JPH05105640A

JPH05105640A - ４−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−４′−置換ジベンゾイルメタン誘導体、その製造方法、その誘導体を含有する紫外線吸収剤、その誘導体の製造中間体、およびその中間体の製造方法

Info

Publication number: JPH05105640A
Application number: JP29648391A
Authority: JP
Inventors: Masao Konno; 雅夫今野; Yoshifumi Yuasa; 良文湯浅; Toyohiko Kobayashi; 東洋彦小林
Original assignee: Takasago International Corp; Takasago Perfumery Industry Co
Current assignee: Takasago International Corp
Priority date: 1991-10-16
Filing date: 1991-10-16
Publication date: 1993-04-27
Anticipated expiration: 2013-04-08
Also published as: JP2736945B2

Abstract

(57)【要約】【構成】４−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）
−４′−置換ジベンゾイルメタン誘導体、前記誘導体
を新規製造中間体である４−［（２，２−ジメチル−
１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］ジベンゾ
イルメタン誘導体の酸性加水分解により製造する方法、
前記誘導体を含有する紫外線吸収剤、前記製造中間
体、および４位が（２，２−ジメチル−１，３−ジオ
キソラン−４−イル）メトキシ基で置換された、新規ア
セトフェノンあるいは安息香酸エステル誘導体を用いて
クライゼン縮合により前記製造中間体を製造する方法。【効果】前記置換ジベンゾイルメタン誘導体は、油脂
性基剤と水溶性基剤に溶解性を示すとともに、ＵＶ−Ａ
領域の紫外線吸収に優れ、これを含有する紫外線吸収剤
は、色素沈着等の皮膚障害を好適に防止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規な４−（２，３−
ジヒドロキシプロポキシ）−４′−置換ジベンゾイルメ
タン誘導体、その製造方法、その誘導体を含有する紫外
線吸収剤、その誘導体の製造中間体である新規な４−
［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イ
ル）メトキシ］−４′−置換ジベンゾイルメタン誘導
体、およびその製造中間体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、紫外線吸収剤は多くの技術分
野に利用されており、例えば化粧品の分野においては、
皮膚の保護を目的として種々の化粧品に配合されてい
る。紫外線は、その波長領域によって、ＵＶ−Ａ（３２
０〜４００ｎｍ）、ＵＶ−Ｂ（２８０〜３２０ｎｍ）お
よびＵＶ−Ｃ（２８０ｎｍ以下）に分けられるが、この
中でも特にＵＶ−Ｂ領域の紫外線が急性の紅斑形成等の
皮膚障害を生じさせることが知られており、従来の紫外
線吸収剤の開発は殆どがＵＶ−Ｂ領域の紫外線吸収剤に
向けられていた。しかし、最近になって、ＵＶ−Ａ領域
の紫外線が、シミ、ソバカス等の色素沈着や上記ＵＶ−
Ｂ領域の紫外線の皮膚障害を増強する作用があることが
判明し、このＵＶ−Ａ領域の紫外線を吸収する紫外線吸
収剤の開発も重要視されるようになってきた。

【０００３】ＵＶ−Ａ領域の紫外線を吸収する物質とし
ては、例えば、種々のジベンゾイルメタン誘導体が知ら
れており、具体的には、二つのベンゼン環にアルコキシ
基が置換したもの（特開昭51-61641号公報）、アルキル
基が置換したもの（特開昭52-46056号公報）、特定のア
ルキル基とアルコキシ基が置換した４−（１，１−ジメ
チルエチル）−４′−メトキシジベンゾイルメタン（特
公昭61-16258号公報）等が知られている。しかし、これ
らはいずれも疎水性であり、これらを化粧品に配合する
場合には、油脂性基剤には容易に混合できるが、水溶性
基剤には混合が困難であるという問題点を有していた。
そこで、これらのジベンゾイルメタン誘導体の水溶性を
増大させるために、第４級アンモニウム基を導入したも
の（特開昭57-59840号公報）、アルコキシカルボニル基
を導入したもの（特開昭60-190708 号公報）等が開発さ
れている。また、ベンゾフェノン誘導体は、ＵＶ−Ａお
よびＵＶ−Ｂ領域の紫外線を吸収する物質として知られ
ているが、二つのベンゼン環の各々に水酸基とグリセリ
ルエーテル基（グリセリルオキシ基）またはポリグリセ
リルエーテル基を導入したものが水溶性紫外線吸収剤と
して知られている（特開昭58-110535 号公報）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来の疎水性紫外線吸
収剤の有する前述の問題点を解決するために、水溶性の
性質を有するものも開発されるようになってきてはいる
が、ＵＶ−Ａ領域については紫外線吸収効果の面で満足
のいくものは少なく、実際には、前記した疎水性の４−
（１，１−ジメチルエチル）−４′−メトキシジベンゾ
イルメタン等が使用されているにすぎない。本発明の課
題は、油脂性基剤に対する溶解性だけでなく、水溶性基
剤に対する溶解性も備えた、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収
効果に優れた紫外線吸収剤を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するために鋭意研究した結果、４位にグリセリル
オキシ基を導入した新規なジベンゾイルメタン誘導体を
合成し、このジベンゾイルメタン誘導体が、ＵＶ−Ａ領
域の紫外線吸収効果を有し、かつ油脂性基剤および水溶
性基剤に対する溶解性に優れており、化粧品用のＵＶ−
Ａ領域の紫外線吸収剤として極めて有用であることを見
いだし本発明を完成した。すなわち、本発明は、一般式（１）

【０００６】

【化９】

【０００７】（式中、Ｒ¹は低級アルキル基、または低
級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルコキシ
基を表わす。）で表わされる４−（２，３−ジヒドロキ
シプロポキシ）−４′−置換ジベンゾイルメタン誘導体
（以下、化合物（１）と略記する。）、一般式（２）

