYSA-M sodium;2-phenyl-3h-benzimidazole-5-sulfonate Chemical compound [Na+].N1C2=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C2N=C1C1=CC=CC=C1 JNUBZSFXMKCDFD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000037072 sun protection Effects 0.000 description 1
- 125000005063 tetradecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000000196 tragacanth Substances 0.000 description 1
- 235000010487 tragacanth Nutrition 0.000 description 1
- 229940116362 tragacanth Drugs 0.000 description 1
- 125000005040 tridecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- RGCHNYAILFZUPL-UHFFFAOYSA-N trimethyl benzene-1,3,5-tricarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC(C(=O)OC)=CC(C(=O)OC)=C1 RGCHNYAILFZUPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005065 undecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、皮膚等を白くさせるこ
となく、紫外線から皮膚等の基質を強力に保護する紫外
線防御組成物に関する。
となく、紫外線から皮膚等の基質を強力に保護する紫外
線防御組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】紫外線が、一定以上の光量が皮膚に照射
されると、紅斑や水疱を形成し、メラニン形成を亢進し
、色素沈着を生ずる等の変化を皮膚にもたらす。また皮
膚の老化を促進し、しみ、しわ、ソバカス等の一因子と
なっている。
されると、紅斑や水疱を形成し、メラニン形成を亢進し
、色素沈着を生ずる等の変化を皮膚にもたらす。また皮
膚の老化を促進し、しみ、しわ、ソバカス等の一因子と
なっている。
【0003】近年においては、この様に紫外線がヒトの
皮膚に及ぼす影響が明らかにされ、これに伴ない紫外線
吸収剤を含む化粧料等が多種上市され、また紫外線吸収
剤の開発も数多く行なわれている。
皮膚に及ぼす影響が明らかにされ、これに伴ない紫外線
吸収剤を含む化粧料等が多種上市され、また紫外線吸収
剤の開発も数多く行なわれている。
【0004】従来、紫外線吸収剤としては、ジベンゾイ
ルメタン誘導体、桂皮酸エステル、ベンゾフェノン、p
−アミノ安息香酸、サリチル酸等の誘導体が用いられて
いるが、これらの紫外線吸収剤はその紫外線吸収力が充
分でなかった。これに対し、優れた紫外線吸収剤として
、ベンゾイルケトン誘導体が開発されている(特開平2
−212579号公報)。
ルメタン誘導体、桂皮酸エステル、ベンゾフェノン、p
−アミノ安息香酸、サリチル酸等の誘導体が用いられて
いるが、これらの紫外線吸収剤はその紫外線吸収力が充
分でなかった。これに対し、優れた紫外線吸収剤として
、ベンゾイルケトン誘導体が開発されている(特開平2
−212579号公報)。
【0005】一方、酸化チタン等の紫外線散乱剤は、皮
膚等に塗布した場合、紫外線を散乱させることより、皮
膚を紫外線から保護するため、広く用いられている。し
かしながら、これらの紫外線散乱剤は大量に配合しない
と紫外線防御効果が充分でなく、大量に配合すると皮膚
を白くしてしまうため化粧料としては好ましくないとい
う欠点があった。
膚等に塗布した場合、紫外線を散乱させることより、皮
膚を紫外線から保護するため、広く用いられている。し
かしながら、これらの紫外線散乱剤は大量に配合しない
と紫外線防御効果が充分でなく、大量に配合すると皮膚
を白くしてしまうため化粧料としては好ましくないとい
う欠点があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は皮膚等を白くさせることなく、紫外線から皮膚を強力
に保護できる紫外線防御組成物を提供することにある。
は皮膚等を白くさせることなく、紫外線から皮膚を強力
に保護できる紫外線防御組成物を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは、鋭
意検討を重ねた結果、下記式(1)のベンゾイルケトン
誘導体と紫外線散乱剤とを組み合わせて用いれば、紫外
線防御効果が相乗的に向上し、かつ皮膚を白くさせるこ
とがないことを見出し、本発明を完成した。
意検討を重ねた結果、下記式(1)のベンゾイルケトン
誘導体と紫外線散乱剤とを組み合わせて用いれば、紫外
線防御効果が相乗的に向上し、かつ皮膚を白くさせるこ
とがないことを見出し、本発明を完成した。
【0008】すなわち、本発明は次の一般式(1)(R
1)mPh(COCH2COR2)n (1)〔式中
、R1 は水酸基、炭素数1〜24のアルコキシ基、炭
素数2〜24のアルケニルオキシ基又は(ポリオキシア
ルキレン)オキシ基を示し、また2個のR1 でα−メ
チレンジオキシ基を形成してもよく、m個の基−COC
H2COR2 はそれぞれ同一でも異なっていてもよく
、R2 は炭素数2〜24の飽和もしくは不飽和の炭化
水素基、炭素数1〜24のヒドロキシアルキル基、炭素
数2〜24のアルコキシアルキル基、炭素数3〜24の
アルケニルオキシアルキル基又は基
1)mPh(COCH2COR2)n (1)〔式中
、R1 は水酸基、炭素数1〜24のアルコキシ基、炭
素数2〜24のアルケニルオキシ基又は(ポリオキシア
ルキレン)オキシ基を示し、また2個のR1 でα−メ
チレンジオキシ基を形成してもよく、m個の基−COC
H2COR2 はそれぞれ同一でも異なっていてもよく
、R2 は炭素数2〜24の飽和もしくは不飽和の炭化
水素基、炭素数1〜24のヒドロキシアルキル基、炭素
数2〜24のアルコキシアルキル基、炭素数3〜24の
アルケニルオキシアルキル基又は基
【0009】
【化2】
【0010】(ここでR3 及びR4 はそれぞれ炭素
数1〜24の炭化水素基を示すか、又はR3 とR4
が一緒になって更に酸素原子を含んでいてもよい5〜7
員環を形成してもよい)を示し、Phはベンゼン核を示
し、mは0〜4の整数を示し、nは1〜4の整数を示す
。ただし、m+n≦6である。〕で表わされるベンゾイ
ルケトン誘導体又はその塩、及び紫外線散乱物を含有す
ることを特徴とする紫外線防御組成物を提供するもので
ある。
数1〜24の炭化水素基を示すか、又はR3 とR4
が一緒になって更に酸素原子を含んでいてもよい5〜7
員環を形成してもよい)を示し、Phはベンゼン核を示
し、mは0〜4の整数を示し、nは1〜4の整数を示す
。ただし、m+n≦6である。〕で表わされるベンゾイ
ルケトン誘導体又はその塩、及び紫外線散乱物を含有す
ることを特徴とする紫外線防御組成物を提供するもので
ある。
【0011】上記一般式(1)中、R1 で示される炭
素数1〜24のアルコキシ基としては、例えばメトキシ
基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、n−ブトキシ
基、t−ブトキシ等が挙げられ;炭素数2〜24のアル
ケニルオキシ基としては、例えばアリルオキシ基、ブテ
ニルオキシ基、ペンテニルオキシ基、ヘキセニルオキシ
基等が挙げられ;(ポリオキシアルキレン)オキシ基と
しては、例えばメトキシメトキシ基、メトキシエトキシ
メトキシ基等が挙げられる。また、2個のR1 でα−
メチレンジオキシ基を形成することもできる。
素数1〜24のアルコキシ基としては、例えばメトキシ
基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、n−ブトキシ
基、t−ブトキシ等が挙げられ;炭素数2〜24のアル
ケニルオキシ基としては、例えばアリルオキシ基、ブテ
ニルオキシ基、ペンテニルオキシ基、ヘキセニルオキシ
基等が挙げられ;(ポリオキシアルキレン)オキシ基と
しては、例えばメトキシメトキシ基、メトキシエトキシ
メトキシ基等が挙げられる。また、2個のR1 でα−
メチレンジオキシ基を形成することもできる。
【0012】また、上記一般式(1)中、R2 で示さ
れる炭素数2〜24の飽和若しくは不飽和の炭化水素基
の具体例としては、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基
、ブテニル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−
ヘプチル基、ヘプテニル基、n−オクチル基、オクテニ
ル基、n−ノニル基、ノネニル基、n−デシル基、デセ
ニル基、n−ウンデシル基、ウンデセニル基、n−ドデ
シル基、ドデセニル基、n−トリデシル基、トリデセニ
ル基、n−テトラデシル基、テトラデセニル基、n−ペ
ンタデシル基、ペンタデセニル基、イソペンタデシル基
、n−ヘキサデシル基、ヘキサデセニル基、イソヘキサ
デシル基、n−ヘプタデシル基、ヘプタデセニル基、イ
ソヘプタデシル基、オクタデシル基、オクタデセニル基
、イソオクタデシル基、シクロヘキシル基、アダマンチ
ル基等が挙げられる。
れる炭素数2〜24の飽和若しくは不飽和の炭化水素基
の具体例としては、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基
、ブテニル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−
ヘプチル基、ヘプテニル基、n−オクチル基、オクテニ
ル基、n−ノニル基、ノネニル基、n−デシル基、デセ
