JPH11507941A - 化学化合物およびその製造方法 - Google Patents

化学化合物およびその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 式(B):

Description

【発明の詳細な説明】 化学化合物およびその製造方法 本発明は、サンスクリーン添加剤として有用とされる特性を有する新規な化 合物、それらの製造方法、および化粧品製剤を含むそれらを含有する製剤に関す る。 強い太陽光線の有害性は、より広く公表されてきており、オゾン層が消耗す るにつれて心配されているため、大気中の紫外線の有害性について一般的に関心 がもたれるようになっている。特に、皮膚ガンの主な原因が大気光線であること が確認されるにつれて、大気中の紫外線に対する有効で経済的な保護が求められ ている。 3つのタイプの紫外線、UVA、UVB、UVCの中で、UVCは地球の大 気中に浸透せず、オゾン層によって吸収されるものである。地球表面に到達する 2つのタイプの紫外線の中で、UVBは皮膚ガンの原因として認識されている。 したがって、現在入手可能なサンスクリーン剤の主なるものは、皮膚と接触する UVB線を減少させることに集中している。しかしながら、UVAは、皮膚の老 化および髪のしわの原因として認識され始めている。したがって、太陽光線中の UVAおよびUVBの双方の有害性を減少させるサンスクリーン剤を提供するこ とが好ましいと考えられている。 化粧品に使用される場合には、紫外線をブロックする第1の機能のみならず 、皮膚をケアする第2の機能をも有するサンスクリーンを製造することが所望さ れている。したがって、サンスクリーンはまた、スキンケア添加剤としての酸化 防止剤およびモイスチャライザを含有する。 サンスクリーンのユーザーは、実質的に優れた保護特性を有する改善された 製品を製造するために、改善された紫外線吸収特性を有する新規な材料を必要と している。これらの製品は、たとえば、ペイントおよび染料などの着色剤、イン ク、ポリマー中、シャンプー、コンディショナー、およびヘアスプレー等のパー ソナルケア製品において紫外線保護が重要である場合、システム中に添加された または製剤された他の活性剤および添加剤の紫外線誘発劣化を防止する場合等に 優位であろう。実際、このような材料は、以下の特性を示すべきである: ・UVB照射によるガンおよびUVA照射による皮膚老化に対する非常に有 効な保護が、単に共製剤材料(co−formulated materials)を用いることによ って達成可能であるような、UVBおよびUVAの双方をカバーする強くて広い スペクトル吸収。 ・異なる紫外線吸収特性を有する分子の混合物を含有しなければならない従 来の製品に代えて、1分子中に組み合わせられたUVBおよびUVA吸収。 ・より高いサンプロテクションファクタ(SPF)の製品をより容易に製造 可能であり、または、紫外線吸収材料をより低濃度で使用可能であるように、高 い紫外線吸収性、熱安定性、および光安定性。 ・酸化防止活性。 驚くべきことに、ある新規化合物が、著しく増加したUVB吸収および/ま たは紫外線のUVBおよびUVA波長の双方において放出された光に対する特に 良好な吸収特性を示すことが見い出された。 本発明によれば、式(B): (式中、 − R1およびR2は、同一でも異なっていてもよく、H、OH、NH2、CO2 H、またはOR6を示し、 − R4およびR5は、同一でも異なっていてもよく、H、OH、NH2、また はOR6を示し、 − R6は、直鎖または分岐のC1−C16アルキル、アルキレン、またはアルキ リン(alkylyne)、または、置換または無置換のホモサイクリックまたはヘテロ サイクリック芳香族基を示し、 − R3は、R7と連結した、置換または無置換のホモサイクリックまたはヘテ ロサイクリック芳香環を示し、 − R7は、置換または無置換のホモサイクリックまたはヘテロサイクリック 芳香環、アルケン、またはR3に結合可能な官能基で置換されたアルカンを示す ) で表わされる化合物およびその塩または付加物が提供される。 本発明の好ましい化合物は、UVAおよびUVBの双方の領域において紫外 線吸収能を有するサンスクリーン調製剤において使用可能であり、該特性の測定 は、以下の定義に従って行われる。 ”m.a.v.”および”E1% 1cm”値の定義は、以下のようなものである :”m.a.v.”は、ある波長において1cm長のセル中で測定された、ある物 質の1モル溶液の吸光度であるモル吸光値(E)である。”