JPH04305547A - アルデヒドの製造方法 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C47/00—Compounds having —CHO groups
- C07C47/02—Saturated compounds having —CHO groups bound to acyclic carbon atoms or to hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/49—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with carbon monoxide
- C07C45/50—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with carbon monoxide by oxo-reactions
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、オレフィン系化合物を
水素および一酸化炭素と均一相において高温高圧で反応
させることによってアルデヒドを製造する方法に関する
。この反応はロジウム並びに有機リン化合物を含む触媒
系の存在下に行われ、その際有機リン化合物は有機媒体
に溶解する、スルホン化リン酸トリエステルのアンモニ
ウム塩である。
水素および一酸化炭素と均一相において高温高圧で反応
させることによってアルデヒドを製造する方法に関する
。この反応はロジウム並びに有機リン化合物を含む触媒
系の存在下に行われ、その際有機リン化合物は有機媒体
に溶解する、スルホン化リン酸トリエステルのアンモニ
ウム塩である。
【0002】
【従来の技術】オレフィンと一酸化炭素および水素と反
応させてアルデヒドおよびアルコールを製造することは
公知である。ヒドロホルミル化( オキソ合成) と称
されるこの反応は金属カルボニル水素化物、殊に周期律
表の第VIII A族の金属から誘導されるものによっ
て接触的に行われる。
応させてアルデヒドおよびアルコールを製造することは
公知である。ヒドロホルミル化( オキソ合成) と称
されるこの反応は金属カルボニル水素化物、殊に周期律
表の第VIII A族の金属から誘導されるものによっ
て接触的に行われる。
【0003】触媒金属として相当に工業的に使用される
コバルトの他に、最近ではロジウムがますます重要にな
っている。コバルトと反対にロジウムは反応を低圧で実
施することを可能とし、更に、直鎖状アルデヒドが有利
に生じそして分枝状アルデヒドは二次的にしか生じない
。最後にオレフィンから飽和炭化水素への水素化もロジ
ウム触媒を用いた場合はコバルト触媒を用いた場合より
も明らかに少ない。工業界に取り入れられた方法の場合
には、ロジウム触媒は追加的におよび場合によっては過
剰の配位子を有する変性したロジウムカルボニル水素化
物の状態で用いられる。特に適する配位子として、第三
有機ホスフィンおよびホスフィットが実証されている。
コバルトの他に、最近ではロジウムがますます重要にな
っている。コバルトと反対にロジウムは反応を低圧で実
施することを可能とし、更に、直鎖状アルデヒドが有利
に生じそして分枝状アルデヒドは二次的にしか生じない
。最後にオレフィンから飽和炭化水素への水素化もロジ
ウム触媒を用いた場合はコバルト触媒を用いた場合より
も明らかに少ない。工業界に取り入れられた方法の場合
には、ロジウム触媒は追加的におよび場合によっては過
剰の配位子を有する変性したロジウムカルボニル水素化
物の状態で用いられる。特に適する配位子として、第三
有機ホスフィンおよびホスフィットが実証されている。
【0004】HRh(CO)(PPh3 )3 および
過剰のPPh3 ( Ph=C6 H5 )より成る触
媒系は例えばα−オレフィン類、例えばエチレン、プロ
ピレンおよびブテン−1のヒドロホルミル化の為に90
〜120℃で用いられる(米国特許第 3,527,8
09号明細書参照) 。
過剰のPPh3 ( Ph=C6 H5 )より成る触
媒系は例えばα−オレフィン類、例えばエチレン、プロ
ピレンおよびブテン−1のヒドロホルミル化の為に90
〜120℃で用いられる(米国特許第 3,527,8
09号明細書参照) 。
【0005】ヨーロッパ特許第0,149,894 号
明細書では、Rh/トリフェニルホスフィン触媒をα−
オレフィンのヒドロホルミル化に優れて適していること
が確認されている。しかし同時に、ブテン−2のご如き
内位オレフィンは高温を用いた場合にしか言うに値する
程の転化をしないので、該内位オレフィンの反応に問題
がある。 しかしこの条件のもとではオレフィンの異性化が著しく
増加し、ブテン−2が一部、ヒドロホルミル化の際に所
望の2−メチルブチルアルデヒドの他に相当の程度にn
−バレルアルデヒドも生じる結果を伴いつつ、ブテン−
1に移る。同時に触媒系の活性および安定性も、ヨーロ
ッパ特許第0,096,987 号でブテン−2のヒド
ロホルミル化の例によって同様に実証されている様に低
下する。それ故に触媒系ロジウム/トリフェニルホスフ
ィンは工業的規模での内位オレフィンのヒドロホルミル
化に適していない。
明細書では、Rh/トリフェニルホスフィン触媒をα−
オレフィンのヒドロホルミル化に優れて適していること
が確認されている。しかし同時に、ブテン−2のご如き
内位オレフィンは高温を用いた場合にしか言うに値する
程の転化をしないので、該内位オレフィンの反応に問題
がある。 しかしこの条件のもとではオレフィンの異性化が著しく
増加し、ブテン−2が一部、ヒドロホルミル化の際に所
望の2−メチルブチルアルデヒドの他に相当の程度にn
−バレルアルデヒドも生じる結果を伴いつつ、ブテン−
1に移る。同時に触媒系の活性および安定性も、ヨーロ
ッパ特許第0,096,987 号でブテン−2のヒド
ロホルミル化の例によって同様に実証されている様に低
下する。それ故に触媒系ロジウム/トリフェニルホスフ
ィンは工業的規模での内位オレフィンのヒドロホルミル
化に適していない。
【0006】上述の問題は、トリアルキル−あるいはト
リアリール−ホスフィン類の替わりにトリアルキル−ま
たはトリアリールホスフィットを触媒成分として用いた
場合に回避される。有機ホスフィットは即ち、それの存
在下にオレフィンのヒドロホルミル化が有機ホスフィン
を用いた場合よりも低温で進行するという長所を有して
いる。ヨーロッパ特許第0,096,988 号明細書
の実施例1によるとブテン−2が触媒としてのロジウム
と環状ホスフィットにて既に2.86MPaおよび98
.5℃にて一酸化炭素および水素と反応して2−メチル
ブチルアルデヒドをもたらす。
リアリール−ホスフィン類の替わりにトリアルキル−ま
たはトリアリールホスフィットを触媒成分として用いた
場合に回避される。有機ホスフィットは即ち、それの存
在下にオレフィンのヒドロホルミル化が有機ホスフィン
を用いた場合よりも低温で進行するという長所を有して
いる。ヨーロッパ特許第0,096,988 号明細書
の実施例1によるとブテン−2が触媒としてのロジウム
と環状ホスフィットにて既に2.86MPaおよび98
.5℃にて一酸化炭素および水素と反応して2−メチル
ブチルアルデヒドをもたらす。
【0007】錯塩として結合した一酸化炭素および配位
子としてのトリアリール−、トリアルキル−またはトリ
シクロアルキル−ホスフィットを含むロジウム化合物(
但し、ロジウム媒体中に1g 原子のロジウム当たり少
なくとも2モルの遊離配位子が存在している)の存在下
にオレフィンをヒドロホルミル化することによってアル
デヒド類を製造することはドイツ特許第1,793,0
69 号明細書に説明されている。実施例はオレフィン
の反応並びにオレフィン系不飽和化合物のそれの両方に
関する。ホスフィットとしてはアルキル−およびアリー
ル化合物が用いられている。
子としてのトリアリール−、トリアルキル−またはトリ
シクロアルキル−ホスフィットを含むロジウム化合物(
但し、ロジウム媒体中に1g 原子のロジウム当たり少
なくとも2モルの遊離配位子が存在している)の存在下
にオレフィンをヒドロホルミル化することによってアル
デヒド類を製造することはドイツ特許第1,793,0
69 号明細書に説明されている。実施例はオレフィン
の反応並びにオレフィン系不飽和化合物のそれの両方に
関する。ホスフィットとしてはアルキル−およびアリー
ル化合物が用いられている。
【0008】3,3−ジアルコキシ−1−プロペンのヒ
ドロホルミル化はドイツ特許出願公開第3,403,4
27 号明細書の対象である。特許請求の範囲に記載さ
れた方法によると、例えば3,3−ジエトキシ−1−プ
ロペンをRh/トリフェニルホスフィットの存在下に1
10℃、0.3MPaの圧力のもとで3,3−ジエトキ
シブタナールおよび2−メチル−3,3−ジエトキシプ
ロパナールがモル比8.5:1で得られる。転化率99
.5%である。
ドロホルミル化はドイツ特許出願公開第3,403,4
27 号明細書の対象である。特許請求の範囲に記載さ
れた方法によると、例えば3,3−ジエトキシ−1−プ
ロペンをRh/トリフェニルホスフィットの存在下に1
10℃、0.3MPaの圧力のもとで3,3−ジエトキ
シブタナールおよび2−メチル−3,3−ジエトキシプ
ロパナールがモル比8.5:1で得られる。転化率99
.5%である。
【0009】同様にヨーロッパ特許出願公開第0,00
3,753 号明細書によると、環状アクロレインアセ
タールと一酸化炭素および水素とから相応するアルデヒ
ドへの反応の際に、触媒としてロジウムがトリフェニル
ホスフィットと一緒に用いられている。
3,753 号明細書によると、環状アクロレインアセ
タールと一酸化炭素および水素とから相応するアルデヒ
ドへの反応の際に、触媒としてロジウムがトリフェニル
ホスフィットと一緒に用いられている。
【0010】α, β− 不飽和ニトリルのヒドロホル
ミル化は米国特許第 4,344,896号明細書に開
示されている。この反応は、錯塩結合の状態で一酸化炭
素および殊にリン化合物を含有するロジウムの存在下に
行う。リン化合物にはトリフェニルホスフィット、トリ
−4−トルイルホスフィット、トリ−4−クロロフェニ
ルホスフィット、トリエチルホスフィットまたはトリブ
チルホスフィットがある。
ミル化は米国特許第 4,344,896号明細書に開
示されている。この反応は、錯塩結合の状態で一酸化炭
素および殊にリン化合物を含有するロジウムの存在下に
行う。リン化合物にはトリフェニルホスフィット、トリ
−4−トルイルホスフィット、トリ−4−クロロフェニ
ルホスフィット、トリエチルホスフィットまたはトリブ
チルホスフィットがある。
【0011】多くの刊行物では、ヒドロホルミル化触媒
の成分として特別なホスフィットが用いられている。
の成分として特別なホスフィットが用いられている。
【0012】弗素化有機ホスフィットを配位子として含
む触媒としてロジウム錯塩化合物を用いた場合に、α,
β−オレフィンのヒドロホルミル化の生成物としての線
状アルデヒドの割合が特に多い(米国特許第 4,33
0,678号明細書)。
む触媒としてロジウム錯塩化合物を用いた場合に、α,
β−オレフィンのヒドロホルミル化の生成物としての線
状アルデヒドの割合が特に多い(米国特許第 4,33
0,678号明細書)。
【0013】米国特許第 4,467,116号明細書
によると、あまり反応性でないオレフィンを触媒として
、なかでも配位子としてのトリアリースホスフィットに
よって変性されている第VIII A族の金属の存在下
にヒドロホルミル化する。このホスフィットの少なくと
も一つのアリール残基は場合によっては弗素化されたア
ルキル−またはアリール基で置換されている。
によると、あまり反応性でないオレフィンを触媒として
、なかでも配位子としてのトリアリースホスフィットに
よって変性されている第VIII A族の金属の存在下
にヒドロホルミル化する。このホスフィットの少なくと
も一つのアリール残基は場合によっては弗素化されたア
ルキル−またはアリール基で置換されている。
【0014】Van LeeuwenおよびRoob
eek,J.Organomet.Chem.258(
1983)、第343頁以降は、非反応性のオレフィン
