JPH0430576B2 - - Google Patents

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JPH0430576B2
JPH0430576B2 JP58143529A JP14352983A JPH0430576B2 JP H0430576 B2 JPH0430576 B2 JP H0430576B2 JP 58143529 A JP58143529 A JP 58143529A JP 14352983 A JP14352983 A JP 14352983A JP H0430576 B2 JPH0430576 B2 JP H0430576B2
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dry etching
etching
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    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
    • G—PHYSICS
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