JPH04301299A - マルチプレクス型冗長性を有する半導体メモリ - Google Patents

マルチプレクス型冗長性を有する半導体メモリ

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JPH04301299A
JPH04301299A JP3330892A JP33089291A JPH04301299A JP H04301299 A JPH04301299 A JP H04301299A JP 3330892 A JP3330892 A JP 3330892A JP 33089291 A JP33089291 A JP 33089291A JP H04301299 A JPH04301299 A JP H04301299A
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storage cells
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memory
column
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JP3330892A
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Thomas A Coker
トーマス エイ. コーカー
David Charles Mcclure
シー. マククルーア デイビッド
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STMicroelectronics lnc USA
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SGS Thomson Microelectronics Inc
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  • Static Random-Access Memory (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体メモリに関するも
のであって、更に詳細には、半導体メモリにおける冗長
メモリセルを使用する技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】スタチックランダムアクセスメモリ(S
RAM)、ダイナミックランダムアクセスメモリ(DR
AM)、FIFO、二重ポートメモリ、及び例えばマイ
クロプロセサ及びその他の論理装置等のその他の集積回
路内に埋込まれており且つ個別的な部品として製造され
る種々のタイプのリードオンリメモリを包含する多くの
タイプの半導体メモリは、多数の格納位置を有しており
、且つ製造技術が改善されるに従い、より高い容量とな
っている。例えば、220個の格納位置(即ち、1メガ
ビット)を有するSRAM及び222個の格納位置(即
ち、4メガビット)を有するDRAMが市販されている
【0003】一般的な市場の場合、このようなメモリは
、各々及び全ての格納位置にアクセスすることが可能で
あり且つ両方のデジタルデータ状態を格納することが可
能である場合にのみ使用することが可能である。従って
、単一の格納位置即ちビットの欠陥は、メモリ全体(且
つ埋込み型メモリを有する論理装置)を販売不可能なも
のとさせる。上述した高密度メモリの場合の比較的大き
なチップ寸法及び高い製造コストのことを考慮すると、
これらのメモリは単一の「固定された」ビットを発生さ
れる極めて小さな(ある場合には、サブミクロンの大き
さ)欠陥に特に影響を受易い。
【0004】その結果、多くの半導体メモリは、現在、
所謂冗長な格納位置を有しており、それらの冗長な格納
位置は主要なメモリアレイ内に欠陥が発生する場合にイ
ネーブルされる。イネーブル動作を簡単化し、且つ行又
は列欠陥をアドレスするために、冗長格納位置は、通常
、冗長な行又は列として形成されており、それらは、イ
ネーブルされると、主要メモリアレイの行又は列全体を
置換させる。このような冗長な格納位置のイネーブル動
作は、従来、製造テストプロセス期間中に行なわれ、そ
の場合、主要なメモリがその中のビットの機能性に対し
てテストが行なわれる。欠陥性のビットのアドレスが記
録され、且つ回路上で使用可能な冗長な行又は列が欠陥
性のビット全てを置換するのに十分であるか否かを、自
動テスト装置内のアルゴリズムが決定する。十分である
場合には、メモリのデコード回路内のヒューズが開放さ
れ(又は、アンチヒューズ即ち逆ヒューズが閉じられ)
、従って欠陥性の行又は列は最早それと関連するアドレ
ス値によりイネーブルされることはなく、従って冗長な
行又は列が欠陥性の行又は列と関連するアドレスにより
イネーブルされる。従来の冗長技術を組込んだメモリ装
置の例は、Hardee  et  al.著の「欠陥
許容性30ナノ秒/375mWの16K×1NMOSス
タチックRAM(A  Fault−Tolerant
  30  ns/375  mW  16K  × 
 1  NMOS  STATIC  RAM)」、ジ
ャーナル・オブ・ソリッドステート・サーキッツ、Vo
l.  SC−16、No.5(IEEE,1981)
、pp.435−43の文献、及びChildset 
 al.著の「18ナノ秒の4K×4CMOS  SR
AM(An  18  ns  4K×  4  CM
OS  SRAM)」、ジャーナル・オブ・ソリッドス
テート・サーキッツ、Vol.  SC−19、No.
5(IEEE,1984)、pp.545−51の文献
に記載されている。
【0005】冗長性を有するメモリの設計における主要
な拘束条件は、冗長要素及びそれと関連するデコード回
路を組込むために必要とされるチップ面積である。冗長
要素の数及び配列の選択は、多数のファクタに依存して
いる。主要な利益衡量は、チップ面積のコストと、欠陥
性のデバイスを修復することの利益との間の関係である
。欠陥の種類(即ち、行欠陥を発生するもの、列欠陥を
発生するもの、孤立したビットの欠陥を発生するもの、
及びアレイ全体の欠陥を発生するもの)及び製品のライ
フサイクルに亘ってのそれらの欠陥の発生予測頻度に基
づいて、冗長セルの数及び配列とチップ面積との間の利
益衡量を行なうことが可能である。
【0006】マルチ(複数)入力/出力メモリは、冗長
格納セルを設ける上で特別の問題を提供している。なぜ
ならば、冗長格納セルは何らかの形で種々の入力/出力
と関連させねばならないからである。複数個のブロック
又はサブアレイの形態に配列されており、従ってメモリ
全体ではなくこれらのサブアレイのうちの一つのみを選
択することにより電力散逸を減少させることが可能な主
要なメモリアレイを有するメモリにおいては、全ての入
力/出力端子がサブアレイの各々と通信状態になければ
ならない。その様な配列とされた従来のメモリにおいて
は、冗長要素、特に列は、比較的非効率的なものであっ
た。なぜならば、入力/出力端子と同数の列が各サブア
レイ乃至はブロックと関連しており、各冗長列が入力/
出力端子の一つに対して専用とされていたからである。 そうであるから、冗長要素をイネーブルさせる場合に、
必要でない場合もあるようなより多くの冗長列をイネー
ブルさせることを必要としており、更に、1個のサブア
レイ乃至はブロックが一つを超えた列アドレスと関連す
る欠陥性のセルを有する場合には、二組の列全体を設け
ねばならないか、又はそうでなければ該メモリを修復す
ることは不可能である。注意すべきことであるが、入力
/出力端子の数が増加すると(バイエイトメモリの場合
には一般的なことである)、且つメモリ内の格納セルの
数が時間と共に一層増加し(1メガビットSRAM及び
4メガビットDRAMは一般的である)、従ってメモリ
アレイのセグメント化が電力散逸の観点から一層望まし
いものとなっている場合に、個々の入力/出力端子に対
して冗長列を専用のものとして設けることはチップ面積
の観点からは一層高価なものとなる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、冗長格納セルの使用効率を改善したメモリを提
供することである。本発明の別の目的とするところは、
マルチ(複数)入力/出力端子を有する場合に有用なメ
モリを提供することである。本発明の更に別の目的とす
るところは、複数個のサブアレイを有する改良したメモ
リを提供することである。本発明の更に別の目的とする
ところは、複数個のサブアレイの各々と関連する冗長格
納セルを有する改良したメモリを提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、マルチ即ち複
数個の出力端子を有するメモリに適用することが可能で
ある。例えば冗長列などの冗長格納セルがメモリアレイ
に設けられ、出力端の数よりもより少ない数の冗長列が
設けられる。冗長マルチプレクサが設けられ、それは各
冗長列が、選択された場合に、通信状態とされるべき複
数個の出力端のうちの何れかの出力端を選択する。冗長
列に対して出力を割当てることの能力は、必要とされる
冗長列の数を減少させ、そのことは、メモリのレイアウ
ト効率を改善し、特にマルチ即ち複数個のサブアレイが
該アレイ内に設けられている場合には高効率となる。
【0009】
【実施例】図1を参照して、本明細書に記載する本発明
の好適実施例を組込んだ集積回路メモリ1について説明
する。メモリ1は集積回路メモリであり、例えば、22
0即ち1,048,576個の格納位置即ちビットを有
するスタチックランダムアクセスメモリ(SRAM)で
ある。この実施例におけるメモリ1はワイドワード即ち
幅広ワードメモリであり、各々が8ビットの217即ち
128k個のアドレス可能な位置を有するメモリである
。従って、例えば、読取り動作において、メモリ位置の
1つへアクセスすると、8個のデータビットが8個の入
力/出力端子DQに表われる。この実施例においては、
メモリ1の電気的構成は1024個の行と1024個の
列とから構成されており、各通常のメモリ動作において
8個の列がアクセスされる。
【0010】この実施例のメモリ1においては、メモリ
アレイは8個のサブアレイ120 乃至127 に分割
されており、その各々は1024個の行と128個の列
とを有している。メモリ1は、ユニークなメモリアドレ
スを特定するために必要とされる17個のアドレスビッ