【０００８】

【化１０】

【０００９】（式中、Ｒ¹は前記と同じ意味を表わ
す。）で表わされる４−［（２，２−ジメチル−１，３
−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］−４′−置換ジ
ベンゾイルメタン誘導体（以下、化合物（２）と略記す
る。）を、酸性条件で加水分解反応に付すことを特徴と
する化合物（１）の製造方法、化合物（１）の一種以上を含有することを特徴とす
る紫外線吸収剤、前記化合物（２）、および一般式（３）

【００１０】

【化１１】

【００１１】（式中、Ｒ²はアセチル基または低級アル
コキシカルボニル基を表わす。）で表わされる化合物
（以下、化合物（３）と略記する。）と、一般式（４）

【００１２】

【化１２】

【００１３】（式中、Ｒ¹は前記と同じ意味を表わし、
Ｒ³は前記一般式（３）のＲ²がアセチル基の場合には
低級アルコキシカルボニル基を表わし、Ｒ²が低級アル
コキシカルボニル基の場合にはアセチル基を表わす。）
で表わされる化合物（以下、化合物（４）と略記す
る。）を、クライゼン縮合反応に付すことを特徴とする
化合物（２）の製造方法、を提供するものである。な
お、本明細書中で、低級アルキル基、低級アルコキシ基
および低級アルコキシカルボニル基中の「低級」とは、
炭素数１〜４の直鎖あるいは分岐鎖を意味する。

【００１４】以下に本発明を詳細に説明する。本発明の
化合物（１）は、種々の方法で合成できるが、下記反応
式に従うことにより有利に合成することができる。

【化１３】（式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は前記と同じ意味を表わ
す。）以下に上記反応式の順序に従って説明をする。

【００１５】［化合物（３）の合成］一般式（５）で表
わされる市販品の４−ヒドロキシアセトフェノン［一般
式（５）においてＲ²がアセチル基の場合］または４−
ヒドロキシ安息香酸エステル［一般式（５）においてＲ
²が低級アルコキシカルボニル基の場合］（以下、化合
物（５）と略記する。）を原料とし、この化合物（５）
に対し約0.5 〜1.0 倍モルの炭酸カリウムまたは水酸化
ナトリウム等の塩基の存在下、化合物（５）に対し約1.
0 〜3.0 倍モルのエピクロロヒドリンを加え、加熱下で
約１〜３時間反応させ、反応後溶媒を留去して一般式
（６）で表わされるエポキシ化合物（以下、化合物
（６）と略記する。）を得る。ここで用いられる反応溶
媒としては、例えば、メタノール、エタノール、アセト
ン等を挙げることができるが、特にエタノールが好まし
く用いられる。反応温度は選ばれた反応溶媒の沸点付近
の温度とする。

【００１６】得られた化合物（６）を酸で処理してエポ
キシ環を開環し、中和後溶媒を留去して一般式（７）で
表わされるジオール体を得る。ここで行なう酸処理とし
ては、３％硫酸水溶液とアセトンで処理するのが好まし
く、反応温度は約２０〜６０℃とし、反応時間は約２〜
６時間とするのが好ましい。次いで、濃硫酸を触媒とし
てアセトンと反応させ、中和後溶媒を留去して化合物
（３）を得る。反応温度は、約２０〜３０℃とし、反応
時間は約５〜１６時間とするのが好ましい。なお、化合
物（３）は、本発明者等によって初めて合成された新規
化合物である。

【００１７】［化合物（２）の合成］得られた化合物
（３）と約等モルの化合物（４）を、特公昭61-16258号
公報記載の方法に準じて、強塩基の存在下でクライゼン
縮合反応に付して化合物（２）を得る。ここで用いる強
塩基としては、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素
化物、ナトリウムアミド等のアルカリ金属アミド、ナト
リウムメチラート等の金属アルコラート等を挙げること
ができるが、好ましくは、化合物（３）に対し約1.0 〜
3.0 倍モルのナトリウムアミドの存在下で行なう。ここ
で用いる反応溶媒としては、トルエン、キシレン等の炭
化水素類；テトラヒドロフラン等のエーテル類等、不活
性溶媒を挙げることができるが、特にトルエンが好まし
く用いられる。反応温度は、用いる強塩基および溶媒に
よって異なるが、ナトリウムアミドを用いる場合は約２
０〜４０℃とし、反応時間は約１０〜５０時間とするの
が好ましい。反応後、希塩酸等による酸処理を行ない強
塩基を除き、エタノール、酢酸エチル等からの再結晶等
の手段によって精製する。

【００１８】なお、化合物（４）の置換基Ｒ¹を選択す
ることによって、種々の置換基Ｒ¹を有する新規化合物
（２）、さらには種々の置換基Ｒ¹を有する新規化合物
（１）を得ることができる。この化合物（４）としては
市販品もしくは市販品を適宜エステル化またはエーテル
化したものを用いることができる。

【００１９】すなわち、化合物（４）の置換基Ｒ¹が
低級アルキル基の場合は、(i) Ｒ³が低級アルコキシカ
ルボニル基の時は市販品の４−アルキル安息香酸エステ
ル、もしくは市販品の４−アルキル安息香酸をエステル
化することによって容易に合成されるものを用いること
ができ、(ii)Ｒ³がアセチル基の時は市販品の４−アル
キルアセトフェノンを用いることができる。また、Ｒ
¹が低級アルコキシ基または低級アルコキシ基で置換さ
れた低級アルコキシ基の場合は、(i) Ｒ³が低級アルコ
キシカルボニル基の時は市販品の４−アルコキシ安息香
酸エステル、もしくは、市販品の４−ヒドロキシ安息香
酸エステルをハロゲン化アルキルまたはアルコキシハロ
ゲン化アルキルでエーテル化することによって容易に合
成されるものを用いることができる。同様に、(ii)Ｒ³
がアセチル基の時は市販品の４−アルコキシアセトフェ
ノン、もしくは市販品の４−ヒドロキシアセトフェノン
をエーテル化することによって容易に合成されるものを
用いることができる。