ニル基、n−ウンデシル基、ウンデセニル基、n−ドデ
シル基、ドデセニル基、n−トリデシル基、トリデセニ
ル基、n−テトラデシル基、テトラデセニル基、n−ペ
ンタデシル基、ペンタデセニル基、イソペンタデシル基
、n−ヘキサデシル基、ヘキサデセニル基、イソヘキサ
デシル基、n−ヘプタデシル基、ヘプタデセニル基、イ
ソヘプタデシル基、オクタデシル基、オクタデセニル基
、イソオクタデシル基、シクロヘキシル基、アダマンチ
ル基等が挙げられる。
【0013】また、R2 で示される炭素数1〜24の
ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、
ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキ
シブチル基、ヒドロキシペンチル基、ヒドロキシヘキシ
ル基、ヒドロキシヘプチル基、ヒドロキシオクチル基、
ヒドロキシノニル基、ヒドロキシデシル基、ヒドロキシ
ウンデシル基、ヒドロキシドデシル基、ヒドロキシテト
ラデシル基、ヒドロキシヘキサデシル基、ヒドロキシオ
クタデシル基等が挙げられる。
ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、
ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキ
シブチル基、ヒドロキシペンチル基、ヒドロキシヘキシ
ル基、ヒドロキシヘプチル基、ヒドロキシオクチル基、
ヒドロキシノニル基、ヒドロキシデシル基、ヒドロキシ
ウンデシル基、ヒドロキシドデシル基、ヒドロキシテト
ラデシル基、ヒドロキシヘキサデシル基、ヒドロキシオ
クタデシル基等が挙げられる。
【0014】R2 で示される炭素数2〜24のアルコ
キシアルキル基としては、メトキシメチル基、エトキシ
メチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル
基、ブチロキシメチル基、ペンチルオキシメチル基、ヘ
キシルオキシメチル基、オクチルオキシメチル基、デシ
ルオキシメチル基、ウンデシルオキシメチル基、テトラ
デシルオキシメチル基、ヘキサデシルオキシメチル基、
オクタデシルオキシメチル基、メトキシエチル基、エト
キシエチル基、プロポキシエチル基、メトキシプロピル
基、エトキシプロピル基、プロポキシプロプル基、メト
キシブチル基、エトキシブチル基、プロポキシブチル基
、メトキシペンチル基、エトキシペンチル基、プロポキ
シペンチル基、メトキシドデシル基、エトキシドデシル
基、プロポキシドデシル基、メトキシヘキサデシル基、
エトキシヘキサデシル基、プロポキシヘキサデシル基、
メトキシオクタデシル基、エトキシオクタデシル基、プ
ロポキシオクタデシル基等が挙げられる。
キシアルキル基としては、メトキシメチル基、エトキシ
メチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル
基、ブチロキシメチル基、ペンチルオキシメチル基、ヘ
キシルオキシメチル基、オクチルオキシメチル基、デシ
ルオキシメチル基、ウンデシルオキシメチル基、テトラ
デシルオキシメチル基、ヘキサデシルオキシメチル基、
オクタデシルオキシメチル基、メトキシエチル基、エト
キシエチル基、プロポキシエチル基、メトキシプロピル
基、エトキシプロピル基、プロポキシプロプル基、メト
キシブチル基、エトキシブチル基、プロポキシブチル基
、メトキシペンチル基、エトキシペンチル基、プロポキ
シペンチル基、メトキシドデシル基、エトキシドデシル
基、プロポキシドデシル基、メトキシヘキサデシル基、
エトキシヘキサデシル基、プロポキシヘキサデシル基、
メトキシオクタデシル基、エトキシオクタデシル基、プ
ロポキシオクタデシル基等が挙げられる。
【0015】R2 で示される炭素数3〜24のアルケ
ニルオキシアルキル基としては、アリルオキシメチル基
、ブテニルオキシメチル基、ヘキセニルオキシメチル基
、ウンデセニルオキシメチル基、オクタデセニルオキシ
メチル基、アリルオキシエチル基、アリルオキシプロピ
ル基、アリルオキシブチル基、アリルオキシペンチル基
、アリルオキシドデシル基、アリルオキシヘキサデシル
基、アリルオキシオクタデシル基等が挙げられる。
ニルオキシアルキル基としては、アリルオキシメチル基
、ブテニルオキシメチル基、ヘキセニルオキシメチル基
、ウンデセニルオキシメチル基、オクタデセニルオキシ
メチル基、アリルオキシエチル基、アリルオキシプロピ
ル基、アリルオキシブチル基、アリルオキシペンチル基
、アリルオキシドデシル基、アリルオキシヘキサデシル
基、アリルオキシオクタデシル基等が挙げられる。
【0016】また、R2 で示される基
【0017】
【化3】
【0018】の具体例としては、ジメチルアミノ基、エ
チルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルプロピ
ルアミノ基、メチルイソプロピルアミノ基、メチルブチ
ルアミノ基、メチル−t−ブチルアミノ基、ジイソプロ
ピルアミノ基、ジプロピルアミノ基、エチルブチルアミ
ノ基、メチルヘキシルアミノ基、ジ−sec−ブチルア
ミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、
ジヘキシルアミノ基、ビス(2−エチルヘキシル)アミ
ノ基、ジオクチルアミノ基、メチルオクタデシルアミノ
基、ピロリジル基、ピペリジル基、モルホリル基等が挙
げられる。
チルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルプロピ
ルアミノ基、メチルイソプロピルアミノ基、メチルブチ
ルアミノ基、メチル−t−ブチルアミノ基、ジイソプロ
ピルアミノ基、ジプロピルアミノ基、エチルブチルアミ
ノ基、メチルヘキシルアミノ基、ジ−sec−ブチルア
ミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、
ジヘキシルアミノ基、ビス(2−エチルヘキシル)アミ
ノ基、ジオクチルアミノ基、メチルオクタデシルアミノ
基、ピロリジル基、ピペリジル基、モルホリル基等が挙
げられる。
【0019】ベンゾイルケトン誘導体(1)は、例えば
公知の方法〔J.Am.Chem.Soc.,80,4
891(1958);J.Chromatogr.,3
12,109(1984);J.Polym.Sci.
Polym.Chem.Ed.,20,3079(19
82)〕に従い、次に示す(a)、(b)又は(c)の
方法によって製造することができる。
公知の方法〔J.Am.Chem.Soc.,80,4
891(1958);J.Chromatogr.,3
12,109(1984);J.Polym.Sci.
Polym.Chem.Ed.,20,3079(19
82)〕に従い、次に示す(a)、(b)又は(c)の
方法によって製造することができる。
【0020】
【化4】
【0021】〔式中、R5 はメチル基、エチル基、n
−プロピル基又はn−ブチル基を示し、Ph、R1 、
R2 、m及びnは前記と同じものを示す〕
−プロピル基又はn−ブチル基を示し、Ph、R1 、
R2 、m及びnは前記と同じものを示す〕
【0022】すなわち、ベンゾエート(2)とケトン(
3)とを縮合させることにより化合物(1)が製造され
る。この反応に用いられるケトン(3)としては、メチ
ルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソプ
ロピルケトン、2−ヒドロキシ−2−プロピルメチルケ
トン、ピナコロン、2−ブタノン、2−ペンタノン、3
−メチル−2−ブタノン、2−ヘキサノン、5−ヘキセ
ン−2−オン、2−オクタノン、シクロヘキシルメチル
ケトン、アダマンチルメチルケトン、メトキシアセトン
、エトキシアセトン、プロポキシアセトン、アリルオキ
シアセトン、メチルメトキシアセトン、ジメチルメトキ
シアセトンなどが挙げられる。(a)法の反応は無水テ
トラヒドロフラン、トルエン、キシレン等の溶媒中、塩
基を触媒として用い、20〜150℃で数十分〜10時
間行うのが好ましい。ここで用いられる塩基としては水
素化ナトリウムなどの金属水素化物;ブチルリチウムな
どの金属アルキル化物;トリエチルアミンなどのアミン
類;ナトリウムアミドなどの金属アミド類;ナトリウム
メトキシドのような金属アルコキシド化合物などが挙げ
られる。
3)とを縮合させることにより化合物(1)が製造され
る。この反応に用いられるケトン(3)としては、メチ
ルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソプ
ロピルケトン、2−ヒドロキシ−2−プロピルメチルケ
トン、ピナコロン、2−ブタノン、2−ペンタノン、3
−メチル−2−ブタノン、2−ヘキサノン、5−ヘキセ
ン−2−オン、2−オクタノン、シクロヘキシルメチル
ケトン、アダマンチルメチルケトン、メトキシアセトン
、エトキシアセトン、プロポキシアセトン、アリルオキ
シアセトン、メチルメトキシアセトン、ジメチルメトキ
シアセトンなどが挙げられる。(a)法の反応は無水テ
トラヒドロフラン、トルエン、キシレン等の溶媒中、塩
基を触媒として用い、20〜150℃で数十分〜10時
間行うのが好ましい。ここで用いられる塩基としては水
素化ナトリウムなどの金属水素化物;ブチルリチウムな
どの金属アルキル化物;トリエチルアミンなどのアミン
類;ナトリウムアミドなどの金属アミド類;ナトリウム
メトキシドのような金属アルコキシド化合物などが挙げ
られる。
【0023】
【化5】
【0024】〔式中、R1 、R2 、R5 、Ph、
m及びnは前記と同じものを示す〕すなわち、アセチル
ベンゼン誘導体(4)とエステル(5)を縮合させるこ
とにより、化合物(1)が製造される。この反応に用い
られるエステル(5)としては、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、ピバリン酸メチル、ピバリン酸エチル、プロピオン
酸メチル、酪酸メチル、イソ酪酸メチル、吉草酸メチル
、イソ吉草酸エチル、カプロン酸メチル、カプリン酸メ
