JPH04300963A - 改良された室温硬化性シリコーン組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は一液型室温硬化性シリコ
ーンゴム組成物に関する。特に本発明は一液型室温硬化
性シリコーンゴム組成物の適用速度及びチキソトロピー
挙動を改良する方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】高い適用速度（すなわち押出及びポンプ
輸送の容易性）及び良好なチキソトロピー挙動（すなわ
ち垂直接合部において垂れ又はたるみを生じないこと）
を併有する室温硬化性（ＲＴＶ）シリコーンゴム組成物
は市場において顕著な利点を有する。したがって高い適
用速度及び良好なチキソトロピー挙動を併有する一液型
ＲＴＶシリコーンゴム組成物を提供することが望ましい
。

【０００３】本発明はある種のアルコキシ型硬化剤によ
って硬化されるＲＴＶシリコーン組成物においてシリカ
充填剤をその場で処理する処理剤としてシアノ官能性ア
ルコキシシランを使用する場合により高い適用速度及び
改良されたチキソトロピー挙動を有するシーラント組成
物が得られるであろうとの知見に基づくものである。

【０００４】一液型ＲＴＶシーラント組成物の適用速度
はＲＴＶシリコーン組成物の製造に使用されるシリカ充
填剤の表面上に過度に多量の単離されたシラノールが存
在することによって悪影響を受けることが認められてい
る。シラノールの存在はシラノール−シラノール間及び
シラノール−メトキシ間の縮合反応を生起する傾向があ
り、かゝる反応はシーラントの適用速度を低下させる。

【０００５】本発明はシアノ官能性アルコキシシランが
単離された充填剤のシラノールとその場で反応してシリ
レートを形成しかつシリカ表面をキャップし、それによ
って望ましくない充填剤−充填剤間及び充填剤−重合体
間の相互反応を排除しかつより高い適用速度をもつシー
ラントを与えるであろうことの知見に基づくものである
。同時に、充填剤表面に存在するＮＣ−基を水素結合網
状構造の形成に利用することができ、かくしてシーラン
トのチキソトロピー挙動を全体として高めることができ
る。シアノ官能性アルコキシシランのこの最後に述べた
作用は低粘度のポリアルコキシ末端ポリジオルガノシロ
キサン重合体を使用する場合に特に重要である。

【０００６】ＲＴＶシリコーンゴム組成物中にスカベン
ジャー化合物を使用してメタノール、シラノール又は水
からの過剰のヒドロキシル基と反応させることは当該技
術において既知である。かゝるスカベンジャーの使用に
ついては、たとえば米国特許第４，３９５，５２６号明
細書（Ｗｈｉｔｅ　ら）、米国特許第４，４８３，９７
３号及び同第４，５２８，３５３号明細書（Ｌｕｃａｓ
　ら）及び米国特許第４，４１７，０４２号明細書（Ｄ
ｚｉａｒｋ）に記載されているから参照されたい。Ｗｈ
ｉｔｅ　ら及びＬｕｃａｓ　らの特許明細書に記載され
ているスカベンジャーはアミン官能性アルコキシシラン
化合物であり、一方Ｄｚｉａｒｋの特許明細書に記載さ
れているスカベンジャーはシリコーン−窒素化合物であ
る。これらの特許文献に記載されているスカベンジャー
化合物は充填剤の表面から望ましくないシラノール基を
除去するのに有効であるが、これらの化合物はシーラン
トのチキソトロピー挙動に関して何等かの効果をもつと
は考えられない。

【０００７】一液型アルコキシ硬化剤使用ＲＴＶシリコ
ーン組成物にシアノ官能性ポリアルコキシシランを使用
することも当該技術において既知である。この技術はた
とえば米国特許第４，４８３，９７３号及び同第４，５
２８，３５３号明細書（Ｌｕｃａｓ　ら）及び米国特許
第４，４７２，５５１号明細書（Ｗｈｉｔｅ　ら）に記
載されているので参照されたい。Ｌｕｃａｓ　らの特許
明細書に記載される組成物においては、シアノ官能性ポ
リアルコキシシランは自己粘着剤、すなわち接着促進剤
として使用されている。これらの組成物においては、充
填剤上の過剰のヒドロキシル基はアミン官能性アルコキ
シシランスカベンジャー化合物によって除去されるもの
であって、接着促進用のシアノ官能性ポリアルコキシシ
ランによって除去されるものではない。