E1% 1cm”は、ある 波長において1cm長のセル中で測定された、1%濃度における物質の吸光度であ る物質の比吸光度(specific absorbance)である。全UV吸光度は、290nm から450nmの範囲の比吸光度の曲線下の面積で示される。 ここで開示する好ましい化合物は、最大波長において、”m.a.v.”値 >1X104であり、全紫外線吸光度>4X104を示す。 予想しなかったことに、本発明の多くの化合物に関して、化合物の溶液のp Hを変えることによって、測定λmaxが変化したUVスペクトルの優位な変化が 見られ、結果として、以前は1つであった最大値がしばしば2つになることがあ る。これは、UVB領域におけるλmaxに加えてUVA領域におけるλmaxが発現 した具体例であり、全UV領域において増加するものである。pH変化を含むイ オン種の特性は、UVスペクトルの変化範囲に影響を与える。これによって、化 学化合物により示されたUV吸収特性を細工したり変えたりすることが可能とな る。上記のようなpH変化は、酸または塩基またはルイス酸または塩基またはこ れらを含 有する緩衝調製溶液を使用することによって行われる。アルカリ金属塩、たとえ ば水酸化ナトリウムなどの溶液が、たとえば使用される。(文献:Advanced Organic Chemistry;Reactions,Mechanisms and Structure;J.Mar ch,McGraw-Hill,New York,1968参照)。 本発明の好ましい実施態様は、個々に、組み合わされたUVAおよびUVB 吸収特性を示す化合物を含有する。したがって、UVAまたはUVB吸収特性の いずれかを示す化合物を組み合わせて2つの化合物を用いるよりもむしろ、この ような1つの化合物を用いることによって、製剤製造が容易となる。 本発明の好ましい実施態様はまた、酸化防止活性を示す化合物を含有する。 酸化防止活性は、2つの主なる方法の1つによって測定可能である。1つの方法 は、酸化による脂質の保護に基づくものであり、文献:Fat Sci.Technol. ,1992,94,428,Marinova and Yanishlievaに記載されている。 他の方法は、文献:Lebensm.−Wiss.u−Technol.,1995,28,25 ,Brand−Williams,Cuvelier and Bersetに記載されているように、抗ラ ジカル活性の測定に基づくものである。 R3の適当な例としては、以下のものまたはその塩があげられる: アルケン結合がシスまたはトランスのいずれかである、 または、 アルケン結合がシスまたはトランスのいずれかであり、CO2Xが酸またはエ ステルのいずれかを示す、 または、 上記のような形態かまたは環状ケトンの加水分解開裂による単環形態で存在可 能である、たとえば、 アルケン結合がシスまたはトランスのいずれかである、 または、 アルケン結合がシスまたはトランスのいずれかであり、CO2Xが酸またはエ ステルのいずれかを示す、 または、 好ましくは、R3の例としての上記CO2X基はエステルを示す。特に、2 −(エチル)ヘキシルエステルまたは2−エトキシエチルエステルが好ましい。 便利には、Xは、たとえばエーテル等の、任意に炭素がヘテロ原子で置換さ れてもよい、直鎖または分岐のC1−C16アルキル、アルケン、またはアルキリ ン(alkylyne)、または、置換または無置換の環状化合物、芳香環化合物を含む ホモサイクリックまたはヘテロサイクリック環を示す。 R3の上記好ましい例の置換は任意である。 当業者には、いくつかの場合に、R3が塩を形成可能な官能基または添加さ れた酸または塩基等の他のイオンによって極性化した会合または塩を含むであろ うことはわかるであろう。 本発明はまた、数多くの種々の製剤を、特に消費者および製品の要求を正確 に満たすように製造可能である。さらに、2つの形態、たとえばトランスおよび シス形態で存在可能な異性体を含むある好ましい実施態様においては、光化学エ ネルギーが、可逆トランス−シス異性化により消失されることが可能である。こ れは、良好な光化学安定性を示すメカニズムである。 本発明の化合物の一般的な構造は、以下のような例をあげることができる。 エステル基R3が、共役可能な官能基または多重結合とさらに共役した芳香 環である。共役は、構造Iでは、環状エステルの形態におけるカルボニル官能基 に結合した炭素−炭素2重結合によって、また、構造IIでは、酸の形態において 連続可能である。