チル、カプリン酸エチル、2−エチルヘキサン酸メチル
、オクタン酸メチル、デカン酸メチル、ウンデカン酸メ
チル、ミリスチン酸メチル、パルミチン酸メチル、ステ
アリン酸メチル、イソステアリン酸メチル、オイレン酸
メチルなどが挙げられる。(b)法の反応は前記(a)
法と同様の条件下で行われる。
m及びnは前記と同じものを示す〕すなわち、アセチル
ベンゼン誘導体(4)とエステル(5)を縮合させるこ
とにより、化合物(1)が製造される。この反応に用い
られるエステル(5)としては、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、ピバリン酸メチル、ピバリン酸エチル、プロピオン
酸メチル、酪酸メチル、イソ酪酸メチル、吉草酸メチル
、イソ吉草酸エチル、カプロン酸メチル、カプリン酸メ
チル、カプリン酸エチル、2−エチルヘキサン酸メチル
、オクタン酸メチル、デカン酸メチル、ウンデカン酸メ
チル、ミリスチン酸メチル、パルミチン酸メチル、ステ
アリン酸メチル、イソステアリン酸メチル、オイレン酸
メチルなどが挙げられる。(b)法の反応は前記(a)
法と同様の条件下で行われる。
【0025】
【化6】
【0026】〔式中、R1 、R3 、R4 、R5
、Ph、m及びnは前記と同じものを示す〕
、Ph、m及びnは前記と同じものを示す〕
【0027】すなわち、ベンゾエート(2)とN,N−
ジ置換アセトアミド(6)とを縮合させることにより本
発明化合物(1′)が製造される。この反応に用いられ
るN,N−ジ置換アセトアミド(6)しては、N,N−
ジメチルアセトアミド、N−エチル−N−メチルアセト
アミド、N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アセトア
ミド、N−メチル−N−オクタデシルアセトアミド、ア
セチルピロリジン、アセチルピペリジン、アセチルモル
ホリン等が挙げられる。(c)法の反応は前記(a)法
と同様の条件下で行われる。
ジ置換アセトアミド(6)とを縮合させることにより本
発明化合物(1′)が製造される。この反応に用いられ
るN,N−ジ置換アセトアミド(6)しては、N,N−
ジメチルアセトアミド、N−エチル−N−メチルアセト
アミド、N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アセトア
ミド、N−メチル−N−オクタデシルアセトアミド、ア
セチルピロリジン、アセチルピペリジン、アセチルモル
ホリン等が挙げられる。(c)法の反応は前記(a)法
と同様の条件下で行われる。
【0028】本発明に用いる紫外線散乱剤としては、例
えば酸化チタン、酸化亜鉛、マイカ、硫酸バリウム、ア
ルミナ、シリカ等の無機粉体及びナイロンパウダー、ポ
リメチルメタクリレート等の有機粉体が挙げられるが、
紫外線散乱能と吸収能をあわせもつ微粒子酸化チタン、
微粒子酸化亜鉛、薄片状酸化亜鉛等の金属酸化物が特に
好ましい。ここで微粒子酸化チタン、酸化亜鉛とは平均
粒径10〜100nm程度のものであり、市販品をその
まま使用できる。一方、薄片状酸化亜鉛とは、平均粒径
100〜1000nm、厚さ10〜200nmで板状比
3以上のものをいい、例えば特開平1−175921号
公報記載の方法で製造される。これら紫外線散乱剤はメ
チルハイドロジェンポリシロキサン、デキストリン脂肪
酸エステル、金属石鹸等で疎水化処理して用いることも
できる。
えば酸化チタン、酸化亜鉛、マイカ、硫酸バリウム、ア
ルミナ、シリカ等の無機粉体及びナイロンパウダー、ポ
リメチルメタクリレート等の有機粉体が挙げられるが、
紫外線散乱能と吸収能をあわせもつ微粒子酸化チタン、
微粒子酸化亜鉛、薄片状酸化亜鉛等の金属酸化物が特に
好ましい。ここで微粒子酸化チタン、酸化亜鉛とは平均
粒径10〜100nm程度のものであり、市販品をその
まま使用できる。一方、薄片状酸化亜鉛とは、平均粒径
100〜1000nm、厚さ10〜200nmで板状比
3以上のものをいい、例えば特開平1−175921号
公報記載の方法で製造される。これら紫外線散乱剤はメ
チルハイドロジェンポリシロキサン、デキストリン脂肪
酸エステル、金属石鹸等で疎水化処理して用いることも
できる。
【0029】上記のベンゾイルケトン誘導体(1)と紫
外線散乱剤は、それぞれ一種ずつ、又は2種以上を混合
して用いてもよい。本発明紫外線防御組成物中へのベン
ゾイルケトン誘導体(1)と紫外線散乱剤の配合比は、
その用途によって異なるが、重量比で1/99〜99/
1、特に3/7〜7/3の範囲が好ましい。また、これ
ら2成分の本発明紫外線防御組成物への合計の配合量は
、その用途により適宜選択すればよいが、例えば化粧料
では、通常1〜30重量%(以下「%」で示す)が適当
であるが、特に充分な紫外線防御効果を得るためには、
5〜30%とすることが好ましい。
外線散乱剤は、それぞれ一種ずつ、又は2種以上を混合
して用いてもよい。本発明紫外線防御組成物中へのベン
ゾイルケトン誘導体(1)と紫外線散乱剤の配合比は、
その用途によって異なるが、重量比で1/99〜99/
1、特に3/7〜7/3の範囲が好ましい。また、これ
ら2成分の本発明紫外線防御組成物への合計の配合量は
、その用途により適宜選択すればよいが、例えば化粧料
では、通常1〜30重量%(以下「%」で示す)が適当
であるが、特に充分な紫外線防御効果を得るためには、
5〜30%とすることが好ましい。
【0030】本発明の紫外線防御組成物には、更に他の
UV−B吸収剤あるいはUV−A吸収剤を配合すること
もできる。このようなUV−B吸収剤としては、例えば
p−メチルベンジリデン−D(L)−ショウノウ又はそ
のスルホン酸ナトリウム塩;2−フェニルベンズイミダ
ゾール−5−スルホン酸ナトリウム塩、3,4−ジメチ
ルフェニルグリオキシル酸ナトリウム塩、4−フェニル
ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン−2′−
カルボン酸イソオクチルエステル、p−メトキシ桂皮酸
エステル、2−フェニル−5−メチルベンズオキサゾー
ル又はp−ジメチルアミノ安息香酸エステル類などが挙
げられる。 UV−A吸収剤としては4−メトキシ−2′−カルボキ
シジベンゾイルメタン、4−メトキシ−4′−t−ブチ
ルジベンゾイルメタン、4−イソプロピルジベンゾイル
メタン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
又はジベンジリデンカンファー類などが挙げられる。
UV−B吸収剤あるいはUV−A吸収剤を配合すること
もできる。このようなUV−B吸収剤としては、例えば
p−メチルベンジリデン−D(L)−ショウノウ又はそ
のスルホン酸ナトリウム塩;2−フェニルベンズイミダ
ゾール−5−スルホン酸ナトリウム塩、3,4−ジメチ
ルフェニルグリオキシル酸ナトリウム塩、4−フェニル
ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン−2′−
カルボン酸イソオクチルエステル、p−メトキシ桂皮酸
エステル、2−フェニル−5−メチルベンズオキサゾー
ル又はp−ジメチルアミノ安息香酸エステル類などが挙
げられる。 UV−A吸収剤としては4−メトキシ−2′−カルボキ
シジベンゾイルメタン、4−メトキシ−4′−t−ブチ
ルジベンゾイルメタン、4−イソプロピルジベンゾイル
メタン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
又はジベンジリデンカンファー類などが挙げられる。
【0031】また、本発明の紫外線防御組成物には、上
記成分のほか、種々の添加剤を加えることもできる。適
当な添加剤としては、例えばW/O型及びO/W型の乳
化剤が挙げられる。乳化剤としては、市販の乳化剤が使
用できる。またメチルセルロース、エチルセルロース又
はカルボキシメチルセルロース、ポリアクリル酸、トラ
ガカント、寒天又はゼラチン等の増粘剤も添加剤として
加えることもできる。更に、必要に応じて、種々の油成
分、香料、防腐剤、保湿剤、乳化安定剤、薬効成分及び
/又は生理的に許容し得る着色剤を添加してもよい。
記成分のほか、種々の添加剤を加えることもできる。適
当な添加剤としては、例えばW/O型及びO/W型の乳
化剤が挙げられる。乳化剤としては、市販の乳化剤が使
用できる。またメチルセルロース、エチルセルロース又
はカルボキシメチルセルロース、ポリアクリル酸、トラ
ガカント、寒天又はゼラチン等の増粘剤も添加剤として
加えることもできる。更に、必要に応じて、種々の油成
分、香料、防腐剤、保湿剤、乳化安定剤、薬効成分及び
/又は生理的に許容し得る着色剤を添加してもよい。
【0032】本発明の紫外線防御組成物は、上記成分を
配合し、常法により製造することができる。ベンゾイル
ケトン誘導体(1)と紫外線散乱剤とを均一に配合させ
るためには、エタノール、クロロホルム等の有機溶媒を
使用するのが好ましい。例えば、ベンゾイルケトン誘導
体(1)を有機溶媒に溶解せしめ、これに紫外線散乱剤
を除々に分散させながら、添加・混合し、その後溶媒を
留去すればよい。かかる処理によって紫外線散乱剤はベ
ンゾイルケトン誘導体によって被覆され、両者を単に混
合した場合よりも強い紫外線防御効果が得られる。
配合し、常法により製造することができる。ベンゾイル
ケトン誘導体(1)と紫外線散乱剤とを均一に配合させ
るためには、エタノール、クロロホルム等の有機溶媒を
使用するのが好ましい。例えば、ベンゾイルケトン誘導
体(1)を有機溶媒に溶解せしめ、これに紫外線散乱剤
を除々に分散させながら、添加・混合し、その後溶媒を
留去すればよい。かかる処理によって紫外線散乱剤はベ
ンゾイルケトン誘導体によって被覆され、両者を単に混
合した場合よりも強い紫外線防御効果が得られる。
【0033】本発明の紫外線防御組成物は、乳液状、ク
リーム性、油状、油性固形等の剤型で、夏の日焼防止用
、日常のUVケア用、さらには顔料と併用することによ
りUVケアファンデーション等として用いることができ
る。
リーム性、油状、油性固形等の剤型で、夏の日焼防止用
、日常のUVケア用、さらには顔料と併用することによ
りUVケアファンデーション等として用いることができ