、例えば2−メチル−1−ヘキセン、リモネン、シクロ
ヘキセンおよびメチレンシクロヘキサンのヒドロホルミ
ル化に関するものである。穏やかな条件(90℃、1M
Pa)のもとでのかゝるオレフィンの反応は、ホスフィ
ットによって変性されているロジウム触媒の存在下に進
行する。用いるホスフィット配位子の例にはトリス−(
o−第三ブチルフェニル)ホスフィットおよびトリス(
ヘキサフルオロイソプロピル)ホスフィットがある。こ
れらは特別な立体特性および電子特性に特徴がある。
eek,J.Organomet.Chem.258(
1983)、第343頁以降は、非反応性のオレフィン
、例えば2−メチル−1−ヘキセン、リモネン、シクロ
ヘキセンおよびメチレンシクロヘキサンのヒドロホルミ
ル化に関するものである。穏やかな条件(90℃、1M
Pa)のもとでのかゝるオレフィンの反応は、ホスフィ
ットによって変性されているロジウム触媒の存在下に進
行する。用いるホスフィット配位子の例にはトリス−(
o−第三ブチルフェニル)ホスフィットおよびトリス(
ヘキサフルオロイソプロピル)ホスフィットがある。こ
れらは特別な立体特性および電子特性に特徴がある。
【0015】有機ホスフィットは有機ホスフィン類に比
べてオキソ合成の為の触媒の成分として一連の長所を有
しているにもかかわらず、工業的には制限された範囲で
しか使用できない。それの用途の制限は、推奨される温
度範囲の特に上部域で実施した場合にロジウム/ホスフ
ィット−触媒の活性が時間の経過についれて低下するこ
とに起因している。同時に相当の程度で高沸点化合物が
生じる。両方の現象の原因は、有機ホスフィットが不活
性の二次反応生成物に転化する少なくとも一部の副反応
にある。
べてオキソ合成の為の触媒の成分として一連の長所を有
しているにもかかわらず、工業的には制限された範囲で
しか使用できない。それの用途の制限は、推奨される温
度範囲の特に上部域で実施した場合にロジウム/ホスフ
ィット−触媒の活性が時間の経過についれて低下するこ
とに起因している。同時に相当の程度で高沸点化合物が
生じる。両方の現象の原因は、有機ホスフィットが不活
性の二次反応生成物に転化する少なくとも一部の副反応
にある。
【0016】この関係において、亜燐酸トリエステルが
非常に加水分解に敏感であることを考慮するべきである
。ヒドロホルミル化の間に還元工程によって生じる痕跡
量の水は、トリエステルをジ−およびモノエステルおよ
び遊離の亜燐酸に加水分解するのに十分である。更に、
酸性のモノ−およびジホスフィット触媒がトリエステル
の加水分解に対して触媒作用をして、反応が自触作用的
に進行する。
非常に加水分解に敏感であることを考慮するべきである
。ヒドロホルミル化の間に還元工程によって生じる痕跡
量の水は、トリエステルをジ−およびモノエステルおよ
び遊離の亜燐酸に加水分解するのに十分である。更に、
酸性のモノ−およびジホスフィット触媒がトリエステル
の加水分解に対して触媒作用をして、反応が自触作用的
に進行する。
【0017】加水分解速度はエステル残基の種類に強く
依存している。トリメチルホスフィットが最も不安定で
あり、アルキル残基の長さが増せば増すほどホスフィッ
トは加水分解作用に対してますます安定する。
依存している。トリメチルホスフィットが最も不安定で
あり、アルキル残基の長さが増せば増すほどホスフィッ
トは加水分解作用に対してますます安定する。
【0018】触媒系の作用は更に、酸性モノエステルが
ロジウム/ホスフィット錯塩をプロトン化する──即ち
、同様に触媒的に不活性である状態に変える──ことに
より害を及ぼす。
ロジウム/ホスフィット錯塩をプロトン化する──即ち
、同様に触媒的に不活性である状態に変える──ことに
より害を及ぼす。
【0019】亜リン酸エステルの加水分解は反応混合物
に有機−または無機塩基を添加することによって防止ま
たは少なくともある程度遅らせることができる。ヨーロ
ッパ特許出願公開第0,285,136 号の方法によ
ると、例えば第三有機ホスフィットと一緒に含まれる第
二有機ホスフィットを含む溶液から、アミンの添加およ
び生じるアンモニウム− ホスフィットの分離によって
該第二有機ホスフィットを選択的に除く。この方法は、
ロジウム/ ホスフィット触媒の存在下にオレフィン系
化合物のヒドロホルミル化の場合には直ちに使用できな
い。この方法は、不所望の副反応を引き起こし得る反応
異物質を反応混合物に添加することを必要とする。
に有機−または無機塩基を添加することによって防止ま
たは少なくともある程度遅らせることができる。ヨーロ
ッパ特許出願公開第0,285,136 号の方法によ
ると、例えば第三有機ホスフィットと一緒に含まれる第
二有機ホスフィットを含む溶液から、アミンの添加およ
び生じるアンモニウム− ホスフィットの分離によって
該第二有機ホスフィットを選択的に除く。この方法は、
ロジウム/ ホスフィット触媒の存在下にオレフィン系
化合物のヒドロホルミル化の場合には直ちに使用できな
い。この方法は、不所望の副反応を引き起こし得る反応
異物質を反応混合物に添加することを必要とする。
【0020】更にホスフィットの損失はリン化合物とア
ルデヒドとの反応によって生じ得る。F.Ramire
zが示した通り(Synthesis,1974、90
頁以降)、亜リン酸トリエステルがアルデヒド類と一緒
に低温のもとで4,4,4−トリアルコキシ−1,3,
4−ジオキサホスホランを、高温のもとで主として2,
2,2−トリアルコキシ−1,3,2−ジオキサホスホ
ランを生じる。両方の化合物は触媒的に有効でなく、そ
れらの発生が触媒系中のロジウムとホスフィットのと比
に影響を及ぼし、それによってヒドロホルミル化触媒の
活性を低下させる。
ルデヒドとの反応によって生じ得る。F.Ramire
zが示した通り(Synthesis,1974、90
頁以降)、亜リン酸トリエステルがアルデヒド類と一緒
に低温のもとで4,4,4−トリアルコキシ−1,3,
4−ジオキサホスホランを、高温のもとで主として2,
2,2−トリアルコキシ−1,3,2−ジオキサホスホ
ランを生じる。両方の化合物は触媒的に有効でなく、そ
れらの発生が触媒系中のロジウムとホスフィットのと比
に影響を及ぼし、それによってヒドロホルミル化触媒の
活性を低下させる。
【0021】
【発明が解決しようとする課題】それ故に本発明の課題
は、有機ホスフィンの長所──反応混合物の成分と反応
する傾向が小さい──を有機ホスフィットのそれ──低
温で既に高い活性を持つ──とを互いに結び付ける、ロ
ジウムを三価のリンのかゝる化合物と組合せて触媒とし
て使用するオレフィン系不飽和化合物のヒドロホルミル
化法を提供することである。
は、有機ホスフィンの長所──反応混合物の成分と反応
する傾向が小さい──を有機ホスフィットのそれ──低
温で既に高い活性を持つ──とを互いに結び付ける、ロ
ジウムを三価のリンのかゝる化合物と組合せて触媒とし
て使用するオレフィン系不飽和化合物のヒドロホルミル
化法を提供することである。
【0022】
【課題を解決するための手段】この課題は、オレフィン
系不飽和化合物を一酸化炭素および水素と均一相におい
て20〜150℃および0.1〜20MPa において
ロジウムおよび有機リン化合物を含む触媒系の存在下に
反応させることによってアルデヒドを製造するに当たっ
て、有機リン化合物としてスルホン化亜リン酸トリエス
テルの、有機媒体に溶解するアンモニウム塩を用いそし
て触媒系中に1g 原子のロジウム当たり少なくとも2
モルのリン化合物が存在することを特徴とする、上記ア
ルデヒドの製造方法によって解決される。
系不飽和化合物を一酸化炭素および水素と均一相におい
て20〜150℃および0.1〜20MPa において
ロジウムおよび有機リン化合物を含む触媒系の存在下に
反応させることによってアルデヒドを製造するに当たっ
て、有機リン化合物としてスルホン化亜リン酸トリエス
テルの、有機媒体に溶解するアンモニウム塩を用いそし
て触媒系中に1g 原子のロジウム当たり少なくとも2
モルのリン化合物が存在することを特徴とする、上記ア
ルデヒドの製造方法によって解決される。
【0023】驚くべきことに本発明に従って用いられる
有機リン化合物はオレフィン系不飽和化合物と一酸化炭
素および水素との接触的反応の間に副反応が生じない。 それ故にこの触媒はその活性が非常に長時間に渡って変
化しない。
有機リン化合物はオレフィン系不飽和化合物と一酸化炭
素および水素との接触的反応の間に副反応が生じない。 それ故にこの触媒はその活性が非常に長時間に渡って変
化しない。
【0024】本発明で用いるスルホン化亜リン酸のアン
モニウム塩は、形式的には、亜リン酸から一般式
(MO2 S)n − Y − (OH)m
(1)のヒドロキシス
ルホン酸のアンモニウム塩とのエステル反応によって誘
導される。この式中、Yは有機残基である。従って、脂
肪族−、脂環式−、芳香族−およびヘテロ環式基本構造
から誘導されるスルホン化されたヒドロキシ化合物が含
まれる。脂肪族化合物は直鎖状または分枝状で且つ、脂
環式化合物の様な飽和または不飽和である。脂環式化合
物および芳香族化合物には単核構造および多核構造の両
方が含まれる。同様に本発明で用いるホスフィットのヒ
ドロキシスルホン酸には脂肪芳香族並びに芳香脂肪族の
化合物が含まれる。ヘテロ環式化合物としては窒素、酸
素または硫黄をヘテロ原子として有する飽和または不飽
和の五員環または六員環のものが適する。分子中に二つ
の同じかまたは異なるヘテロ原子を有していてもよい。 更にこれらのヘテロ環が五員環または六員環の別のヘテ
ロ環とまたはベンゼン環と縮合していてもよい。全ての
化合物が、反応時に不活性である当業者に知られている
別の置換基を有していてもよい。
モニウム塩は、形式的には、亜リン酸から一般式
(MO2 S)n − Y − (OH)m
(1)のヒドロキシス
ルホン酸のアンモニウム塩とのエステル反応によって誘
導される。この式中、Yは有機残基である。従って、脂
肪族−、脂環式−、芳香族−およびヘテロ環式基本構造
から誘導されるスルホン化されたヒドロキシ化合物が含
まれる。脂肪族化合物は直鎖状または分枝状で且つ、脂
環式化合物の様な飽和または不飽和である。脂環式化合
物および芳香族化合物には単核構造および多核構造の両
方が含まれる。同様に本発明で用いるホスフィットのヒ
ドロキシスルホン酸には脂肪芳香族並びに芳香脂肪族の
化合物が含まれる。ヘテロ環式化合物としては窒素、酸
素または硫黄をヘテロ原子として有する飽和または不飽
和の五員環または六員環のものが適する。分子中に二つ
の同じかまたは異なるヘテロ原子を有していてもよい。 更にこれらのヘテロ環が五員環または六員環の別のヘテ
ロ環とまたはベンゼン環と縮合していてもよい。全ての
化合物が、反応時に不活性である当業者に知られている
別の置換基を有していてもよい。
【0025】特に上記式(1)中のYは、炭素原子数2
〜20の直鎖状または分枝状の飽和脂肪族残基、炭素原
子数5〜12の単核または二核の脂環式残基および単核
または二核の芳香族残基であるのが好ましい。これらの
芳香族残基は殊にベンゼン、ビフェニル、ナフタリンお
よびビナフチルから誘導される。アルキルアリール残基
としては容易に得ることのできるベンジル残基が有利で
あることが判っている。アリールアルキル残基はトルエ
ン、エチルベンゼンまたはキシレン異性体を基礎とする
ものである。ヘテロ環とは窒素を含む飽和または不飽和
のヘテロ環式五員環または六員環の残基、特にピリジン
を意味する。最後にmは1〜3の整数でありそしてnは
1〜4の整数である。
〜20の直鎖状または分枝状の飽和脂肪族残基、炭素原
子数5〜12の単核または二核の脂環式残基および単核
または二核の芳香族残基であるのが好ましい。これらの
芳香族残基は殊にベンゼン、ビフェニル、ナフタリンお
よびビナフチルから誘導される。アルキルアリール残基
としては容易に得ることのできるベンジル残基が有利で
あることが判っている。アリールアルキル残基はトルエ
ン、エチルベンゼンまたはキシレン異性体を基礎とする
ものである。ヘテロ環とは窒素を含む飽和または不飽和
のヘテロ環式五員環または六員環の残基、特にピリジン
を意味する。最後にmは1〜3の整数でありそしてnは
1〜4の整数である。
【0026】Mは一般式
〔NHx R1y 〕+
〔式中、xは1または2であり、yは2または3であり
