JPH04304617A - 荷電粒子線装置等の試料供給装置 - Google Patents

荷電粒子線装置等の試料供給装置

Info

Publication number
JPH04304617A
JPH04304617A JP6822191A JP6822191A JPH04304617A JP H04304617 A JPH04304617 A JP H04304617A JP 6822191 A JP6822191 A JP 6822191A JP 6822191 A JP6822191 A JP 6822191A JP H04304617 A JPH04304617 A JP H04304617A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
gas
vacuum
valve
particle beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6822191A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Matsuzaka
尚 松坂
Hiroya Ota
洋也 太田
Toshihiko Kono
河野 利彦
Katsuhiro Kawasaki
河崎 勝浩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP6822191A priority Critical patent/JPH04304617A/ja
Publication of JPH04304617A publication Critical patent/JPH04304617A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】電子線露光装置等に代表される試
料の温度を厳密に制御する必要のある荷電粒子線装置等
の試料供給装置に関する。
【0002】
【従来の技術】電子線露光装置などの荷電粒子線装置で
は、試料の温度が変化すると熱膨張により試料の長さが
変化し高精度加工の妨げとなるため、従来は特開昭58
−61930号公報に記述されているように、試料交換
のための真空予備室内に、外部とは真空的に隔絶され、
しかも真空外から恒温水などを還流させるパイプなどを
設け、これに試料を接触させて試料の温度を一定に保つ
ことが重要であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明では、試料交換
のため真空予備室を排気する際に、排気される気体が急
激に膨張するため、この膨張が十分な熱伝導を伴わず断
熱的に行われるので気体温度が低下し、このため気体が
真空予備室内壁や試料交換機構に装填された試料から熱
を奪い試料温度を低下させる問題があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】真空予備室の排気時に生
じる被排気気体の断熱膨張による温度低下を減らし、試
料の温度低下を軽減するためには、真空排気系に可変流
量バルブを付加し初期段階の排気速度を抑えて気体が断
熱的でなく排気されるようにすることによって、気体の
温度低下を防止し、ひいては試料の温度変化を防止する
。さらに、試料交換のため真空予備室を大気圧にリーク
する際に一般的に用いられる乾燥空気や乾燥窒素の代わ
りに、これらの気体より定積比熱の小さい気体を用いる
ことで効果を高める。
【0005】
【作用】気体の体積を、外部から熱伝導によるエネルギ
の供給が十分に行われないよう急激に膨張させると、こ
の膨張によって気体が外部に行った仕事量Wに比例して
、気体の内部エネルギUが低下し、結果として、気体の
温度Tが低下する。真空系の排気においては、排気用の
真空ポンプを稼働させておき、真空系と真空ポンプとの
間に設けた真空バルブを開放し大気圧から排気を始める
初期段階では、気体が急激に膨張するため、気体が断熱
的に膨張するので排気途中の残留気体の温度が低下し、
周囲の真空容器内壁や真空室内の物体から熱を奪い、こ
れらの温度を低下させる。このため、真空バルブを可変
流量方式とし排気の初期段階の排気速度を制限し、真空
内に置かれた試料の断熱膨張による温度変化を軽減する
【0006】一方、気体の状態が準静的に変化するとと
すれば、気体の圧力をP、真空容器の体積をV、残留す
る気体のモル数をnとし、気体の温度をT、気体定数を
Rとすれば、ボイル・シャルルの法則から、PV=nR
T が成立する。したがって、真空排気の初期段階において
P/nの比を一定に保つように排気速度の制御を行えば
、 PV/n=RT から、右辺を一定に保つことができ試料の温度変化を防
止できる。
【0007】さらに、真空をリークする際に一般的に用
いられている乾燥空気や乾燥窒素の代わりに、これらの
気体より定積比熱の小さい気体を用いることにより、気
体が真空容器内壁や真空内の試料から奪う熱量を少なく
することで、試料の温度変化防止の効果を高めることが
できる。
【0008】
【実施例】図1は、請求項1の一つの実施例である。荷
電粒子線装置1にはゲートバルブ2を介して真空予備室
3と試料挿入フタ4が設けられており、真空予備室3の
内部に試料5と試料保持機構6、試料交換機構(図示せ
ず)が設けられている。真空予備室3には、初期段階の
排気を受け持つ粗引きポンプ7と可変流量バルブ8、さ
らに別系統で高真空排気を受け持つ主排気ポンプ9とバ
ルブ10とが接続している。また、リークバルブ11も
設けられている。
【0009】試料交換の際には、ゲートバルブ2を閉じ
てリークバルブ11を開放し、真空予備室3を大気圧に