る。
【0034】
【発明の効果】本発明の紫外線防御組成物は、ベンゾイ
ルケトン誘導体(1)と紫外線散乱物との相乗効果によ
り、皮膚を紫外線から強力に保護し、更に皮膚上では白
さが目立たないという優れた効果を有する。
ルケトン誘導体(1)と紫外線散乱物との相乗効果によ
り、皮膚を紫外線から強力に保護し、更に皮膚上では白
さが目立たないという優れた効果を有する。
【0035】
【実施例】以下、実施例を挙げて、本発明を更に詳細に
説明するが本発明は、これらに限定されるものではない
。
説明するが本発明は、これらに限定されるものではない
。
【0036】合成例1
1,4−ビス(4,4−ジメチル−3−オキソペンタノ
イル)ベンゼン〔式(1)において、R2 =t−Bu
、m=0、n=2のもの〕(1a)の合成:撹拌装置、
滴下ロート、温度計、還流冷却器及び窒素導入管を備え
た2l容四ッ口フラスコ中にて、60%水素化ナトリウ
ム32g(0.8mol)、ピナコロン79g(0.7
9mol)、無水テトラヒドロフラン700mlを窒素
気流下混合し、室温、撹拌下、テレフタル酸ジメチル7
0g(0.36mol)のテトラヒドロフラン(300
ml )溶液を1時間かけて滴下した。滴下終了後、6
時間加熱還流を行った。反応終了後室温まで冷却し、2
N−塩酸水溶液180mlを滴下した。次いでクロロホ
ルムで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留
去して粗生成物を得た。これをヘキサンを用い再結晶し
、目的化合物の無色鱗片状結晶78gを得た(収率66
%)。 融点:125.5〜126.5℃ IR(νKBr,cm−1):2974,2872,1
584,1563,1485,1268,1290,1
140,840,792,7411H−NMR(CDC
l3,δ):1.27(18H,s), 6.34(2
H,s), 7.95(4H,s) 元素分析 計算値(%)C;72.70, H;7.93実測値(
%)C;72.61, H;7.96
イル)ベンゼン〔式(1)において、R2 =t−Bu
、m=0、n=2のもの〕(1a)の合成:撹拌装置、
滴下ロート、温度計、還流冷却器及び窒素導入管を備え
た2l容四ッ口フラスコ中にて、60%水素化ナトリウ
ム32g(0.8mol)、ピナコロン79g(0.7
9mol)、無水テトラヒドロフラン700mlを窒素
気流下混合し、室温、撹拌下、テレフタル酸ジメチル7
0g(0.36mol)のテトラヒドロフラン(300
ml )溶液を1時間かけて滴下した。滴下終了後、6
時間加熱還流を行った。反応終了後室温まで冷却し、2
N−塩酸水溶液180mlを滴下した。次いでクロロホ
ルムで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留
去して粗生成物を得た。これをヘキサンを用い再結晶し
、目的化合物の無色鱗片状結晶78gを得た(収率66
%)。 融点:125.5〜126.5℃ IR(νKBr,cm−1):2974,2872,1
584,1563,1485,1268,1290,1
140,840,792,7411H−NMR(CDC
l3,δ):1.27(18H,s), 6.34(2
H,s), 7.95(4H,s) 元素分析 計算値(%)C;72.70, H;7.93実測値(
%)C;72.61, H;7.96
【0037】合成
例2 1,3 −ビス(4,4−ジメチル−3−オキソペンタ
ノイル)ベンゼン〔式(1)において、R2 =t−B
u、m=0、n=2のもの〕(1b)の合成:撹拌装置
、滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入管を備えた10
0ml容三ッ口フラスコ中にて、60%水素化ナトリウ
ム1.5g(38mmol)、ピナコロン3.6g(3
6mmol)、イソフタル酸ジメチル3.0g(15.
5mmol)及び無水テトラヒドロフラン30mlを窒
素気流下、撹拌混合し、6時間加熱還流を行った。 反応終了後放冷し、2N−塩酸10mlを加えた後、ク
ロロホルムで抽出し、次いで無水硫酸ナトリウムで乾燥
後溶媒を留去し、粗生成物を得た。これをヘキサンを用
い再結晶し、目的化合物の無色結晶3.1g(収率61
%)を得た。 融点:106.0〜107.5℃ IR(νKBr,cm−1):3124,2974,2
872,1611,1563,1482,1431,1
290,1227,1134,1095,879,80
4,7051H−NMR(CDCl3,δ):1.27
(18H,s), 6.34(2H,s), 7.55
(1H,t,J=7.8Hz),8.02(2H,dd
,J=7.8,1.5Hz), 8.38(1H,br
.s) 元素分析 計算値(%)C;72.70, H;7.93実測値(
%)C;72.58, H;7.95
例2 1,3 −ビス(4,4−ジメチル−3−オキソペンタ
ノイル)ベンゼン〔式(1)において、R2 =t−B
u、m=0、n=2のもの〕(1b)の合成:撹拌装置
、滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入管を備えた10
0ml容三ッ口フラスコ中にて、60%水素化ナトリウ
ム1.5g(38mmol)、ピナコロン3.6g(3
6mmol)、イソフタル酸ジメチル3.0g(15.
5mmol)及び無水テトラヒドロフラン30mlを窒
素気流下、撹拌混合し、6時間加熱還流を行った。 反応終了後放冷し、2N−塩酸10mlを加えた後、ク
ロロホルムで抽出し、次いで無水硫酸ナトリウムで乾燥
後溶媒を留去し、粗生成物を得た。これをヘキサンを用
い再結晶し、目的化合物の無色結晶3.1g(収率61
%)を得た。 融点:106.0〜107.5℃ IR(νKBr,cm−1):3124,2974,2
872,1611,1563,1482,1431,1
290,1227,1134,1095,879,80
4,7051H−NMR(CDCl3,δ):1.27
(18H,s), 6.34(2H,s), 7.55
(1H,t,J=7.8Hz),8.02(2H,dd
,J=7.8,1.5Hz), 8.38(1H,br
.s) 元素分析 計算値(%)C;72.70, H;7.93実測値(
%)C;72.58, H;7.95
【0038】合成
例3 4−メトキシ−1,3 −ビス(4,4−ジメチル−3
−オキソペンタノイル)ベンゼン〔式(1)において、
R2 =t−Bu、R1 =OMe、m=1、n=2の
もの〕(1c)の合成:撹拌装置、滴下ロート、還流冷
却器及び窒素導入管を備えた100ml容三ッ口フラス
コ中にて、60%水素化ナトリウム1.5g(38mm
ol)、ピナコロン3.6g(36mmol)、4−メ
トキシイソフタル酸ジメチル3.0g(13.4mmo
l)及び無水テトラヒドロフラン30mlを窒素気流下
撹拌混合し、5時間加熱還流を行った。反応終了後放冷
し、2N−塩酸10mlを加えた後クロロホルムで抽出
した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留
去し粗生成物を得た。これをヘキサンを用い再結晶し、
目的化合物の無色結晶3.2gを得た(収率66%)。 融点:69.4〜70.8℃ IR(νKBr,cm−1):2968,1620,1
584,1506,1467,1368,1275,1
263,1182,1131,1071,1011,7
951H−NMR(CDCl3,δ):1.24(9H
,s), 1.25(9H,s),3.99(3H,s
), 6.29(1H,s),6.52(1H,s),
7.04(1H,d,J=8.8Hz),8.04(
1H,dd,J=8.8, 2.3Hz), 8.35
(1H,d,J=2.3Hz)元素分析 計算値(%)C;69.98, H;7.83実測値(
%)C;69.92, H;7.85
例3 4−メトキシ−1,3 −ビス(4,4−ジメチル−3
−オキソペンタノイル)ベンゼン〔式(1)において、
R2 =t−Bu、R1 =OMe、m=1、n=2の
もの〕(1c)の合成:撹拌装置、滴下ロート、還流冷
却器及び窒素導入管を備えた100ml容三ッ口フラス
コ中にて、60%水素化ナトリウム1.5g(38mm
ol)、ピナコロン3.6g(36mmol)、4−メ
トキシイソフタル酸ジメチル3.0g(13.4mmo
l)及び無水テトラヒドロフラン30mlを窒素気流下
撹拌混合し、5時間加熱還流を行った。反応終了後放冷
し、2N−塩酸10mlを加えた後クロロホルムで抽出
した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留
去し粗生成物を得た。これをヘキサンを用い再結晶し、
目的化合物の無色結晶3.2gを得た(収率66%)。 融点:69.4〜70.8℃ IR(νKBr,cm−1):2968,1620,1
584,1506,1467,1368,1275,1
263,1182,1131,1071,1011,7
951H−NMR(CDCl3,δ):1.24(9H
,s), 1.25(9H,s),3.99(3H,s
), 6.29(1H,s),6.52(1H,s),
7.04(1H,d,J=8.8Hz),8.04(
1H,dd,J=8.8, 2.3Hz), 8.35
(1H,d,J=2.3Hz)元素分析 計算値(%)C;69.98, H;7.83実測値(
%)C;69.92, H;7.85
【0039】合成
例4 1,4 −ビス(4−メチル−3−オキソペンタノイル
)ベンゼン〔式(1)において、R2 =−CH(CH
3)2、m=0、n=2のもの〕(1d)の合成:実施
例1において、ピナコロンの代りにイソプロピルメチル
ケトン68g(0.79mol)を使用した以外は実施
例1と同様の操作を行い、淡黄色針状晶の目的化合物7
6gを得た(収率72%)。 融点:97.0〜97.5℃ IR(νKBr,cm−1):2980,2932,1
608,1437,1284,1188,1098,9
39,807 1H−NMR(CDCl3,δ):1.25(12H,
d), 2.55−2.77(2H,m), 6.25
(2H,s),7.95(4H,s), 14.7(2
H,bs)