【００２０】例えば、Ｒ¹が２−エトキシエトキシ基、
Ｒ³がエトキシカルボニル基である４−（２−エトキシ
エトキシ）安息香酸エチルの場合は、市販品の４−ヒド
ロキシ安息香酸エチルを、エタノール中で炭酸カリウム
およびヨウ化カリウムの存在下１−クロロ−２−エトキ
シエタンと還流することによって得ることができる。化
合物（４）の具体例としては、４−メチル安息香酸メチ
ル、４−エチル安息香酸メチル、４−プロピル安息香酸
メチル、４−（１，１−ジメチルエチル）安息香酸メチ
ル、４−エトキシ安息香酸エチル、４−プロポキシ安息
香酸エチル、４−（２−エトキシエトキシ）安息香酸エ
チル、４−メチルアセトフェノン、４−メトキシアセト
フェノン、４−エトキシアセトフェノン、４−ブトキシ
アセトフェノン等を挙げることができる。

【００２１】［化合物（１）の合成］前記の方法で得ら
れた化合物（２）を酸性条件で加水分解し、洗浄、再結
晶等の手段により精製して目的とする化合物（１）を得
ることができる。酸性条件とするためには、例えば、塩
酸、硫酸等の酸を加え、撹拌反応する。ここで用いる反
応溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコー
ル類；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類
または酢酸エチル等を挙げることができるが、特にジオ
キサンが好ましく用いられる。反応温度は約２０〜３０
℃とし、反応時間は約５〜２０時間とするのが好まし
い。

【００２２】［紫外線吸収剤］こうして得られる化合物
（１）は、後記実施例中に示すように、ＵＶ−Ａ領域の
紫外線吸収効果および相溶性（油脂性基剤および水溶性
基剤の両者に対する溶解性）の両面に優れ、化粧品用の
ＵＶ−Ａ領域（３２０〜４００ｎｍ）の紫外線吸収剤と
して極めて有用に用いることができる。

【００２３】すなわち、本発明の紫外線吸収剤は、化合
物（１）を適当な基剤と混和することにより製造される
が、化合物（１）は相溶性に優れるため、公知の化粧品
用基剤であり化合物（１）に対して不活性なものであれ
ば特に制限されることなく、固体、液体、乳剤、泡状
体、ゲル等のいずれの基剤をも使用することができる。
具体例としては、水；エタノール、セチルアルコール、
ステアリルアルコール等のアルコール類；グリセリン、
プロピレングリコール等の多価アルコール類；パルミチ
ン酸、ステアリン酸、オレイン酸等の脂肪酸類；ミリス
チン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピル、モノ
ステアリン酸プロピレングリコール、トリカプリン酸グ
リセリン、トリミリスチン酸グリセリン等のエステル
類；ヒマシ油、オリーブ油、ラノリン、スクワラン、鯨
ろう等の植物性または動物性油脂類；パラフィン、流動
パラフィン、シリコンオイル等の鉱物油類；エアゾール
噴射剤として用いられる低沸点炭化水素またはハロゲン
化炭化水素類；澱粉、タルク等を挙げることができる。

【００２４】また、本発明の紫外線吸収剤は、化合物
（１）の紫外線吸収効果を損なわない範囲において、通
常用いられている他の成分、例えば、防腐剤、酸化防止
剤、香料、着色料、界面活性剤等を適宜添加することが
できる。さらに、本発明の紫外線吸収剤は、ＵＶ−Ｂ領
域（２８０〜３２０ｎｍ）の紫外線吸収剤を配合するこ
とにより、より一層有効な紫外線吸収剤とすることがで
きる。ＵＶ−Ｂ領域の紫外線吸収剤としては、例えば、
ｐ−アミノ安息香酸エステル類、ｐ−メトキシ桂皮酸エ
ステル類、２−フェニルベンズイミダゾール誘導体、４
−フェニルベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、
サリチル酸フェニルエステル等のサリチル酸誘導体、７
−ヒドロキシクマリン等のクマリン誘導体、没食子酸誘
導体等を挙げることができる。

【００２５】本発明の紫外線吸収剤は、これらの基剤お
よびその他の添加物を配合して、クリーム、化粧水、乳
液、軟膏、ゲル、スプレー、スティック、白粉、ファン
デーション等の任意の剤形とすることができる。これら
の剤形中の化合物（１）の使用濃度は、基剤の種類、他
の紫外線吸収剤との併用の有無、使用目的等により適宜
変えることができるが、通常は0.1 〜１０重量％、好ま
しくは１〜５重量％とするのが良い。

【００２６】

【実施例】以下、実施例および試験例を挙げて本発明を
具体的に説明するが、本発明はこれらの例により制限さ
れるものではない。なお、以下の測定には次の機器を用
いた。融点：ＭＰ−Ｓ３型（柳本商事株式会社製）；質量スペクトル（ＭＳ）：Ｍ−８０Ｂ質量分析計（イオ
ン化電圧：２０ｅＶ）（株式会社日立製作所製）；核磁気共鳴スペクトル：¹ Ｈ−ＮＭＲ：ＡＭ−４００型（４００ＭＨｚ）（ブル
ッカー社製）内部標準物質：テトラメチルシラン；¹³ Ｃ−ＮＭＲ：ＡＭ−４００型（４００ＭＨｚ）（ブル
ッカー社製）内部標準物質：テトラメチルシラン；赤外吸収スペクトル（ＩＲ）：ＩＲ−８１０型（日本分
光工業株式会社製）；紫外吸収スペクトル（ＵＶ）：ＵＶ−２６０型（株式会
社島津製作所製）。