する。この状態で試料挿入フタ4を開き、試料交換を実
行する。試料5の挿入が完了したら、試料挿入フタ4を
閉じ可変流量バルブ8を徐々に開放しながら真空予備室
3が所定の真空度に達するまで排気を行い、さらに、高
真空排気に切り換わる真空度まで可変流量バルブ8を全
開して粗引き排気を続行する。この後、可変流量バルブ
8を閉じ、バルブ11を開放し主排気ポンプ9に排気を
行い、試料交換可能な所定の真空度に達したら、ゲート
バルブ2を開放し試料交換を行う。この排気に際して真
空予備室3に設置した真空計12と可変流量バルブの直
前に設置した流量計13でモニタしながら、可変流量バ
ルブ8の開放の度合を制御すれば、被排気気体の断熱膨
張による試料5の温度変化を防止できる。
【0010】図2は、請求項2の一つの実施例である。 真空計12の指示信号14と流量計13の指示信号15
を制御装置16に取り込み、制御装置内のマイクロコン
ピュータ(図示せず)で信号15から残留気体のモル数
を演算で求め信号14との比を計算して、この比を一定
に保つように可変流量バルブ8の開放率をを制御し、試
料5の温度低下を防止する。
【0011】また、図2に示したように、請求項3の一
つの実施例では、リークバルブ11の大気側に減圧弁1
7と気体ボンベ18を結合し、真空予備室3をリークす
るときに気体ボンベ18に充填されている定積比熱の低
い気体を用いる場合を示している。このとき、リーク気
体として図3に示すようにアルゴン(Ar)のような不
活性ガスを用いると、荷電粒子線装置1の内壁や真空予
備室3の内部の機構系の表面状態を変化させることがな
く、汚染を防止できるという利点もある。
【0012】
【発明の効果】本発明は、電子線露光装置のように試料
の厳密な温度管理を必要とする荷電粒子線装置で、真空
予備室の中に置かれた試料の温度変化を防止することが
でき、高精度な加工や観察を実現できる。さらに、荷電
粒子線装置の本体や真空予備室の高真空排気を受け持つ
ポンプ、例えば、クライオポンプなどに対して、乾燥空
気や乾燥窒素に近い排気速度を持つ気体、例えばアルゴ
ン(Ar)などを選択することが実用上大切である。か
りに、排気速度の小さい気体を用いると、高真空排気に
要する時間が長くなり、装置のスループットが著しく低
下するので好ましくない。以上総合すると、試料交換時
にリーク気体としてアルゴン(Ar)を選択することは
、断熱膨張による温度変化防止に効果があり、真空容器
や内部の機構系の汚染を防止し、実用上十分な排気速度
を持つなど、多くの利点を持ち効果が大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す図である。
【図2】本発明の他実施例を示す図である。
【図3】気体の比熱の比較表を示す図である。
【符号の説明】
1…荷電粒子線装置、2…ゲートバルブ、3…真空予備
室、4…試料挿入フタ、5…試料、6…試料保持機構、
7…粗引きポンプ、8…可変流量バルブ、9…主排気ポ
ンプ、10…バルブ、11…リークバルブ、12…真空
計、13…流量計、14…指示信号、15…指示信号、
16…制御装置、17…減圧弁、18…気体ボンベ。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ゲートバルブを介して設けられた真空予備
    室と、真空予備室内にあってゲートバルブを通して荷電
    粒子線装置本体内の試料保持機構に試料を供給する試料
    供給機構とを有する荷電粒子線装置において、前記真空
    予備室と真空排気ポンプとの間に可変流流量バルブを設
    け、真空排気時には真空予備室が所定の真空度に達する
    まで排気速度を調節することを特徴とする荷電粒子線装
    置等の試料供給装置。
  2. 【請求項2】請求項1の試料供給装置において、真空予
    備室が所定の真空度に達するまで被排気気体の状態を準
    静的に保ち、真空予備室の真空度と真空予備室に残留す
    る気体のモル数の比を一定に保つよう可変流量バルブを
    制御することを特徴とする荷電粒子線等の試料供給装置
  3. 【請求項3】請求項1ないし2の試料供給装置において
    、真空予備室にリークバルブと減圧弁ならびに乾燥空気
    もしくは乾燥窒素よりも定積比熱の小さい気体を充填し
    たボンベを結合し、試料交換時に前記ゲートバルブを閉
    じた後に、前記リークバルブと減圧弁と通じて前記充填
    気体をリークすることを特徴とする荷電粒子線装置等の
    試料供給装置。
  4. 【請求項4】請求項3の試料供給装置において、前記充
    填気体として不活性ガスであるアルゴン(Ar)ガスを
    用いることを特徴とする荷電粒子線等の試料供給装置。
JP6822191A 1991-04-01 1991-04-01 荷電粒子線装置等の試料供給装置 Pending JPH04304617A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6822191A JPH04304617A (ja) 1991-04-01 1991-04-01 荷電粒子線装置等の試料供給装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6822191A JPH04304617A (ja) 1991-04-01 1991-04-01 荷電粒子線装置等の試料供給装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04304617A true JPH04304617A (ja) 1992-10-28