例4 1,4 −ビス(4−メチル−3−オキソペンタノイル
)ベンゼン〔式(1)において、R2 =−CH(CH
3)2、m=0、n=2のもの〕(1d)の合成:実施
例1において、ピナコロンの代りにイソプロピルメチル
ケトン68g(0.79mol)を使用した以外は実施
例1と同様の操作を行い、淡黄色針状晶の目的化合物7
6gを得た(収率72%)。 融点:97.0〜97.5℃ IR(νKBr,cm−1):2980,2932,1
608,1437,1284,1188,1098,9
39,807 1H−NMR(CDCl3,δ):1.25(12H,
d), 2.55−2.77(2H,m), 6.25
(2H,s),7.95(4H,s), 14.7(2
H,bs)
【0040】合成例5
1,4 −ビス(3−オキソペンタノイル)ベンゼン〔
式(1)において、R2 =C2H5、m=0、n=2
のもの〕(1e)の合成:実施例1において、ピナコロ
ンの代わりにメチルケトン57g(0.79mol)を
使用した以外は実施例1と同様の操作を行い、淡黄色結
晶の目的化合物54gを得た(収率56%)。 融点:122.5〜123.5℃ IR(νKBr,cm−1):2980,2950,1
617,1293,1161,1119,1083,8
13,774 1H−NMR(CDCl3,δ):1.25(6H,t
), 2.50(4H,q), 6.22(2H,s)
, 7.95(4H,s),15.2(2H,bs)
式(1)において、R2 =C2H5、m=0、n=2
のもの〕(1e)の合成:実施例1において、ピナコロ
ンの代わりにメチルケトン57g(0.79mol)を
使用した以外は実施例1と同様の操作を行い、淡黄色結
晶の目的化合物54gを得た(収率56%)。 融点:122.5〜123.5℃ IR(νKBr,cm−1):2980,2950,1
617,1293,1161,1119,1083,8
13,774 1H−NMR(CDCl3,δ):1.25(6H,t
), 2.50(4H,q), 6.22(2H,s)
, 7.95(4H,s),15.2(2H,bs)
【
0041】合成例6 1,4−(3−オキソドデカノイル)ベンゼン〔式(1
)において、R2=C9H19、m=0、n=2のもの
〕(1f)の合成:撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器
及び窒素導入管を備えた100ml容三ッ口フラスコ中
にて、60%水素化ナトリウム1.1g(28mmol
)、p−ジアセチルベンゼン2.0g(12.3mmo
l)、カプリン酸メチル4.8g(25.7mmol)
及び無水テトラヒドロフラン20mlを窒素気流下、撹
拌混合し、5時間加熱還流を行った。反応終了後放冷し
、2N−塩酸15mlを加えた後、クロロホルムで抽出
した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留
去し粗生成物を得た。これをヘキサンを用いて再結晶し
、目的化合物の淡黄色鱗片状結晶3.6g(収率63%
)を得た。
0041】合成例6 1,4−(3−オキソドデカノイル)ベンゼン〔式(1
)において、R2=C9H19、m=0、n=2のもの
〕(1f)の合成:撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器
及び窒素導入管を備えた100ml容三ッ口フラスコ中
にて、60%水素化ナトリウム1.1g(28mmol
)、p−ジアセチルベンゼン2.0g(12.3mmo
l)、カプリン酸メチル4.8g(25.7mmol)
及び無水テトラヒドロフラン20mlを窒素気流下、撹
拌混合し、5時間加熱還流を行った。反応終了後放冷し
、2N−塩酸15mlを加えた後、クロロホルムで抽出
した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留
去し粗生成物を得た。これをヘキサンを用いて再結晶し
、目的化合物の淡黄色鱗片状結晶3.6g(収率63%
)を得た。
【0042】融点:122.5〜123.0℃IR(ν
KBr,cm−1):2920,2854,1617,
1473,1293,1155,786 1H−NMR(CDCl3,δ):1.90(6H,t
), 1.12−1.43(20H,m), 1.56
(4H,bs),1.60−1.80(4H,m),
2.47(4H,t), 6.20(2H,s), 7
.95(4H,s),14.6(2H,bs)
KBr,cm−1):2920,2854,1617,
1473,1293,1155,786 1H−NMR(CDCl3,δ):1.90(6H,t
), 1.12−1.43(20H,m), 1.56
(4H,bs),1.60−1.80(4H,m),
2.47(4H,t), 6.20(2H,s), 7
.95(4H,s),14.6(2H,bs)
【004
3】合成例7 1,3,5−トリス(4,4−ジメチル−3−オキソペ
ンタノイル)ベンゼン〔式(1)において、R2 =C
(CH3)3、m=0、n=3のもの〕(1g)の合成
: 撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入
管を備えた100ml容三ッ口フラスコ中にて、60%
水素化ナトリウム2.29g(57mmol)、ピナコ
ロン5.24g(52mmol)、トリメチル1,3,
5−ベンゼントリカルボキシレート4.0g(15.8
mmol)及び無水テトラヒドロフラン40mlを窒素
気流下、撹拌混合し、7時間加熱還流を行った。反応終
了後放冷し、2N−塩酸30mlを加えた後、クロロホ
ルムで抽出し、次いで無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶
媒を留去し、粗生成物を得た。これをアセトンを用い再
結晶し、目的化合物の黄色結晶3.8g(収率52%)
を得た。 1H−NMR(CDCl3,δ):1.30(27H,
s), 6.41(3H,s), 8.49(3H,s
), 15.6(3H,bs)
3】合成例7 1,3,5−トリス(4,4−ジメチル−3−オキソペ
ンタノイル)ベンゼン〔式(1)において、R2 =C
(CH3)3、m=0、n=3のもの〕(1g)の合成
: 撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入
管を備えた100ml容三ッ口フラスコ中にて、60%
水素化ナトリウム2.29g(57mmol)、ピナコ
ロン5.24g(52mmol)、トリメチル1,3,
5−ベンゼントリカルボキシレート4.0g(15.8
mmol)及び無水テトラヒドロフラン40mlを窒素
気流下、撹拌混合し、7時間加熱還流を行った。反応終
了後放冷し、2N−塩酸30mlを加えた後、クロロホ
ルムで抽出し、次いで無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶
媒を留去し、粗生成物を得た。これをアセトンを用い再
結晶し、目的化合物の黄色結晶3.8g(収率52%)
を得た。 1H−NMR(CDCl3,δ):1.30(27H,
s), 6.41(3H,s), 8.49(3H,s
), 15.6(3H,bs)
【0044】合成例8
1,4−ビス(4−ヒドロキシ−4−メチル−3−オキ
ソペンタノイル)ベンゼン〔式(1)において、R2
=C(CH3)2OH、m=0、n=3のもの〕(1h
)の合成:撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒素
導入管を備えた200ml容三ッ口フラスコ中にて、3
−メチル−3−ヒドロキシ−2−ブタノン15g(14
7mmol)、P−トルエンスルホン酸ピリジニウム5
00mg(2.0mmol)及び無水メチレンクロリド
100ml 窒素気流下撹拌混合し、エチルビニルエー
テル11.7g(162mmol)をゆっくり滴下し、
室温で3時間撹拌した。反応終了後、5%炭酸水素ナト
リウム水溶液で洗浄した後、クロロホルムで抽出し、抽
出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し粗生
成物を得た。更に蒸留により3−(1−エトキシエトキ
シ)−3−メチル−ブタン−2−オン17.0g(b.
p.38〜40℃/1mmHg、収率66%)を得た。 こうして得られた3−(1−エトキシエトキシ)−3−
メチル−ブタン−2−オン9.9g(57mmol)を
撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入管を備
えた100ml容三ッ口フラスコ中にて、60%水素化
ナトリウム2.3g(57mmol)、テレフタル酸ジ
メチル5.0g(25mmol)及び無水テトラヒドロ
フラン50mlを窒素気流下撹拌混合し、7時間加熱還
流を行った。反応終了後放冷し、2N−塩酸30mlを
加えた後、クロロホルムで抽出し、次いで無水硫酸ナト
リウムで乾燥後留去する。これにメタノール30mlを
加え、2N−塩酸 10滴を滴下し、室温で30分間
撹拌する。析出してきた沈澱物を濾過して集め、これを
クロロホルム−アセトンから再結晶し、目的化合物の淡
黄色結晶4.1g(収率48%)を得た。
ソペンタノイル)ベンゼン〔式(1)において、R2
=C(CH3)2OH、m=0、n=3のもの〕(1h
)の合成:撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒素
導入管を備えた200ml容三ッ口フラスコ中にて、3
−メチル−3−ヒドロキシ−2−ブタノン15g(14
7mmol)、P−トルエンスルホン酸ピリジニウム5
00mg(2.0mmol)及び無水メチレンクロリド
100ml 窒素気流下撹拌混合し、エチルビニルエー
テル11.7g(162mmol)をゆっくり滴下し、
室温で3時間撹拌した。反応終了後、5%炭酸水素ナト
リウム水溶液で洗浄した後、クロロホルムで抽出し、抽
出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し粗生
成物を得た。更に蒸留により3−(1−エトキシエトキ
シ)−3−メチル−ブタン−2−オン17.0g(b.