カルボニル官能基はまた、酸のエステル形態において、たとえ ば、構造IIのメチルエステルであってもよい。 相当する塩または付加物を創る塩基の添加によって、紫外線スペクトルが移 動し、結果として、改善された特性を有する化合物となる。環状エステルとして は、紫外線スペクトルの移動は、たとえば以下に示すように開環反応によって行 われる可能性がある。 または アンベリフェリル=4−メトキシシンナマート(構造III)は、321nmの λmaxを有する、オクチル=メトキシシンナマートの2倍の、非常に強い吸光度 を示す新規分子である。水酸化ナトリウムを添加すると、それぞれ、376nmお よび310nmのλmaxの、強くて組み合わされたUVAおよびUVB吸光が得ら れる。このような吸光は、各UVAおよびUVB吸光材料を組み合わせた公知の 混合物よりも優れている。 好ましくは、R1が、OHを示す。4−ヒドロキシ基の存在によって、該分 子を含有する製剤のpHを調節することによって、分子の紫外線吸光効果をUV A領域により移動させることが可能となるようである。 特に好ましい本発明による化合物は、フェルラ酸のエステル、すなわち、R 1=OH、R2=OCH3、R4=R5=Hである化合物Bである。フェルラ酸およ びそのエステル誘導体は優位な酸化防止活性を示す。 フェルラ酸エステルは、 および 当業者には、常法を用いて好ましい上記フェルラ酸エステルを合成すること ができる。たとえば、該化合物(a)は、フェルラ酸の4−ヒドロキシ官能基を 、後に除可能な化学保護基、たとえばアセチルまたはベンジル基で、たとえば、 文献:Vogel’s Textbook of Practical Organic Chemistry,A V ogel,revised B Furniss et al,Longman Scientific & Technic al Publishing,1989に記載するように、保護することによって製造可能 である。酸クロリドの形成およびフェルラ酸(R=OCH3)との反応によって シンナマートエステルを形成するものである。第2酸クロリドの形成および2− エチルヘキサン−1−オールとの反応は、次いで、保護基を除去することによっ て、化合物(a)が得られる。他のアプローチは、フェルラ酸と4−ヒドロキシ シンナマート酸(R=H)を縮合させるために酵素触媒反応を用い、次いで、2 −エチルヘキシルエステル基を添加するためにさらに酵素触媒反応を用いるもの である。 2−エトキシエチルエステルは、2−エチルヘキサン−1−オールの代わり に2−エトキシエタノールを用いることによって同様にして調製可能である。 本発明のさらに好ましい化合物は、以下の化合物である。 ここに例解する化合物の調製方法は、エステルの形成方法も含有する。エス テル形成のための酵素触媒反応は、その概要が、文献:Enzymes in Synthet ic Organic Chemistry,C−H Wong and G M Whitesides,Perg amon,Elsevier Science Ltd.,1994に記載されている。置換ケイヒ 酸、たとえばカフェイン酸の酸官能基とアルコール基、たとえばヒドロキシケイ ヒ酸とのカップリングによって構造Bに含まれるエステルを形成する方法が適当 である。種々の化合物用としては、これらの方法は、たとえば、文献:Vogel’ s Textbook of Practical Organic Chemistry,A Vogel,revised B Furniss et al,Longman Scientific & Technical Publishi ng,1989に記載するように共沸水除去による脱水;化学的または機械的水除 去;酸官能基の活性化誘導体、たとえば酸ハライドまたは活性化エステルへの変 換とそれに次ぐアルコールとの反応;酸およびアルコール構造からの酵素触媒化 エステル形成;たとえばクロロゲン酸等の適当な構造の酵素触媒化トランスエス テル化を含有する。当業者には、エステル形成用プロトコールにおいて使用され た基質および反応剤の相対量の制御は、容易に行われるものであろう。 本発明の特徴および優位点を例解するために、以下に本発明の好ましい実施 態様を実施例として参照して挙げる。 実施例1 3,4−ジメトキシシンナミルクロリド合成 3,4−ジメトキシケイヒ酸(52.1g、0.25モル)およびチオニル クロリド(28ml、0.38モル)を、無水トルエン(400ml)中で1時間、 還流した。