そしてxとyとの合計が4でありそしてR1 は同じか
または異なる脂肪族、脂環式、芳香族、芳香脂肪族また
はヘテロ環式の残基である。]で表されるアンモニウム
イオンを意味する。R1 は直鎖状−または分枝状アル
キル基でありそしてy個の残基R1 の全ての炭素原子
の合計が4〜60であるのが好ましい。殊に残基R1
の全ての炭素原子の合計は、y=2で12〜36、特に
14〜26であり、y=3で18〜42、特に21〜3
9であるのが好ましい。特に適するものは、R1 がn
−オクチル−、i−オクチル−、i−ノニル−、i−デ
シル−またはi−トリデシル基を意味する化合物である
。
そしてxとyとの合計が4でありそしてR1 は同じか
または異なる脂肪族、脂環式、芳香族、芳香脂肪族また
はヘテロ環式の残基である。]で表されるアンモニウム
イオンを意味する。R1 は直鎖状−または分枝状アル
キル基でありそしてy個の残基R1 の全ての炭素原子
の合計が4〜60であるのが好ましい。殊に残基R1
の全ての炭素原子の合計は、y=2で12〜36、特に
14〜26であり、y=3で18〜42、特に21〜3
9であるのが好ましい。特に適するものは、R1 がn
−オクチル−、i−オクチル−、i−ノニル−、i−デ
シル−またはi−トリデシル基を意味する化合物である
。
【0027】本発明で用いられるスルホン化亜リン酸ト
リエステルの一つの重要なアンモニウム塩は、一般式(
2)
リエステルの一つの重要なアンモニウム塩は、一般式(
2)
【0028】
【化5】
〔式中、Yは式(1)の所で記載した意味を有しそして
同じでも異なっていてもよく、n1 は少なくとも一つ
のn1 が1であるという条件のもとで同じか異なる0
〜4の整数を意味し、Rも同じか異なり、脂肪族−、脂
環式−、芳香族−、芳香脂肪族−またはヘテロ環式残基
、殊に直鎖状または分枝状アルキル残基であり、その際
窒素原子を介してスルホン酸残基と結合している三つの
残基Rが全部で10〜60、殊に12〜36個の炭素原
子を有している。〕で表される。
同じでも異なっていてもよく、n1 は少なくとも一つ
のn1 が1であるという条件のもとで同じか異なる0
〜4の整数を意味し、Rも同じか異なり、脂肪族−、脂
環式−、芳香族−、芳香脂肪族−またはヘテロ環式残基
、殊に直鎖状または分枝状アルキル残基であり、その際
窒素原子を介してスルホン酸残基と結合している三つの
残基Rが全部で10〜60、殊に12〜36個の炭素原
子を有している。〕で表される。
【0029】一般式(2)に相応する化合物には、トリ
アルキルホスフィット、例えばトリメチルホスフィット
、トリエチルホスフィット、ブチルジエチルホスフィッ
ト、トリ−n−プロピルホスフィット、トリ−n−ブチ
ルホスフィット、トリ−2−エチルヘキシルホスフィッ
ト、トリ−n−オクチルホスフィット、トリ−n−ドデ
シルホスフィットの;ジアルキルアリールホスフィット
、例えばジメチルフェニル−ホスフィット、ジエチルフ
ェニル−ホスフィットの;アルキルジアリール−ホスフ
ィット、例えばメチルジフェニル−ホスフィット、エチ
ルジフェニル−ホスフィットのおよびトリアリールホス
フィット類、例えばトリフェニル−ホスフィットおよび
トリナフチルホスフィット等のアンモニウムスルホナー
トが含まれる。これらの群の内の特に有利なホスフィッ
トはトリフェニル−ホスフィット−トリスルホン酸−ト
リイソオクチルアンモニウム塩である。
アルキルホスフィット、例えばトリメチルホスフィット
、トリエチルホスフィット、ブチルジエチルホスフィッ
ト、トリ−n−プロピルホスフィット、トリ−n−ブチ
ルホスフィット、トリ−2−エチルヘキシルホスフィッ
ト、トリ−n−オクチルホスフィット、トリ−n−ドデ
シルホスフィットの;ジアルキルアリールホスフィット
、例えばジメチルフェニル−ホスフィット、ジエチルフ
ェニル−ホスフィットの;アルキルジアリール−ホスフ
ィット、例えばメチルジフェニル−ホスフィット、エチ
ルジフェニル−ホスフィットのおよびトリアリールホス
フィット類、例えばトリフェニル−ホスフィットおよび
トリナフチルホスフィット等のアンモニウムスルホナー
トが含まれる。これらの群の内の特に有利なホスフィッ
トはトリフェニル−ホスフィット−トリスルホン酸−ト
リイソオクチルアンモニウム塩である。
【0030】スルホン化した亜リン酸トリエステルの重
要なアンモニウム塩の別の群には一般式(3)
要なアンモニウム塩の別の群には一般式(3)
【003
1】
1】
【化6】
で表される。この式中、Yは式(1)の所に記載した意
味を持ち、殊にベンゼン、ビフェニル、ナフタリンまた
はビナフチルから誘導される残基である。n1 は式(
2)の所に記した整数である。Rの意味は式(2)に記
してある。
味を持ち、殊にベンゼン、ビフェニル、ナフタリンまた
はビナフチルから誘導される残基である。n1 は式(
2)の所に記した整数である。Rの意味は式(2)に記
してある。
【0032】式(3)に従うホスフィットの特に有利な
アンモニウムスルホナートは:
アンモニウムスルホナートは:
【0033】
【化7】
【0034】
【化8】
【0035】
【化9】
【0036】
【化10】
【0037】
【化11】
更に、一般式(4)のスルホン化した亜リン酸トリエス
テルのアンモニウム塩も重要である:
テルのアンモニウム塩も重要である:
【0038】
【化12】
この式中、Yは式(1)の所で記した意味を有し、Y1
は互いに同じかまたは異なり、アリールアルキル−、
アルキルアリール−、アリール−、ビアリール−、ナフ
チル−またはビナフチル残基、特にベンゼン残基である
。 Zは −CH2−、−(CH2)2−または−(CH2
)3−でありそしてn1 は式(2) の所に記した定
義に相当する。
は互いに同じかまたは異なり、アリールアルキル−、
アルキルアリール−、アリール−、ビアリール−、ナフ
チル−またはビナフチル残基、特にベンゼン残基である
。 Zは −CH2−、−(CH2)2−または−(CH2
)3−でありそしてn1 は式(2) の所に記した定
義に相当する。
【0039】式(4)に従うホスフィットの特に有利な
アンモニウムスルホナートは以下のものである:
アンモニウムスルホナートは以下のものである:
【00
40】
40】
【化13】
【0041】
【化14】
最後に一般式(5)のスルホン化亜リン酸トリエステル
のアンモニウム塩も重要である。
のアンモニウム塩も重要である。
【0042】
【化15】
上記の一般式中の記号の内、Yは式(1)の所で記載し
た有機残基、特にベンゼン、ビフェニルおよびナフタリ
ン並びに炭素原子数2〜6のアルカンから誘導されるも
のである。n1 およびRは式(2)の所で記載した意
味を有する。
た有機残基、特にベンゼン、ビフェニルおよびナフタリ
ン並びに炭素原子数2〜6のアルカンから誘導されるも
のである。n1 およびRは式(2)の所で記載した意
味を有する。
【0043】式(5)に相当するホスフィットの特に有
利なアンモニウムスルホナートは以下のものである:
利なアンモニウムスルホナートは以下のものである:
【
0044】
0044】
【化16】
【0045】
【化17】
【0046】
【化18】
スルホン化した亜リン酸トリエステルの本発明で用いる
アンモニウム塩は、亜リン酸トリエステルをヒドロキシ
スルホン酸のアンモニウム塩でエステル交換(アルコー
ル分解)することによって得ることができる。この目的
の為に、有機溶剤に溶解するアンモニウム塩を20〜2
00℃、殊に80〜160℃で亜リン酸トリエステルと
反応させる。反応成分は、両方の反応成分の一方を過剰
に用いることも可能であるが、一般に当量で使用する。 この反応はアミン類、ナトリウム、ナトリウムアルコラ
ート、三塩化アルミニウム、チタン酸エステルまたは亜
燐酸ジアルキルエステルの如き触媒によって促進される
。亜リン酸トリエステルは、炭素原子数1〜12の脂肪
族または芳香族のヒドロキシ化合物から誘導される化合
物が有効であった。かゝるホスフィットの例には、トリ
メチルホスフィット、トリエチルホスフィット、n−ブ
チルジエチル−ホスフィット、トリ−n−プロピル−ホ
スフィット、トリ−n−ブチル−ホスフィット、トリ−
2−エチルヘキシル−ホスフィット、トリ−n−オクチ
ル−ホスフィット、トリ−n−ドデシル−ホスフィット
、ジメチルフェニル−ホスフィット、ジエチルフェニル
−ホスフィット、トリフェニル−ホスフィットがある。 特に有利な有機ホスフィットはトリフェニル−ホスフィ
ットである。
アンモニウム塩は、亜リン酸トリエステルをヒドロキシ
スルホン酸のアンモニウム塩でエステル交換(アルコー
ル分解)することによって得ることができる。この目的
の為に、有機溶剤に溶解するアンモニウム塩を20〜2
00℃、殊に80〜160℃で亜リン酸トリエステルと
反応させる。反応成分は、両方の反応成分の一方を過剰
に用いることも可能であるが、一般に当量で使用する。 この反応はアミン類、ナトリウム、ナトリウムアルコラ
ート、三塩化アルミニウム、チタン酸エステルまたは亜
燐酸ジアルキルエステルの如き触媒によって促進される
。亜リン酸トリエステルは、炭素原子数1〜12の脂肪
族または芳香族のヒドロキシ化合物から誘導される化合
物が有効であった。かゝるホスフィットの例には、トリ
メチルホスフィット、トリエチルホスフィット、n−ブ
チルジエチル−ホスフィット、トリ−n−プロピル−ホ
スフィット、トリ−n−ブチル−ホスフィット、トリ−
2−エチルヘキシル−ホスフィット、トリ−n−オクチ
ル−ホスフィット、トリ−n−ドデシル−ホスフィット
、ジメチルフェニル−ホスフィット、ジエチルフェニル
−ホスフィット、トリフェニル−ホスフィットがある。 特に有利な有機ホスフィットはトリフェニル−ホスフィ
ットである。
【0047】触媒系の二番目の成分のロジウムは金属と
して、好ましくは活性炭、炭酸カルシウム、アルミナま
たはこれらに類似の物質の如き担体に担持してまたはロ
ジウム化合物として用いることができる。反応条件のも
とで有機媒体に溶解するロジウム化合物が適している。 ロジウムが種々の酸化段階で存在する無機または有機の
ロジウム化合物の例には、ロジウム酸化物のRh2 O
、Rh2 O3 、RhO2 、RhO3 ; 無機水
素酸の塩、例えば塩化物、臭化物、沃化物、スルフィド
、セレン酸塩およびテルル化物のRhCl3 、RhB
r3 、RhI3、Rh2 S3 、Rh2 Se5
、Rh2 Te5 ;無機系酸素酸の塩、例えばロジウ
ムスルフィトRh2(SO3)3 、ロジウムサルファ
ートRh2(SO4)3 およびロジウム硝酸塩Rh(
NO3)3 、ロジウム過塩素酸塩Rh (OH)2C
lO4 およびロジウムセレン酸塩並びに脂肪族モノ−
またはポリカルボン酸の塩、例えばロジウムアセテート
Rh (CH3 CO2)3 、ロジウムプロピオナー
ト、ロジウムオキサラートRh2(C2 O4)3 、
ロジウムマロナートまたはロジウム−2−エチルヘキサ
ナートがある。ロジウムを含むヘテロポリ酸の塩、例え
ばアルカリ金属−またはアルカリ土類金属塩、アンモニ
ウム塩またはアミン塩、例えばナトリウムヘキサクロロ
−ロダン酸塩Na3(RhCl6)、カリウムヘキサク
ロロ−ロダン酸塩K3(RhCl6)、バリウムヘキサ
クロロ−ロダン酸塩Ba3(RhCl6)2 、アンモ
ニウムヘキサクロロ−ロダン酸塩(NH4)3[RhC
l6]、ナトリウムヘキサブロモ− ロダン酸塩Na3
(RhBr6)、モノメチルアンモニウムペンタクロロ
−ロダン酸塩、(NH3 CH3)[ RhCl5]お
よびトリメチルアンモニウム− ヘキサクロロ− ロダ
ン酸塩 [NH( CH3)3]3[RhCl6]が適
している。 更にロジウムのカルボニル−およびハロゲン化カルボニ
ル化合物、例えばトリカルボニルロジウムRh (CO
)3、テトラカルボニルロジウム [Rh (CO)4
]2、テトラロジウム−ドデカカルボニルRh4(CO
)12 、[ Rh( CO)2Cl]2、ジカルボニ
ルロジウム臭化物 [Rh( CO)2] Brおよび
ジカルボニルロジウム沃化物 [Rh( CO)2]
Iが特に有利である。 簡単な塩の他にロジウムの錯
塩、特に三価のロジウムのそれも触媒前駆体として用い
ることができる。これらの化合物は単−、二−または三
座配位子を有しており、例えばβ−ジケトン類、例えば
