JPH04305098A - ホージャサイトの合成 - Google Patents
ホージャサイトの合成Info
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- JPH04305098A JPH04305098A JP41913690A JP41913690A JPH04305098A JP H04305098 A JPH04305098 A JP H04305098A JP 41913690 A JP41913690 A JP 41913690A JP 41913690 A JP41913690 A JP 41913690A JP H04305098 A JPH04305098 A JP H04305098A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
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- C01B39/02—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof; Direct preparation thereof; Preparation thereof starting from a reaction mixture containing a crystalline zeolite of another type, or from preformed reactants; After-treatment thereof
- C01B39/20—Faujasite type, e.g. type X or Y
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔０００１〕
〔産業上の利用分野〕本発明はホージヤサイトの合成に
関するものである。 〔０００２〕 〔従来の技術〕流動接触分解反応の活性および選択性に
及ぼすホージヤサイト結晶の大きさの効果は文献に報告
されている。更に詳しくは、Ｋ．Ｒａｊａｇｏｐａｌａ
ｍ，Ａ．Ｗ．ｒｅｔｅｒｓ ａｎｄ Ｇ．Ｃ．Ｅｄ
ｗａｒｄｓのＡｐｐｌｉｅｄ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ，
２３（１９８６）６９−８０には０．０５ミクロン以上
の結晶の大きさをもつＮａＹは重質ガス油の分解に対し
てｕｓＹよりも限定された拡散性をもつことが報告され
ている。 〔０００３〕ホージャサイトの結晶の大きさを減少させ
る技術を開示特許文献中の報告がある。一般的な試みは
合成混合物に有機物または金属を加えることであった。 米国特許第３，７５５，５３８号にはＢ、Ｖ、Ｐ、Ｍｃ
、Ｗ、ＧｅおよびＧａを合成ゲルに加えると、０．２〜
０．６ミクロンのホージヤサイト結晶がえられることが
示唆されている。米国特許第４，３７２，９３１号には
更に小さい０．０５ミクロンのホージヤサイト結晶でさ
え、合成混合物に単糖類または二糖類を加えることによ
ってえられることが示唆されている。水非混和性有機溶
媒をゲルに加えると０．０１〜０．１ミクロンの結晶が
えられたが、米国特許第３，５１６，７８６号に記載さ
れているように、生成物のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３の比は
２．５より大きくはなかった。ホージヤサイトの結晶の
大きさを０．１ミクロンに減少させる熱粉砕技術は米国
特許第３，８６４，２８２号および同第３，５２８，６
１５号に記載されている。 〔０００４〕 〔発明が解決しようとする課題〕本発明は０．１ミクロ
ン以下の粒径を６つ小板状のホージヤサイトを製造する
新規な方法を提供しようとするものである。 〔０００５〕 〔課題を解決するための手段〕本発明は次の諸工程すな
わち （ｉ）水、アルカリ金属アルミネート、およびアルカリ
金属シリケートの混合物から成るゲルを少なくとも１５
℃の温度で製造し； （ｉｉ）該ゲルを少なくとも１５℃の温度で高剪断撹拌
条件に付すことによって工程（ｉ）のゲルを破壊し、そ
れによって該ゲルを均一な注入可能な混合物に転化させ
； （ｉｉｉ）工程（ｉｉ）の混合物を少なくとも１５℃の
温度において少なくとも６時間熟成させ；そして次いで
（ｉｖ）工程（ｉｉｉ）の熟成混合物を結晶化させる；
諸工程から成ることを特徴とする０．１ミクロン以下の