過剰のチオニルクロリドをトルエンから真空下、除去した。真空下、 該溶液を濃縮し、乾燥すると、ジメトキシシンナミルクロリドが茶色の固体とし て得られ、これを精製することなく次ぎの反応に使用した。 実施例2 4−メトキシシンナミルクロリド合成 4−メトキシケイヒ酸を使用して、実施例1と同様の方法を用いた。得られ た生成物は、精製することなく次ぎの反応に使用した。 実施例3 アンベリフェリル(umbelliferyl)=3,4−ジメトキシシンナマート(7 −ヒドロキシクマリンを用いた3,4−ジメトキシケイヒ酸エステル)合成 実施例1で調製された未精製のジメトキシシンナミルクロリド(25ミリモ ル)をトルエン中に再懸濁し、アンベリフェロン(7−ヒドロキシクマリン、3 .9g、25ミリモル)に添加した。該混合物を1時間、還流し、次いで放置冷 却した。得られた沈殿をろ過し、乾燥して、エタノールから再結晶したところ、 白色固体が得られた。融点:181−183℃。 該材料の紫外線スペクトルは、エタノール中、0.001%溶液として測定 すると、335nmのλmax;26787のm.a.v.;761のE1% 1cmであった 。 該エタノール溶液に水酸化ナトリウム溶液を添加すると、紫外線スペクトル は、328nmのλmax;19782のm.a.v.;562のE1% 1cm、および、 375nmのλmax;16614のm.a.v.;472のE1% 1cmであった。 実施例4 4−シンナミル=3,4−ジメトキシシンナマート(4−ヒドロキシケイヒ 酸を用いた3,4−ジメトキシケイヒ酸エステル)合成 実施例1で調製された未精製のジメトキシシンナミルクロリド(0.25モ ル)をトルエン(400ml)中に再懸濁し、p−クマリン酸(4−ヒドロキシケ イヒ酸、41.0g、0.25モル)を添加した。該混合物を1時間、還流し、 次いで放置冷却した。得られたベージュ色の固体をDMF/EtOAcから2回再 結晶すると、85%の純度の明るいベージュ色の固体(36.6g、41%)お よび15%のダブルエステル、すなわち4−(4−シンナミル)シンナミル=3 ,4−ジメトキシケイヒ酸が得られた。90:10の比率の生成物の融点は19 4−197℃であった。 該材料の紫外線スペクトルは、エタノール中、0.001%溶液として測定 すると、300nmのλmax;24743のm.a.v.;697のE1% 1cm、および 、328nmのλmax;25773のm.a.v.;726のE1% 1cmであった。 実施例5 アンベリフェリル=4−メトキシシンナマート(7−ヒドロキシクマリンを 用いた4−メトキシケイヒ酸エステル)合成 実施例2で調製された未精製の4−メトキシシンナミルクロリド(0.57 モル)をトルエン(500ml)中に再懸濁し、アンベリフェロン(92.1g、 0.57モル)に添加した。該混合物を1時間、還流し、次いで冷却して得られ た沈殿をろ過し、乾燥して、DMF/EtOAcから再結晶したところ、白色固体 (158.6g、86%)が得られた。融点:194−196℃。 該材料の紫外線スペクトルは、アセトニトリル中、0.001%溶液として 測定すると、321nmのλmax;43253のm.a.v.;1342のE1% 1cm であった。 該溶液に水酸化ナトリウム溶液を添加すると、紫外線スペクトルは、310 nmのλmax;23721のm.a.v.;736のE1% 1cm、および、376nmの λmax;17984のm.a.v.;538のE1% 1cmであった。 実施例6 4−シンナミル=4−メトキシシンナマート(4−ヒドロキシケイヒ酸をも ちいた4−メトキシケイヒ酸エステル)合成 実施例2で調製された未精製の4−メトキシシンナミルクロリド(28ミリ モル)をトルエン(40ml)中に再懸濁し、p−クマリン酸(4.6g、28ミ リモル)に添加した。該混合物を1時間、還流し、次いで冷却して得られたふじ 色の沈殿をろ過し、ジエチルエーテルで洗浄すると、白色固体(8.08g、7 5%純度、97%収率)が得られた。主な不純物は実施例8に記載のジエステル であった。 該材料の紫外線スペクトルは、エタノール中、0.001%溶液として測定 すると、312nmのλmax;908のE1% 1cmであった。 実施例7 イソユゲニル(isoeugenyl)=3,4−ジメトキシシンナマート(イソユゲ ノールを用いた3,4−ジメトキシケイヒ酸エステル) 3,4−ジメトキシケイヒ酸(5g)を蒸留したばかりのチオニルクロリド (70ml)および無水ベンゼン(50ml)に添加し、該混合物を1時間、還流し た。