アセチルアセトン、アルキルアミン、アルキル−または
アリールジアミン、窒素含有ヘテロ環化合物、例えばピ
リジン、2,2’−ジピリジンまたは1,10−フェナ
ントロリン、脂肪族−または脂環式−およびジエチル性
不飽和炭化水素、例えばシクロペンタジエンおよび1,
5−シクロオクタジエンがある。
して、好ましくは活性炭、炭酸カルシウム、アルミナま
たはこれらに類似の物質の如き担体に担持してまたはロ
ジウム化合物として用いることができる。反応条件のも
とで有機媒体に溶解するロジウム化合物が適している。 ロジウムが種々の酸化段階で存在する無機または有機の
ロジウム化合物の例には、ロジウム酸化物のRh2 O
、Rh2 O3 、RhO2 、RhO3 ; 無機水
素酸の塩、例えば塩化物、臭化物、沃化物、スルフィド
、セレン酸塩およびテルル化物のRhCl3 、RhB
r3 、RhI3、Rh2 S3 、Rh2 Se5
、Rh2 Te5 ;無機系酸素酸の塩、例えばロジウ
ムスルフィトRh2(SO3)3 、ロジウムサルファ
ートRh2(SO4)3 およびロジウム硝酸塩Rh(
NO3)3 、ロジウム過塩素酸塩Rh (OH)2C
lO4 およびロジウムセレン酸塩並びに脂肪族モノ−
またはポリカルボン酸の塩、例えばロジウムアセテート
Rh (CH3 CO2)3 、ロジウムプロピオナー
ト、ロジウムオキサラートRh2(C2 O4)3 、
ロジウムマロナートまたはロジウム−2−エチルヘキサ
ナートがある。ロジウムを含むヘテロポリ酸の塩、例え
ばアルカリ金属−またはアルカリ土類金属塩、アンモニ
ウム塩またはアミン塩、例えばナトリウムヘキサクロロ
−ロダン酸塩Na3(RhCl6)、カリウムヘキサク
ロロ−ロダン酸塩K3(RhCl6)、バリウムヘキサ
クロロ−ロダン酸塩Ba3(RhCl6)2 、アンモ
ニウムヘキサクロロ−ロダン酸塩(NH4)3[RhC
l6]、ナトリウムヘキサブロモ− ロダン酸塩Na3
(RhBr6)、モノメチルアンモニウムペンタクロロ
−ロダン酸塩、(NH3 CH3)[ RhCl5]お
よびトリメチルアンモニウム− ヘキサクロロ− ロダ
ン酸塩 [NH( CH3)3]3[RhCl6]が適
している。 更にロジウムのカルボニル−およびハロゲン化カルボニ
ル化合物、例えばトリカルボニルロジウムRh (CO
)3、テトラカルボニルロジウム [Rh (CO)4
]2、テトラロジウム−ドデカカルボニルRh4(CO
)12 、[ Rh( CO)2Cl]2、ジカルボニ
ルロジウム臭化物 [Rh( CO)2] Brおよび
ジカルボニルロジウム沃化物 [Rh( CO)2]
Iが特に有利である。 簡単な塩の他にロジウムの錯
塩、特に三価のロジウムのそれも触媒前駆体として用い
ることができる。これらの化合物は単−、二−または三
座配位子を有しており、例えばβ−ジケトン類、例えば
アセチルアセトン、アルキルアミン、アルキル−または
アリールジアミン、窒素含有ヘテロ環化合物、例えばピ
リジン、2,2’−ジピリジンまたは1,10−フェナ
ントロリン、脂肪族−または脂環式−およびジエチル性
不飽和炭化水素、例えばシクロペンタジエンおよび1,
5−シクロオクタジエンがある。
【0048】本発明の方法で用いるのに特に適するロジ
ウム化合物は、Rh4(CO)12 、Rh6(CO)
16 、Rh (CO)3、 [Rh (CO)4]2
、[ Rh( CO)2Cl]2、ロジウム−2−エチ
ルヘキサノアート、ロジウム(III)−アセチルアセ
トナート、ロジウム(I)−ジカルボニルアセチル−ア
セトナート、シクロオクタジエニル−ロジウムクロライ
ド[ Rh( C8 H12) Cl]2、ロジウムア
セテートRh (CH3 CO2)3 、[ Rh (
OCOCH3)2 ・H2 O]2、ロジウム硝酸塩R
h (NO3)3 およびロジウム酸化物のRh2 O
3 がある。
ウム化合物は、Rh4(CO)12 、Rh6(CO)
16 、Rh (CO)3、 [Rh (CO)4]2
、[ Rh( CO)2Cl]2、ロジウム−2−エチ
ルヘキサノアート、ロジウム(III)−アセチルアセ
トナート、ロジウム(I)−ジカルボニルアセチル−ア
セトナート、シクロオクタジエニル−ロジウムクロライ
ド[ Rh( C8 H12) Cl]2、ロジウムア
セテートRh (CH3 CO2)3 、[ Rh (
OCOCH3)2 ・H2 O]2、ロジウム硝酸塩R
h (NO3)3 およびロジウム酸化物のRh2 O
3 がある。
【0049】触媒は溶液として予め製造し、次いで反応
域に導入してもよい。例えば所望の量のロジウムをスル
ホン化ホスフィットの有機溶液に添加し、この出発物質
を合成ガスの存在下に高圧高温のもとで互いに反応させ
る。ロジウムを金属または化合物としてそしてスルホン
化ホスフィットを適当な溶剤中に溶解するかまたは懸濁
させそしてその触媒溶液をこれらの成分をその場で単に
混合することによって製造することも可能である。
域に導入してもよい。例えば所望の量のロジウムをスル
ホン化ホスフィットの有機溶液に添加し、この出発物質
を合成ガスの存在下に高圧高温のもとで互いに反応させ
る。ロジウムを金属または化合物としてそしてスルホン
化ホスフィットを適当な溶剤中に溶解するかまたは懸濁
させそしてその触媒溶液をこれらの成分をその場で単に
混合することによって製造することも可能である。
【0050】実質的にオレフィン、溶解した合成ガス、
反応生成物、触媒および場合によっては溶剤で組成され
ている反応混合物中のロジウムの濃度は、反応混合物を
基準として5〜500ppm、殊に10〜150ppm
(ロジウム)である。スルホン化したホスフィットのア
ンモニウム塩はそれぞれ1g 原子のロジウム当たり2
:1〜200:1、殊に10:1〜100:1(ホスフ
ィット塩)の割合で用いる。
反応生成物、触媒および場合によっては溶剤で組成され
ている反応混合物中のロジウムの濃度は、反応混合物を
基準として5〜500ppm、殊に10〜150ppm
(ロジウム)である。スルホン化したホスフィットのア
ンモニウム塩はそれぞれ1g 原子のロジウム当たり2
:1〜200:1、殊に10:1〜100:1(ホスフ
ィット塩)の割合で用いる。
【0051】オレフィン系化合物のヒドロホルミル化は
20〜150℃、殊に50〜120℃そして0.1〜2
0MPa、特に1〜10MPaで行う。反応媒体中のオ
レフィン系化合物の割合には制限がない。
20〜150℃、殊に50〜120℃そして0.1〜2
0MPa、特に1〜10MPaで行う。反応媒体中のオ
レフィン系化合物の割合には制限がない。
【0052】個々の場合に用いる反応条件はオレフィン
系化合物の種類に依存している。例えば反応性原料物質
が既に比較的低い温度および圧力において僅かな触媒量
で反応し、一方反応の遅い化合物は相応して更に強い反
応条件を必要とする。反応性オレフィンの例にはn−ヘ
キセン−1、n−オクテン−1、n−デセン−1、n−
ドデセン−1、n−テトラデセン−1およびスチレンが
ある。反応の遅いオレフィンの例にはn−オクテン−4
、トリプロピレン、テトラプロピレン、ジシクロペンタ
ジエンおよびリモネンがある。
系化合物の種類に依存している。例えば反応性原料物質
が既に比較的低い温度および圧力において僅かな触媒量
で反応し、一方反応の遅い化合物は相応して更に強い反
応条件を必要とする。反応性オレフィンの例にはn−ヘ
キセン−1、n−オクテン−1、n−デセン−1、n−
ドデセン−1、n−テトラデセン−1およびスチレンが
ある。反応の遅いオレフィンの例にはn−オクテン−4
、トリプロピレン、テトラプロピレン、ジシクロペンタ
ジエンおよびリモネンがある。
【0053】オレフィン系化合物はそのままでまたは溶
液状態でヒドロホルミル化反応に供給できる。適する溶
剤にはケトン類、例えばアセトフェノン、アセトン、メ
チルエチルケトン;低級脂肪族ニトリル、例えばアセト
ニトリル、プロピオニトリルまたはベンゾニトリル;ジ
メチルホルムアミド;線状または分枝状脂肪族飽和モノ
ヒドロ化合物、例えばメタノール、エタノール、プロパ
ノールおよびイソプロパノール;芳香族炭化水素、例え
ばベンゼンまたはトルエンおよび飽和脂環式炭化水素、
例えばシクロペンタンまたはシクロヘキサンがある。
液状態でヒドロホルミル化反応に供給できる。適する溶
剤にはケトン類、例えばアセトフェノン、アセトン、メ
チルエチルケトン;低級脂肪族ニトリル、例えばアセト
ニトリル、プロピオニトリルまたはベンゾニトリル;ジ
メチルホルムアミド;線状または分枝状脂肪族飽和モノ
ヒドロ化合物、例えばメタノール、エタノール、プロパ
ノールおよびイソプロパノール;芳香族炭化水素、例え
ばベンゼンまたはトルエンおよび飽和脂環式炭化水素、
例えばシクロペンタンまたはシクロヘキサンがある。
【0054】殊に痕跡量の水を反応混合物が含む場合ま
たはハロゲンを含むロジウム化合物を用いる場合に、反
応混合物のpH値が反応の間に低下し得ることが判った
。反応混合物のpH値は2より低くないのが有利である
。一般にpH値は2〜13、殊に4〜8に調整する。 それぞれの反応に有利なpH値は有機媒体中に溶解する
塩基性化合物、例えばアミン類の特定量を添加すること
によって達成する。
たはハロゲンを含むロジウム化合物を用いる場合に、反
応混合物のpH値が反応の間に低下し得ることが判った
。反応混合物のpH値は2より低くないのが有利である
。一般にpH値は2〜13、殊に4〜8に調整する。 それぞれの反応に有利なpH値は有機媒体中に溶解する
塩基性化合物、例えばアミン類の特定量を添加すること
によって達成する。
【0055】合成ガスの組成は広い範囲で変えることが
できる。一般に、一酸化炭素と水素との容量比が5:1
〜1:5であるような混合物を用いる。この比が1:1
あるかまたはこの値から僅かだけ少ないほうにずれてい
るのが有利である。
できる。一般に、一酸化炭素と水素との容量比が5:1
〜1:5であるような混合物を用いる。この比が1:1
あるかまたはこの値から僅かだけ少ないほうにずれてい
るのが有利である。
【0056】本発明の方法は不連続的にまたは連続的に
実施することができる。本発明の方法は種々のオレフィ
ン系不飽和化合物のヒドロホルミル化の為に良好に利用
される。
実施することができる。本発明の方法は種々のオレフィ
ン系不飽和化合物のヒドロホルミル化の為に良好に利用
される。
【0057】従って、一つまたは複数のオレフィン性二
重結合を持ち且つ場合によっては更に官能性基を含有し
ていてもよい炭素原子数2〜20の脂肪族−、脂環式−
または芳香脂肪族化合物を反応させることができる。脂
肪族化合物の例には、炭素原子数2〜20の直鎖状また
は分枝状のα−オレフィン、例えばエチレン、プロピレ
ン、ブテン−1、イソブテン、ペンテン−1、2−メチ
ルブテン−1、ヘキセン−1、ヘプテン−1、オクテン
−1、2,4,4−トリメチルペンテン−1、ノネン−
1、2−プロピルヘキセン−1、デセン−1、ウンデセ
ン−1、ドデセン−1、n−テトラデセン−1、オクタ
デセン−1、エイコセン−1、3−メチルブテン−1、
3−メチルペンテン−1、3−エチル−4−メチルペン
テン−1、3−エチルヘキセン−1、4,4−ジメチル
ノネン−1および6−プロピルデセン−1がある。
重結合を持ち且つ場合によっては更に官能性基を含有し
ていてもよい炭素原子数2〜20の脂肪族−、脂環式−
または芳香脂肪族化合物を反応させることができる。脂
肪族化合物の例には、炭素原子数2〜20の直鎖状また
は分枝状のα−オレフィン、例えばエチレン、プロピレ
ン、ブテン−1、イソブテン、ペンテン−1、2−メチ
ルブテン−1、ヘキセン−1、ヘプテン−1、オクテン
−1、2,4,4−トリメチルペンテン−1、ノネン−
1、2−プロピルヘキセン−1、デセン−1、ウンデセ
ン−1、ドデセン−1、n−テトラデセン−1、オクタ
デセン−1、エイコセン−1、3−メチルブテン−1、
3−メチルペンテン−1、3−エチル−4−メチルペン
テン−1、3−エチルヘキセン−1、4,4−ジメチル
ノネン−1および6−プロピルデセン−1がある。
【0058】非環式テルペン類、分枝状オレフィン、例
えばジイソブチレン、トリプロピレン、テトラプロピレ
ン、ダイマーソール(Dimersol)および脂肪族
ジエン、例えば1,3−ブタジエン、1,5−ヘキサジ
エンおよび1,9−デカジエンも適している。