粒径をもつ小板状のホージヤサイトの製造法、を提供す
るものである。 〔０００６〕水、アルカリ金属アルミネート、およびア
ルカリ金属シリケートを、結晶化の際にホージヤサイト
を形成しうる割合で室温において混合すると、濃い連続
ゲルが生成する。このゲルは濃すぎるので注入性ではな
い。このゲルをホージヤサイト製造のための通常の撹拌
条件下で撹拌すると、撹拌中にゲルの塊りが残っている
のが観察され、そのゲルは撹拌を中止するともとの濃い
非注入性の状態に戻る。 〔０００７〕本発明によれば、このゲルは該ゲルを十分
に高い剪断撹拌条件にかけることによって、均一な注入
性の物質に破壊（すなわち転化）しうるということが発
見された。驚くべきことに、この物質は撹拌を停止した
後においてさえ均一であり注入性であって、この流動性
物質は室温において長時間たとえば８時間放置したとき
でさえ、連続の非注入性のゲル状態には戻らない。更に
この注入性物質はフオージヤサイト結晶の生成条件にか
けたとき小さい結晶寸法のホージヤサイトを形成すると
いうことも驚くべきことに発見された。生成ホージヤサ
イト結晶は最大の寸法が１ミクロン以下、たとえば０．
０５ミクロン以下、たとえば０．０１〜０．０４ミクロ
ンである小板の形状にある。これらの小板の粒径は、こ
れらの小板の代表的な試料を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）
下で捜査して、これらの小板の最大寸法を測定すること
によって決定しうる。 〔０００８〕この微結晶ホージヤサイトは水、アルカリ
金属アルミネート、およびアルカリ金属シリケートの混
合物から製造される。好ましくは、この混合物は水、ナ
トリウム・アルミネート、水酸化ナトリウムおよびナト
リウム・シリケートを次のモル比に含む。 ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝４〜２０ Ｎａ２Ｏ／Ａｌ２Ｏ３＝６〜１５ Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２＝１８〜１２５
関するものである。 〔０００２〕 〔従来の技術〕流動接触分解反応の活性および選択性に
及ぼすホージヤサイト結晶の大きさの効果は文献に報告
されている。更に詳しくは、Ｋ．Ｒａｊａｇｏｐａｌａ
ｍ，Ａ．Ｗ．ｒｅｔｅｒｓ ａｎｄ Ｇ．Ｃ．Ｅｄ
ｗａｒｄｓのＡｐｐｌｉｅｄ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ，
２３（１９８６）６９−８０には０．０５ミクロン以上
の結晶の大きさをもつＮａＹは重質ガス油の分解に対し
てｕｓＹよりも限定された拡散性をもつことが報告され
ている。 〔０００３〕ホージャサイトの結晶の大きさを減少させ
る技術を開示特許文献中の報告がある。一般的な試みは
合成混合物に有機物または金属を加えることであった。 米国特許第３，７５５，５３８号にはＢ、Ｖ、Ｐ、Ｍｃ
、Ｗ、ＧｅおよびＧａを合成ゲルに加えると、０．２〜
０．６ミクロンのホージヤサイト結晶がえられることが
示唆されている。米国特許第４，３７２，９３１号には
更に小さい０．０５ミクロンのホージヤサイト結晶でさ
え、合成混合物に単糖類または二糖類を加えることによ
ってえられることが示唆されている。水非混和性有機溶
媒をゲルに加えると０．０１〜０．１ミクロンの結晶が
えられたが、米国特許第３，５１６，７８６号に記載さ
れているように、生成物のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３の比は
２．５より大きくはなかった。ホージヤサイトの結晶の
大きさを０．１ミクロンに減少させる熱粉砕技術は米国
特許第３，８６４，２８２号および同第３，５２８，６
１５号に記載されている。 〔０００４〕 〔発明が解決しようとする課題〕本発明は０．１ミクロ
ン以下の粒径を６つ小板状のホージヤサイトを製造する
新規な方法を提供しようとするものである。 〔０００５〕 〔課題を解決するための手段〕本発明は次の諸工程すな
わち （ｉ）水、アルカリ金属アルミネート、およびアルカリ
金属シリケートの混合物から成るゲルを少なくとも１５
℃の温度で製造し； （ｉｉ）該ゲルを少なくとも１５℃の温度で高剪断撹拌
条件に付すことによって工程（ｉ）のゲルを破壊し、そ
れによって該ゲルを均一な注入可能な混合物に転化させ