トを受取るために17個のアドレス端子をA0乃至A1
6を有している。従来の態様で、これら17個のアドレ
ス端子からの信号はアドレスバッファ(不図示)により
バッファされる。このようなバッファ動作の後に、これ
らのアドレス端子のうちの10個(A7乃至A16)に
対応する信号が、行デコーダ14により付勢されるべき
1024個の行のうちの1つを選択するために行デコー
ダ14により受取られる。
【0011】図1は、互いに且つ行デコーダ14に対し
てのサブアレイ12の相対的な物理的位置を概略示して
いる。サブアレイ12における1行のメモリセルの選択
は行ラインにより行なわれ、該行ラインのうちの1つが
端子A7乃至A16における行アドレスの値に従って行
デコーダ14から駆動される。行デコーダ14が中央に
位置されている図1に示した如き配列においては、サブ
アレイ12がその両側に配置されており、最大桁列アド
レスビット(この実施例においてはアドレス端A6)も
行デコーダ14によりデコードされることが望ましく、
従って行ラインは、最大桁列アドレスビットに従って、
中央に位置された行デコーダ14の一方の側においての
み付勢させることが可能である。1つの行ラインの付勢
は、メモリセルの内容を従来の態様でそれらの対応する
ビットラインへ送給する。センス/書込み回路13が、
外部的に供給した入力データを選択されたメモリセルへ
通信即ち送給するために、サブアレイ12内のビットラ
イン上のデータ状態を検知し且つ格納するために設けら
れている。注意すべきことであるが、センス/書込み回
路13の多くの従来の配列及び構成を本発明に従ってメ
モリ1において使用することが可能であり、そのような
配列乃至は構成は各ビットライン対に対し1個のセンス
アンプを割当てるもの、又は複数個のビットライン対に
対して1個のセンスアンプを割当て、検知されるべきビ
ットライン対の選択が列アドレスに従って列デコーダ1
8により行なわれるもの等を包含する。更に、センスア
ンプと別体の書込み経路及び回路を設けることも可能で
ある。
【0012】活性動作期間中に消費される電力を減少さ
せるために、本実施例においては、サブアレイ12のう
ちの1つのみが各活性サイクル期間中に付勢され、付勢
された状態を維持するサブアレイ12の選択は所望のメ
モリアドレス(即ち、列アドレスのうちの3個のビット
)により決定される。このことは、サブアレイ12の間
及び行デコーダ14とサブアレイ123 及び124 
との間に設けられているリピータ16により行なわれる
。 リピータ14は、選択された行ラインの付勢状態をパス
し、選択されたサブアレイ12に対して選択された行ラ
インの付勢状態をラッチし、且つ選択されなかったサブ
アレイ12に対する行ラインを脱付勢化させる。この配
列は、アクセスされたメモリ位置の全ての8個のビット
が同一のサブアレイ12内に位置されていることを必要
とする。
【0013】注意すべきことであるが、本発明の目的の
ためには、アクセスされたメモリ位置の8個のビットが
同一のサブアレイ12内に位置されていること、又はラ
ッチされたリピータ16がサブアレイ12の間に設けら
れていることが必須のものではない。1990年9月2
6日に出願され本願出願人に譲渡されている米国特許出
願第588,577号においては、このような構成は好
適である。なぜならば、それは、ワードラインのタイム
アウトに付随する欠点又は複数個のメタルレベル構成の
欠点なしで活性電力散逸を減少させるからである。
【0014】残りの7個のアドレス端子(A0乃至A6
)に対応する信号は列デコーダ18により受取られ、リ
ピータ14を制御して、ラインRST0乃至RST7に
よりサブアレイ12のうちの1つの選択を維持する。 列デコーダ18は、更に、従来の態様で、列アドレス値
の残部に応答して、選択されたサブアレイ12において
所望の列を選択する。信号ラインはアドレス値を行デコ
ーダ14及び列デコーダ18へ通信即ち送給するために
示されているが、多くの従来のメモリにおける如く、各
アドレスビットの真値及び補元値の両方を交互にアドレ
スバッファからデコーダへ送給しデコード動作を簡単化
させることが可能である。
【0015】図1に示した如く、冗長列デコーダ19が
列デコーダ18の一部として設けられている。本実施例
に基づくメモリ1においては、冗長列が設けられており
、それらは更に詳細に後述する如く、各アレイと関連し
ている。冗長デコーダ19は例えばポリシリコンヒュー
ズ等のような従来のヒューズを有しており、それらはレ
ーザ、電気的過剰ストレス又はその他の従来の技術によ
り開放させて、列アドレス値に対して冗長な列を選択す
ることを可能とし、且つ欠陥性のメモリセルを有するサ
ブアレイ12内の列をディスエーブルさせる。冗長デコ
ーダ19として使用するための従来の回路の1例は19
86年2月25日に発行され本願出願人に譲渡されてい
る米国特許第4,573,146号に記載されている。 従来の態様においては、冗長デコーダ19は列アドレス
ビットのうちで適宜のものを受取り、且つ置換されるべ
き列のアドレスとマッチングする端子A0乃至A6にお
ける列アドレス値に応答して、選択されたサブアレイ1
2における1つの列の代わりに冗長列を選択する。
【0016】勿論、別法又は冗長列に加えて、冗長行の
メモリセルをメモリ1内に設けることが可能である。従
来の態様においては、行デコーダ14(及び、適用可能
な場合はリピータ16)が冗長デコーダを有しており、
それは同様にヒューズによりイネーブルされて主要な行
の代わりに冗長行を選択する。
【0017】本発明のこの実施例に基づいてメモリ1内
には更に入力/出力回路28が設けられており、それは
8ビット出力バス20及び8ビット入力バス38を介し
て列デコーダ18と通信状態即ち連結状態にあり、且つ
それは入力/出力端子DQ、書込みイネーブル端子W 
 及び出力イネーブル端子OEと通信状態即ち連結状態
にある。入力/出力回路28は、入力/出力端子DQと
メモリ1へ供給されたアドレス値に従って選択されたメ
モリセルとの間の通信を与え且つ制御するための従来の
回路を有しているが、その詳細な説明は割愛する。注意
すべきことであるが、入力/出力幅に関し、且つ共通の
入力/出力端子の代わりに専用の端子を有するメモリ1
のその他の多くの変形例としての構成も本発明を利用す
ることが可能である。
【0018】メモリ1は、更に、タイミング制御回路2
2を有しており、それは従来の態様でメモリサイクル期
間中にメモリ1の種々の部分の動作を制御する。注意す
べきことであるが、タイミング制御回路22は、図1に
示される如く、通常回路の特定のブロックではなく、通
常メモリ1内の種々の部分の動作を制御するためにメモ
リ1内に分散されている。タイミング制御回路22は、
例えば、メモリ1の動作をイネーブルさせ且つディスエ
ーブルさせる端子CEからの信号を受取る。図1に示し
た如く、タイミング制御回路22からのラインSELは
、上掲の米国特許出願第588,577号に記載される
如く、その制御のためにリピータ16へ接続されている
【0019】更に注意すべきことであるが、ある従来の
スタチックメモリにおける如く、タイミング制御回路2
2、及び例えば列デコーダ18等のようなその他の回路
ブロックは、アドレス遷移検知回路26により制御され
、従ってメモリ1は、アドレス端子A0乃至A16にお
ける遷移に応答してダイナミックに動作する。1990
年10月22日に出願され本願出願人に譲渡されている
米国特許出願第601,287号は、アドレス遷移検知
回路24として使用することが可能であり且つアドレス
端子A0乃至A16において受取られるアドレス信号の
バッファ動作を制御するアドレス遷移検知回路を記載し
ている。注意すべきことであるが、以下に説明する如く
、ビットラインのプレチャージ及び平衡化を制御するた
めにアドレス遷移検知を使用することは本発明のこの実
施例においては好適である。更に注意すべきことである
が、上掲の米国特許出願第588,577号に記載され
る如く、1サイクル内においてリピータ16をダイナミ
ックに制御するためにアドレス遷移検知を使用すること
も好適である。
【0020】メモリ1は、更に、パワーオンリセット回
路24を有している。パワーオンリセット回路24は、
電源端子Vccからバイアス電圧を受取り(勿論、図示
していない接続によりメモリ1のその他の部分も同じで
ある)、且つメモリ1が初期的にパワーアップした後に
Vcc電源が十分なレベルに到達したことを表わす信号
をラインPOR上に発生し、メモリ1の一部が中間即ち
不所望な状態にパワーアップすることを防止する。以下
に説明し且つ1990年8月17日に出願し本願出願人
に譲渡されている米国特許出願第569,000号に記
載される如く、パワーオンリセット回路24は同様に、
図1におけるラインPORのタイミング制御回路22へ
の接続により示唆される如く、メモリ1のその他の部分
を制御することも可能である。上掲の米国特許出願第5
69,000号は、更に、パワーオンリセット回路24
の好適な構成を示しているが、本発明の目的のためには
、従来のパワーオンリセット回路を使用することも可能
である。
【0021】上述した如く、電力消費を減少させる目的
のためには、この実施例に基づくメモリ1は3個の最大
桁列アドレスビットに従って選択される8個のサブアレ
イ12のうちの1つのみを付勢させる。この実施例にお
いては、リピータ16はサブアレイ12の間に存在して
おり、且つ行デコーダ14とサブアレイ123 及び1
24 の各々との間にも存在しており、付勢された行ラ
インを選択されたサブアレイ12内に印加することを維
持しており、且つ所定の時間期間の後に、他のサブアレ
イ12における行ラインを脱付勢化させる。このように
、列アドレス(特に、3個の最大桁ビット)がワードラ
インの印加を制御し、従ってワードラインのうちで選択
されたサブアレイ12内の部分のみがメモリ動作サイク
ルの全体に対して付勢される。列デコーダ18は、更に
、列アドレスの残りのビットの値に従って、選択された
サブアレイ12において128個の列のうちの8個の列
を選択する。この実施例においては、活性な電力消費を
減少させるために、選択されたサブアレイ12において
所望のメモリビットと関連するセンス/書込み回路13
のみが付勢される。列デコーダ18によりそのように選
択されたセンス/書込み回路13は、適宜バス20又は
バス38を介して入力/出力回路28と通信状態とされ
、それにより選択されたメモリセルからのデータの読取