p.38〜40℃/1mmHg、収率66%)を得た。 こうして得られた3−(1−エトキシエトキシ)−3−
メチル−ブタン−2−オン9.9g(57mmol)を
撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入管を備
えた100ml容三ッ口フラスコ中にて、60%水素化
ナトリウム2.3g(57mmol)、テレフタル酸ジ
メチル5.0g(25mmol)及び無水テトラヒドロ
フラン50mlを窒素気流下撹拌混合し、7時間加熱還
流を行った。反応終了後放冷し、2N−塩酸30mlを
加えた後、クロロホルムで抽出し、次いで無水硫酸ナト
リウムで乾燥後留去する。これにメタノール30mlを
加え、2N−塩酸 10滴を滴下し、室温で30分間
撹拌する。析出してきた沈澱物を濾過して集め、これを
クロロホルム−アセトンから再結晶し、目的化合物の淡
黄色結晶4.1g(収率48%)を得た。
【0045】融点:276.5〜277.5℃IR(ν
KBr,cm−1):3112,2980,1690,
1583,1425,1356,1173,1056,
825 1H−NMR(CDCl3,δ):1.52(12H,
s), 6.09(2H,s), 7.95(4H,s
), 14.8(2H,bs)
KBr,cm−1):3112,2980,1690,
1583,1425,1356,1173,1056,
825 1H−NMR(CDCl3,δ):1.52(12H,
s), 6.09(2H,s), 7.95(4H,s
), 14.8(2H,bs)
【0046】合成例9
1,4−ビス(4−メチル−3−オキソ−4−アザペン
タノイル)ベンゼン〔式(1)において、R2 =N(
CH3)2、m=0、n=2のもの〕(1i)の合成:
撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入管を備
えた200ml容三ッ口フラスコ中にて、60%水素化
ナトリウム5.0g(125mmol)、ジメチルアセ
トアミド10.6g(122mmol)、テレフタル酸
ジメチル10g(51mmol)及び無水テトラヒドロ
フラン100mlを窒素気流下、撹拌混合し、4時間加
熱還流を行った。反応終了後放冷し、2N−塩酸65m
lを加えた後クロロホルムで抽出し、次いで抽出液を無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し粗生成物を得
た。これをクロロホルム−エタノールを用い再結晶し、
目的化合物の淡黄色結晶10.0g(収率64%)を得
た。
タノイル)ベンゼン〔式(1)において、R2 =N(
CH3)2、m=0、n=2のもの〕(1i)の合成:
撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入管を備
えた200ml容三ッ口フラスコ中にて、60%水素化
ナトリウム5.0g(125mmol)、ジメチルアセ
トアミド10.6g(122mmol)、テレフタル酸
ジメチル10g(51mmol)及び無水テトラヒドロ
フラン100mlを窒素気流下、撹拌混合し、4時間加
熱還流を行った。反応終了後放冷し、2N−塩酸65m
lを加えた後クロロホルムで抽出し、次いで抽出液を無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し粗生成物を得
た。これをクロロホルム−エタノールを用い再結晶し、
目的化合物の淡黄色結晶10.0g(収率64%)を得
た。
【0047】融点:188.0〜189.0℃IR(ν
KBr,cm−1):2932,1620,1500,
1440,1360,1125,786,640 1H−NMR(CDCl3,δ):3.10(12H,
s), 4.13(0.4H,s), 5.88(1.
6H,s),7.82(3.2H,s), 7.75(
0.4H,d), 8.05(0.4H,d)
KBr,cm−1):2932,1620,1500,
1440,1360,1125,786,640 1H−NMR(CDCl3,δ):3.10(12H,
s), 4.13(0.4H,s), 5.88(1.
6H,s),7.82(3.2H,s), 7.75(
0.4H,d), 8.05(0.4H,d)
【004
8】合成例10 1−(4−メチル−3−オキソ−4−アザペンタノイル
)−4−(4,4−ジメチル−3−オキソペンタノイル
)ベンゼン〔式(1)において、R2 =N(CH3)
2 及びC(CH3)2、m=0、n=2のもの〕(1
j)の合成:撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒
素導入管を備えた100ml容三ッ口フラスコ中にて、
60%水素化ナトリウム5.0g(125mmol)、
ピナコロン5.1g(51mmol)、テレフタル酸ジ
メチル10g(51mmol)及び無水テトラヒドロフ
ラン30mlを窒素気流下、撹拌混合し、4時間加熱還
流を行った。次いでジメチルアセトアミド4.4g(5
1mmol)を滴下し、更に3時間加熱還流を行った。 反応終了後放冷し、2N−塩酸65mlを加えた後、ク
ロロホルムで抽出し、次いで無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を留去し粗生成物を得た。これをアセトンを用
い再結晶し、目的化合物の淡黄色結晶6.9g(収率4
3%)を得た。
8】合成例10 1−(4−メチル−3−オキソ−4−アザペンタノイル
)−4−(4,4−ジメチル−3−オキソペンタノイル
)ベンゼン〔式(1)において、R2 =N(CH3)
2 及びC(CH3)2、m=0、n=2のもの〕(1
j)の合成:撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び窒
素導入管を備えた100ml容三ッ口フラスコ中にて、
60%水素化ナトリウム5.0g(125mmol)、
ピナコロン5.1g(51mmol)、テレフタル酸ジ
メチル10g(51mmol)及び無水テトラヒドロフ
ラン30mlを窒素気流下、撹拌混合し、4時間加熱還
流を行った。次いでジメチルアセトアミド4.4g(5
1mmol)を滴下し、更に3時間加熱還流を行った。 反応終了後放冷し、2N−塩酸65mlを加えた後、ク
ロロホルムで抽出し、次いで無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を留去し粗生成物を得た。これをアセトンを用
い再結晶し、目的化合物の淡黄色結晶6.9g(収率4
3%)を得た。
【0049】融点:158.7〜160.1℃IR(ν
CHCl3,cm−1):3010,1610,150
3,1368,1290,1164,1116 1H−NMR(CDCl3,δ):1.29(9H,s
), 3.10(6H,bs), 4.15(0.3H
,s),5.88(0.7H,s), 6.35(1H
,s), 7.78−8.10(4H,m)
CHCl3,cm−1):3010,1610,150
3,1368,1290,1164,1116 1H−NMR(CDCl3,δ):1.29(9H,s
), 3.10(6H,bs), 4.15(0.3H
,s),5.88(0.7H,s), 6.35(1H
,s), 7.78−8.10(4H,m)
【0050
】合成例11 1−(3,4−ジメトキシフェニル)−4,4−ジメチ
ルペンタン−1,3−ジオン〔一般式(1)において、
R1 =OCH3、R2 =t−ブチル、m=2、n=
1のもの〕(1k)の合成:撹拌装置、滴下ロート、還
流冷却器及び窒素導入管を備えた200ml容三ッ口フ
ラコ中にて、60%水素化ナトリウム2.45g(61
mmol)、3,4−ジメトキシ安息香酸メチル10g
(51mmol)及び無水テトラヒドロフラン100m
lを窒素気流下、撹拌混合し、加熱還流下ピナコロン6
.1g(61mmol)を滴下した。7時間加熱還流後
放冷し、2N−塩酸30mlを加えた後、クロロホルム
で2回抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後
溶媒を留去し、粗生成物を得た。これにヘキサンを加え
、不溶物を濾過後、濾液を濃縮し再結晶を行い、目的化
合物の無色針状結晶8.9gを得た(収率65%)。
】合成例11 1−(3,4−ジメトキシフェニル)−4,4−ジメチ
ルペンタン−1,3−ジオン〔一般式(1)において、
R1 =OCH3、R2 =t−ブチル、m=2、n=
1のもの〕(1k)の合成:撹拌装置、滴下ロート、還
流冷却器及び窒素導入管を備えた200ml容三ッ口フ
ラコ中にて、60%水素化ナトリウム2.45g(61
mmol)、3,4−ジメトキシ安息香酸メチル10g
(51mmol)及び無水テトラヒドロフラン100m
lを窒素気流下、撹拌混合し、加熱還流下ピナコロン6
.1g(61mmol)を滴下した。7時間加熱還流後
放冷し、2N−塩酸30mlを加えた後、クロロホルム
で2回抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後
溶媒を留去し、粗生成物を得た。これにヘキサンを加え
、不溶物を濾過後、濾液を濃縮し再結晶を行い、目的化
合物の無色針状結晶8.9gを得た(収率65%)。
【0051】融点:52.3〜53.3℃IR(νKB
r,cm−1):1600,1520,1470,14
50,1370,1300,1270,1220,11
90,1130,890,790,7301H−NMR
(CDCl3,δ):1.26(9H,s,t−C4H
9),3.95(3H,s,OCH3),3.96(3
H,s,OCH3), 6.24(1H,s), 6.
90(1H,d,J=8.4Hz),7.49(1H,
s), 7.51(1H,d,J=8.4Hz)元素分
析 計算値(%)C;68.16, H;7.63実測値(
%)C;68.23, H;7.60
r,cm−1):1600,1520,1470,14
50,1370,1300,1270,1220,11
90,1130,890,790,7301H−NMR
(CDCl3,δ):1.26(9H,s,t−C4H
9),3.95(3H,s,OCH3),3.96(3
H,s,OCH3), 6.24(1H,s), 6.