； （ｉｉｉ）工程（ｉｉ）の混合物を少なくとも１５℃の
温度において少なくとも６時間熟成させ；そして次いで
（ｉｖ）工程（ｉｉｉ）の熟成混合物を結晶化させる；
諸工程から成ることを特徴とする０．１ミクロン以下の
粒径をもつ小板状のホージヤサイトの製造法、を提供す
るものである。 〔０００６〕水、アルカリ金属アルミネート、およびア
ルカリ金属シリケートを、結晶化の際にホージヤサイト
を形成しうる割合で室温において混合すると、濃い連続
ゲルが生成する。このゲルは濃すぎるので注入性ではな
い。このゲルをホージヤサイト製造のための通常の撹拌
条件下で撹拌すると、撹拌中にゲルの塊りが残っている
のが観察され、そのゲルは撹拌を中止するともとの濃い
非注入性の状態に戻る。 〔０００７〕本発明によれば、このゲルは該ゲルを十分
に高い剪断撹拌条件にかけることによって、均一な注入
性の物質に破壊（すなわち転化）しうるということが発
見された。驚くべきことに、この物質は撹拌を停止した
後においてさえ均一であり注入性であって、この流動性
物質は室温において長時間たとえば８時間放置したとき
でさえ、連続の非注入性のゲル状態には戻らない。更に
この注入性物質はフオージヤサイト結晶の生成条件にか
けたとき小さい結晶寸法のホージヤサイトを形成すると
いうことも驚くべきことに発見された。生成ホージヤサ
イト結晶は最大の寸法が１ミクロン以下、たとえば０．
０５ミクロン以下、たとえば０．０１〜０．０４ミクロ
ンである小板の形状にある。これらの小板の粒径は、こ
れらの小板の代表的な試料を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）
下で捜査して、これらの小板の最大寸法を測定すること
によって決定しうる。 〔０００８〕この微結晶ホージヤサイトは水、アルカリ
金属アルミネート、およびアルカリ金属シリケートの混
合物から製造される。好ましくは、この混合物は水、ナ
トリウム・アルミネート、水酸化ナトリウムおよびナト
リウム・シリケートを次のモル比に含む。 ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝４〜２０ Ｎａ２Ｏ／Ａｌ２Ｏ３＝６〜１５ Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２＝１８〜１２５
〔０００９〕この混合物は任意に更にホージヤサイト種
、水酸化カリウム、または１種以上の有機組成物のよう
な追加成分を含んでいてもよい。然しながら好ましくは
、該混合物は有機物質を含まないのがよい。このことは
反応混合物が小結晶寸法のホージヤサイトの製造に常用
される単糖類または二糖類または水非混和性有機溶媒の
ような有機化合物を含む必要がないことを意味する。 混合物は少なくとも１５℃、好ましくは２０〜５０℃の
温度で製造すべきである。 〔００１０〕前述のように、本発明のアルミネートおよ
びシリケート含有の反応混合物は混合すると濃い非注入
性ゲルを生成する。それ故、このゲルは少なくても１５
℃、好ましくは２０〜５０℃の温度において高剪断撹拌
にかけることによって破砕されて均一な注入性混合物を
生ずる。たとえば、混合物は高剪断撹拌条件下で撹拌す
ることができる。次いで撹拌は中止され、混合物の状態
が観察される。混合物がたとえばゲルの塊りの存在によ
って実証されるように非注入性もしくは非均一性である
ならば、次いで高剪断撹拌条件を更に１〜３時間続ける
。従って、高剪断撹拌条件の持続時間は１〜４時間であ
りうる。 〔００１１〕ゲルが注入性の均一混合物に転化した後に
、混合物を少なくとも６時間、たとえば６〜２４時間、
好ましくは少なくとも約８時間熟成させる。この熟成は
少なくとも１５℃の温度での、好ましくは結晶化の開始
を阻止するに十分に低い温度、代表的には２０〜５０℃
の温度での混合物の保持を包含する。最も好都合には、
この熟成は撹拌または加熱なしの室温条件での混合物の
放置を包含する。この熟成は高剪断撹拌に使用した同じ
容器中で行なうことができ、あるいは混合物を別の容器
に移すこともできる。 〔００１２〕熟成混合物は次いで混合物の温度を十分な
結晶化温度、代表的には６０〜１２０℃、好ましくは９
０〜１１０℃の温度に、結晶化が完了するまでの時間、
一般に２〜２４時間、好ましくは３〜１０時間のあいだ
昇温させることによって結晶化される。 〔００１３〕微結晶ホージヤサイトが生成した後、それ