り又は該セルへのデータの書込みを従来の態様で行なう
ことが可能である。上掲の米国特許出願第588,57
7号はリピータ16の構成及び動作に関して詳細な説明
を与えている。
【0022】勿論、メモリ1の多くの変形例をここに記
載した本発明と共に使用することが可能である。このよ
うな変形例の例としては、各サブアレイが入力/出力端
子のうちの1つと関連するワイドワードメモリ、及びア
レイ全体が通常動作期間中に付勢されるメモリ等を包含
している。例えばダイナミックRAM、EPROM、埋
込み型メモリ、二重ポートRAM、FIFO等のような
各々がそれ自身の構成を有するその他のタイプのメモリ
も本発明から利益を享受することが可能である。
【0023】更に注意すべきことであるが、サブアレイ
12のその他の物理的及び電気的構成を本発明と共に使
用することも可能である。例えば、2つの行デコーダ1
4をメモリ1内に組込み、その各々がメモリの半分の中
への行ライン信号の印加を制御することが可能である。 図1に示した如く中間に位置させる代わりに、1個又は
それ以上の行デコーダ14をサブアレイ12の一方の側
部に沿って配置させることも可能である。メモリ1の特
定のレイアウトは特定のメモリ設計及び製造プロセスに
対して興味のある特定のパラメータに従って当業者によ
り適宜決定することが可能なものである。
【0024】図2を参照すると、本発明の好適実施例に
基づくメモリ1内の冗長列の配列が示されている。図2
は、メモリ1のサブアレイ12のうちの1つと、それと
関連するセンス/書込み回路13とを示している。更に
、このサブアレイ12と関連し且つメモリ1内のサブア
レイ12の各々と関連して、2個の冗長列25が設けら
れている。従って、8個のサブアレイ12を有するメモ
リ1の場合には、16個の冗長列25が設けられる。 本発明のこの実施例においては、サブアレイ12と関連
する2個の冗長列25がそれと関連するサブアレイ12
内の列を置換することが可能であるに過ぎず、その他の
サブアレイ12内の列を置換するために使用することは
不可能である。
【0025】図2の配列においては、リピータ16は、
サブアレイ12内の1行のメモリセルを選択するために
、サブアレイ12に対し行ラインバスRL内の1つの行
ラインを与えている。前述した如く、活性な電力散逸を
減少させるために、メモリ1のこのバイエイト(by−
eight)実施例において選択されたメモリ位置の8
個の全てのビットが同一のサブアレイ12から選択され
る。列デコーダ18はサブアレイ12に対しバスSEL
上に列選択信号を供給し、従って、サブアレイ12が選
択されると、サブアレイ12内の8個の列がそれらのビ
ットラインをI/Oバス21へ接続させ、サブアレイ1
2と関連する8個のセンス/書込み回路13に対して通
信を行なう。サブアレイ12n に対する8個のセンス
/書込み回路13の各々はサブアレイ12n 内のそれ
らの関連した選択された列から一対のI/Oライン21
を介して差動信号を受取る。この実施例においては、図
2内のセンス/書込み回路13の各々は、それに接続さ
れたビットラインのデータ状態を検知し且つそれに接続
されたビットラインへデータを書込むための回路を有し
ている。従って、センス/書込み回路13の各々は、入
力データバス38及び出力データバス20の両方を介し
て、入力/出力回路28と通信即ち連結状態にある。こ
のような検知及び書込み回路を包含するセンス/書込み
回路13の構成について以下に更に詳細に説明する。注
意すべきことであるが、本発明の目的のためには、その
他のセンスアンプ配列乃至は構成のものを使用すること
も可能であり、その場合に別体の書込み及びセンス回路
を包含する。
【0026】図2の形態乃至は構成の結果として、サブ
アレイ12n 内の列の各々は単一のセンス/書込み回
路13と関連しており、従って単一のデータ端子DQと
関連している。サブアレイ12内の特定の列に対する個
別的なセンス/書込み回路13の割当ては、レイアウト
の目的のために便利な任意の態様で行なうことが可能で
ある。例えば、サブアレイ12内の128個の列は、各
々が16個の列からなる8個の隣接したブロックにグル
ープ化させることが可能であり、1個のブロック内の各
列は同一のセンス/書込み回路13及びデータ端子DQ
と関連しており、一方、8個の隣接する列からなる1つ
のグループ内の各列はその8個の列からなるグループに
おける他のものとは異なったセンス/書込み回路13及
びデータ端子DQへ割当てることが可能である。
【0027】図2の構成においてはセンス/書込み回路
13(8個)よりも冗長列25(2個)の方が少ないの
で、サブアレイ12内のどの列が冗長列25により置き
換えられるかに依存して、I/Oバス21を介して冗長
列25を適宜のセンス/書込み回路13へ接続させるた
めに冗長マルチプレクサ40が設けられている。冗長マ
ルチプレクサ40の構成について以下に詳細に説明する
。しかしながら、図2の説明のためには、8個のセンス
/書込み回路13のうちで何れが特定の冗長列25と関
連すべきであるかを表わすために冗長マルチプレクサ4
0内にヒューズが設けられている。冗長デコーダ19か
らの制御ラインRSELは、冗長列25により置き換え
られたサブアレイ12内の列の列アドレスを受取ると、
冗長列25の選択を可能とするために冗長マルチプレク
サ400 へ接続される。冗長マルチプレクサ40は、
冗長マルチプレクサ40とI/Oバス21との間に接続
されている冗長I/OバスRIOを介して、センス/書
込み回路13と通信状態となる。
【0028】この実施例においては、注意すべきことで
あるが、レイアウト効率のために、各個別的な冗長列2
5を8個のセンス/書込み回路13のうちの4個のみと
接続させることが可能である。従って、サブアレイ12
が同一のセンス/書込み回路13(個別的な冗長列25
により使用可能な4個を有する同一のグループにおける
センス/書込み回路13)と関連する2つの列内に欠陥
を有する場合には、そのメモリは冗長列25により修復
することは不可能である。この実施例の場合には、歩留
り及び欠陥モデルに基づいて、このような欠陥の蓋然性
は十分に小さいものであり、従ってこのような欠陥に起
因する幾つかのメモリの損失の危険を犯しながらも、こ
のような割当ての減少させたレイアウト複雑性の利点を
得ることが効果的であることが判明した。一方、各冗長
列25が8個のセンス/書込み回路のうちの何れかへ割
当て可能であるように冗長マルチプレクサ40を構成す
ることが可能である。以上の説明から、冗長列25のそ
の他の構成及びグループ化を採用することは当業者にと
って自明であり本発明の技術的範囲を逸脱するものでは
ない。
【0029】次に、図3を参照して、冗長列25の構成
及び動作及びそれらのセンス/書込み回路13との通信
について詳細に説明する。図3に示した如く、冗長列2
50はSRAMに対して公知の態様で構成されており、
サブアレイ12及び冗長列251 (図3においてはブ
ロックで示してある)内の列は冗長列251 と同様に
構成されている。冗長列250 は、この実施例におい
ては、1024個のメモリセル30を有しており、各メ
モリセルはパスゲート31により差動ビットラインRB
L0 及びRBL0   へ接続可能であり、1024
個のメモリセル30の各々に対するパスゲート31は関
連する行ラインRLにより制御され、従って1024個
の行ラインRLのうちの1本をイネーブルさせると、冗
長列250 内の唯1つのメモリセル30に対するパス
ゲート31をビットラインRBL0 及びRBL0 へ
接続させる。行ラインRLは、図3に示した如く、サブ
アレイ12内の全ての列に対して且つ冗長列250 及
び251 に対して共通している。
【0030】冗長列250 におけるビットラインRB
L0 及びRBL0   は各々Pチャンネルトランジ
スタ32のドレインへ接続されており、トランジスタ3
2のソースはプレチャージ電圧へ接続されており、該プ
レチャージ電圧はこの場合においてはVccであり、且
つトランジスタ32のゲートはラインRSEL0 によ
り制御され、該ラインRSEL0 は、以下に説明する
如く、冗長マルチプレクサ400 から延在している。 トランジスタ32は、ラインRSEL0 が低論理レベ
ルにある場合に、ビットラインRBL0 及びRBL0
   をプレチャージし、そのことは冗長列250 が
選択されていない場合に発生する。Pチャンネル平衡化
トランジスタ34は、そのソース対ドレイン経路をビッ
トラインRBL0 とRBL0   との間に接続して
おり、且つそのゲートをラインRSEL0 へ接続して
おり、従って、ラインRSEL0 が低状態にある期間
中(即ち、トランジスタ32を介してのプレチャージ期
間中)、ビットラインRBL0 及びRBL0   は
同一の電位(この場合は、Vcc)へ平衡化される。
【0031】ビットラインRBL0 及びRBL0  
 は冗長マルチプレクサ400 へ接続されており、該
マルチプレクサは、センス/書込み回路13の選択した
1つに対してのビットラインRBL0及びRBL0  
 の印加を制御する。ビットラインRBL0 及びRB
L0   が接続されるセンス/書込み回路13の選択
は、後に詳細に説明する如く、選択的に開放状態とされ
る冗長マルチプレクサ400 内のヒューズにより決定
される。上述した如く、冗長列250 は、冗長マルチ
プレクサ400により、そのサブアレイ12に対する8
個のセンス/書込み回路13の4個と関連しており、同
様に、冗長列251 は、その冗長マルチプレクサ40
1 を介して、8個のセンス/書込み回路13のうちの
他の4個と関連している。この例においては、冗長列2
50 は、センス/書込み回路130 ,132 ,1
34 ,136のうちの1つと通信状態とさせることが
可能であり、逆に、冗長列251 は、センス/書込み
回路131 ,133 ,135 ,137 のうちの
1つと通信状態とさせることが可能である。
【0032】この機能を達成するために、冗長マルチプ
レクサ400 はバスRIO内の4個の差動対のバスラ
インのうちの何れかにおいてビットラインRBL0 及
びRBL0   の状態を供給することが可能である。 これらの4対のバスラインが、センス/書込み回路13
0 へ接続されている出力端RIO0 と、センス/書
込み回路132 へ接続されている出力端RIO2 と
、センス/書込み回路134 へ接続されている出力端
RIO4 と、センス/書込み回路136 へ接続され