えばジイソブチレン、トリプロピレン、テトラプロピレ
ン、ダイマーソール(Dimersol)および脂肪族
ジエン、例えば1,3−ブタジエン、1,5−ヘキサジ
エンおよび1,9−デカジエンも適している。
【0059】芳香脂肪族オレフィンの例にはスチレン、
α−メチルスチレン、1,1−ジフェニルエチレン、ジ
ビニルベンゼンおよびm−ヘキシルスチレンがある。
α−メチルスチレン、1,1−ジフェニルエチレン、ジ
ビニルベンゼンおよびm−ヘキシルスチレンがある。
【0060】脂環式原料物質として例えばシクロオクタ
ジエン、ジシクロペンタジエンおよび環状テルペン類、
例えばリモネン、ピネン、カンフォレンおよびビスアボ
レンが適している。
ジエン、ジシクロペンタジエンおよび環状テルペン類、
例えばリモネン、ピネン、カンフォレンおよびビスアボ
レンが適している。
【0061】官能性基を持つオレフィン系化合物の例に
は、アリル化合物、特にアリルアルコール、アリルシク
ロヘキサン、アリルベンゼン、1−アリル−4−ビニル
ベンゼン、アリルエチルエーテル、アリル−t−ブチル
エーテル、アリルフェニルエーテルおよびアリルアセテ
ートの如きアルコール類およびエステル;ビニル化合物
、例えばビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル
、β−ビニルナフタリン、o−ビニル−p−キシレンお
よびビニルアセテートの如き特別なエステルおよびエー
テル;アクリル酸誘導体、特に例えばメチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、n−プロピルオクタ−7−エ
ノアートの如きエステル;メタクリル酸誘導体、特に例
えばメチルメタクリレートの如きエステル;ヘキサ−1
−エン−4−オールおよびオクタ−1−エン−4−オー
ル;アクロレイン並びにアクロレイン誘導体、例えばア
クロレインジメチル−および−ジエチルアセテート;シ
アノ化合物、特に例えばアクリルニトリルおよび不飽和
ケトン類、例えばビニルエチルケトンがある。
は、アリル化合物、特にアリルアルコール、アリルシク
ロヘキサン、アリルベンゼン、1−アリル−4−ビニル
ベンゼン、アリルエチルエーテル、アリル−t−ブチル
エーテル、アリルフェニルエーテルおよびアリルアセテ
ートの如きアルコール類およびエステル;ビニル化合物
、例えばビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル
、β−ビニルナフタリン、o−ビニル−p−キシレンお
よびビニルアセテートの如き特別なエステルおよびエー
テル;アクリル酸誘導体、特に例えばメチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、n−プロピルオクタ−7−エ
ノアートの如きエステル;メタクリル酸誘導体、特に例
えばメチルメタクリレートの如きエステル;ヘキサ−1
−エン−4−オールおよびオクタ−1−エン−4−オー
ル;アクロレイン並びにアクロレイン誘導体、例えばア
クロレインジメチル−および−ジエチルアセテート;シ
アノ化合物、特に例えばアクリルニトリルおよび不飽和
ケトン類、例えばビニルエチルケトンがある。
【0062】新規の本方法によれば、一般式 R’
R” C=CR”’R”” 〔式中、R’ とR”’が互いに無関係に水素原子また
は有機残基でありそして一緒に脂環式−、芳香族−また
はヘテロ環式環を形成し得て、R” とR””が互いに
無関係に有機残基であるかまたは一緒に成って脂肪族−
、脂環式−、芳香族−またはヘテロ環式環を形成する。 〕で表される炭素原子数4〜20の内位オレフィンが特
に有利にヒドロホルミル化される。
R” C=CR”’R”” 〔式中、R’ とR”’が互いに無関係に水素原子また
は有機残基でありそして一緒に脂環式−、芳香族−また
はヘテロ環式環を形成し得て、R” とR””が互いに
無関係に有機残基であるかまたは一緒に成って脂肪族−
、脂環式−、芳香族−またはヘテロ環式環を形成する。 〕で表される炭素原子数4〜20の内位オレフィンが特
に有利にヒドロホルミル化される。
【0063】特に、ハロゲンや硫黄を含まない内位オレ
フィンが特に有利である。内位オレフィンの例にはシス
−およびトランス−ブテン−2,2−メチルプロペン、
2−メチルブテン−2、2,3−ジメチルブテン−2、
1,2−ジフェニルエチレン、ヘキセン−2、ヘキセン
−3、シス−およびトランス−ヘプタテン−2、オクテ
ン−2、オクテン−3、オクテン−4、3−メチルヘプ
テン−2、3−メチルヘプテン−3、3−メチルヘプテ
ン−5、3,4−ジメチルヘキセン−2、デセン−2、
テトラデセン−2、4−アミルデセン−2、4−メチル
トリデセン−2、オクタデセン−2、6,6−ジプロピ
ルデセン−3、プロプ−1−エニル−ベンゼン、3−ベ
ンジルヘプテン−3、シクロブテン、シクロペンテン、
シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、1
−メイルシクロヘキセン、マレイン酸ジエチルエステル
、フマル酸ジエチルエステル、クロトンアルデヒド、ク
ロトンアルデヒドジメチルアセタール、桂皮酸エチルエ
ステルおよびシス−およびトランス−プロプ−1−エニ
ル−t−ブチルエーテルがある。
フィンが特に有利である。内位オレフィンの例にはシス
−およびトランス−ブテン−2,2−メチルプロペン、
2−メチルブテン−2、2,3−ジメチルブテン−2、
1,2−ジフェニルエチレン、ヘキセン−2、ヘキセン
−3、シス−およびトランス−ヘプタテン−2、オクテ
ン−2、オクテン−3、オクテン−4、3−メチルヘプ
テン−2、3−メチルヘプテン−3、3−メチルヘプテ
ン−5、3,4−ジメチルヘキセン−2、デセン−2、
テトラデセン−2、4−アミルデセン−2、4−メチル
トリデセン−2、オクタデセン−2、6,6−ジプロピ
ルデセン−3、プロプ−1−エニル−ベンゼン、3−ベ
ンジルヘプテン−3、シクロブテン、シクロペンテン、
シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、1
−メイルシクロヘキセン、マレイン酸ジエチルエステル
、フマル酸ジエチルエステル、クロトンアルデヒド、ク
ロトンアルデヒドジメチルアセタール、桂皮酸エチルエ
ステルおよびシス−およびトランス−プロプ−1−エニ
ル−t−ブチルエーテルがある。
【0064】
【実施例】以下の実施例で本発明を更に詳細に説明する
。しかしながら本発明はこれら実施例に制限されるもの
ではない。以下の実施例において以下の略字を用いる: TPP トリフェニルホスフィンTPP
p トリフェニルホスフィットTPPpS
トリフェニルホスフィット−スルホン酸TPPp
TS トリフェニルホスフィット−トリスルホン酸 TPPpDS トリフェニルホスフィット−ジスルホ
ン酸 TPPpMS トリフェニルホスフィット−モノスル
ホン酸 TIOA トリイソオクチルアミンTPPp
S−TIOAとは以下の実施例においては21重量%
のTPPpMS−TIOA、46重量% のTPPpD
S−TIOAおよび33重量% のTPPpTS−TI
OAより成る混合物を意味する。
。しかしながら本発明はこれら実施例に制限されるもの
ではない。以下の実施例において以下の略字を用いる: TPP トリフェニルホスフィンTPP
p トリフェニルホスフィットTPPpS
トリフェニルホスフィット−スルホン酸TPPp
TS トリフェニルホスフィット−トリスルホン酸 TPPpDS トリフェニルホスフィット−ジスルホ
ン酸 TPPpMS トリフェニルホスフィット−モノスル
ホン酸 TIOA トリイソオクチルアミンTPPp
S−TIOAとは以下の実施例においては21重量%
のTPPpMS−TIOA、46重量% のTPPpD
S−TIOAおよび33重量% のTPPpTS−TI
OAより成る混合物を意味する。
【0065】実験操作
全ての実験を、攪拌機および導入管を備えたステンレス
製オートクレーブ中で実施する。酸素を除く為にオート
クレーブを減圧し、アルゴンを充填しそして個々の反応
温度に加熱する。次いで合成ガスを多数回圧入しそして
再び放圧する。続いてオートクレーブ中に、予め準備し
た触媒溶液、n−テトラデセン−1および計算値の1/
3の量のアセトフェノン(溶剤として用いる)を導入す
る。
製オートクレーブ中で実施する。酸素を除く為にオート
クレーブを減圧し、アルゴンを充填しそして個々の反応
温度に加熱する。次いで合成ガスを多数回圧入しそして
再び放圧する。続いてオートクレーブ中に、予め準備し
た触媒溶液、n−テトラデセン−1および計算値の1/
3の量のアセトフェノン(溶剤として用いる)を導入す
る。
【0066】触媒溶液を、減圧し、十分に加熱しそして
アルゴンを充填したシュレンク管(Schlenk t
ube)で製造する。オートクレーブ中に、用いる全量
のアセトフェノンの2/3に溶解した計算された量のリ
ン化合物を、次いで計算された量のロジウムをRh−2
−エチルヘキサノアートとして導入する。
アルゴンを充填したシュレンク管(Schlenk t
ube)で製造する。オートクレーブ中に、用いる全量
のアセトフェノンの2/3に溶解した計算された量のリ
ン化合物を、次いで計算された量のロジウムをRh−2
−エチルヘキサノアートとして導入する。
【0067】オートクレーブの内容物を反応温度で合成
ガス(CO/H2 =1:1)の圧入によって所望の反
応圧にしそして攪拌する。
ガス(CO/H2 =1:1)の圧入によって所望の反
応圧にしそして攪拌する。
【0068】オートクレーブは、反応の間の圧力の低下
を連続的に監視しそしてペンで記録できる感圧装置を備
えている。
を連続的に監視しそしてペンで記録できる感圧装置を備
えている。
【0069】反応の終了後(3時間)に約25℃に冷却
し、過剰のガスを放圧し、反応器内容物を流し出しそし
てガスクロマトグラフィーで分析する。
し、過剰のガスを放圧し、反応器内容物を流し出しそし
てガスクロマトグラフィーで分析する。
【0070】反応条件および結果を各表に示す。
例1( 実施例)
触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPpS−TIOAの存在下でのn−テトラデセン−1
のヒドロホルミル化。
PPpS−TIOAの存在下でのn−テトラデセン−1
のヒドロホルミル化。
【0071】反応条件:
125℃、0.6MPa、3時間の反応時間、CO/H
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
94.1% のn−テトラデセン−1、2.5% の他
のn−テトラデセン異性体) 190.47mgの1.05% 濃度のロジウム−2−
エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち2
mg(=0.0194mmol)のロジウム;ロジウム
濃度:50ppm pH値は4.2〜4.7である。
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
94.1% のn−テトラデセン−1、2.5% の他
のn−テトラデセン異性体) 190.47mgの1.05% 濃度のロジウム−2−
エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち2
mg(=0.0194mmol)のロジウム;ロジウム
濃度:50ppm pH値は4.2〜4.7である。
【0072】1/1:0.2389g(=0.1943
mmol)TPPpS−TIOA(17.66g のア
セトフェノンに溶解) 1/2:0.4778g(=0.3886mmol)T
PPpS−TIOA(17.24g のアセトフェノン
に溶解) 1/3:0.9556g(=0.7772mmol)T
PPpS−TIOA(16.45g のアセトフェノン
に溶解) 1/4:1.8985g(=1.544 mmol)
TPPpS−TIOA(15.02g のアセトフェノ
ンに溶解) 1/5:2.3891g(=1.943 mmol)
TPPpS−TIOA(14.04g のアセトフェノ
ンに溶解) 表1: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
1/1 10 34 33.