は同位のデカンテーシヨン、固体残渣の▲ろ▼過と洗浄
を包含する当業技術に周知の技術によって回収すること
ができる。 〔００１４〕本発明の方法を使用して、シリカ／アルミ
ナのモル比が３より大きいホージヤサイトを、あるいは
十分な酸を結晶化混合物に加えるならば４より大きいモ
ル比をもつホージヤサイトを製造することができる。た
とえば、結晶化工程の前に十分な量の酸を加えて混合物
のＯＨ−／ＳｉＯ２モル比を２．０より大きい値から１
．８より小さい値にまで減少させることができる。この
目的にとって好ましい酸はＨ２ＳＯ４である。 〔００１５〕反応混合物の結晶化は静止状態下で行なう
ことができ、あるいは混合物を結晶化期間中、連続的ま
たは間けつ的の温和な撹拌にかけることもできる。この
ような温和な撹拌は反応混合物の温度が上昇する際の熱
の均一な移動を助ける。 〔００１６〕〔実施例〕 実施例１ 脱イオン（ＤＩ）Ｈ２Ｏにとかした２７ｇのＮａＡｌＯ
２を６４５ｇのナトリウム−シリケート／ＮａＯＨ溶液
に加え、次いで Ｐｒｅｍｉｅｒ Ｓｅｒｉｅｓ
ミキサーを使用して３０００ｒｐｍより大きい回転速
度で１時間混合する。モル比はＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝
１６、ＯＨ／ＳｉＯ２＝２．１およびＨ２Ｏ／ＳｉＯ２
＝２１であった。混合物を室温で一夜熟成させ、次いで
静的条件下で１００℃において６時間結晶化させた。Ｘ
線回析（ＸＲＤ）分析は生成物が１〜２ミクロン粒子の
通常のＮａＹに比べて広い線の広がりをもつホージヤサ
イトであることを示した。これらのデータは１ミクロン
よりずっと小さい著るしく小さいホージヤサイトが生成
したことを示唆している。この生成物の走査電子顕微鏡
（ＳＥＭ）分析は０．０５ミクロンよりずっと小さい粒
子を示した。生成物は３．１のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３の
モル比をもっていた。 〔００１７〕比較例 Ａ 脱イオン（ＤＩ）Ｈ２Ｏにとかした２９ｇのＮａＡｌＯ
２を６４５ｇのナトリウムシリケート／ＮａＯＨ溶液に
加え、次いで低速度で高剪断なしで１時間混合した。モ
ル比は ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝１６、ＯＨ／ＳｉＯ
２＝２．１およびＨ２Ｏ／ＳｉＯ２＝２１であった。こ
のゼオライト予備ゲルを室温で一夜熟成させ、次いで静
的条件で６時間結晶化させた。ＸＲＤ分析は生成物がホ
ージヤサイトであることを示した。ＸＲＤパターンは実
施例１で製造した生成物に比べてずっとずっと小さい線
の広がりを示した。ＳＥＭ分析は０．１〜０．２ミクロ
ン粒子を示した。生成物は２．９のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ
３比をもっていた。 〔００１８〕実施例 ２ ＤＩ Ｈ２Ｏにとかした１４５ｇのＮａＡｌＯ２を３
２２５ｇのナトリウム−シリケート／ＮａＯＨ溶液に加
え、次いで Ｐｒｅｍｉｅｒ Ｓｅｒｉｅｓ ミ
キサーを使用して３０００ｒｐｍより速い速度で１時間
混合した。モル比は ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝１６、
ＯＨ／ＳｉＯ２＝２．１およびＨ２Ｏ／ＳｉＯ２＝２１
であった。この混合物を室温で一夜熟成させた。５００
ｇのＨ２ＳＯ４を１５００ｇのＨ２Ｏと混合してから、
上記混合物に加えて混合物が流体で均一であることを示
すまで高速度および高剪断で混合した。酸添加後のモル
比はＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝１６、ＯＨ／ＳｉＯ２＝１
．１およびＨ２Ｏ／ＳｉＯ２＝２９であった。この混合
物を次いで静的条件下で６時間結晶化させた。ＸＲＤ分
析は生成物がホージヤサイトであることを示した。ＳＥ
Ｍ分析は０．０５〜０．１ミクロン粒子を示した。Ｓｉ
Ｏ２／Ａｌ２Ｏ３の比は４．５であった。 〔００１９〕比較例 Ｂ ＤＩ Ｈ２Ｏにとかした１４５ｇのＮａＡｌＯ３を３
２２５ｇのナトリウム・シリケート／ＮａＯＨ溶液に加
え、次いで Ｐｒｅｍｉｅｒ Ｓｅｒｉｅｓ ミ
キサーを使用して３０００ｒｐｍより大きい速度で１時
間混合した。モル比はＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝１６、Ｏ