ている出力端RIO6 において図3内に示されている
。冗長マルチプレクサ400 の動作は、列デコーダ1
8における冗長デコーダ19からラインRSEL0  
 により制御される。ラインRSEL0   は、冗長
デコーダ19が、メモリ1へ供給された列アドレスが冗
長列250 により置換されるべき列のアドレスとマッ
チすることを認識すると、その活性低状態へ駆動され、
ラインRSEL0   が低論理レベルにあることに応
答して、ビットラインRBL0 及びRBL0   が
その中のヒューズにより表わされる出力端RIOのうち
の1つへ接続され、且つ、従って、選択されたセンス/
書込み回路13へ接続されるI/Oバス21のラインへ
接続される。センス/書込み回路13は、従来の態様で
、冗長列内の選択したメモリセル30からデータを検知
するか、又はそこへデータを書込む。
【0033】メモリ1へ供給された列アドレスが冗長列
250 により置換されるべき列のアドレスとマッチし
ない場合には、列デコーダ18における冗長デコーダ1
9が、ラインRSEL0   を高論理レベルへ駆動さ
せる。 ラインRSEL0   が高状態であることに応答して
、ビットラインRBL0 及びRBL0   はI/O
バス21へ接続されず、且つ冗長マルチプレクサ400
 がラインRSEL0 を介して冗長列250 へ低論
理レベルを発生し、プレチャージトランジスタ32及び
平衡化トランジスタ34をターンオンさせる。
【0034】本発明のこの実施例においては、冗長マル
チプレクサ400は、更に、更に詳細に後述する如く、
その中の特定のノードをプレチャージするために、タイ
ミング制御回路22からラインIOEQ  を介して信
号を受取る。
【0035】次に、図4を参照して、読取り経路と書込
み経路の両方を包含するセンス/書込み回路13j の
構成について説明する。I/Oバス21からの相補的入
力/出力ライン21j 及び21j   の各々はPチ
ャンネルプレチャージトランジスタ42のドレインへ接
続されており、トランジスタ42のソースは両方共入力
/出力ライン21j 及び21j   に対するプレチ
ャージ電圧(この場合は、Vcc)へ接続される。入力
/出力ライン21j 及び21j   は、更に、Pチ
ャンネル平衡化トランジスタ41により互いに接続され
ている。トランジスタ41及び42のゲートはラインI
OEQ  へ接続されており、それはATD回路26に
より検知されるアドレス遷移に応答するか、又は入力/
出力ライン21の平衡化が所望されるサイクル期間中の
その他のイベントに応答して、タイミング制御回路22
により発生される。
【0036】センス/書込み回路13j の読取り側に
おいて、入力/出力ライン21j 及び21j   の
各々はPチャンネルパストランジスタ43へ接続されて
おり、パストランジスタ43の各々はそのゲートが分離
信号ISOにより制御される。従って、入力/出力ライ
ン21j 及び21j   は、ラインISOが高論理
レベルにあることにより読取り回路から分離することが
可能であり、且つラインISOが低論理レベルにあるこ
とによりそれへ接続させることが可能である。入力/出
力ライン21j 及び21j   からパストランジス
タ43の反対側における相補的ラインは、図4において
は、夫々、センスノードSN及びSNとして呼称される
【0037】センスノードSN及びSN  は、更に、
好適には、サイクルの適宜の部分の期間中にプレチャー
ジされ且つ平衡化される。なぜならば、センス/書込み
回路13内のセンスアンプ48は、後述する如く、ダイ
ナミックな態様で動作するからである。Pチャンネルプ
レチャージトランジスタ46の各々は、そのソース対ド
レイン経路をVccとセンスノードSN及びSN  の
夫々との間に接続している。平衡化トランジスタ45は
Pチャンネルトランジスタであり、そのソース対ドレイ
ン経路はセンスノードSNとSN  との間に接続して
いる。トランジスタ45及び46のゲートは、全て、ラ
インSAEQ  により制御され、それは、低レベルに
ある場合に、ビットラインBL及びBL  及び入力/
出力ライン21j 及び21j   に関して上述した
のと同一の態様で、センスノードSN及びSN  をプ
レチャージし且つ平衡化させる。
【0038】センスアンプ48は従来のCMOSラッチ
であり、その中における公差結合されたインバータから
構成されており、その公差結合されたラッチの入力端及
び出力端は従来の態様でセンスノードSN及びSN  
へ接続されている。Nチャンネルプルダウントランジス
タ47は、そのソース対ドレイン経路を、センスアンプ
48内のNチャンネルトランジスタのソースと接地との
間に接続しており、且つそのゲートはラインSCLKに
より制御される。
【0039】プルダウントランジスタ47はセンスアン
プ48のダイナミック制御を与え、従ってセンスノード
SN及びSN  のセンス動作即ち検知動作はダイナミ
ックな態様で行なわれる。ダイナミックRAMにおいて
公知の如く、この構成におけるダイナミック検知はパス
トランジスタ43がセンスノードSN及びSN  を入
力/出力ライン21j 及び21j   へ接続する時
において初期的にオフであるトランジスタ47で制御さ
れ、サイクルのこの部分の期間中、センスアンプ48は
センスノードSN及びSN  間の小さな差電圧が供給
される。この小さな差電圧が発生した後に、ラインSC
LKは高状態へ駆動され、従ってセンスアンプ48内の
プルダウントランジスタのソースは接地へプルされる。 このことは、センスアンプ48をしてセンスノードSN
及びSN  上に大きな差信号を発生させ、且つセンス
ノードSN及びSN  の検知した状態をラッチする。
【0040】この構成においては、センスノードSN及
びSN  はR−Sフリップフロップ50により出力バ
ス20へ通信を行ない、フリップフロップ50のセット
入力端はセンスノードSN  を受取り、且つフリップ
フロップ50のリセット入力端はセンスノードSNを受
取る。フリップフロップ50のQ  出力端は、インバ
ータ49を介して、出力バス20のライン20j へ接
続されている。インバータ49は出力バス20へ送給さ
れる論理状態を、この説明において指定されたビットラ
インBL及びBL  の極性と一貫性のあるものとさせ
る。インバータ49は、好適には、列デコーダ18によ
って制御される制御入力端を有しており(図4のライン
BLK上に示してある)、従ってインバータ49は、セ
ンス/書込み回路13j が関連しているサブアレイ1
2が列デコーダ18により選択されない場合に、トライ
ステート状態となる。
【0041】注意すべきことであるが、センス/書込み
回路13j のその他のものがメモリ1内に存在してお
り、且つ、異なったサブアレイ12の場合を除いて、図
4のセンス/書込み回路13j と同様の態様で出力バ
スライン20j と関連している。出力バス20のこの
ラインと関連するセンス/書込み回路13j の全ては
ワイヤードOR態様で接続されている。従って、センス
/書込み回路13j の読取り側へ供給される制御信号
ISO,SAEQ  ,SCLKは、好適には、この実
施例においては、タイミング制御回路22と関連して列
デコーダ18により発生される。このようなこれらの制
御信号の発生は、サブアレイ12の選択されなかったも
のと関連するセンス/書込み回路13j のものをイネ
ーブルさせることはなく(ラインISOを高状態に維持
し、且つラインSAEQ  及びSCLKを低状態に維
持することにより)、それらのセンスノードSN及びS
N  を平衡化され且つVccへプレチャージされた状
態に維持し、出力バス20上でのバス競合を防止する。
【0042】次に、センス/書込み回路13j の書込
み側を検討すると、入力バス38からのライン38j 
及び列デコーダ18からの書込み制御信号WRSELが
NANDゲート54T及び54Cにより受取られる(ラ
イン38j がNANDゲート54Cへ接続される前に
インバータ53により反転される)。書込み制御信号W
RSELが、公知の如く、サイクルにおける適宜の時間
において書込み動作を行なうためのタイミング制御回路
22からの適宜のタイミング信号と共に、センス/書込
み回路13j が関連するサブアレイ12の選択の論理
的ANDに従って発生される。
【0043】NANDゲート54Tの出力端がNチャン
ネルプルダウントランジスタ57Tとプシュプル態様で
接続されているPチャンネルプルアップトランジスタ5
6Tのゲートを制御し、NANDゲート54Tの出力端
は、更に、インバータ55Tを介して、Nチャンネルプ
ルダウントランジスタ57Cのゲートへ接続されており
、トランジスタ57CはPチャンネルプルアップトラン
ジスタ56Cとプシュプル態様で接続されている。同様
に、NANDゲート54Cの出力端は、プルアップトラ
ンジスタ56Cのゲートへ直接的に接続されており、且
つプルダウントランジスタ57Tのゲートへインバータ
55Cを介して接続されている。トランジスタ56T及
び57Tのドレインは入力/出力ライン21jを駆動し
、且つトランジスタ56C及び57Cのドレインは入力
/出力ライン21j   を駆動する。
【0044】従って、センス/書込み回路13j の書
込み側はトライステートドライバの相補的対として動作
する。該ドライバは、書込み制御ラインWRSELが低
論理レベルにあることに応答して入力/出力ライン21
j及び21j   へ高インピーダンス状態を供給する
。なぜならば、このことは、NANDゲート54T及び
54Cの両方の出力端を高論理レベルとし、トランジス
タ56T,56C,57T,57Cの全てをターンオフ
させるからである。勿論、書込み制御ラインWRSEL
は、読取りサイクル期間中、及びセンス/書込み回路1
3j と関連するもの以外のサブアレイ12に対する書
込みサイクル期間中に、このような低論理レベルにある
【0045】この好適実施例によれば、センス/書込み
回路13j の書込み側にソースホロワも与えられる。 Nチャンネルトランジスタ60Tは、そのソースを入力
/出力ライン21j へ接続し且つそのドレインをVc
cへバイアスさせ、トランジスタ60TのゲートはNA
NDゲート54Cの出力により制御され、インバータ5
5C及び59Cにより2度反転される。同様に、Nチャ
ンネルトランジスタ60Cは、そのソースを入力/出力
ライン21j   へ接続しており、且つそのドレイン
をVccへバイアスしており、トランジスタ60Tのゲ