8 79.52 19.7 0.7 −
− − 80/20 1/
2 20 34 33.9
82.2 17.5 0.2 −
− − 82/18 1/3
40 30 29.8 84
.8 15.2 − − −
− 85/15 1/4 80
9 8.9 85.9
14.0 − − −
− 86/14 1/5 100
7 6.9 88.1 11
.8 − − − −
88/12 例2( 比較例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPの存在下でのn−テトラデセン−1のヒドロホルミ
ル化。
mmol)TPPpS−TIOA(17.66g のア
セトフェノンに溶解) 1/2:0.4778g(=0.3886mmol)T
PPpS−TIOA(17.24g のアセトフェノン
に溶解) 1/3:0.9556g(=0.7772mmol)T
PPpS−TIOA(16.45g のアセトフェノン
に溶解) 1/4:1.8985g(=1.544 mmol)
TPPpS−TIOA(15.02g のアセトフェノ
ンに溶解) 1/5:2.3891g(=1.943 mmol)
TPPpS−TIOA(14.04g のアセトフェノ
ンに溶解) 表1: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
1/1 10 34 33.
8 79.52 19.7 0.7 −
− − 80/20 1/
2 20 34 33.9
82.2 17.5 0.2 −
− − 82/18 1/3
40 30 29.8 84
.8 15.2 − − −
− 85/15 1/4 80
9 8.9 85.9
14.0 − − −
− 86/14 1/5 100
7 6.9 88.1 11
.8 − − − −
88/12 例2( 比較例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPの存在下でのn−テトラデセン−1のヒドロホルミ
ル化。
【0073】助触媒としてのTPPpS−TIOAとT
PPとを直接的に比較する為に、例1の条件のもとで実
施する。
PPとを直接的に比較する為に、例1の条件のもとで実
施する。
【0074】反応条件:
125℃、0.6MPa、3時間の反応時間、CO/H
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
94.1% のn−テトラデセン−1、2.5% の他
のn−テトラデセン異性体) 190.47mgの1.05% 濃度のロジウム−2−
エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち2
mg(=0.01943mmol)のロジウム;ロジウ
ム濃度:50ppm 2/1:0.0509g(=0.1943mmol)T
PP(17.9g のアセトフェノンに溶解)2/2:
0.1019g(=0.3886mmol)TPP(1
7.6g のアセトフェノンに溶解)2/3:0.20
38g(=0.7772mmol)TPP(17.8g
のアセトフェノンに溶解)2/4:0.4077g(
=1.5544mmol)TPP(17.2g のアセ
トフェノンに溶解)2/5:0.5096g(=1.9
43 mmol)TPP(17.4gのアセトフェノ
ンに溶解) 表2: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
2/1 10 41 40.
9 66.5 29.2 2.9 0.
93 0.28 0.14 67/33 2/
2 20 43 42.9
71.0 26.7 1.7 0.48
0.11 71/29 2/3
40 49 48.9 73
.1 24.8 1.4 0.4
0.1 73/27 2/4 80
47 46.8 76.5
22.4 0.8 0.1 0.
9 77/23 2/5 100
44 43.9 77.9 21
.5 0.4 0.1
78/22 例3( 比較例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPpの存在下でのn−テトラデセン−1のヒドロホル
ミル化。
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
94.1% のn−テトラデセン−1、2.5% の他
のn−テトラデセン異性体) 190.47mgの1.05% 濃度のロジウム−2−
エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち2
mg(=0.01943mmol)のロジウム;ロジウ
ム濃度:50ppm 2/1:0.0509g(=0.1943mmol)T
PP(17.9g のアセトフェノンに溶解)2/2:
0.1019g(=0.3886mmol)TPP(1
7.6g のアセトフェノンに溶解)2/3:0.20
38g(=0.7772mmol)TPP(17.8g
のアセトフェノンに溶解)2/4:0.4077g(
=1.5544mmol)TPP(17.2g のアセ
トフェノンに溶解)2/5:0.5096g(=1.9
43 mmol)TPP(17.4gのアセトフェノ
ンに溶解) 表2: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
2/1 10 41 40.
9 66.5 29.2 2.9 0.
93 0.28 0.14 67/33 2/
2 20 43 42.9
71.0 26.7 1.7 0.48
0.11 71/29 2/3
40 49 48.9 73
.1 24.8 1.4 0.4
0.1 73/27 2/4 80
47 46.8 76.5
22.4 0.8 0.1 0.
9 77/23 2/5 100
44 43.9 77.9 21
.5 0.4 0.1
78/22 例3( 比較例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPpの存在下でのn−テトラデセン−1のヒドロホル
ミル化。
【0075】n−テトラデセン−1をRh−2−エチル
ヘキサノアートおよび助触媒としてのTPPpにて例1
と同じ条件のもとでヒドロホルミル化し、助触媒として
のTPPpS−TIOAとTPPpとの能力を比較する
。
ヘキサノアートおよび助触媒としてのTPPpにて例1
と同じ条件のもとでヒドロホルミル化し、助触媒として
のTPPpS−TIOAとTPPpとの能力を比較する
。
【0076】反応条件:
125℃、0.6MPa、3時間の反応時間、CO/H
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
94.1% のn−テトラデセン−1、2.5% の他
のn−テトラデセン異性体) 190.47mgの1.05% 濃度のロジウム−2−
エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち2
mg(=0.01943mmol)のロジウム;ロジウ
ム濃度:50ppm 3/1:0.060 g(=0.1943mmol)
TPPp(17.9g のトルエンに溶解)3/2:0
.1205g(=0.3886mmol)TPPp(1
8.0g のトルエンに溶解)3/3:0.2411g
(=0.7772mmol)TPPp(17.9g の
トルエンに溶解)3/4:0.4823g(=1.55
44mmol)TPPp(17.4g のトルエンに溶
解)3/5:0.6029g(=1.943 mmo
l)TPPp(17.5gのトルエンに溶解) 表3
: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
3/1 10 23 22.
9 66.42 27.6 3.7 1.
5 0.5 0.27 66/34 3/
2 20 35 34.9
78.8 20.4 0.7 0.
1 − 79/21 3/3
40 47 46.8 79
.7 19.5 0.6 0.1
− 80/20 3/4 80
46 45.8 80.1
19.3 0.4 0.1
− 80/20 3/5 100
32 31.9 82.2 17
.6 0.1 0.1 −
82/18 例4( 実施例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPpS−TIOAの存在下でのn−テトラデセン−1
のヒドロホルミル化。
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
94.1% のn−テトラデセン−1、2.5% の他
のn−テトラデセン異性体) 190.47mgの1.05% 濃度のロジウム−2−
エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち2
mg(=0.01943mmol)のロジウム;ロジウ
ム濃度:50ppm 3/1:0.060 g(=0.1943mmol)
TPPp(17.9g のトルエンに溶解)3/2:0
.1205g(=0.3886mmol)TPPp(1
8.0g のトルエンに溶解)3/3:0.2411g
(=0.7772mmol)TPPp(17.9g の
トルエンに溶解)3/4:0.4823g(=1.55
44mmol)TPPp(17.4g のトルエンに溶
解)3/5:0.6029g(=1.943 mmo
l)TPPp(17.5gのトルエンに溶解) 表3
: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
3/1 10 23 22.
9 66.42 27.6 3.7 1.
5 0.5 0.27 66/34 3/
2 20 35 34.9
78.8 20.4 0.7 0.
1 − 79/21 3/3
40 47 46.8 79
.7 19.5 0.6 0.1
− 80/20 3/4 80
46 45.8 80.1
19.3 0.4 0.1
− 80/20 3/5 100
32 31.9 82.2 17
.6 0.1 0.1 −
82/18 例4( 実施例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPpS−TIOAの存在下でのn−テトラデセン−1
のヒドロホルミル化。
【0077】n−テトラデセン−1のヒドロホルミル化
を例1の条件のもとで実施するが、pHは6である。p
H値はトリイソオクチルアミンの添加によって調整した
。
を例1の条件のもとで実施するが、pHは6である。p
H値はトリイソオクチルアミンの添加によって調整した
。
【0078】反応条件:
125℃、0.6MPa、3時間の反応時間、CO/H
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
94.1% のn−テトラデセン−1、2.5% の他
のn−テトラデセン異性体) 190.47mgの1.05% 濃度のロジウム−2−
エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち2
mg(=0.0194mmol)のロジウム、ロジウム
濃度:50ppm pH値は0.1〜0.27g のTIOAの添加によっ
て6.0に調整する。
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
94.1% のn−テトラデセン−1、2.5% の他
のn−テトラデセン異性体) 190.47mgの1.05% 濃度のロジウム−2−
エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち2
mg(=0.0194mmol)のロジウム、ロジウム
濃度:50ppm pH値は0.1〜0.27g のTIOAの添加によっ
て6.0に調整する。
【0079】4/1:0.3131g(=0.1943
mmol)TPPpS−TIOA(17.4 g の
アセトフェノンに溶解) 4/2:0.6262g(=0.3886mmol)T
PPpS−TIOA(17.2 g のアセトフェノ
ンに溶解) 4/3:1.2524g(=0.7772mmol)T
PPpS−TIOA(16.1 g のアセトフェノ
ンに溶解) 4/4:2.5049g(=1.544 mmol)
TPPpS−TIOA(14.4 g のアセトフェ
ノンに溶解) 4/5:3.1311g(=1.943 mmol)
TPPpS−TIOA(13.8 g のアセトフェ
ノンに溶解) 表4: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
4/1 10 51 50.
8 73.8 22.1 2.6 1.0
0.4 0.2 74/26 4/
2 20 48 47.9
77.2 20.5 1.7 0.4
0.2 77/23 4/3
40 50 49.8 83
.3 16.1 0.4 0.2
− 83/17 4/4 80
22 21.9 83.4
16.6 − − −
− 83/17 4/5 100
17 16.9 87.4 12
.6 − − − −
87/13 例5( 実施例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPpS−TIOAの存在下でのn−テトラデセン−1
のヒドロホルミル化。
mmol)TPPpS−TIOA(17.4 g の
アセトフェノンに溶解) 4/2:0.6262g(=0.3886mmol)T
PPpS−TIOA(17.2 g のアセトフェノ
ンに溶解) 4/3:1.2524g(=0.7772mmol)T
PPpS−TIOA(16.1 g のアセトフェノ
ンに溶解) 4/4:2.5049g(=1.544 mmol)
TPPpS−TIOA(14.4 g のアセトフェ
ノンに溶解) 4/5:3.1311g(=1.943 mmol)
TPPpS−TIOA(13.8 g のアセトフェ
ノンに溶解) 表4: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
4/1 10 51 50.