Ｈ／ＳｉＯ２＝２．１およびＨ２Ｏ／ＳｉＯ２＝１６で
あった。この混合物を室温で一夜熟成させた。５００ｇ
のＨ２ＳＯ４を１５００ｇのＨ２Ｏと混合してから上記
の混合物に加えた。非常に粘稠なゲルが生成し、このも
のはなめらかな混合物に撹拌するのみ困難であった。酸
添加後のモル比は ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝１６、Ｏ
Ｈ／ＳｉＯ２＝１．１およびＨ２Ｏ／ＳｉＯ２＝２４で
あった。このゲルを静的条件下で６時間結晶化させた。 ＸＲＤ分析は生成物がホージヤサイトであることを示し
た。 ＳＥＭ分析は０．４ミクロン粒子を示した。 〔００２０〕実施例２と比較例Ｂとの比較は、結晶化前
に均質な混合物を確保するために十分な水を加えること
の重要性を示している。
、水酸化カリウム、または１種以上の有機組成物のよう
な追加成分を含んでいてもよい。然しながら好ましくは
、該混合物は有機物質を含まないのがよい。このことは
反応混合物が小結晶寸法のホージヤサイトの製造に常用
される単糖類または二糖類または水非混和性有機溶媒の
ような有機化合物を含む必要がないことを意味する。 混合物は少なくとも１５℃、好ましくは２０〜５０℃の
温度で製造すべきである。 〔００１０〕前述のように、本発明のアルミネートおよ
びシリケート含有の反応混合物は混合すると濃い非注入
性ゲルを生成する。それ故、このゲルは少なくても１５
℃、好ましくは２０〜５０℃の温度において高剪断撹拌
にかけることによって破砕されて均一な注入性混合物を
生ずる。たとえば、混合物は高剪断撹拌条件下で撹拌す
ることができる。次いで撹拌は中止され、混合物の状態
が観察される。混合物がたとえばゲルの塊りの存在によ
って実証されるように非注入性もしくは非均一性である
ならば、次いで高剪断撹拌条件を更に１〜３時間続ける
。従って、高剪断撹拌条件の持続時間は１〜４時間であ
りうる。 〔００１１〕ゲルが注入性の均一混合物に転化した後に
、混合物を少なくとも６時間、たとえば６〜２４時間、
好ましくは少なくとも約８時間熟成させる。この熟成は
少なくとも１５℃の温度での、好ましくは結晶化の開始
を阻止するに十分に低い温度、代表的には２０〜５０℃
の温度での混合物の保持を包含する。最も好都合には、
この熟成は撹拌または加熱なしの室温条件での混合物の
放置を包含する。この熟成は高剪断撹拌に使用した同じ
容器中で行なうことができ、あるいは混合物を別の容器
に移すこともできる。 〔００１２〕熟成混合物は次いで混合物の温度を十分な
結晶化温度、代表的には６０〜１２０℃、好ましくは９
０〜１１０℃の温度に、結晶化が完了するまでの時間、
一般に２〜２４時間、好ましくは３〜１０時間のあいだ
昇温させることによって結晶化される。 〔００１３〕微結晶ホージヤサイトが生成した後、それ
は同位のデカンテーシヨン、固体残渣の▲ろ▼過と洗浄
を包含する当業技術に周知の技術によって回収すること
ができる。 〔００１４〕本発明の方法を使用して、シリカ／アルミ
ナのモル比が３より大きいホージヤサイトを、あるいは
十分な酸を結晶化混合物に加えるならば４より大きいモ
ル比をもつホージヤサイトを製造することができる。た
とえば、結晶化工程の前に十分な量の酸を加えて混合物
のＯＨ−／ＳｉＯ２モル比を２．０より大きい値から１
．８より小さい値にまで減少させることができる。この
目的にとって好ましい酸はＨ２ＳＯ４である。 〔００１５〕反応混合物の結晶化は静止状態下で行なう
ことができ、あるいは混合物を結晶化期間中、連続的ま
たは間けつ的の温和な撹拌にかけることもできる。この
ような温和な撹拌は反応混合物の温度が上昇する際の熱
の均一な移動を助ける。 〔００１６〕〔実施例〕 実施例１ 脱イオン（ＤＩ）Ｈ２Ｏにとかした２７ｇのＮａＡｌＯ
２を６４５ｇのナトリウム−シリケート／ＮａＯＨ溶液
に加え、次いで Ｐｒｅｍｉｅｒ Ｓｅｒｉｅｓ
ミキサーを使用して３０００ｒｐｍより大きい回転速
度で１時間混合する。モル比はＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝
１６、ＯＨ／ＳｉＯ２＝２．１およびＨ２Ｏ／ＳｉＯ２
＝２１であった。混合物を室温で一夜熟成させ、次いで
静的条件下で１００℃において６時間結晶化させた。Ｘ
線回析（ＸＲＤ）分析は生成物が１〜２ミクロン粒子の