【００２７】実施例１（１）４−（オキソラニルメトキシ）アセトフェノン
［Ｒ²がアセチル基である化合物（６）］の製造

【化１４】

【００２８】４−ヒドロキシアセトフェノン［東京化成
工業株式会社製］１００ｇ（0.735mol）、炭酸カリウム
53.5ｇ（0.386mol）、エピクロロヒドリン１３６ｇ（1.
47mol ）およびエタノール５００ｍｌを、温度計、コン
デンサーおよび撹拌機を備えた反応器に入れ、８０℃で
２時間撹拌した。エタノールを留去した後、トルエン５
００ｍｌを加えて水洗し、濃縮後減圧蒸留して無色油状
の４−（オキソラニルメトキシ）アセトフェノンを１０
１ｇ（収率７２％）得た。

【００２９】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。沸点：１５７℃／0.9 ｍｍＨｇ；ＭＳ(m／e)：１９２（Ｍ⁺），１７７，１６１，１４
７，１２１，９３，５７；¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：2.56(3H,s), 2.77(1H,
dd,J=2.7Hz,4.9Hz), 2.93(1H,dd,J=4.7Hz,5.6Hz), 3.37
(1H,m), 4.00(1H,dd,J=5.7Hz,11.1Hz), 4.32(1H,dd,J=
2.9Hz,11.0Hz), 6.95(2H,m), 7.94(2H,m)；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：26.32, 44.55, 49.88,
68.85, 114.25, 130.59, 130.63, 130.76, 130.90, 16
2.29, 196.74。

【００３０】（２）４−［（２，２−ジメチル−１，３
−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］アセトフェノン
［Ｒ²がアセチル基である化合物（３）］の製造

【化１５】

【００３１】上記で得た４−（オキソラニルメトキシ）
アセトフェノン１０１ｇ（0.521mol）、アセトン９００
ｍｌおよび３％硫酸水溶液２１２ｇを、温度計、コンデ
ンサーおよび撹拌機を備えた反応器に入れ、６０℃で４
時間撹拌した。反応後、炭酸ナトリウムで中和し、食塩
を飽和させ、有機層を分取してアセトンを留去した後、
トルエンを加え、減圧下で共沸蒸留を行ない水を留去し
た。析出した塩をろ過し、ろ液にアセトン１リットルお
よび濃硫酸（９８％硫酸水溶液）２ｇを加え、室温で一
晩撹拌した。反応後、無水炭酸ナトリウムで中和し、ろ
過した後減圧濃縮し、トルエン５００ｍｌを加えて水洗
した。濃縮後、イソプロピルエーテル３００ｍｌを加え
て結晶を析出させ、白色結晶の４−［（２，２−ジメチ
ル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］アセ
トフェノンを９６ｇ（収率７３％）得た。

【００３２】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。融点：４６〜４８℃；ＭＳ(m／e)：２５０（Ｍ⁺），２３５，１９３，１７
５，１３３，１０１，７３，４３；¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.41(3H,s), 1.47(3H,
s), 2.55(3H,s), 3.91(1H,dd,J=5.9Hz,8.7Hz), 4.02(1
H,dd,J=5.7Hz,9.6Hz), 4.11(1H,dd,J=5.4Hz,9.6Hz), 4.
18(1H,dd,J=6.4Hz,8.6Hz), 4.50(1H,m,J=6.1Hz), 6.96
(2H,m), 7.94(2H,m)；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：25.29, 26.31, 26.75,
66.64, 68.84, 73.80, 109.88, 114.21, 130.51, 130.
54, 130.58,130.70, 162.38, 196.64。

【００３３】（３）４−［（２，２−ジメチル−１，３
−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］−４′−（１，
１−ジメチルエチル）ジベンゾイルメタン［Ｒ¹が１，
１−ジメチルエチル基である化合物（２）］の製造

【化１６】

【００３４】温度計、コンデンサーおよび滴下漏斗を備
えた反応器中、窒素気流下で、ナトリウムアミド7.8 ｇ
（0.2mol）をトルエン５０ｍｌに懸濁させ、上記で得た
４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４
−イル）メトキシ］アセトフェノン２５ｇ（0.1mol）を
トルエン２０ｍｌに溶解した溶液を１０分間かけて滴下
した。１時間撹拌後、４−（１，１−ジメチルエチル）
安息香酸メチル［東京化成工業株式会社製の４−（１，
１−ジメチルエチル）安息香酸をメチルエステル化して
得たもの］19.2ｇ（0.1mol）をトルエン６０ｍｌに溶解
した溶液を一度に加え、室温で４８時間撹拌した。反応
後、トルエン２００ｍｌ、希塩酸１リットルを加えた
後、有機層を分離し、水洗後濃縮した。残渣をエタノー
ルより再結晶し、淡黄色結晶の４−［（２，２−ジメチ
ル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］−
４′−（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾイルメタン
を17.6ｇ（収率４３％）得た。

【００３５】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。融点：１０２〜１０４℃；ＭＳ(m／e)：４１０（Ｍ⁺），３３５，３０９，２７
７，２３５，２０３，１６１，１０１，５７；¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.36(9H,s), 1.41(3H,
s), 1.47(3H,s), 2.16(1H,s), 3.92(1H,dd,J=5.8Hz,8.4
Hz), 4.03(1H,dd,J=5.7Hz,9.5Hz), 4.12(1H,dd,J=5.5H
z,9.5Hz), 4.19(1H,dd,J=6.5Hz,8.6Hz), 4.52(1H,m),
6.77(1H,s), 6.99(2H,m), 7.50(2H,m), 7.90(2H,m), 7.
96(2H,m)；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：25.34, 26.79, 31.17,
35.06, 66.71, 68.90, 73.76, 92.17, 109.92, 114.5
0, 125.62, 126.92, 129.26, 132.75, 156.03,162.04,
184.40, 185.61。

【００３６】実施例２４−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−４′−
（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾイルメタン［Ｒ¹
が１，１−ジメチルエチル基である化合物（１）：以
下、化合物（１−２）と略記する。］の製造