8 73.8 22.1 2.6 1.0
0.4 0.2 74/26 4/
2 20 48 47.9
77.2 20.5 1.7 0.4
0.2 77/23 4/3
40 50 49.8 83
.3 16.1 0.4 0.2
− 83/17 4/4 80
22 21.9 83.4
16.6 − − −
− 83/17 4/5 100
17 16.9 87.4 12
.6 − − − −
87/13 例5( 実施例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPpS−TIOAの存在下でのn−テトラデセン−1
のヒドロホルミル化。
【0080】例1を、ロジウム濃度を50ppmから2
0ppmに下げそして圧力を0.6MPaから5.0M
Paに上げる点を変えて繰り返す。
0ppmに下げそして圧力を0.6MPaから5.0M
Paに上げる点を変えて繰り返す。
【0081】反応条件:
125℃、5.0MPa、3時間の反応時間、CO/H
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
93.9% のn−テトラデセン−1、2.8% の他
のn−テトラデセン異性体) 95.23 mgの1.05% 濃度のロジウム−2
−エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち
1mg(=0.00971mmol)のロジウム;ロジ
ウム濃度:20ppm 5/1:0.4775g(=0.388mmol)TP
PpS−TIOA(27.25g のアセトンに溶解)
5/2:0.9551g(=0.7768mmol)T
PPpS−TIOA(27.77のアセトンに溶解)5
/1および5/2で用いるアセトンはCaCl2 で予
め乾燥されている。
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
93.9% のn−テトラデセン−1、2.8% の他
のn−テトラデセン異性体) 95.23 mgの1.05% 濃度のロジウム−2
−エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち
1mg(=0.00971mmol)のロジウム;ロジ
ウム濃度:20ppm 5/1:0.4775g(=0.388mmol)TP
PpS−TIOA(27.25g のアセトンに溶解)
5/2:0.9551g(=0.7768mmol)T
PPpS−TIOA(27.77のアセトンに溶解)5
/1および5/2で用いるアセトンはCaCl2 で予
め乾燥されている。
【0082】
表5:
実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
5/1 40 71 70.
9 73.9 25.3 0.6
0.14 − 74/26 5/
2 80 70 69.9
74.7 24.6 0.45 0.
12 − 75/25 例6(
比較例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPの存在下でのn−テトラデセン−1のヒドロホルミ
ル化。
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
5/1 40 71 70.
9 73.9 25.3 0.6
0.14 − 74/26 5/
2 80 70 69.9
74.7 24.6 0.45 0.
12 − 75/25 例6(
比較例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPの存在下でのn−テトラデセン−1のヒドロホルミ
ル化。
【0083】助触媒としてのTPPpS−TIOAとT
PPとを比較する為に、実施例5における如く実施する
。
PPとを比較する為に、実施例5における如く実施する
。
【0084】反応条件:
125℃、5.0MPa、3時間の反応時間、CO/H
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
93.9% のn−テトラデセン−1、2.8% の他
のn−テトラデセン異性体) 95.23 mgの1.05% 濃度のロジウム−2
−エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち
1mg(=0.00971mmol)のロジウム、ロジ
ウム濃度:20ppm 6/1:0.1018g(=0.388 mmol)
TPP(27.76g のアセトンに溶解)6/2:0
.2037g(=0.7768mmol)TPP(27
.92g のアセトンに溶解) 表6: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
6/1 40 81 80.
9 72.1 27.2 0.43
0.14 − 72/28 6/
2 80 83 82.9
72.4 27.1 0.31 0.1
3 − 72/28 例7(
実施例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPpS−TIOAの存在下でのn−テトラデセン−1
のヒドロホルミル化。
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
93.9% のn−テトラデセン−1、2.8% の他
のn−テトラデセン異性体) 95.23 mgの1.05% 濃度のロジウム−2
−エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち
1mg(=0.00971mmol)のロジウム、ロジ
ウム濃度:20ppm 6/1:0.1018g(=0.388 mmol)
TPP(27.76g のアセトンに溶解)6/2:0
.2037g(=0.7768mmol)TPP(27
.92g のアセトンに溶解) 表6: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
6/1 40 81 80.
9 72.1 27.2 0.43
0.14 − 72/28 6/
2 80 83 82.9
72.4 27.1 0.31 0.1
3 − 72/28 例7(
実施例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPpS−TIOAの存在下でのn−テトラデセン−1
のヒドロホルミル化。
【0085】例5を、反応温度を125℃の替わりに1
10℃とした点を変えて繰り返す。 反応条件: 110℃、5.0MPa、3時間の反応時間、CO/H
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
93.9% のn−テトラデセン−1、2.8% の他
のn−テトラデセン異性体) 95.23 mgの1.05% 濃度のロジウム−2
−エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち
1mg(=0.00971mmol)のロジウム;ロジ
ウム濃度:20ppm 7/1:0.4775g(=0.3884mmol)T
PPpS−TIOA(27.9g のアセトンに溶解)
7/2:0.9551g(=0.7768mmol)T
PPpS−TIOA(26.02のアセトンに溶解)
表7: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i−番号 比(mol) 率(%) ド収量
a1−1 a1−2 al−3 a1−4
al−5/6 比 7/1 40
90 89.9 67.7
29.4 2.1 0.49 −
68/32 7/2 80 88
87.9 70.8 28.1 0.8
0.1 71/29
例8( 比較例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPの存在下でのn−テトラデセン−1のヒドロホルミ
ル化。
10℃とした点を変えて繰り返す。 反応条件: 110℃、5.0MPa、3時間の反応時間、CO/H
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
93.9% のn−テトラデセン−1、2.8% の他
のn−テトラデセン異性体) 95.23 mgの1.05% 濃度のロジウム−2
−エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち
1mg(=0.00971mmol)のロジウム;ロジ
ウム濃度:20ppm 7/1:0.4775g(=0.3884mmol)T
PPpS−TIOA(27.9g のアセトンに溶解)
7/2:0.9551g(=0.7768mmol)T
PPpS−TIOA(26.02のアセトンに溶解)
表7: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i−番号 比(mol) 率(%) ド収量
a1−1 a1−2 al−3 a1−4
al−5/6 比 7/1 40
90 89.9 67.7
29.4 2.1 0.49 −
68/32 7/2 80 88
87.9 70.8 28.1 0.8
0.1 71/29
例8( 比較例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPの存在下でのn−テトラデセン−1のヒドロホルミ
ル化。
【0086】低温における助触媒としてのTPPpS−
TIOAとTPPとの能力を比較する為に、例7と同様
に実施する。
TIOAとTPPとの能力を比較する為に、例7と同様
に実施する。
【0087】反応条件:
110℃、5.0MPa、3時間の反応時間、CO/H
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
93.9% のn−テトラデセン−1、2.8% の他
のn−テトラデセン異性体) 95.23 mgの1.05% 濃度のロジウム−2
−エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち
1mg(=0.00971mmol)のロジウム;ロジ
ウム濃度:20ppm 8/1:0.1018g(=0.3884mmol)T
PP(27.98g のアセトンに溶解)8/2:0.
2037g(=0.7768mmol)TPP(27.
75g のアセトンに溶解) 表8: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%) n/i− 番
号 比(mol) 率(%) ド収量 a1−1
a1−2 al−3 al−4/5
比 8/1 40 69
68.9 72.6 27.1 0.12
0.09 73/27 8/2 80
63 62.9 72.6 27
.1 0.1 0.1 73/27
例9( 比較例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPpの存在下でのn−テトラデセン−1のヒドロホル
ミル化。
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
93.9% のn−テトラデセン−1、2.8% の他
のn−テトラデセン異性体) 95.23 mgの1.05% 濃度のロジウム−2
−エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち
1mg(=0.00971mmol)のロジウム;ロジ
ウム濃度:20ppm 8/1:0.1018g(=0.3884mmol)T
PP(27.98g のアセトンに溶解)8/2:0.
2037g(=0.7768mmol)TPP(27.
75g のアセトンに溶解) 表8: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%) n/i− 番
号 比(mol) 率(%) ド収量 a1−1
a1−2 al−3 al−4/5
比 8/1 40 69
68.9 72.6 27.1 0.12
0.09 73/27 8/2 80
63 62.9 72.6 27
.1 0.1 0.1 73/27
例9( 比較例) 触媒としてのロジウム−2−エチルヘキサノアート/T
PPpの存在下でのn−テトラデセン−1のヒドロホル
ミル化。
【0088】この例では、n−テトラデセン−1を例7
および8の条件のもとでヒドロホルミル化する際の助触
媒(例7および8)としてのTPPpの能力を試験する
。
および8の条件のもとでヒドロホルミル化する際の助触
媒(例7および8)としてのTPPpの能力を試験する
。
【0089】反応条件:
110℃、5.0MPa、3時間の反応時間、CO/H
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
93.9% のn−テトラデセン−1、2.8% の他
のn−テトラデセン異性体) 95.23 mgの1.05% 濃度のロジウム−2
−エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち
1mg(=0.00971mmol)のロジウム;ロジ
ウム濃度:20ppm 9/1:0.1205g(=0.388 mmol)
TPPp(28.03gのアセトンに溶解)9/2:0
.2410g(=0.7768mmol)TPPp(2
7.82gのアセトンに溶解) 表9: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
9/1 40 81 80.
9 71.2 27.8 0.6 0.0
4 0.04 0.16 71/29 9/
2 80 77 76.9
72.7 26.9 0.2 0.
1 − 73/27 例10(
実施例) 触媒としてのRh4(CO)12/TPPpS−TIO
Aの存在下でのn−ヘキセン−1のヒドロホルミル化。
2 =1:1 20g (=0.098mol)のn−テトラデセン(
93.9% のn−テトラデセン−1、2.8% の他
のn−テトラデセン異性体) 95.23 mgの1.05% 濃度のロジウム−2
−エチルヘキサノアート溶液(溶剤はキシレン)、即ち
1mg(=0.00971mmol)のロジウム;ロジ
ウム濃度:20ppm 9/1:0.1205g(=0.388 mmol)
TPPp(28.03gのアセトンに溶解)9/2:0
.2410g(=0.7768mmol)TPPp(2
7.82gのアセトンに溶解) 表9: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%
) ド収量 a1−1 a1−2 al−3
a1−4 al−5 al−6/7 比
9/1 40 81 80.
9 71.2 27.8 0.6 0.0
4 0.04 0.16 71/29 9/
2 80 77 76.9
72.7 26.9 0.2 0.
1 − 73/27 例10(
実施例) 触媒としてのRh4(CO)12/TPPpS−TIO
Aの存在下でのn−ヘキセン−1のヒドロホルミル化。
【0090】n−ヘキセン−1を用いそして2.5MP
aで実施することを除いて例1を繰り返す。
aで実施することを除いて例1を繰り返す。
【0091】反応条件:
125℃、2.5MPa、3時間の反応時間、CO/H
2 =1:1 16.66g (=0.194mol)のn−ヘキセン
(97.07% のn−ヘキセン−1、0.87% の
他のn−ヘキセン異性体) 1.81mlのRh4(CO)12溶液(300mlの
トルエンに300mgのRh4(CO)12を溶解)、
即ち1mg(=0.00971mmol)のRh、ロジ
ウム濃度:20ppm 10/1:0.1194g(=0.09717mmol
)TPPpS−TIOA(29.56g のアセトフェ
ノンに溶解) 10/2:0.4779g(=0.3887mmol)
TPPpS−TIOA(27.80g のアセトフェノ
ンに溶解) 10/3:0.9558g(=0.7774mmol)
TPPpS−TIOA(26.20g のアセトフェノ
ンに溶解) 10/4:1.1948g(=0.9717mmol)
TPPpS−TIOA(25.86g のアセトフェノ
ンに溶解) 表10: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%)
ド収量 n−ヘプタ 2−メチルヘ 2−エ
チルペ 比
ナール キサナール
ンタナール 10/1 1
0 89 88.7 60
.0 32.3 7.5
60/4010/2 40
88 87.4 75.5
23.0 1.4
76/2410/3 80 90
89.9 78.6
20.6 0.7 79/
2110/4 100 82 8
1.7 79.9 19.6
0.4 80/20 例
11( 比較例) 触媒としてのRh4(CO)12/TPPの存在下での
n−ヘキセン−1のヒドロホルミル化。
2 =1:1 16.66g (=0.194mol)のn−ヘキセン
(97.07% のn−ヘキセン−1、0.87% の
他のn−ヘキセン異性体) 1.81mlのRh4(CO)12溶液(300mlの
トルエンに300mgのRh4(CO)12を溶解)、
即ち1mg(=0.00971mmol)のRh、ロジ
ウム濃度:20ppm 10/1:0.1194g(=0.09717mmol
)TPPpS−TIOA(29.56g のアセトフェ
ノンに溶解) 10/2:0.4779g(=0.3887mmol)
TPPpS−TIOA(27.80g のアセトフェノ
ンに溶解) 10/3:0.9558g(=0.7774mmol)
TPPpS−TIOA(26.20g のアセトフェノ
ンに溶解) 10/4:1.1948g(=0.9717mmol)
TPPpS−TIOA(25.86g のアセトフェノ
ンに溶解) 表10: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%)
ド収量 n−ヘプタ 2−メチルヘ 2−エ
チルペ 比
ナール キサナール
ンタナール 10/1 1
0 89 88.7 60
.0 32.3 7.5
60/4010/2 40
88 87.4 75.5
23.0 1.4
76/2410/3 80 90
89.9 78.6
20.6 0.7 79/
2110/4 100 82 8
1.7 79.9 19.6
0.4 80/20 例
11( 比較例) 触媒としてのRh4(CO)12/TPPの存在下での
n−ヘキセン−1のヒドロホルミル化。
【0092】助触媒としてのTPPpS−TIOAとT
PPとの能力を比較する為に、例10における如く実施
する。
PPとの能力を比較する為に、例10における如く実施
する。
【0093】反応条件:
125℃、2.5MPa、3時間の反応時間、CO/H
2 =1:1 16.66g (=0.194mol)のn−ヘキセン
−1(97.07% のn−ヘキセン−1、0.87%
の他のn−ヘキセン異性体) 1.81mlのRh4(CO)12溶液(300mlの
トルエンに300mgのRh4(CO)12を溶解)、
即ち1mg(=0.009717mmol)のRh、ロ
ジウム濃度:20ppm 11/1:0.025 g(=0.09717mmo
l)TPP(30.25g のトルエンに溶解)11/
2:0.1019g(=0.3887mmol)TPP
(29.90gのトルエンに溶解)11/3:0.25
48g(=0.9717mmol)TPP(29.80
gのトルエンに溶解) 表11: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%)
ド収量 n−ヘプタ 2−メチルヘ 2−エ
チルペ 比
ナール キサナール
ンタナール 11/1 1
0 89 88.5 67
.5 29.5 2.9
68/3211/2 40
86 85.7 72.3
27.1 0.6
72/2811/3 100 85.