90(1H,d,J=8.4Hz),7.49(1H,
s), 7.51(1H,d,J=8.4Hz)元素分
析 計算値(%)C;68.16, H;7.63実測値(
%)C;68.23, H;7.60
【0052】合成
例12 1−(3,4,5−トリメトキシフェニル)−4,4−
ジメチルペンタン−1,3−ジオンベンゼン〔一般式(
1)において、R1 =OCH3、R2 =t−ブチル
、m=3、n=1のもの〕(1l)の合成:撹拌装置、
滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入管を備えた200
ml容三ッ口フラスコ中にて、60%水素化ナトリウム
3.0g(75mmol)、3,4,5−トリメトキシ
安息香酸メチル10g(44.3mmol)及び無水テ
トラヒドロフラン80mlを窒素気流下撹拌混合し、加
熱還流下ピナコロン5.3g(53.2mmol)を滴
下した。5時間加熱還流後放冷し、2N−塩酸45ml
を加えた後、クロロホルムで2回抽出した。抽出液を無
水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去し、粗生成物を得
た。これにヘキサンを加え、不溶物を濾過後、濾液を濃
縮し再結晶を行い、目的化合物の無色針状結晶9.6g
を得た(収率74%)。
例12 1−(3,4,5−トリメトキシフェニル)−4,4−
ジメチルペンタン−1,3−ジオンベンゼン〔一般式(
1)において、R1 =OCH3、R2 =t−ブチル
、m=3、n=1のもの〕(1l)の合成:撹拌装置、
滴下ロート、還流冷却器及び窒素導入管を備えた200
ml容三ッ口フラスコ中にて、60%水素化ナトリウム
3.0g(75mmol)、3,4,5−トリメトキシ
安息香酸メチル10g(44.3mmol)及び無水テ
トラヒドロフラン80mlを窒素気流下撹拌混合し、加
熱還流下ピナコロン5.3g(53.2mmol)を滴
下した。5時間加熱還流後放冷し、2N−塩酸45ml
を加えた後、クロロホルムで2回抽出した。抽出液を無
水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去し、粗生成物を得
た。これにヘキサンを加え、不溶物を濾過後、濾液を濃
縮し再結晶を行い、目的化合物の無色針状結晶9.6g
を得た(収率74%)。
【0053】融点:67.3〜68.4℃IR(νKB
r,cm−1):2970,1590,1560,15
10,1470,1430,1340,1230,12
20,1180,1130,990, 8001H−N
MR(CDCl3,δ):1.26(9H,s,t−C
4H9), 3.91(3H,s,OCH3),3.9
3(6H,s,OCH3), 6.21(1H,s),
7.13(2H,s)元素分析 計算値(%)C;65.29, H;7.53実測値(
%)C;65.38, H;7.51
r,cm−1):2970,1590,1560,15
10,1470,1430,1340,1230,12
20,1180,1130,990, 8001H−N
MR(CDCl3,δ):1.26(9H,s,t−C
4H9), 3.91(3H,s,OCH3),3.9
3(6H,s,OCH3), 6.21(1H,s),
7.13(2H,s)元素分析 計算値(%)C;65.29, H;7.53実測値(
%)C;65.38, H;7.51
【0054】合成
例13 1− [5−(1,3−ジオキサインダニル)] −4
,4−ジメチルペンタン−1,3−ジオン〔一般式(1
)において
例13 1− [5−(1,3−ジオキサインダニル)] −4
,4−ジメチルペンタン−1,3−ジオン〔一般式(1
)において
【0055】
【化7】
【0056】、R2 =t−ブチル、n=1のもの〕(
1m)の合成:撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び
窒素導入管を備えた500ml容三ツ口フラスコ中にて
、60%水素化ナトリウム20.13g(0.50mo
l)、ピペロニル酸メチル44.70g(0.248m
ol)を入れ、200mlのテトラヒドロフランに分散
混合し、加熱還流した。ここに、ピナコロン25.0g
(0.25mol)を注意深く滴下し、3時間加熱攪拌
を続けた。放冷後、反応混合物を1N−塩酸100ml
に注ぎ、有機物をクロロホルムで2回抽出した。抽出物
を充分水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を留去後、ヘキサン−酢酸エチル(20:1)を展
開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーを行
い、ついで減圧蒸留(126−128℃/0.02mm
Hg)して目的物を黄色油状物として47.90g(収
率78%)を得た。この黄色油状物は終日室温に放置す
ると固体化した。この個体をヘキサンから再結晶し、無
色柱状晶を得た。
1m)の合成:撹拌装置、滴下ロート、還流冷却器及び
窒素導入管を備えた500ml容三ツ口フラスコ中にて
、60%水素化ナトリウム20.13g(0.50mo
l)、ピペロニル酸メチル44.70g(0.248m
ol)を入れ、200mlのテトラヒドロフランに分散
混合し、加熱還流した。ここに、ピナコロン25.0g
(0.25mol)を注意深く滴下し、3時間加熱攪拌
を続けた。放冷後、反応混合物を1N−塩酸100ml
に注ぎ、有機物をクロロホルムで2回抽出した。抽出物
を充分水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を留去後、ヘキサン−酢酸エチル(20:1)を展
開溶媒としてシリカゲルカラムクロマトグラフィーを行
い、ついで減圧蒸留(126−128℃/0.02mm
Hg)して目的物を黄色油状物として47.90g(収
率78%)を得た。この黄色油状物は終日室温に放置す
ると固体化した。この個体をヘキサンから再結晶し、無
色柱状晶を得た。
【0057】融点:48.7℃
IR(νKBr,cm−1):2970,2910,1
600,1510,1490,1460,1350,1
290,1260,1220,1130,1110,1
040,970,930,910,790 1H−NMR(CCl4,δ):1.29(9H,s,
t−Bu), 5.93(2H,s,−O−CH2−O
−), 6.01(1H,s),6.70(1H,d,
J=8Hz,Aromatic), 7.78−8.3
5(3H,m,Aromatic),14.83(2H
,bs)
600,1510,1490,1460,1350,1
290,1260,1220,1130,1110,1
040,970,930,910,790 1H−NMR(CCl4,δ):1.29(9H,s,
t−Bu), 5.93(2H,s,−O−CH2−O
−), 6.01(1H,s),6.70(1H,d,
J=8Hz,Aromatic), 7.78−8.3
5(3H,m,Aromatic),14.83(2H
,bs)
【0058】合成例14
平均粒径0.05μmの微粒子酸化チタンを10重量%
になるように水によく分散させ、SiO2換算で酸化チ
タンに対して2重量%に相当する10%ケイ酸ソーダ溶
液(SiO2/Na2Oモル比=0.5)を加えて充分
撹拌した後、Al2O3換算で酸化チタンに対して7.
5重量%に相当する10%硫酸アルミニウム溶液を徐々
に添加し、酸化チタンの表面にケイ酸の水和物及びアル
ミナの水和物を沈着させた。反応終了後、濾過・洗浄・
乾燥した後、ジェットミルで粉砕した。これをヘンシェ
ルミキサーに移し、十分に撹拌しつつメチルハイドロジ
ェンポリシロキサンを2重量%添加し、混合撹拌した後
、120℃で焼成処理を行い、処理粉体を得た。
になるように水によく分散させ、SiO2換算で酸化チ
タンに対して2重量%に相当する10%ケイ酸ソーダ溶
液(SiO2/Na2Oモル比=0.5)を加えて充分
撹拌した後、Al2O3換算で酸化チタンに対して7.