【化１７】

【００３７】実施例１で得た４−［（２，２−ジメチル
−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］−４′
−（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾイルメタン１０
ｇ（24.4mmol）を、温度計および撹拌器を備えた反応器
に入れ、ジオキサン８０ｍｌに溶解させ、１Ｎ塩酸水溶
液２０ｍｌを加え、室温で一晩撹拌した。反応後、無水
炭酸水素ナトリウムで中和し、減圧下溶媒を留去して、
酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。濃縮後、エタノールより再結晶
し、淡黄色結晶の４−（２，３−ジヒドロキシプロポキ
シ）−４′−（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾイル
メタンを8.0 ｇ（収率８９％）得た。

【００３８】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。融点：１２４〜１２６℃；ＭＳ(m／e)：３７０（Ｍ⁺），２９５，２３９，１９
５，１６１，１２１，９４，５７；¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.36(9H,s), 1.65(1H,
broad s), 2.10(1H,broad s), 2.65(1H,broad s), 3.79
(1H,dd,J=4.7Hz,11.1Hz), 3.87(1H,m), 4.13(3H,m), 6.
77(1H,s), 6.99(2H,d,J=8.8Hz), 7.50(2H,d,J=8.5Hz),
7.91(2H,d,J=8.4Hz),7.97(2H,d,J=8.7Hz)；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：31.03, 31.13, 35.07,
63.49, 69.27, 70.25, 92.19, 114.49, 125.63, 125.7
3, 126.93, 128.92, 129.27, 132.71, 156.06,161.89,
184.44, 185.54 ；ＩＲ（νｍａｘ，ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：1600。

【００３９】実施例３（１）４−（オキソラニルメトキシ）安息香酸エチル
［Ｒ²がエトキシカルボニル基である化合物（６）］の
製造

【化１８】

【００４０】４−ヒドロキシ安息香酸エチル［ナカライ
テスク株式会社製］１００ｇ（0.602mol）、炭酸カリウ
ム43.6ｇ（0.316mol）、エピクロロヒドリン１１１ｇ
（1.20mol ）およびエタノール５００ｍｌを、温度計、
コンデンサーおよび撹拌機を備えた反応器に入れ、８０
℃で２時間撹拌した。エタノールを留去した後、トルエ
ン５００ｍｌを加えて水洗し、濃縮後減圧蒸留して無色
油状の４−（オキソラニルメトキシ）安息香酸エチルを
９４ｇ（収率７０％）得た。

【００４１】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。沸点：１４３℃／0.3 ｍｍＨｇ；融点：４７〜４９℃；ＭＳ(m／e)：２２２（Ｍ⁺），１７７，１３８，１２
１，９３，５７，２９；¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.37(3H,t,J=7.1Hz),
2.75(1H,dd,J=2.6Hz,4.9Hz), 2.90(1H,dd,J=4.2Hz,4.9H
z), 3.35(1H,m), 3.96(1H,dd,J=5.8Hz,11.0Hz), 4.29(1
H,dd,J=2.9Hz,11.0Hz), 4.34(2H,q,J=7.1Hz), 6.93(2H,
m), 7.99(2H,m)；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：14.33, 44.49, 49.85,
60.63, 68.81, 114.12, 123.44, 131.51, 162.06, 16
6.18 。

【００４２】（２）４−［（２，２−ジメチル−１，３
−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］安息香酸エチル
［Ｒ²がエトキシカルボニル基である化合物（３）］の
製造

【化１９】

【００４３】上記で得た４−（オキソラニルメトキシ）
安息香酸エチル７３ｇ（0.33mol ）を実施例１の（２）
と同様の試薬および操作で処理し、白色結晶の４−
［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イ
ル）メトキシ］安息香酸エチルを６５ｇ（収率７０％）
得た。

【００４４】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。融点：６０〜６２℃；ＭＳ(m／e)：２８０（Ｍ⁺），２６５，２３５，２０
５，１２１，１０１，５９；¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.38(3H,t,J=7.1Hz),
1.41(3H,s), 1.47(3H,s), 3.91(1H,dd,J=5.8Hz,8.6Hz),
4.00(1H,dd,J=5.8Hz,9.6Hz), 4.10(1H,dd,J=5.3Hz,9.6
Hz), 4.18(1H,dd,J=2.1Hz,8.6Hz), 4.35(2H,q,J=7.1H
z), 4.49(1H,m),6.94(2H,m), 7.99(2H,m)；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：14.34, 25.32, 26.75,
60.66, 66.70, 68.83, 73.84, 109.88, 114.09, 123.4
2, 131.53, 131.58, 162.18, 166.28 。

【００４５】（３）４−［（２，２−ジメチル−１，３
−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］−４′−メトキ
シジベンゾイルメタン［Ｒ¹がメトキシ基である化合物
（２）］の製造

【化２０】

【００４６】ナトリウムアミド7.8 ｇ（0.2mol）、４−
メトキシアセトフェノン［アルドリッチ社製］１５ｇ
（0.1mol）および上記で得た４−［（２，２−ジメチル
−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］安息香
酸エチル２８ｇ（0.1mol）を実施例１の（３）と同様の
試薬および操作で処理し、淡黄色結晶の４−［（２，２
−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキ
シ］−４′−メトキシジベンゾイルメタンを18.4ｇ（収
率４８％）得た。

【００４７】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。融点：１１９〜１２１℃；ＭＳ(m／e)：３８４（Ｍ⁺），３０９，２７０，２３
５，１７７，１３５，１０１，７３，４３；¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.41(3H,s), 1.47(3H,
s), 3.88(3H,s), 3.92(1H,dd,J=5.8Hz,8.5Hz), 4.02(1
H,dd,J=5.7Hz,9.5Hz), 4.12(1H,m), 4.19(1H,dd,J=6.5H
z,8.6Hz), 4.50(1H,m), 6.70(1H,s), 6.98(2H,m), 7.94
(2H,m) ；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：25.36, 26.81, 55.49,
66.73, 68.92, 73.88, 91.56, 109.94, 113.93, 113.9
7, 114.44, 114.50, 128.20, 128.66, 129.08,129.12,
131.36, 161.94, 163.08, 184.42, 184.76 。