5 85.4 74.6
25.3 0.1 75/
25 例12( 比較例) 触媒としてのRh4(CO)12/TPPpの存在下で
のn−ヘキセン−1のヒドロホルミル化。
2 =1:1 16.66g (=0.194mol)のn−ヘキセン
−1(97.07% のn−ヘキセン−1、0.87%
の他のn−ヘキセン異性体) 1.81mlのRh4(CO)12溶液(300mlの
トルエンに300mgのRh4(CO)12を溶解)、
即ち1mg(=0.009717mmol)のRh、ロ
ジウム濃度:20ppm 11/1:0.025 g(=0.09717mmo
l)TPP(30.25g のトルエンに溶解)11/
2:0.1019g(=0.3887mmol)TPP
(29.90gのトルエンに溶解)11/3:0.25
48g(=0.9717mmol)TPP(29.80
gのトルエンに溶解) 表11: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%)
ド収量 n−ヘプタ 2−メチルヘ 2−エ
チルペ 比
ナール キサナール
ンタナール 11/1 1
0 89 88.5 67
.5 29.5 2.9
68/3211/2 40
86 85.7 72.3
27.1 0.6
72/2811/3 100 85.
5 85.4 74.6
25.3 0.1 75/
25 例12( 比較例) 触媒としてのRh4(CO)12/TPPpの存在下で
のn−ヘキセン−1のヒドロホルミル化。
【0094】n−ヘキセン−1をRh4(CO)12と
助触媒としてのトリフェニルホスフィット(TPPp)
を用いて例10および11と同じ条件のもとでヒドロホ
ルミル化し、助触媒としてのTPPpS−TIOAとT
PPpとの能力を比較する。
助触媒としてのトリフェニルホスフィット(TPPp)
を用いて例10および11と同じ条件のもとでヒドロホ
ルミル化し、助触媒としてのTPPpS−TIOAとT
PPpとの能力を比較する。
【0095】反応条件:
125℃、2.5MPa、3時間の反応時間、CO/H
2 =1:1 16.66g (=0.194mol)のn−ヘキセン
(97.07% のn−ヘキセン−1、0.87% の
他のn−ヘキセン異性体) 1.81mlのRh4(CO)12溶液(300mlの
トルエンに300mgのRh4(CO)12を溶解)、
即ち1mg(=0.00971mmol)のRh、ロジ
ウム濃度:20ppm 12/1:0.030 g(=0.0971mmol
)TPPp(30.0gのトルエンに溶解)12/2:
0.120g(=0.3887mmol)TPPp(2
9.8g のトルエンに溶解)12/3:0.301g
(=0.9717mmol)TPPp(26.5g の
トルエンに溶解) 表12: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%)
ド収量 n−ヘプタ 2−メチルヘ 2−エ
チルペ 比
ナール キサナール
ンタナール 12/1 1
0 65 65 45
.5 41.3 13.2
45/5512/2 40
92 91.7 67.6
27.9 4.4
68/3212/3 100 87
87 74.4
23.7 1.9 74/
26
2 =1:1 16.66g (=0.194mol)のn−ヘキセン
(97.07% のn−ヘキセン−1、0.87% の
他のn−ヘキセン異性体) 1.81mlのRh4(CO)12溶液(300mlの
トルエンに300mgのRh4(CO)12を溶解)、
即ち1mg(=0.00971mmol)のRh、ロジ
ウム濃度:20ppm 12/1:0.030 g(=0.0971mmol
)TPPp(30.0gのトルエンに溶解)12/2:
0.120g(=0.3887mmol)TPPp(2
9.8g のトルエンに溶解)12/3:0.301g
(=0.9717mmol)TPPp(26.5g の
トルエンに溶解) 表12: 実験 P/Rh− 転化 アルデヒ
選 択 率 (%)
n/i− 番号 比(mol) 率(%)
ド収量 n−ヘプタ 2−メチルヘ 2−エ
チルペ 比
ナール キサナール
ンタナール 12/1 1
0 65 65 45
.5 41.3 13.2
45/5512/2 40
92 91.7 67.6
27.9 4.4
68/3212/3 100 87
87 74.4
23.7 1.9 74/
26
【0096】
【発明の効果】本発明のヒドロホルミル化法は、反応混
合物の成分と反応する傾向が小さいという有機ホスフィ
ンの長所と、低温で既に高い活性を持つ有機ホスフィッ
トの長所とを合わせ持った触媒系によって低温でも高い
選択率をもたらす。
合物の成分と反応する傾向が小さいという有機ホスフィ
ンの長所と、低温で既に高い活性を持つ有機ホスフィッ
トの長所とを合わせ持った触媒系によって低温でも高い
選択率をもたらす。
Claims (15)
- 【請求項1】 オレフィン系不飽和化合物を一酸化炭
素および水素と均一相において20〜150℃および0
.1〜20MPa においてロジウムおよび有機リン化
合物を含む触媒系の存在下に反応させることによってア
ルデヒドを製造するに当たって、有機リン化合物として
スルホン化亜リン酸トリエステルの、有機媒体に溶解す
るアンモニウム塩を用いそして触媒系中に1g 原子の
ロジウム当たり少なくとも2モルのリン化合物が存在す
ることを特徴とする、上記アルデヒドの製造方法。 - 【請求項2】 亜リン酸トリエステルのアルコール成
分が、一般式 (MO2 S)n − Y − (OH)m
(1)(式中、Yは有機残基であり、Mはアンモ
ニウムイオンを意味し、mは1〜3の整数でありそして
nは1〜4の整数である。)で表される請求項 1に記
載の方法。 - 【請求項3】 Yが炭素原子数2〜20の直鎖状また
は分枝状の飽和脂肪族残基、炭素原子数5〜12の単核
または二核の脂環式残基、単核または二核の芳香族残基
、殊にベンゼン、ビフェニル、ナフタリンまたはビナフ
チルから誘導されるもの、アルキルアリール残基、特に
ベンジル残基、アリールアルキル残基、特にトルエン、
エチルベンゼンまたはキシレン異性体を基礎とするかま
たは窒素を含む飽和−または不飽和のヘテロ環式五−ま
たは六員環、特にピリジンである請求項2に記載の方法
。 - 【請求項4】 アンモニウムイオンが一般式〔NHx
R1y 〕+ 〔式中、xは1または2であり、yは2または3であり
そしてxとyとの合計が4でありそしてR1 は同じか
または異なる脂肪族、脂環式、芳香族、芳香脂肪族また
はヘテロ環式の残基である。]で表される請求項2に記
載の方法。 - 【請求項5】 R1 が直鎖状−または分枝状アルキ
ル基でありそしてy個の残基R1 の全ての炭素原子の
合計が4〜60であり、殊にy=2で12〜36、特に
14〜26であり、y=3で18〜42、特に21〜3
9である請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 R1 がn−オクチル−、i−オクチ
ル−、i−ノニル−、i−デシル−またはi−トリデシ
ル基を意味する請求項5に記載の方法。 - 【請求項7】 亜燐酸トリエステルが一般式【化1】 〔式中、Yは同じか異なり有機残基であり、n1 は少
なくとも一つのn1 が1であるという条件のもとで同
じか異なる0〜4の整数を意味し、Rは同じか異なり、
脂肪族−、脂環式−、芳香族−、芳香脂肪族−またはヘ
テロ環式残基、殊に直鎖状または分枝状アルキル残基で
あり、その際窒素原子を介してスルホン酸残基と結合し
ている三つの残基Rが全部で10〜60、殊に12〜3
6個の炭素原子を有している。〕に相当する請求項1〜
6のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項8】 亜燐酸トリエステルが一般式【化2】 〔式中、Yは好ましくはベンゼン、ビフェニル、ナフタ
リンまたはビナフチルから誘導される有機残基であり、
n1 は少なくとも一つのn1 が1であるという条件
のもとで同じか異なる0〜4の整数を意味しそしてRは
同じか異なり、脂肪族−、脂環式−、芳香族−、芳香脂
肪族−またはヘテロ環式残基、殊に直鎖状または分枝状
アルキル残基であり、その際窒素原子を介してスルホン
酸残基と結合している三つの残基Rが全部で10〜60
、殊に12〜36個の炭素原子を有している。〕に相当
する請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項9】 亜燐酸トリエステルが一般式【化3】 〔式中、Yは同じか異なり有機残基であり、アリールア
ルキル−、アルキルアリール−、アリール−、ビアリー
ル−、ナフチル−またはビナフチル残基であり、Zは原
子群の −CH2−、−(CH2)2−または−(CH
2)3−でありそして、n1 は少なくと一つのn1
が1であるという条件のもとで同じか異なる0〜4の整
数を意味しそしてRは同じか異なり、脂肪族−、脂環式
−、芳香族−、芳香脂肪族−またはヘテロ環式残基、殊
に直鎖状または分枝状アルキル残基であり、その際窒素
原子を介してスルホン酸残基と結合している三つの残基
Rが全部で10〜60、殊に12〜36個の炭素原子を
有している。〕で表される請求項1〜6のいずれか一項
に記載の方法。 - 【請求項10】 亜燐酸トリエステルが一般式【化4
】 〔式中、Yは有機残基、特にベンゼン、ビフェニルまた
はナフタリン並びに炭素原子数2〜6のアルカンから誘
導される残基であり、n1 は少なくと一つのn1 が
1であるという条件のもとで同じか異なる0〜4の整数
を意味しそしてRは同じか異なり、脂肪族−、脂環式−
、芳香族−、芳香脂肪族−またはヘテロ環式残基、殊に
直鎖状または分枝状アルキル残基であり、その際窒素原
子を介してスルホン酸残基と結合している三つの残基R
が全部で10〜60、殊に12〜36個の炭素原子を有
している。〕で表される請求項1〜6のいずれか一項に
記載の方法。 - 【請求項11】 ロジウムを、用いるオレフィン系不
飽和化合物を基準として5〜500 ppm、10〜1
50 ppmの量で用いそして1g 原子のロジウム当
たりに少なくとも2モルの亜リン酸トリエステルを使用
する請求項 1〜10のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項12】 1g 原子のロジウム当たりに2〜
200、殊に10〜100モルの亜リン酸トリエステル
を使用する請求項11に記載の方法。 - 【請求項13】 反応を50〜120℃の温度および
1〜10MPaの圧力のもとで行う請求項 1〜12の
いずれか一項に記載の方法。 - 【請求項14】 反応混合物のpH値が2〜13、殊
に4〜8である請求項1〜13のいずれか一項に記載の
方法。 - 【請求項15】 一酸化炭素と水との容量比が5:1
〜1:5、殊に約1:1である請求項 1〜14のいず
れか一項に記載の方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE39429547 | 1989-12-23 | ||
DE3942954A DE3942954A1 (de) | 1989-12-23 | 1989-12-23 | Verfahren zur herstellung von aldehyden |
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JPH0672114B2 JPH0672114B2 (ja) | 1994-09-14 |
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BR (1) | BR9006444A (ja) |
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1990
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