過剰のチオニルクロリドをベンゼンを加えることによりロータリーエバポレ ータを用いて完全に除去した。粗酸クロリドをベンゼンに再懸濁し、イソユゲノ ール(50ml)に添加して、該混合物を40分間、還流し、次いで放置冷却した 。該冷却混合物を1MのNaHCO3溶液(100ml)に注意深く圧力を抜きなが ら添加した。有機相を分離し、1MのNaHCO3溶液(4X100ml)で洗浄後 、硫酸ナトリウム(無水)で乾燥し、ロータリーエバポレータで濃縮した。粗エ ステルをエタノールから再結晶すると、細かい黄褐色粉末が58%の収率で得ら れた。核磁気共鳴(NMR)によれば、純度は約90%であり、融点は130− 132℃であった。 該材料の紫外線スペクトルは、エタノール中、0.001%溶液として測定 すると、300nmのλmax;571のE1% 1cm、および327.5nmのλmax;6 89のE1% 1cmであった。 実施例8 4−(4−シンナミル)シンナミル=4−メトキシシンナマート(4−ヒド ロキシケイヒ酸を用いた4−シンナミル4−メトキシケイヒ酸エステル)合成 ベンゼン(10ml)中の4−メトキシケイヒ酸(1.0g、5.6ミリモル )にチオニルクロリド(14ml、0.19モル)に添加して、実施例2に記載し たように酸クロリドを形成した。これに、4−ヒドロキシケイヒ酸(0.9g、 5.6ミリモル)を添加して、1時間、還流した。冷却すると形成される沈殿( 1.6g)をエタノールから再結晶すると、表題化合物(1.4g)が得られた 。 該材料の紫外線スペクトルは、エタノール中、0.001%溶液として測定 すると、314nmのλmax;>36989のm.a.v.;>787のE1% 1cmで あった。 上記実施例3および5から明らかなように、本発明によるある種の好ましい 化合物にルイス塩基などの塩基を添加すると、該化合物の紫外線スペクトルが移 動し、場合によっては、UVB領域の最大波長に加えて、UVA領域の最大波長 が 発現し、全紫外線吸光度が増加する。 上記実施例1ないし8の化合物を含む本発明による化合物は、そのままの状 態で、または、塩基の添加による塩または付加物の形態で、クリーム、ローショ ン、およびエモリエント等の製剤に組み入れることが可能である。このようにし て形成されたクリーム、ローション、およびエモリエントは、特に、UVAおよ びUVB領域の双方において示されるサンスクリーン効果のために、サンケアプ ロダクトとして有用である。さらにこれらの製剤はまた、本発明の化合物の多く が、他の有用な特性、たとえば、酸化防止および抗菌活性などを有するため、ヘ ルスケアおよび/または化粧品製品として有用であり、皮膚および髪のしわおよ び/または老化を防止または和らげることが可能である。 本発明による化合物が組み入れられるクリーム、ローション、またはエモリ エントは、水ベースまたはオイルベースであってもよく、他の有用な成分、たと えば、芳香、皮膚透過性を付与する成分、モイスチャライザー、酸化防止剤、抗 菌成分を含有可能である。 本発明の化合物はまた、化粧品産業以外でも使用される。新規化合物の、紫 外線吸収特性とともに、熱安定性および溶解特性によって、織物、染料、ポリマ ー、インク、ペイント及び光誘発性分解から保護する他の化学組成物に組み入れ る等、種々の適用が可能となる。 実施例9 サンスクリーン サンスクリーンオイル製剤は、本発明による化合物および以下の添加剤を含 有する。 シクロメチコーン 64.9重量% 紫外線吸収剤 6.0重量% カプリン/カプリルトリグリセリド 5.0重量% 香料 0.1重量% イソプロピル=パルミタート 24.0重量% 紫外線吸収剤が本発明による化合物である。活性紫外線吸収剤の相対比は、 サンスクリーンオイルにより付与される保護レベルを変えるために変えることが 可能である。 本発明による油中水型サンスクリーンローションは、以下の組成を有する: 紫外線吸収剤 7.5重量% イソプロピル=パルミタート 6.0重量% ステアリン酸 3.0重量% セチルアルコール 1.0重量% グリセリル=モノステアラート 1.0重量% 水 66.5重量% ソルビトール 3.0重量% カルボメール934(2%分散物) 10.0重量% トリエタノールアミン 1.2重量% 香料および防腐剤 0.8重量% 活性紫外線吸収剤の相対比は、サンスクリーンオイルにより付与される保護 レベルを変えるために変えることが可能である。 実施例10 ヘアー製品 本発明による化合物をヘアー製品、たとえば、シャンプー、コンディショナ ー、ムース、および着色料への組み入れが好ましい適用である。