【００４８】実施例４４−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−４′−メト
キシジベンゾイルメタン［Ｒ¹がメトキシ基である化合
物（１）：以下、化合物（１−４）と略記する。］の製
造

【００４９】

【化２１】実施例３で得た４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジ
オキソラン−４−イル）メトキシ］−４′−メトキシジ
ベンゾイルメタン9.4 ｇ（24.5mmol）を、実施例２と同
様の試薬および操作で処理し、淡黄色結晶の４−（２，
３−ジヒドロキシプロポキシ）−４′−メトキシジベン
ゾイルメタンを7.6 ｇ（収率９０％）得た。

【００５０】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。融点：１１８〜１２０℃；ＭＳ(m／e)：３４４（Ｍ⁺），３１２，２７０，２５
６，２１０，１９５，１６６，１４９，１３５；¹ Ｈ−ＮＭＲ［（ＣＤ₃）₂ＳＯ］δ：3.49(2H,m), 3.
85(1H,m), 3.87(3H,s), 4.00(1H,dd,J=6.2Hz,10.1Hz),
4.13(1H,dd,J=4.2Hz,10.1Hz), 4.58(1H,m), 4.88(1H,d,
J=5.2Hz), 7.03〜7.15(5H,m), 7.93〜8.15(4H,m)；¹³ Ｃ−ＮＭＲ［（ＣＤ₃）₂ＳＯ］δ：55.36, 62.50,
69.69, 69.74, 69.87,91.36, 113.81, 113.95, 114.31,
114.46, 127.13, 129.19, 162.44, 162.83,183.98；ＩＲ（νｍａｘ，ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：3300, 1600, 126
0, 780 。

【００５１】実施例５４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４
−イル）メトキシ］−４′−メチルジベンゾイルメタン
［Ｒ¹がメチル基である化合物（２）］の製造

【化２２】

【００５２】ナトリウムアミド7.8 ｇ（0.2mol）、４−
メチルアセトフェノン［東京化成工業株式会社製］13.4
ｇ（0.1mol）および実施例３の（２）で得た４−
［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イ
ル）メトキシ］安息香酸エチル２８ｇ（0.1mol）を実施
例１の（３）と同様の試薬および操作で処理し、淡黄色
結晶の４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラ
ン−４−イル）メトキシ］−４′−メチルジベンゾイル
メタンを16.6ｇ（収率４５％）得た。

【００５３】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。融点：８８〜９０℃；ＭＳ(m／e)：３６８（Ｍ⁺），２９３，２６７，２３
５，１６１，１０１，５７；¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.41(3H,s), 1.47(3H,
s), 2.42(3H,s), 3.92(1H,dd,J=5.8Hz,8.5Hz), 4.02(1
H,dd,J=5.7Hz,9.6Hz), 4.12(1H,dd,J=5.5Hz,9.6Hz), 4.
18(1H,dd,J=6.5Hz,8.5 Hz), 4.51(1H,m), 6.76(1H,s),
6.97(2H,m), 7.26(2H,m), 7.87(2H,m), 7.96(2H,m) ；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：21.63, 25.35, 26.80,
66.72, 68.92, 73.87, 92.06, 109.93, 114.51, 127.0
9, 128.72, 129.22, 127.37, 129.44, 132.84,142.98,
162.05, 184.53, 185.47 。

【００５４】実施例６４−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−４′−メチ
ルジベンゾイルメタン［Ｒ¹がメチル基である化合物
（１）：以下、化合物（１−６）と略記する。］の製造

【化２３】

【００５５】実施例５で得た４−［（２，２−ジメチル
−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］−４′
−メチルジベンゾイルメタン16.6ｇ（45.1mmol）を、実
施例２と同様の試薬および操作で処理し、淡黄色結晶の
４−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−４′−メチ
ルジベンゾイルメタンを13.6ｇ（収率９２％）得た。

【００５６】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。融点：１３５〜１３７℃；ＭＳ(m／e)：３２８（Ｍ⁺），２９４，２５３，２４
０，１９５，１６１，１３８；¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ：2.42(3H,s), 3.68(2H,
m), 4.00(1H,m), 4.07(1H,dd,J=6.0Hz,9.8Hz), 4.17(1
H,dd,J=4.2Hz,9.7Hz), 6.97(1H,s), 7.08(2H,m), 7.33
(2H,m), 7.94(2H,m), 8.04(2H,m)；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ：24.13, 66.59, 73.15,
74.19, 118.20, 132.95。

【００５７】実施例７４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４
−イル）メトキシ］−４′−エトキシジベンゾイルメタ
ン［Ｒ¹がエトキシ基である化合物（２）］の製造

【化２４】

【００５８】ナトリウムアミド7.8 ｇ（0.2mol）、４−
エトキシアセトフェノン［アルドリッチ社製］16.4ｇ
（0.1mol）および実施例３の（２）で得た４−［（２，
２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メト
キシ］安息香酸エチル２８ｇ（0.1mol）を実施例１の
（３）と同様の試薬および操作で処理し、淡黄色結晶の
４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４
−イル）メトキシ］−４′−エトキシジベンゾイルメタ
ンを16.3ｇ（収率４１％）得た。

【００５９】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。融点：１１９〜１２１℃；ＭＳ(m／e)：３９８（Ｍ⁺），２６５，２３５，１９
１，１４９，１０１，５７；¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.39(3H,s), 1.45(3H,
t,J=6.9Hz), 1.47(3H,s), 3.92(1H,dd,J=5.8Hz,8.5Hz),
4.02(1H,dd,J=5.8Hz,9.6Hz), 4.12(3H,m), 4.18(1H,d
d,J=6.5Hz,8.5Hz), 4.50(1H,m), 6.72(1H,s), 6.95(4H,
m), 7.94(4H,m)；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：14.70, 25.36, 26.81,
63.76, 66.73, 68.92, 73.88, 91.52, 109.93, 114.1
1, 114.35, 114.42, 114.49, 127.97, 128.68,129.07,
129.12, 131.35, 161.92, 162.52, 184.36, 184.82。