ートはNANDゲート54Tの出力により制御され、イ
ンバータ55T及び59Tにより2度反転される。
【0046】トランジスタ60T及び60Cのソースホ
ロワは、書込み動作の後で且つ読取り動作の前に(しば
しば「書込み回復」と呼ばれる)入力/出力ライン21
j 及び21j   のプルアップを助けるために設け
られている。動作について説明すると、書込み動作期間
中に、プルダウントランジスタ57により低レベルへ駆
動される入力/出力ライン21j 及び21j   の
一方はその関連するソースホロワトランジスタをオフさ
せ(インバータ59からの反転により)、ソースホロワ
トランジスタ60は、そのプルアップ装置56により高
へ駆動される他の入力/出力ラインに対してオンである
。書込み制御ラインWRSELが書込動作の終了時に低
論理レベルへ復帰すると、NANDゲート54の両方の
出力は高であり、従って以前にオンでなかったトランジ
スタ60はターンオンされる。このことは、それと関連
する入力/出力ライン21j をその適切な低レベルか
ら電圧Vcc−Vt(Vt はトランジスタ60のスレ
ッシュホールド電圧である)へ向けてプルアップする。 プレチャージトランジスタ42は、1度ターンオンされ
ると、入力/出力ライン21j 及び21j   を完
全にVccへプルアップし、入力/出力ライン21j 
及び21j   の電圧がVcc−Vt より高い電圧
に到達すると、トランジスタ60は最早影響を有するも
のではなくなる。
【0047】注意すべきことであるが、ソースホロワト
ランジスタ60の両方は読取り動作期間中オン状態を維
持する。従って、入力/出力ライン21j及び21j 
  がクランプされ、従ってそれらの電圧はVcc−V
t のレベル以下に降下することは不可能である。しか
しながら、注意すべきことであるが、この実施例におけ
るVtは1.25Vのオーダである。入力/出力ライン
21及びビットラインBL及びBL  がVccへプレ
チャージされるので、ビットラインBL及びBL  へ
接続される選択されたメモリセル30はVt のオーダ
の差電圧を入力/出力ライン21j 及び21j   
の間に発生させる。この差動電圧はセンスアンプ48に
より容易に検知することが可能である。従って、ソース
ホロワトランジスタ60を設けることにより、読取り動
作に殆ど影響を与えることなしに書込み回復を改善させ
ることが可能である。
【0048】次に、図5を参照して、本発明の好適実施
例に基づく冗長マルチプレクサ40の構成について、一
例として冗長マルチプレクサ400 を使用して説明す
る。上述した図3において示した如く、冗長マルチプレ
クサ400 は冗長列250 からビットラインRBL
0 及びRBL0   を受取る。パスゲート620 
,622 ,624 ,626 が、夫々、一方の側に
おいてはヒューズ660 ,662 .664 ,66
6 へ接続されており且つ他方の側においてはビットラ
インRBL0 へ接続されており、同様に、パスゲート
620   ,622   ,624   ,626 
  が一方の側において夫々ヒューズ660   ,6
62   ,664   ,666   へ接続されて
おり、且つ他方の側においてビットラインRBL0  
 へ接続されている。パスゲート62の各々は、ソース
対ドレイン経路を互いに並列に接続したNチャンネル及
びPチャンネルトランジスタとして構成されている。パ
スゲート62内のPチャンネルトランジスタの各々のゲ
ートは、列デコーダ18からのラインRSEL0   
へ接続されており、且つパスゲート62内のNチャンネ
ルトランジスタの各々のゲートはラインRSEL0  
 を反転するインバータ63の出力端においてラインR
SEL0 へ接続されている。インバータ63の出力端
からのラインRSEL0 は、更に、図3に示した如く
、冗長列250 内の平衡化トランジスタ34及びプレ
チャージトランジスタ32のゲートへ接続されている。
【0049】ヒューズ66は、冗長列250 が選択さ
れる場合に、ビットラインRBL0 及びRBL0  
 を接続すべきバスRIOのラインを選択する。この例
においては、選択されたセンス/書込み回路13と関連
する2つのもの以外のもの全てのヒューズ66が、この
選択を制御するためのレーザにより開放状態とされる。 例えば、冗長列250 がセンス/書込み回路132 
と関連するサブアレイ12内の1つの列と置き換えるべ
き場合には、ヒューズ660 ,660   ,664
 ,664 ,666 ,666   の全てが開放状
態とされ且つヒューズ662 及び662   はその
ままの状態とされる。その結果、列デコーダ18がライ
ンRSEL0   を低状態へ駆動することにより冗長
列250 を選択すると、全てのパスゲート62がター
ンオンされ、且つビットラインRBL0 及びRBL0
   は、パスゲート622 及び622   及び変
化されなかったヒューズ662 及び662   を介
して、夫々、出力ラインRIO2 及びRIO2   
へ接続される。 ラインRIO2 及びRIO2   は、図3に示した
如く、R/Oバス21のライン212 及び212  
 へ接続され、従って図4に示した態様で、センス/書
込み回路212 へ接続される。本発明の好適実施例に
よれば、冗長マルチプレクサ40はヒューズ66とパス
ゲート62との間に接続されるその中のノードをプレチ
ャージするための回路を有している。図5を参照すると
、この回路はPチャンネルプレチャージトランジスタ6
4によって実現されており、該トランジスタの各々は、
そのドレインを、関連するパスゲート62とヒューズ6
6との間において、冗長マルチプレクサ400 内のノ
ードNへ結合させている。例えば、プレチャージトラン
ジスタ646は、そのドレインを、パスゲート626 
とヒューズ666 との間におけるノードN6 へ接続
している。プレチャージトランジスタ64の各々は、更
に、そのソースをプレチャージ電圧へ接続しており、そ
れは、この場合には、Vccであり、且つそのゲートを
ラインIOEQ  へ接続しており、該ラインはセンス
/書込み回路13においてI/Oライン21及び21 
 を平衡化させる場合について上述したものと同一の信
号である。従って、I/Oライン21及び21  がプ
レチャージされているメモリサイクルにおける期間中に
おいて、プレチャージトランジスタ64のドレインが接
続されるべきノードは同様にVccへプレチャージされ
る。一方冗長マルチプレクサ40内のノードNをプレチ
ャージすることに変えて(又は、そのことに加えて)、
与えられた対の冗長入力/出力ラインRIO及びRIO
  に対するノードNの平衡化は、更に、選択されなか
った入力/出力対に対しそこにおける差動的なトラップ
された電荷を減少させるべく作用することが可能である
。例えば、各入力/出力対RIO及びRIO  に対し
てPチャンネルトランジスタを設けることが可能であり
、そのソース−ドレイン経路をそれと関連する入力/出
力ラインRIO及びRIO  の間に接続し、且つその
ゲートをラインIOEQ  へ接続し、従って入力/出
力バス平衡化期間中にそれが導通状態であるようにする
ことが可能である。ノードNの平衡化は、そこにおいて
トラップされた電荷の差動的成分を除去し、従ってライ
ンRSEL0   による関連した冗長列の選択は、冗
長列250 のビットライン上に差動電圧を与えること
はない。注意すべきことであるが、このような平衡化を
ノードN(プレチャージなし)に与えることは、差動的
なトラップした電荷を除去する上では効果的であるが、
冗長列250 のビットラインへオフセット電圧を印加
することとなる可能性があり、そのことは、その列に対
するセンス及び書込み回路による動作において考慮され
ねばならない。従って、プレチャージの代わりにノード
Nの平衡化を行なうことは、レイアウトが1個のトラン
ジスタを容易に受入れることが可能であるような場合に
主に好適であるが、図5の実施例に示した2個のプレチ
ャージトランジスタ64を容易に取入れることは不可能
である。
【0050】図6及び7を参照して、冗長列25へアク
セスするのに必要とされる時間をサブアレイ12内の1
つの列へアクセスするのに必要とされる時間と可及的に
近い状態に維持する場合のこのようなプレチャージ動作
の利点について説明する。図6は、プレチャージトラン
ジスタ64なしで構成された場合の、一連の読取り動作
に対する冗長マルチプレクサ40の動作を示している。 説明の便宜上、図6におけるライン及びノードに対する
参照は図5の冗長マルチプレクサ400 の要素に関し
て行なうものとするが、前述した如く、図6に示した動
作は、プレチャージトランジスタ64を有することのな
いマルチプレクサに対するものである。図6に示したシ
ーケンスは両方共冗長列250 内であるが異なった行
内にある2個のメモリセル30の相継ぐ読取りの場合を
示しており、且つその場合に、アクセスされたメモリセ
ル内に格納されているデータ状態は互いに反対である。
【0051】図6のシーケンスは、「1」データ状態を
収容する冗長列250 内のメモリセルの読取りの完了
で開始する。その結果、ビットラインRBL0 はビッ
トラインRBL0   に対して高状態にあり、注意す
べきことであるが、ビットラインRBL0 及びRBL
0   間の差動信号は、前述した如く、Nチャンネル
トランジスタスレッシュホールド電圧の程度である。こ
の例の目的のためには、ヒューズ662 及び662 
  は不変のままであり、且つその他の6個のヒューズ
66の全ては開放状態にあり、従ってセンス/書込み回
路132が選択された状態にある。従って、図6の最初
の読取りサイクルの終了時に、ビットラインRBL0 
及びRBL0   の状態に従って、出力ラインRIO
2 は高レベルにあり且つRIO2   は低論理レベ
ルにあり、センス/書込み回路132 に対して差動信
号を送給する。パスゲート62の全てがオンであるので
、開放状態にあるヒューズ66と関連しているノードN
は出力ラインRIO2 及びRIO2   の状態に追
従する。例えば、図6に示した如く、ノードN6 は高
論理レベルにあり且つノードN6   は低論理レベル
にある。
【0052】行アドレスの遷移があると、アドレス遷移
検知回路26がラインATD上にパルスを発生する。上
述した如く、このことは種々の制御信号を発生させ、例
えば、図6に示した如く、ラインIOEQ  が低論理
レベルへ移行し且つラインRSEL0   が高論理レ