通常のＮａＹに比べて広い線の広がりをもつホージヤサ
イトであることを示した。これらのデータは１ミクロン
よりずっと小さい著るしく小さいホージヤサイトが生成
したことを示唆している。この生成物の走査電子顕微鏡
（ＳＥＭ）分析は０．０５ミクロンよりずっと小さい粒
子を示した。生成物は３．１のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３の
モル比をもっていた。 〔００１７〕比較例 Ａ 脱イオン（ＤＩ）Ｈ２Ｏにとかした２９ｇのＮａＡｌＯ
２を６４５ｇのナトリウムシリケート／ＮａＯＨ溶液に
加え、次いで低速度で高剪断なしで１時間混合した。モ
ル比は ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝１６、ＯＨ／ＳｉＯ
２＝２．１およびＨ２Ｏ／ＳｉＯ２＝２１であった。こ
のゼオライト予備ゲルを室温で一夜熟成させ、次いで静
的条件で６時間結晶化させた。ＸＲＤ分析は生成物がホ
ージヤサイトであることを示した。ＸＲＤパターンは実
施例１で製造した生成物に比べてずっとずっと小さい線
の広がりを示した。ＳＥＭ分析は０．１〜０．２ミクロ
ン粒子を示した。生成物は２．９のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ
３比をもっていた。 〔００１８〕実施例 ２ ＤＩ Ｈ２Ｏにとかした１４５ｇのＮａＡｌＯ２を３
２２５ｇのナトリウム−シリケート／ＮａＯＨ溶液に加
え、次いで Ｐｒｅｍｉｅｒ Ｓｅｒｉｅｓ ミ
キサーを使用して３０００ｒｐｍより速い速度で１時間
混合した。モル比は ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝１６、
ＯＨ／ＳｉＯ２＝２．１およびＨ２Ｏ／ＳｉＯ２＝２１
であった。この混合物を室温で一夜熟成させた。５００
ｇのＨ２ＳＯ４を１５００ｇのＨ２Ｏと混合してから、
上記混合物に加えて混合物が流体で均一であることを示
すまで高速度および高剪断で混合した。酸添加後のモル
比はＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝１６、ＯＨ／ＳｉＯ２＝１
．１およびＨ２Ｏ／ＳｉＯ２＝２９であった。この混合
物を次いで静的条件下で６時間結晶化させた。ＸＲＤ分
析は生成物がホージヤサイトであることを示した。ＳＥ
Ｍ分析は０．０５〜０．１ミクロン粒子を示した。Ｓｉ
Ｏ２／Ａｌ２Ｏ３の比は４．５であった。 〔００１９〕比較例 Ｂ ＤＩ Ｈ２Ｏにとかした１４５ｇのＮａＡｌＯ３を３
２２５ｇのナトリウム・シリケート／ＮａＯＨ溶液に加
え、次いで Ｐｒｅｍｉｅｒ Ｓｅｒｉｅｓ ミ
キサーを使用して３０００ｒｐｍより大きい速度で１時
間混合した。モル比はＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝１６、Ｏ
Ｈ／ＳｉＯ２＝２．１およびＨ２Ｏ／ＳｉＯ２＝１６で
あった。この混合物を室温で一夜熟成させた。５００ｇ
のＨ２ＳＯ４を１５００ｇのＨ２Ｏと混合してから上記
の混合物に加えた。非常に粘稠なゲルが生成し、このも
のはなめらかな混合物に撹拌するのみ困難であった。酸
添加後のモル比は ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３＝１６、Ｏ
Ｈ／ＳｉＯ２＝１．１およびＨ２Ｏ／ＳｉＯ２＝２４で
あった。このゲルを静的条件下で６時間結晶化させた。 ＸＲＤ分析は生成物がホージヤサイトであることを示し
た。 ＳＥＭ分析は０．４ミクロン粒子を示した。 〔００２０〕実施例２と比較例Ｂとの比較は、結晶化前
に均質な混合物を確保するために十分な水を加えること
の重要性を示している。
Claims (7)
- 〔請求項１〕次の諸工程すなわち （ｉ）水、アルカリ金属アルミネート、およびアルカリ
金属シリケートの混合物から成るゲルを少なくとも１５
℃の温度で製造し； （ｉｉ）該ゲルを少なくとも１５℃の温度で高剪断撹拌
条件に付すことによって工程（ｉ）のゲルを破壊し、そ
れによって該ゲルを均一な注入可能な混合物に転化させ
； （ｉｉｉ）工程（ｉｉ）の混合物を少なくとも１５℃の
温度において少なくとも６時間熟成させ；そして次いで
（ｉｖ）工程（ｉｉｉ）の熟成混合物を結晶化させる；
諸工程から成ることを特徴とする０．１ミクロン以下の