【００６０】実施例８４−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−４′−エト
キシジベンゾイルメタン［Ｒ¹がエトキシ基である化合
物（１）：以下、化合物（１−８）と略記する。］の製
造

【化２５】

【００６１】実施例７で得た４−［（２，２−ジメチル
−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］−４′
−エトキシジベンゾイルメタン16.3ｇ（41.0mmol）を、
実施例２と同様の試薬および操作で処理し、淡黄色結晶
の４−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−４′−エ
トキシジベンゾイルメタンを13.6ｇ（収率９２％）得
た。

【００６２】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。融点：１３４〜１３６℃；ＭＳ(m／e)：３５８（Ｍ⁺），２８４，２５５，１９
５，１４９，１２１，９４，４５；¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ：1.42(3H,t,J=6.9Hz),
3.69(2H,m), 3.99〜4.18(5H,m), 6.98〜7.06(4H,m), 7.
96〜8.03(4H,m)；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ：14.99, 64.03, 64.84,
70.56, 71.63, 115.48, 115.60, 130.28, 164.01, 16
4.11 。

【００６３】実施例９４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４
−イル）メトキシ］−４′−（２−エトキシエトキシ）
ジベンゾイルメタン［Ｒ¹が２−エトキシエトキシ基で
ある化合物（２）］の製造

【化２６】

【００６４】ナトリウムアミド7.8 ｇ（0.2mol）、４−
（２−エトキシエトキシ）安息香酸エチル23.8ｇ（0.1m
ol）および実施例１の（２）で得た４−［（２，２−ジ
メチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］
アセトフェノン25.0ｇ（0.1mol）を実施例１の（３）と
同様の試薬および操作で処理し、淡黄色結晶の４−
［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イ
ル）メトキシ］−４′−（２−エトキシエトキシ）ジベ
ンゾイルメタンを18.6ｇ（収率４２％）得た。

【００６５】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。融点：８３〜８５℃；ＭＳ(m／e)：４４２（Ｍ⁺），４００，３６７，３２
８，２３５，１９３，１５９，１３３；¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：1.25(3H,t,J=7.0Hz),
1.41(3H,s), 1.47(3H,s), 3.61(2H,q,J=7.0Hz), 3.81(2
H,m), 3.92(1H,dd,J=5.9Hz,8.5Hz), 4.02(1H,dd,J=5.7H
z,9.5Hz), 4.12(1H,dd,J=5.5Hz,9.6Hz), 4.18(3H,m),
4.50(1H,m), 6.72(1H,s), 6.99(4H,m), 7.94(4H,m) ；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ：15.14, 25.33, 26.78,
66.69, 66.92, 67.67, 68.63, 68.73, 68.89, 73.85,
91.55, 109.90, 114.42, 114.47, 114.57, 128.24, 12
8.62, 129.05, 129.06, 131.26, 131.31, 161.92, 162.
34, 184.42, 184.67 。

【００６６】実施例１０４−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−４′−（２
−エトキシエトキシ）ジベンゾイルメタン［Ｒ¹が２−
エトキシエトキシ基である化合物（１）：以下、化合物
（１−１０）と略記する。］の製造

【化２７】

【００６７】実施例９で得た４−［（２，２−ジメチル
−１，３−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］−４′
−（２−エトキシエトキシ）ジベンゾイルメタン18.6ｇ
（４２mmol）を、実施例２と同様の試薬および操作で処
理し、淡黄色結晶の４−（２，３−ジヒドロキシプロポ
キシ）−４′−（２−エトキシエトキシ）ジベンゾイル
メタンを15.7ｇ（収率９３％）得た。

【００６８】この化合物の物性値は以下のとおりであっ
た。融点：１１５〜１１７℃；ＭＳ(m／e)：４０２（Ｍ⁺），３４４，２５５，１９
５，１６３，１２１；¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ：1.22(3H,t,J=7.0Hz),
3.61(2H,q,J=7.0Hz),3.69(2H,m), 3.82(2H,m), 4.03(2
H,m), 4.18(3H,m), 4.55(1H,s), 6.93(1H,s),7.06(4H,
m), 8.03(4H,m)；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ：15.39, 64.03, 67.77,
68.81, 69.96, 70.57, 71.62, 92.37, 115.61, 129.3
8, 130.38, 163.93, 164.03。

【００６９】試験例：紫外線吸収効果および水溶性基剤
への溶解性前記実施例２、４、６、８および１０で得られた化合物
（１−２）、化合物（１−４）、化合物（１−６）、化
合物（１−８）および化合物（１−１０）について、紫
外線吸収剤に用いる場合の特性、すなわち、ＵＶ−Ａ領
域（３２０ｎｍ〜４００ｎｍ）の紫外線吸収効果および
水溶性基剤への溶解性を調べた。紫外線吸収効果はそれ
ぞれエタノール溶液として紫外吸収スペクトルの最大吸
収波長（吸収極大値、λｍａｘ）および最大吸収波長に
おける分子吸光係数（ε）を測定し、水溶性基剤への溶
解性は２５℃における５０％エタノール−水混合溶液に
対する溶解度を測定した。比較化合物として従来より紫
外線吸収剤に用いられている４−（１，１−ジメチルエ
チル）−４′−メトキシジベンゾイルメタンについて同
様に測定した。これらの測定結果を表１に示す。

【００７０】

【表１】

【００７１】表１より、本発明化合物（１）は、ＵＶ−
Ａ（３２０〜４００ｎｍ）領域において、その約中心部
に最大吸収波長を有し、しかもその最大吸収波長におけ
る分子吸光係数は、従来より紫外線吸収剤に用いられて
いる比較化合物と同等あるいはそれ以上であり、ＵＶ−
Ａ領域の紫外線吸収効果に優れることが明らかである。
また、５０％エタノール−水混合溶液に対する溶解度
は、比較化合物がほとんど溶解しないのに対し、本発明
化合物は溶解性を示すことが明らかである。