以下の実施例に おいて%は重量%を意味する。 (a)コンディショナー製剤 ジステアリルジメチルアンモニウムクロリド 2.40% ヒドロキシエチルセルロース 1.00% セチルアルコール 2.00% 乳化ワックス 0.50% 香料 0.50% 紫外線吸収剤 2.00% 水 合計 100.00% (b)ヘアースプレー製剤 ビニル=アセタート/クロトン酸ポリマー 1.60% アミノメチルプロパノール 0.15% PEG−75ラノリン 0.20% エタノール 67.05% ブタン 30.00% 紫外線吸収剤 1.00% (c)ヘアームース製剤 ポリクオータニウム(polyquaternium)−11 3.00% ポリクオータニウム−4 1.50% 水素化タロートリモニウムクロリド 0.20% ノンオキシノール(nonoxyol)−10 0.35% エタノール 10.00% 水 73.45% ブタン−48 10.00% 紫外線吸収剤 1.50% 各ケースにおいて、成分の相対量を、所望の製品の特性を変えるために変更 可能である。 実施例11 プラスチックにおける紫外線吸収剤の使用 紫外線吸収剤化合物を、プラスチックフィルムを形成するために押出しする 前に、ポリオレフィン材料に0.5%w/wで組み入れると、光誘発分解に対し て耐性が示される。
【手続補正書】 【提出日】1998年1月6日 【補正内容】 特許請求の範囲 1. 式: (式中、 − R1およびR2は、同一でも異なっていてもよく、H、OH、NH2、CO2 H、またはOR6を示し、 − R4およびR5は、同一でも異なっていてもよく、H、OH、NH2、また はOR6を示し、 − R6は、直鎖または分岐のC1−C16アルキル基を示し、 − R3は、以下の基: (式中、アルケン結合はシスまたはトランスのいずれかを示す)を示し、 − R8、R9、R10、およびR11は、同一でも異なっていてもよく、H、OH 、 またはOMeを示し、 − R7は、H、C1−C16アルキル、またはCO2Xを示し、ここで、CO2X はエステルであり、Xは、任意に炭素がヘテロ原子に置き換えられてもよい直鎖 または分岐のC1−C16アルキル基、または、置換または無置換のホモサイクリ ック芳香環を示し、ただし、Xが、塩素または臭素原子で置換可能なキラルなア ルキル基を示す化合物を除く) で表わされる化合物およびその塩または付加物。 2. 1cm長のセル中で測定されたモル吸光値(molar absorbance val ue:m.a.v.)の最大吸光度の波長が1X104よりも長く、および/また は、1%重量/容量溶液において、少なくとも4X104Abs nmの全紫外線吸 光度を示す、請求項1に記載の化合物。 3. R3が、式: で表わされる、請求項1または2に記載の化合物。 4. R3が、式: で表わされる、請求項1または2に記載の化合物。 5. R3が、式: で表わされ、アルケン結合がシスまたはトランスのいずれかであり、CO2X が請求項1に定義したエステルまたは酸である、請求項1または2に記載の化合 物。 6. R3が、式: で表わされる、請求項1または2に記載の化合物。 7. R1が、パラメトキシ基である、請求項1ないし6のいずれか1項 に記載の化合物。 8. R1が、OHを示し、R2が−OCH3を示す、請求項1ないし6の いずれか1項に記載の化合物。 9. CO2Xがエステル: を示す、請求項4または5に記載の化合物。 10. オリジナルの化合物の紫外線吸収スペクトルをシフトさせるpH 条件の変更を行った、請求項1ないし9のいずれか1項に記載の化合物。 11. pH条件の変更の結果、全紫外線吸収が増加する、請求項10に 記載の化合物。 12. pH条件の変更の結果、さらなる最大波長が存在する、請求項1 0または11に記載の化合物。 13. さらなる最大波長が、紫外線吸収スペクトルのUVA領域に存在 する、請求項12に記載の化合物。 14. pH条件の変更が、塩基の添加によって引き起こされる、請求項 10ないし13のいずれか1項に記載の化合物。 15. カフェアート誘導体を含有する、請求項1ないし14のいずれか 1項に記載の化合物。 16. コウマラート誘導体を含有する、請求項1ないし14のいずれか 1項に記載の化合物。 17. アルコールR3OHを3,4−ジメトキシシンナミルクロリドと 反応させることにより調製可能な、請求項1ないし16のいずれか1項に記載の 化合物。 