ベルへ移行する。従って、そのアドレス遷移の結果とし
て、パスゲート62の全てがターンオフされ且つビット
ラインRBL0 及びRBL0 が、ラインRSEL0
   が高状態へ移行する(且つラインRSEL0 が
低状態へ移行)へ動作によりプレチャージされ且つ平衡
化される。同様に、図4に示したセンス/書込み回路1
3j の構成を参照すると、ラインIOEQ  が低状
態へ移行することに応答してI/Oライン21及び21
  がプレチャージされ且つ平衡化され、従って、ライ
ンRIO2 及びRIO2   がVccへプレチャー
ジされ且つ平衡化される。
【0053】しかしながら、ヒューズ666 及び66
6 が開放状態にあるので、ラインATD上のパルスに
応答してラインRSEL0   が高状態へ移行するこ
とによりパスゲート626 及び626   がターン
オフされると、ノードN6 及びN6   がフロート
状態のままとされ、前のサイクルの期間中にそれらが駆
動された電圧を維持する(究極的には、それからのリー
クに依存する)。その結果、行アドレスの変化からライ
ンATD上に発生するパルスが、開放状態にあるヒュー
ズ66と関連するノードN上の電荷をトラップする。
【0054】開放状態にあるヒューズ66と関連するノ
ードN上のトラップされた電荷は、冗長列250 の爾
後のアクセスを遅滞化させ、その場合に、ビットライン
RBL0 及びRBL0   上のデータ状態は前のサ
イクルのものと反対である。このことは、ラインATD
上のパルスの終了時に発生するものとして図6に示して
あり、そのことは、ラインIOEQをして高論理レベル
へ復帰させ且つそのことは列デコーダ18をイネーブル
してラインRSEL0   上に低論理レベルを発生さ
せる(なぜならば、この例においては、列アドレスが同
一のまま維持されるからである)。ラインRSEL0 
  が低論理レベルへ復帰することに応答して、ビット
ラインRBL0 及びRBL0   が新たな行アドレ
スと関連する選択されたメモリセル30からのデータ状
態を受取り、且つパスゲート62は全てターンオン状態
とされる。しかしながら、このサイクルにおいてビット
ラインRBL0 及びRBL0   上に供給される反
対のデータ状態は、開放状態にあるヒューズ66と関連
するノードN上のトラップされた電荷に打ち勝つもので
なければならず、このようにトラップされた電荷は前の
サイクルとは反対のデータ状態である。6個のヒューズ
66が開放状態とされている例の場合には、この格納さ
れた帯電状態はノードN0 ,N0   ,N4 ,N
4   ,N6 ,N6   上に存在する。
【0055】図6に示した如く、ノードN0 ,N0 
  ,N4 ,N4   ,N6 ,N6 上のトラッ
プされた電荷は、ビットラインRBL0 及びRBL0
   上に誤った差電圧が確立されるような大きさのも
のである場合がある。この誤った差電圧は、選択された
冗長入力/出力ラインRIO2 及びRIO2   及
びビットラインRBL0 及びRBL0   と共に、
全てのノードをN及びN  の間で発生する電荷分割か
ら発生する。従って、ビットラインRBL0 及びRB
L0   が誤った差電圧に打ち勝ち(そのことの検知
は出力端へ誤ったデータを送給する場合がある)且つラ
インRIO2 及びRIO2  上に有効な新たなデー
タ状態を供給するために時間が必要とされる。従って、
図6に示した、アドレス値の遷移の後ラインRIO2 
及びRIO2   が新たなデータ状態を供給する時間
の間のアクセス時間tacはこの遅延時間を有している
。 上述した例は読取り動作に続く読取り動作の場合として
示したが、書込み動作に続く読取り動作はより長い遅延
時間を経験することとなる。なぜならば、入力/出力ラ
インは、通常、読取り動作(例えば、Nチャンネルトラ
ンジスタスレッシュホールド電圧の程度における差電圧
)におけるよりも書込み動作においてより大きな差電圧
(例えば、レール対レール差電圧)へ駆動されるからで
ある。
【0056】図7を参照すると、相継ぐサイクルにおけ
る冗長列250 における異なったセルから反対のデー
タ状態の同一の読取りに対してのプレチャージトランジ
スタ64を包含する図5の冗長マルチプレクサ400 
の動作が示されている。図7のシーケンスにおける最初
のサイクルに対する本発明のこの実施例に基づく冗長マ
ルチプレクサ400 の動作は図6に示したものと同一
である。
【0057】しかしながら、プレチャージトランジスタ
64を設けているために、ヒューズ66のうちで開放状
態にあるものと関連しているノードNはフロートするこ
とはなく、ラインIOEQ  が低レベルへ移行するこ
とに応答してVccへプレチャージされ、I/Oバス2
1内のラインを平衡化させる。ノードN6 及びN6 
  (及び開放状態とされたヒューズ66と関連するノ
ードNの他のもの)のVccへのプレチャージ動作は、
ビットラインRBL0 及びRBL0   及びI/O
バス21のプレチャージ及び平衡化と実質的に同時に発
生する(その結果、図6に示した如く、ラインRIO2
 及びRIO2   の平衡化が行なわれる)。
【0058】ラインATD上のパルスが完了し、且つ冗
長列250 の新たな行内のメモリセル30が選択され
ると(この例においては列アドレスは一定のままである
)、選択されたメモリセル30により発生されるビット
ラインRBL0 及びRBL0 上の差動電圧が、ノー
ドNの上のトラップされた電荷に打ち勝つ必要性なしに
、ラインRIO2 及びRIO2   上に発生される
。その結果、ラインRIO2 及びRIO2   上に
十分な差動信号が発生されるアクセス時間tacは、プ
レチャージトランジスタ64の動作に起因して、図6に
示した場合のものよりも一層短い。従って、本発明のこ
の実施例に基づくメモリ内の冗長列と関連するデータ端
子DQを選択するための回路の構成は、冗長列内の選択
されたメモリセルからのデータ状態の通信即ち送給にお
ける遅れを減少させる。その結果、該メモリ内において
具体化される冗長列の数は、上述した歩留りとチップ面
積との利益衡量に従って選択することが可能である。な
ぜならば、本発明によれば、冗長列が複数個のデータ端
子のうちの1つと通信状態とされる選択回路を設けるこ
とにより性能に与えられる影響が最小とされているから
である。
【0059】注意すべきことであるが、上述した説明で
はVccへプレチャージしており、従って、好適には、
このようなプレチャージのためにPチャンネルトランジ
スタを使用しているが、異なったトランジスタタイプ及
びその他の回路を使用してその他の電圧へプレチャージ
することにより、集積メモリ回路としてか、又は例えば
マイクロプロセサ、論理アレイ等のような論理装置にお
ける埋込み型メモリ等のメモリのアクセス時間の性能に
おいて同様の改善が得られる。更に注意すべきことであ
るが、上述した説明はスタチックRAM装置に関するも
のであるが、本発明の利点は、例えばダイナミックRA
M、ROM、EPROM及びEEPROM等のようなリ
ードオンリメモリ、及びFIFO及び二重ポートメモリ
等のようなその他のメモリ形態のもの等のその他のメモ
リ構成及びタイプにおいて使用することによっても得る
ことが可能である。
【0060】以上、本発明の具体的実施の態様について
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ限定
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論である
【図面の簡単な説明】
【図1】  本発明の好適実施例に基づくメモリの概略
図。
【図2】  図1のメモリ内のサブアレイ及びその冗長
列を示した概略図。
【図3】  図1のメモリ内の冗長列とセンス/書込み
回路との間の通信状態を示した概略図。
【図4】  図1のメモリにおけるセンス/書込み回路
を示した概略図。
【図5】  図1のメモリにおける冗長マルチプレクサ
を示した概略図。
【図6】  プレチャージ及び平衡化が存在しない場合
の冗長デコーダの動作を示したタイミング線図。
【図7】  本発明の好適実施例に基づく冗長マルチプ
レクサの動作を示したタイミング線図。
【符号の説明】
1  メモリ 12  サブアレイ 13  センス/書込み回路 14  行デコーダ 16  リピータ 18  列デコーダ 19  冗長列デコーダ 22  タイミング制御回路 24  パワーオンリセット回路 25  冗長列 26  アドレス遷移検知回路 28  入力/出力回路 40  冗長マルチプレクサ 66  ヒューズ

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  メモリを有する集積回路において、行
    及び列の形態に配列された格納セルからなるアレイが設
    けられており、複数個の出力端子が設けられており、前
    記出力端子と通信するためにアドレス信号に従って選択
    された前記アレイ内の複数個の格納セルへアクセスする
    手段が設けられており、前記アレイと関連する複数個の
    冗長格納セルが設けられており、前記複数個の冗長格納
    セルと前記出力端との間に結合されており前記複数個の
    冗長格納セルを選択された出力端へ結合させる選択回路
    が設けられており、前記複数個の冗長格納セルのうちの
    一つが選択されるべきであることを表わす前記アドレス
    信号に応答して、前記複数個の冗長格納セルのうちの前
    記一つが選択された出力端と通信状態とされることを特
    徴とする集積回路。
  2. 【請求項2】  請求項1において、前記複数個の冗長
    格納セルが1列に配列されていることを特徴とする集積
    回路。
  3. 【請求項3】  請求項1において、前記選択回路がマ
    ルチプレクサを有することを特徴とする集積回路。
  4. 【請求項4】  請求項1において、前記複数個の冗長
    格納セルが一列に配列されており、更に、前記複数個の
    冗長格納セルのうちの選択された一つのデータ状態を前
    記選択回路へ通信するための冗長ビットラインが設けら
    れており、且つ前記選択回路が複数個のヒューズを有し
    ており、前記ヒューズの各々が前記冗長ビットラインと
    関連する出力端子との間に結合されており、前記選択さ
    れた出力端子と関連しないヒューズは開放状態であり且
    つ前記選択された出力端子と関連するヒューズが閉じた