【００７２】実施例１１：日焼け止め化粧水の調製下記のＡ成分およびＢ成分をそれぞれの配合割合で、室
温で均一に溶解させてＡ液およびＢ液を調製し、Ｂ液を
撹拌しながら徐々にＡ液に加えて可溶化した後、ろ過し
て容器に充填した。成分重量部Ａ：化合物（１−２） 1.0 エタノール 7.0 ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 0.5 クエン酸 0.02 クエン酸ナトリウム 0.1 パラヒドロキシ安息香酸メチル 0.1 香料適量Ｂ：グリセリン 4.0 プロピレングリコール 7.0 精製水 80.28

【００７３】実施例１２：日焼け止めクリーム（Ｏ／Ｗ
型）の調製下記の配合割合で成分Ａを８０〜８５℃に、成分Ｂを７
５℃に水浴上で加熱溶解した。Ａ液を撹拌しながら徐々
にＢ液に加えて乳化を行い、ホモジナイザーでさらに撹
拌し、冷却して５０℃で成分Ｃを添加し、３０℃まで冷
却して容器に充填した。成分重量部Ａ：化合物（１−４） 4.0 鯨ろう 8.0 トリカプリン酸グリセリン 12.0 セチルアルコール 2.0 ステアリルアルコール 2.0 パラヒドロキシ安息香酸メチル 0.15 Ｂ：グリセリン 1.5 プロピレングリコール 1.5 精製水 68.7 パラヒドロキシ安息香酸ナトリウム 0.15 Ｃ：香料適量

【００７４】実施例１３：日焼け止めクリーム（Ｗ／Ｏ
型）の調製下記の配合割合で成分Ａを８０〜８５℃に、成分Ｂを７
５℃に水浴上で加熱溶解した。Ａ液を撹拌しながら徐々
にＢ液に加えて乳化を行い、冷却して５０℃で成分Ｃを
添加し、４５℃でコロイドミルにかけて容器に充填し
た。成分重量部Ａ：化合物（１−１０） 2.0 パラジメチルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシル 3.0 （ＵＶ−Ｂ領域の紫外線吸収剤）流動パラフィン 10.0 鯨ろう 6.0 スクワラン 6.0 トリカプリン酸グリセリン 20.0 セチルアルコール 2.0 モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン 3.0 パラヒドロキシ安息香酸プロピル 0.1 Ｂ：グリセリン 1.5 プロピレングリコール 1.5 精製水 44.8 パラヒドロキシ安息香酸ナトリウム 0.1 Ｃ：香料適量

【００７５】

【発明の効果】本発明の４−（２，３−ジヒドロキシプ
ロポキシ）ジベンゾイルメタン誘導体は、ＵＶ−Ａ（３
２０〜４００ｎｍ）領域において優れた紫外線吸収効果
を有する。しかも、従来のＵＶ−Ａ領域紫外線吸収剤の
ように油脂性基剤に対する溶解性だけでなく、水溶性基
剤に対する溶解性をも示すため、各種の基剤に配合して
化粧料を調製でき、ＵＶ−Ａ専用の紫外線吸収剤として
極めて有効に用いることができる。従って、この誘導体
を配合した本発明の紫外線吸収剤は、シミ、ソバカス等
の色素沈着等の皮膚障害を好適に防止することができ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (54)【発明の名称】４−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−４′−置換ジベンゾイルメタン誘導体、その製造方法、その誘導体を含有する紫外線吸収剤、その誘導体の製造中間体、およびその中間体の製造方法

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（１）【化１】（式中、Ｒ¹は低級アルキル基、または低級アルコキシ
基で置換されていてもよい低級アルコキシ基を表わ
す。）で表わされる４−（２，３−ジヒドロキシプロポ
キシ）−４′−置換ジベンゾイルメタン誘導体。
【請求項２】一般式（２）【化２】（式中、Ｒ¹は低級アルキル基、または低級アルコキシ
基で置換されていてもよい低級アルコキシ基を表わ
す。）で表わされる４−［（２，２−ジメチル−１，３
−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］−４′−置換ジ
ベンゾイルメタン誘導体を、酸性条件で加水分解反応に
付すことを特徴とする一般式（１）【化３】（式中、Ｒ¹は前記と同じ意味を表わす。）で表わされ
る４−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−４′−置
換ジベンゾイルメタン誘導体の製造方法。
【請求項３】一般式（１）【化４】（式中、Ｒ¹は低級アルキル基、または低級アルコキシ
基で置換されていてもよい低級アルコキシ基を表わ
す。）で表わされる４−（２，３−ジヒドロキシプロポ
キシ）−４′−置換ジベンゾイルメタン誘導体の一種以
上を含有することを特徴とする紫外線吸収剤。
【請求項４】一般式（２）【化５】（式中、Ｒ¹は低級アルキル基、または低級アルコキシ
基で置換されていてもよい低級アルコキシ基を表わ
す。）で表わされる４−［（２，２−ジメチル−１，３
−ジオキソラン−４−イル）メトキシ］−４′−置換ジ
ベンゾイルメタン誘導体。
【請求項５】一般式（３）【化６】（式中、Ｒ²はアセチル基または低級アルコキシカルボ
ニル基を表わす。）で表わされる化合物と、一般式
（４）【化７】（式中、Ｒ¹は低級アルキル基、または低級アルコキシ
基で置換されていてもよい低級アルコキシ基を表わし、
Ｒ³は前記一般式（３）のＲ²がアセチル基の場合は低
級アルコキシカルボニル基を表わし、Ｒ²が低級アルコ
キシカルボニル基の場合はアセチル基を表わす。）で表
わされる化合物を、クライゼン縮合反応に付すことを特
徴とする一般式（２）【化８】（式中、Ｒ¹は前記と同じ意味を表わす。）で表わされ
る４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−
４−イル）メトキシ］−４′−置換ジベンゾイルメタン
誘導体の製造方法。