粒径をもつ小板状のホージヤサイトの製造法。 - 〔請求項２〕工程（ｉ）で製造したゲルがモル比でＳｉ
Ｏ２／Ａｌ２Ｏ３＝４〜２０ Ｎａ２Ｏ／Ａｌ２Ｏ３＝６〜１５ Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２＝１８〜１２５ の組成をもつ請求項１の製造法。 - 〔請求項３〕結晶化工程（ｉｖ）の前に工程（ｉｉｉ）
の熟成混合物に酸を加えて該混合物のＯＨ−／ＳｉＯ２
モル比を１．８未満に減少させる請求項１または２の製
造法。 - 〔請求項４〕酸がＨ２ＳＯ４である請求項３の製造法。
- 〔請求項５〕工程（ｉ）の混合物が有機物を含まない請
求項１の製造法。 - 〔請求項６〕結晶化工程（ｉｖ）を６０〜１２０℃の温
度において２〜２４時間行なう請求項１〜５のいづれか
１項の製造法。 - 〔請求項７〕結晶化工程（ｉｖ）を９０〜１１０℃の温
度において３〜１０時間行なう請求項１〜６のいづれか
１項の製造法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US45921989A | 1989-12-29 | 1989-12-29 | |
| US459,219 | 1989-12-29 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP41913690A Pending JPH04305098A (ja) | 1989-12-29 | 1990-12-26 | ホージャサイトの合成 |
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| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0435625A3 (ja) |
| JP (1) | JPH04305098A (ja) |
| AU (1) | AU631473B2 (ja) |
| CA (1) | CA2032845A1 (ja) |
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| US5882625A (en) * | 1997-08-08 | 1999-03-16 | Air Products And Chemicals, Inc. | Faujasite adsorbents with nonuniform Al distribution |
| TW202235371A (zh) | 2021-01-07 | 2022-09-16 | 大陸商中國石油化工科技開發有限公司 | 一種y型分子篩及其合成方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| DD107428B3 (de) * | 1973-11-05 | 1992-12-10 | Chemie Ag Bittrfeld Wolfen | Verfahren und vorrichtung zur herstellung synthetischer zeolithe |
| US4166099A (en) * | 1974-04-20 | 1979-08-28 | W. R. Grace & Co. | Preparation of zeolites |
| US4175059A (en) * | 1975-07-02 | 1979-11-20 | W. R. Grace & Co. | Method of preparing a novel platelet-type crystalline form of synthetic faujasite |
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| GB2005653A (en) * | 1977-10-12 | 1979-04-25 | Pq Corp | Preparing zeolites |
-
1990
- 1990-12-20 CA CA 2032845 patent/CA2032845A1/en not_active Abandoned
- 1990-12-21 EP EP19900314180 patent/EP0435625A3/en not_active Withdrawn
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