18. アルコールR3OHを4−メトキシシンナミルクロリドと反応さ せることにより調製可能な、請求項1ないし16のいずれか1項に記載の化合物 。 19. 温血動物の髪または皮膚への紫外線ダメージを防止または減少さ せるために使用される、請求項1ないし16のいずれか1項に記載の化合物。 20. 温血動物の皮膚への紫外線ダメージを防止または減少させるため の医薬品の製造への、請求項1ないし16のいずれか1項に記載の化合物の用途 。 21. 請求項1ないし16のいずれか1項に記載の化合物を含有する組 成物を皮膚に適用することを含んでなる、皮膚保護の美容方法。 22. 請求項1ないし16のいずれか1項に記載の化合物を含有する組 成物を皮膚または髪に適用することを含んでなる、髪または皮膚のしわ防止また は減少の美容方法。 23. 請求項1ないし16のいずれか1項に記載の化合物およびアジュ バントを含有するサンスクリーン組成物。 24. 請求項1ないし16のいずれか1項に記載の化合物およびアジュ バントを含有する化粧品組成物。 25. 請求項1ないし16のいずれか1項に記載の化合物およびアジュ バントを含有する皮膚または髪に適用するための抗しわ組成物。 26. 請求項1ないし16のいずれか1項に記載の化合物およびアジュ バントを含有する皮膚または髪に適用するための組成物。 27. ヘアケア製品、ポリマー、およびインク、ペイント、染料、着色 剤から選択される組成物中への添加剤としての請求項1ないし16のいずれか1 項に記載の化合物の用途。 28. 化合物環境のpH条件を変えることを含んでなる、請求項1ない し 9、15、および16のいずれか1項に記載の化合物の紫外線吸収スペクトルを シフトさせる方法。 29. pH条件の変更が塩基の添加によってもたらされる、請求項28 に記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,S Z,UG),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD ,RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU,AZ ,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CZ, DE,DK,EE,ES,FI,GB,GE,HU,I L,IS,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LK ,LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK, MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,R U,SD,SE,SG,SI,SK,TJ,TM,TR ,TT,UA,UG,US,UZ,VN

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 式: (式中、 − R1およびR2は、同一でも異なっていてもよく、H、OH、NH2、CO2 H、またはOR6を示し、 − R4およびR5は、同一でも異なっていてもよく、H、OH、NH2、また はOR6を示し、 − R6は、直鎖または分岐のC1−C16アルキル、アルキレン、またはアルキ リン、または、置換または無置換のホモサイクリックまたはヘテロサイクリック 芳香族基を示し、 − R3は、R7と連結した、置換または無置換のホモサイクリックまたはヘテ ロサイクリック芳香環を示し、 - R7は、置換または無置換のホモサイクリックまたはヘテロサイクリック芳 香環、アルケン、またはR3に結合可能な官能基で置換されたアルカンを示す) で表わされる化合物およびその塩または付加物。 2. 1cm長のセル中で測定されたモル吸光値(molar absorbance value :m.a.v.)の最大吸光波長が1X104よりも長く、および/または、1 %重量/容量溶液において、少なくとも4X104Abs nmの全紫外線吸収度を 示す、請求項1に記載の化合物。 3. R3が、式: で表わされ、アルケン結合がシスまたはトランスのいずれかである、請求項1 または2に記載の化合物。 4. R3が、式: で表わされ、アルケン結合がシスまたはトランスのいずれかであり、CO2X が酸またはエステルのいずれかを示す、請求項1または2に記載の化合物。 5. R3が、式: で表わされる、請求項1または2に記載の化合物。 