Family

ID=13367537

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6822191A Pending JPH04304617A (ja) 1991-04-01 1991-04-01 荷電粒子線装置等の試料供給装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04304617A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5914493A (en) * 1997-02-21 1999-06-22 Nikon Corporation Charged-particle-beam exposure apparatus and methods with substrate-temperature control
EP2760042A3 (en) * 2013-01-29 2015-08-26 Jeol Ltd. Charged particle beam instrument with a specimen pre-evacuation chamber

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5914493A (en) * 1997-02-21 1999-06-22 Nikon Corporation Charged-particle-beam exposure apparatus and methods with substrate-temperature control
EP2760042A3 (en) * 2013-01-29 2015-08-26 Jeol Ltd. Charged particle beam instrument with a specimen pre-evacuation chamber

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5820731B2 (ja) 基板処理装置および固体原料補充方法
US5137063A (en) Vented vacuum semiconductor wafer cassette
JP4580943B2 (ja) インシトゥーゲッターポンプ装置及び方法
US5217053A (en) Vented vacuum semiconductor wafer cassette
US5879461A (en) Metered gas control in a substrate processing apparatus
JPH02245232A (ja) 高真空装置
JPH01268030A (ja) プラズマエッチング方法及び装置
JPH039199A (ja) 高圧高速流による気密室ガス注入回収装置
JPH04304617A (ja) 荷電粒子線装置等の試料供給装置
US20040083588A1 (en) Vacuum/purge operation of loadlock chamber and method of transferring a wafer using said operation
US3361864A (en) Furnace for treatment of wax-bonded sinterable preforms
JP2826479B2 (ja) ガス供給装置及びその操作方法
JP2000146096A (ja) 極高真空チャンバへの微量ガス導入機構
CN112198761A (zh) 载片系统及物料传递方法
JP2001317699A (ja) ガス充填管のパージ方法およびガス供給装置
JP2696920B2 (ja) 雰囲気処理装置
JPH02107775A (ja) 処理装置及びその排気方法
JP2001060555A (ja) 基板処理方法
KR930004198Y1 (ko) 가스통로의 자동 배기장치
JPH10284389A (ja) 電子線露光方法および装置
JPH0587298A (ja) ガス供給方法およびガス供給装置
KR20020080923A (ko) 반도체장치 제조설비의 배기시스템
JPH04116125U (ja) 半導体製造装置
KR101352466B1 (ko) 가스 치환 장치
JPH04116445A (ja) ヤング率及び内部摩擦測定装置