5重量%に相当する10%硫酸アルミニウム溶液を徐々
に添加し、酸化チタンの表面にケイ酸の水和物及びアル
ミナの水和物を沈着させた。反応終了後、濾過・洗浄・
乾燥した後、ジェットミルで粉砕した。これをヘンシェ
ルミキサーに移し、十分に撹拌しつつメチルハイドロジ
ェンポリシロキサンを2重量%添加し、混合撹拌した後
、120℃で焼成処理を行い、処理粉体を得た。
【0059】合成例15
硝酸亜鉛の2重量モル濃度溶液300g及び硫酸ナトリ
ウム20gをイオン交換水1l中に加え30℃に保持し
、強撹拌下2N−NaOH700gを投入した。投入直
後のpHは12.3であった。スラリーをそのまま30
分間熟成し、その後100℃で1時間加熱を行い、次い
で濾過洗浄を行った。得られた湿潤ケーキを110℃で
恒量になるまで静置乾燥させ、粉砕して白色粉末を得た
。
ウム20gをイオン交換水1l中に加え30℃に保持し
、強撹拌下2N−NaOH700gを投入した。投入直
後のpHは12.3であった。スラリーをそのまま30
分間熟成し、その後100℃で1時間加熱を行い、次い
で濾過洗浄を行った。得られた湿潤ケーキを110℃で
恒量になるまで静置乾燥させ、粉砕して白色粉末を得た
。
【0060】このものを粉末X線回折で常法による同定
を行い(理学電気製Rotallex PL200を用
い Cukα線を用いて測定) 、酸化亜鉛であること
を確認した。また、走査型電子顕微鏡(SEM)により
形状を観察したところ、第1図に示す如く凝固のない粒
子径1μm以下の独立鱗片状粒子を主成分とする粉体で
あることを確認した。
を行い(理学電気製Rotallex PL200を用
い Cukα線を用いて測定) 、酸化亜鉛であること
を確認した。また、走査型電子顕微鏡(SEM)により
形状を観察したところ、第1図に示す如く凝固のない粒
子径1μm以下の独立鱗片状粒子を主成分とする粉体で
あることを確認した。
【0061】この白色粉末0.5gを100gのアセト
ン中に超音波分散させ、スライドグラスを浸漬し乾燥さ
せて、ガラス基板上に薄膜を形成させ、この膜を小型ス
パチュラで掻き取り、その基板付着性を測定したところ
、同様の処理を行った市販の微細亜鉛率(不定形で球状
と仮定したときの平均粒径0.15μm、以下比較品と
いう)の皮膜にくらべて遙かに強固に付着していること
が判明した。
ン中に超音波分散させ、スライドグラスを浸漬し乾燥さ
せて、ガラス基板上に薄膜を形成させ、この膜を小型ス
パチュラで掻き取り、その基板付着性を測定したところ
、同様の処理を行った市販の微細亜鉛率(不定形で球状
と仮定したときの平均粒径0.15μm、以下比較品と
いう)の皮膜にくらべて遙かに強固に付着していること
が判明した。
【0062】又、ゆるめのかさ比容をJIS Z 25
04に準拠して測定したところ、12cc/gという値
を示した。これは、比較品に対する1〜2cc/gの値
に比べて驚異的である。
04に準拠して測定したところ、12cc/gという値
を示した。これは、比較品に対する1〜2cc/gの値
に比べて驚異的である。
【0063】実施例1
エタノールに合成例1で得た化合物(1a)5gを溶解
させ、ここに合成例14で得られた酸化チタン5gを分
散させながら添加・混合した。次いで、エタノールを留
去し、紫外線防御組成物を得た。この紫外線防御組成物
を3%の濃度となるよう流動パラフィンへ溶解、分散せ
しめ、紫外線防御効果を測定し、SPFで表した。比較
品として、化合物(1a)又は酸化チタンのみを流動パ
ラフィンに1.5%となるよう溶解又は分散せしめたも
のを用いた。なお、測定はモルモットを用いた。結果を
表1に示す。
させ、ここに合成例14で得られた酸化チタン5gを分
散させながら添加・混合した。次いで、エタノールを留
去し、紫外線防御組成物を得た。この紫外線防御組成物
を3%の濃度となるよう流動パラフィンへ溶解、分散せ
しめ、紫外線防御効果を測定し、SPFで表した。比較
品として、化合物(1a)又は酸化チタンのみを流動パ
ラフィンに1.5%となるよう溶解又は分散せしめたも
のを用いた。なお、測定はモルモットを用いた。結果を
表1に示す。
【0064】
【表1】
【0065】実施例2
実施例1の化合物(1a)を(1b)に代え、酸化チタ
ンを合成例15で得た酸化亜鉛に代え、その他は実施例
1と同様に紫外線防御組成物を調製した。更に、実施例
1と同様に紫外線防御効果も測定した。結果を表2に示
す。
ンを合成例15で得た酸化亜鉛に代え、その他は実施例
1と同様に紫外線防御組成物を調製した。更に、実施例
1と同様に紫外線防御効果も測定した。結果を表2に示
す。
【0066】
【表2】
【0067】実施例3
流動パラフィンに、合成例11で得た化合物(1k)を
2.5%、更に、合成例15の酸化亜鉛を2.5%とな
るように分散させながら加え、紫外線防御組成物を得た
。 この紫外線防御組成物を5%の濃度となるよう流
動パラフィンへ溶解、分散せしめ、紫外線防御効果を測
定しSPFで示した。比較品として、化合物(1k)又
は酸化チタンのみを流動パラフィンに2.5%となるよ
う溶解又は分散せしめたものを用いた。なお、測定はモ
ルモットを用いた。結果を表3に示す。
2.5%、更に、合成例15の酸化亜鉛を2.5%とな
るように分散させながら加え、紫外線防御組成物を得た
。 この紫外線防御組成物を5%の濃度となるよう流
動パラフィンへ溶解、分散せしめ、紫外線防御効果を測
定しSPFで示した。比較品として、化合物(1k)又
は酸化チタンのみを流動パラフィンに2.5%となるよ
う溶解又は分散せしめたものを用いた。なお、測定はモ
ルモットを用いた。結果を表3に示す。
【0068】
【表3】
【0069】実施例4 日焼け止めO/W型クリーム
実施例1で作成した紫外線防御組成物1を用いて日焼け
止めO/W型クリームを作成した。処方は表4に示す。 このクリームの紫外線防御効果を測定すると、SPF=
5であった。
実施例1で作成した紫外線防御組成物1を用いて日焼け
止めO/W型クリームを作成した。処方は表4に示す。 このクリームの紫外線防御効果を測定すると、SPF=
5であった。
【0070】
【表4】
【0071】実施例5 日焼け止めクリーム合成例1
2で得られた化合物(1l)と酸化亜鉛を溶媒処理しな
いで、そのまま表5に示す組成の化粧料に配合してW/
O型の日焼け止めクリームを得た。このクリームのSP
Fは6であった。
2で得られた化合物(1l)と酸化亜鉛を溶媒処理しな
いで、そのまま表5に示す組成の化粧料に配合してW/
O型の日焼け止めクリームを得た。このクリームのSP
Fは6であった。
【0072】
【表5】
Claims (2)
- 【請求項1】 次の一般式(1) (R1)mPh(COCH2COR2)n (1
)〔式中、R1 は水酸基、炭素数1〜24のアルコキ
シ基、炭素数2〜24のアルケニルオキシ基又は(ポリ
オキシアルキレン)オキシ基を示し、また2個のR1
でα−メチレンジオキシ基を形成してもよく、m個の基
−COCH2COR2 はそれぞれ同一でも異なってい
てもよく、R2 は炭素数2〜24の飽和もしくは不飽
和の炭化水素基、炭素数1〜24のヒドロキシアルキル
基、炭素数2〜24のアルコキシアルキル基、炭素数3
〜24のアルケニルオキシアルキル基又は基 【化1】 (ここで、R3 及びR4 はそれぞれ炭素数1〜24
の炭化水素基を示すか、又はR3 とR4 が一緒にな
って更に酸素原子を含んでいてもよい5〜7員環を形成
してもよい)を示し、Phはベンゼン核を示し、mは0
〜4の整数を示し、nは1〜4の整数を示す。ただし、
m+n≦6である〕で表わされるベンゾイルケトン誘導
体又はその塩、及び紫外線散乱剤を含有することを特徴
とする紫外線防御組成物。 - 【請求項2】 紫外線散乱剤が金属酸化物である請求
項1記載の紫外線防御組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7790091A JPH04312517A (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | 紫外線防御組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7790091A JPH04312517A (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | 紫外線防御組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04312517A true JPH04312517A (ja) | 1992-11-04 |
Family
ID=13646952
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7790091A Pending JPH04312517A (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | 紫外線防御組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04312517A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104716159A (zh) * | 2013-12-16 | 2015-06-17 | 三星显示有限公司 | 有机发光显示装置及其制造方法 |
-
1991
- 1991-04-10 JP JP7790091A patent/JPH04312517A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104716159A (zh) * | 2013-12-16 | 2015-06-17 | 三星显示有限公司 | 有机发光显示装置及其制造方法 |
CN104716159B (zh) * | 2013-12-16 | 2019-08-09 | 三星显示有限公司 | 有机发光显示装置及其制造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2675006B2 (ja) | 新規な日やけどめ剤 | |
CA1315201C (fr) | Compositions pharmaceutiques a base de composes benzamido aromatiques | |
JPH11116455A (ja) | 耐光性のuvフィルターとしての4,4−ジアリールブタジエンの使用、サンスクリーン含有の化粧品または製薬学的調剤、4,4−ジアリールブタジエンおよび製薬学的調剤 | |
HUE034912T2 (hu) | Benzoesav-észter vegyületek, készítmények, felhasználások és ezekhez kapcsolódó módszerek | |
JPH04134043A (ja) | 新規α―ベンジリデンケトン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料 | |
IE59768B1 (en) | Novel chromophores, sunscreen compositions and methods for preventing sunburn | |
JP2012528098A (ja) | ベンジリデンマロネート類 | |
JPH04134041A (ja) | p―キシリデンケトン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料 | |
US5146002A (en) | Aroyl ketone derivative, uv ray absorber comprising the same, and cosmetic composition containing the same | |
US3317382A (en) | Substituted 5-phenylsalicylic acid compounds for the prevention and treatment of erythema | |
JPH04290882A (ja) | γ−ピロン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及び化粧料 | |
JPH04312517A (ja) | 紫外線防御組成物 | |
EP0663206B1 (en) | Naphthalenmethylenemalonic diesters, and UV absorbers and cosmetic compositions containing the diesters | |
US5191121A (en) | Aroyl ketone derivative, UV ray absorber comprising the same, and cosmetic composition containing the same | |
JP3512934B2 (ja) | ベンザルマロネート誘導体変性オルガノ(ポリ)シロキサン並びにこれを含有する紫外線吸収剤、皮膚外用剤及び毛髪化粧料 | |
JP3447804B2 (ja) | 有機ケイ素基を有するベンザルマロネート誘導体及びその製造法並びにこれを含有する紫外線吸収剤及び化粧料 | |
JPH05124945A (ja) | 紫外線防御組成物 | |
JPH04312518A (ja) | 紫外線防御組成物 | |
JPH0635416B2 (ja) | ベンゾイルピナコロン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料 | |
JPH03188041A (ja) | 新規ベンゾイルケトン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及びこれを含有する化粧料 | |
JPH07330673A (ja) | パーフルオロアルキル基を有するベンザルマロネート誘導体、及びその製造法、並びにこれを含有する紫外線吸収剤及び化粧料 | |
JP2692473B2 (ja) | 有機ケイ素化合物及び化粧料 | |
US5371296A (en) | 4,4-dimethyl-1-phenylpentane-1,3-dione derivative and UV ray absorbent and cosmetic containing the same | |
JPH05105640A (ja) | 4−(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)−4′−置換ジベンゾイルメタン誘導体、その製造方法、その誘導体を含有する紫外線吸収剤、その誘導体の製造中間体、およびその中間体の製造方法 | |
JPH0469314A (ja) | 皮膚化粧料 |