6. R3が、式: で表わされ、アルケン結合がシスまたはトランスのいずれかである、請求項1 または2に記載の化合物。 7. R3が、式: で表わされ、アルケン結合がシスまたはトランスのいずれかであり、CO2X が酸またはエステルのいずれかを示す、請求項1または2に記載の化合物。 8. R3が、式: で表わされる、請求項1または2に記載の化合物。 9. R1が、パラメトキシ基である、請求項1ないし8のいずれか1項 に記載の化合物。 10. R1が、OHを示し、R2が-OCH3を示す、請求項1ないし8の いずれか1項に記載の化合物。 11. CO2Xがエステルを示し、Xが、任意に炭素がヘテロ原子で置 換されてもよい、直鎖または分岐のC1−C16アルキル、アルケン、またはアル キレン、または、置換または無置換のホモサイクリックまたはヘテロサイクリッ ク環を示す、請求項4または7に記載の化合物。 12. CO2Xがエステル: を示す、請求項4または7に記載の化合物。 13. オリジナルの化合物の紫外線吸収スペクトルをシフトさせるpH 条件の変更を行った、請求項1ないし12のいずれか1項に記載の化合物を含有 する化合物。 14. pH条件の変更の結果、全紫外線吸収が増加する、請求項13に 記 載の化合物。 15. pH条件の変更の結果、さらなる最大波長が存在する、請求項1 3または14に記載の化合物。 16. さらなる最大波長が、紫外線吸収スペクトルのUVA領域に存在 する、請求項15に記載の化合物。 17. pH条件の変更が、塩基の添加によって引き起こされる、請求項 13ないし16のいずれか1項に記載の化合物。 18. カフェアート誘導体を含有する、請求項1ないし17のいずれか 1項に記載の化合物。 19. コウマラート誘導体を含有する、請求項1ないし17のいずれか 1項に記載の化合物。 20. 式: (式中、 − R1およびR2は、同一でも異なっていてもよく、H、OH、NH2、CO2 H、またはOR6を示し、 − R4およびR5は、同一でも異なっていてもよく、H、OH、NH2、また はOR6を示し、 − R6は、直鎖または分岐のC1−C16アルキル、アルキレン、またはアルキ リン、または、置換または無置換のホモサイクリックまたはヘテロサイクリック 芳香族基を示し、 − R3は、R7と連結した、芳香環を示し、 − R7は、ホモサイクリックまたはヘテロサイクリック芳香環、または無置 換の脂肪族基を示す) で表わされる化合物およびその塩または付加物。 21. 3,4−ジメトキシシンナミルクロリドのエステル化を含む、請 求項1ないし20のいずれか1項に記載の化合物の製造方法。 22. 4−メトキシシンナミルクロリドのエステル化を含む、請求項1 ないし20のいずれか1項に記載の化合物の製造方法。 23. 温血動物の髪または皮膚への紫外線ダメージを防止または減少さ せるために使用される、請求項1ないし20のいずれか1項に記載の化合物。 24. 温血動物の皮膚への紫外線ダメージを防止または減少させるため の医薬品の製造への、請求項1ないし20のいずれか1項に記載の化合物の用途 。 25. 請求項1ないし20のいずれか1項に記載の化合物を含有する組 成物を皮膚に適用することを含んでなる、皮膚保護の美容方法。 26. 請求項1ないし20のいずれか1項に記載の化合物を含有する組 成物を皮膚または髪に適用することを含んでなる、髪または皮膚のしわ防止また は減少の美容方法。 27. 請求項1ないし20のいずれか1項に記載の化合物およびアジュ バントを含有するサンスクリーン組成物。 28. 請求項1ないし20のいずれか1項に記載の化合物およびアジュ バントを含有する化粧品組成物。 29. 請求項1ないし20のいずれか1項に記載の化合物およびアジュ バントを含有する皮膚または髪に適用するための抗しわ組成物。 30. 請求項1ないし20のいずれか1項に記載の化合物およびアジュ バントを含有する皮膚または髪に適用するための組成物。 31. ヘアケア製品、ポリマー、インク、ペイント、、染料、着色剤か ら選択される組成物中への添加剤としての請求項1ないし20のいずれか1項に 記載の化合物の用途。 32. 化合物のpH条件を変えることを含んでなる、請求項1ないし1 2、 および、18ないし20のいずれか1項に記載の化合物の紫外線吸収スペクトル をシフトさせる方法。 33. pH条件の変更が塩基の添加によってもたらされる、請求項32 に記載の方法。
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