    状態に維持されることを特徴とする集積回路。
  5. 【請求項5】  請求項1において、前記アクセスする
    手段が、前記アドレス信号を受取り且つ前記出力端子と
    通信するために前記複数個の格納セルのうちの選択した
    ものを選択するデコーダを有することを特徴とする集積
    回路。
  6. 【請求項6】  請求項5において、更に、前記アドレ
    ス信号を受取り且つ前記選択回路により選択された出力
    端子と通信するために前記冗長格納セルのうちの一つを
    選択する冗長デコーダが設けられていることを特徴とす
    る集積回路。
  7. 【請求項7】  請求項5において、前記デコーダが、
    行アドレス信号に従って前記複数個の格納セルのうちの
    一行を選択する行デコーダと、列アドレス信号に従って
    前記出力端子と通信するために前記選択された行内の格
    納セルを選択する列デコーダとを有することを特徴とす
    る集積回路。
  8. 【請求項8】  請求項7において、前記冗長格納セル
    が一列に配列されており、且つ、更に、前記アドレス信
    号を受取り且つ前記冗長格納セルのうちの一つが選択さ
    れるべきであることを表わす前記列アドレス信号に応答
    して前記選択回路により選択された出力端子と通信する
    ために前記冗長格納セルのうちの一つを選択する冗長列
    デコーダが設けられていることを特徴とする集積回路。
  9. 【請求項9】  請求項1において、前記格納セルから
    なるアレイが複数個のサブアレイを有することを特徴と
    する集積回路。
  10. 【請求項10】  請求項9において、前記アドレスに
    より選択された格納セルの全てが同一のサブアレイ内に
    位置されていることを特徴とする集積回路。
  11. 【請求項11】  請求項10において、前記サブアレ
    イの各々が複数個の前記冗長格納セルと関連しているこ
    とを特徴とする集積回路。
  12. 【請求項12】  請求項11において、サブアレイと
    関連する前記複数個の冗長格納セルの各々が一列に配列
    されていることを特徴とする集積回路。
  13. 【請求項13】  請求項11において、一つのサブア
    レイと関連する複数個の冗長格納セルの各々が複数個の
    列に配列されており、且つ各サブアレイと関連する前記
    複数個の列が前記複数個の出力端子の数よりも少ないこ
    とを特徴とする集積回路。
  14. 【請求項14】  集積回路におけるメモリの動作方法
    において、前記メモリは行及び列の形態に配列された格
    納セルからなるアレイを有しており且つデータを通信す
    るために複数個の出力端と通信状態とさせることの可能
    な複数個の冗長格納セルを有しており、前記複数個の冗
    長格納セルと通信するための1個の出力端を選択し、前
    記冗長格納セルのうちの一つを選択することを表わすア
    ドレスを受取ることに応答して、前記選択された冗長格
    納セルを前記選択された出力端へ接続させる、上記各ス
    テップを有することを特徴とする方法。
  15. 【請求項15】  請求項14において、前記複数個の
    冗長格納セルが1本の冗長ビットラインと関連しており
    、且つ前記冗長ビットラインと前記複数個の出力端の各
    々との間に1個のヒューズが結合されており、且つ前記
    選択するステップが、前記選択ステップにより選択され
    なかった出力端と前記冗長ビットラインとの間に結合さ
    れているヒューズを開放させることを特徴とする方法。
  16. 【請求項16】  請求項15において、前記接続ステ
    ップが、前記冗長ビットラインと前記選択した出力端と
    の間に結合されているパスゲートを閉じることを特徴と
    する方法。
  17. 【請求項17】  請求項15において、前記冗長格納
    セルが列に配列されており、且つ前記冗長格納セルの列
    数が前記出力端の数より少ないことを特徴とする方法。
  18. 【請求項18】  請求項17において、前記接続ステ
    ップが、列アドレスをデコードし、前記列アドレスが前
    記冗長格納セルがアクセスされるべきであることを表わ
    すものではないことに応答して、前記冗長格納セルを前
    記選択された出力端から切断し、前記列アドレスが前記
    冗長格納セルがアクセスされるべきであることを表わす
    ことに応答して、前記冗長格納セルを前記選択された出
    力端へ接続させる、上記各ステップを有することを特徴
    とする方法。
  19. 【請求項19】  請求項18において、前記複数個の
    メモリセルが複数個のサブアレイに配列されており、前
    記複数個のサブアレイは各々前記冗長格納セルからなる
    1列と関連しており、且つ、前記列アドレスが前記サブ
    アレイのうちの一つにおける格納セルの選択を表わすこ
    とに応答して、前記サブアレイ内の複数個の格納セル及
    び前記サブアレイと関連する列内の冗長格納セルのうち
    の一つが前記出力端へ接続されることを特徴とする方法
  20. 【請求項20】  請求項14において、前記メモリが
    更に入力端子を有しており、前記複数個の冗長格納セル
    は書込み動作においてそれからデータを通信するために
    複数個の入力端と通信状態とさせることが可能であり、
    且つ、更に、前記複数個の冗長格納セルと通信するため
    に1個の入力端を選択し、書込みイネーブル信号を受取
    り、前記書込みイネーブル信号を受取ることに応答し且
    つ前記冗長格納セルのうちの一つを選択することを表わ
    すアドレスを受取ることに応答して、前記選択された冗
    長格納セルを前記選択された入力端へ接続する、上記各
    ステップを有することを特徴とする方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100495457B1 (ko) * 1996-05-14 2005-09-14 프리스케일 세미컨덕터, 인크. 집적회로메모리
JP4693197B2 (ja) * 1998-04-23 2011-06-01 株式会社東芝 半導体記憶装置

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5361227A (en) * 1991-12-19 1994-11-01 Kabushiki Kaisha Toshiba Non-volatile semiconductor memory device and memory system using the same
US6781895B1 (en) * 1991-12-19 2004-08-24 Kabushiki Kaisha Toshiba Non-volatile semiconductor memory device and memory system using the same
US5768206A (en) * 1995-06-07 1998-06-16 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Circuit and method for biasing bit lines
US5608678A (en) * 1995-07-31 1997-03-04 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Column redundancy of a multiple block memory architecture
US5657284A (en) 1995-09-19 1997-08-12 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for testing for defects between memory cells in packaged semiconductor memory devices
US5965902A (en) * 1995-09-19 1999-10-12 Micron Technology Method and apparatus for testing of dielectric defects in a packaged semiconductor memory device
US5796746A (en) * 1995-12-22 1998-08-18 Micron Technology, Inc. Device and method for testing integrated circuit dice in an integrated circuit module
US6240535B1 (en) * 1995-12-22 2001-05-29 Micron Technology, Inc. Device and method for testing integrated circuit dice in an integrated circuit module
US5825697A (en) * 1995-12-22 1998-10-20 Micron Technology, Inc. Circuit and method for enabling a function in a multiple memory device module
US5771195A (en) * 1995-12-29 1998-06-23 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Circuit and method for replacing a defective memory cell with a redundant memory cell
US5612918A (en) * 1995-12-29 1997-03-18 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Redundancy architecture
US5790462A (en) * 1995-12-29 1998-08-04 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Redundancy control
US5841709A (en) * 1995-12-29 1998-11-24 Stmicroelectronics, Inc. Memory having and method for testing redundant memory cells
US6037799A (en) * 1995-12-29 2000-03-14 Stmicroelectronics, Inc. Circuit and method for selecting a signal
US5781486A (en) * 1996-04-16 1998-07-14 Micron Technology Corporation Apparatus for testing redundant elements in a packaged semiconductor memory device
US5706292A (en) 1996-04-25 1998-01-06 Micron Technology, Inc. Layout for a semiconductor memory device having redundant elements
US5953745A (en) * 1996-11-27 1999-09-14 International Business Machines Corporation Redundant memory array
US5909049A (en) 1997-02-11 1999-06-01 Actel Corporation Antifuse programmed PROM cell
US6172935B1 (en) 1997-04-25 2001-01-09 Micron Technology, Inc. Synchronous dynamic random access memory device
US5883844A (en) * 1997-05-23 1999-03-16 Stmicroelectronics, Inc. Method of stress testing integrated circuit having memory and integrated circuit having stress tester for memory thereof
FR2764095B1 (fr) * 1997-05-30 2001-10-12 Sgs Thomson Microelectronics Circuit de memoire avec redondance dynamique
US6018488A (en) * 1997-06-26 2000-01-25 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device and method relieving defect of semiconductor memory device
US6005813A (en) 1997-11-12 1999-12-21 Micron Technology, Inc. Device and method for repairing a semiconductor memory
JP3204198B2 (ja) * 1998-02-10 2001-09-04 日本電気株式会社 半導体メモリ装置
US6452845B1 (en) 1999-01-07 2002-09-17 Micron Technology, Inc. Apparatus for testing redundant elements in a packaged semiconductor memory device
US6367025B1 (en) * 1999-02-01 2002-04-02 Compaq Computer Corporation Pass-gate inputs that temporarily hold state on a high input impedance, strobed CMOS differential sense amplifier
KR100385225B1 (ko) * 2001-03-23 2003-05-27 삼성전자주식회사 탐침 패드 및 범프 패드를 갖는 플립 칩형 반도체소자 및 그 제조방법
DE10297097B4 (de) * 2001-07-31 2007-10-11 Infineon Technologies Ag Schmelzprogrammierbare E/A-Organisation
JP5119563B2 (ja) * 2001-08-03 2013-01-16 日本電気株式会社 不良メモリセル救済回路を有する半導体記憶装置
US20030058698A1 (en) * 2001-09-26 2003-03-27 Gerhard Mueller Memory with high performance unit architecture
US6915467B2 (en) * 2001-12-11 2005-07-05 International Business Machines Corporation System and method for testing a column redundancy of an integrated circuit memory
US6879530B2 (en) * 2002-07-18 2005-04-12 Micron Technology, Inc. Apparatus for dynamically repairing a semiconductor memory
US6928377B2 (en) * 2003-09-09 2005-08-09 International Business Machines Corporation Self-test architecture to implement data column redundancy in a RAM
US7215586B2 (en) * 2005-06-29 2007-05-08 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for repairing a semiconductor memory
ITUB20152089A1 (it) * 2015-07-10 2017-01-10 St Microelectronics Srl Cella di memoria e dispositivo corrispondente
US11670379B2 (en) * 2020-12-04 2023-06-06 Micron Technology, Inc. Sense line structures in capacitive sense NAND memory

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4228528B2 (en) * 1979-02-09 1992-10-06 Memory with redundant rows and columns
JPS58130495A (ja) * 1982-01-29 1983-08-03 Toshiba Corp 半導体記憶装置
US4471472A (en) * 1982-02-05 1984-09-11 Advanced Micro Devices, Inc. Semiconductor memory utilizing an improved redundant circuitry configuration
US4573146A (en) * 1982-04-20 1986-02-25 Mostek Corporation Testing and evaluation of a semiconductor memory containing redundant memory elements
US4485459A (en) * 1982-09-20 1984-11-27 Fairchild Camera & Instrument Corp. Redundant columns for byte wide memories
JPH0670880B2 (ja) * 1983-01-21 1994-09-07 株式会社日立マイコンシステム 半導体記憶装置
US4601019B1 (en) * 1983-08-31 1997-09-30 Texas Instruments Inc Memory with redundancy
US4599709A (en) * 1984-02-17 1986-07-08 At&T Bell Laboratories Byte organized static memory
JPS6199999A (ja) * 1984-10-19 1986-05-19 Hitachi Ltd 半導体記憶装置
US4691300A (en) * 1985-12-20 1987-09-01 Motorola, Inc. Redundant column substitution architecture with improved column access time
JPS6337899A (ja) * 1986-07-30 1988-02-18 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JPS6433800A (en) * 1987-07-29 1989-02-03 Toshiba Corp Semiconductor memory
JPH01224999A (ja) * 1988-03-04 1989-09-07 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JPH01245497A (ja) * 1988-03-28 1989-09-29 Nec Corp 半導体メモリ
JPH0289299A (ja) * 1988-09-27 1990-03-29 Nec Corp 半導体記憶装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100495457B1 (ko) * 1996-05-14 2005-09-14 프리스케일 세미컨덕터, 인크. 집적회로메모리
JP4693197B2 (ja) * 1998-04-23 2011-06-01 株式会社東芝 半導体記憶装置

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