【０００８】前記引用したＷｈｉｔｅ　らの特許明細書
はそこで意図されるＲＴＶ組成物の製造のための好まし
い方法は実質的に無水の条件下で、ポリアルコキシ末端
オルガノポリシロキサン、充填剤及び混合物中のヒドロ
キシル官能基の実質的な除去を達成するに十分な量のポ
リアルコキシシランの混合物を攪拌する方法であること
を開示している。その後に、縮合触媒、架橋用シラン及
びその他の成分を添加し得る。Ｗｈｉｔｅ　らの特許明
細書はヒドロキシル基用の有機スカベンジャーの使用に
ついて記載している。

【０００９】

【発明の概要】本発明の主目的はより高い適用速度及び
改良されたチキソトロピー挙動をもつ改善された一液型
ＲＴＶシリコーン組成物を提供するにある。

【００１０】本発明の別の目的は一液型ＲＴＶシリコー
ン組成物により高い適用速度及び改良されたチキソトロ
ピー挙動を付与するレオロジー増強用添加剤を提供する
にある。

【００１１】本発明のさらに別の目的は改良された適用
速度及びチキソトロピー挙動をもつ一液型ＲＴＶシリコ
ーン組成物の製造法を提供するにある。

【００１２】これらの目的及びその他の目的は本発明に
おいて達成される。

【００１３】本発明は、重量で、つぎの成分（Ａ）−（
Ｅ）： （Ａ）重量で、 （１）２５℃で約１００ないし約１，０００，０００セ
ンチポイズの粘度をもち、各重合体鎖末端の珪素原子が
少なくとも２個のアルコキシ基を末端置換基として有し
かつオルガノ基がＣ１−１５の一価炭化水素基であるポ
リジオルガノシロキサン１００部；たゞし該ポリジオル
ガノシロキサンは（ａ）実質的に無水の条件下、０℃な
いし１８０℃の範囲の温度において、つぎの成分（ｉ）
−（ｉｉｉ　）： （ｉ）式： （式中、ＲはＣ１−１３の一価の置換又は非置換炭化水
素基である）の化学結合単位から本質的になるシラノー
ル末端ポリジオルガノシロキサン１００部、（ｉｉ）架
橋剤０−１０部、及び（ｉｉｉ　）ルイス酸と置換グア
ニジン、アミン及びそれらの混合物からなる群から選ん
だ化合物との組合せからなる末端キャッピング用触媒の
有効量、の混合物を含んでなる室温硬化性物質をシラノ
ール末端ポリジオルガノシロキサンの末端カップリング
を達成するに十分な時間攪拌し；そして（ｂ）工程（ａ
）の混合物を（ｉｖ）ヒドロキシル基用のシラザンスカ
ベンジャーの有効量と接触させることからなる方法によ
って製造されたものとする。； （２）補強用充填剤約５ないし約４０部；及び（３）式
： （式中、各Ｒ３　及びＲ４　は独立的に１ないし約１８
個の炭素原子をもつ一価の炭化水素基又は置換炭化水素
基であり、ａは約０ないし約２の範囲の数であり、そし
てＺは飽和、不飽和又は芳香族シアノ官能性炭化水素基
である）をもつシアノ官能性ポリアルコキシシラン約０
．１ないし約３部；を含んでなる混合物、すなわち（Ａ
）（１）、（Ａ）（２）及び（Ａ）（３）を含んでなる
混合物、を５０℃を超える温度で、充填剤上のヒドロキ
シル基のシリル化を達成するに十分な時間攪拌すること
によって得られる生成物； （Ｂ）錫縮合触媒の有効量； （Ｃ）ヒドロキシル官能基用のスカベンジャー化合物約
０．１ないし約１０．０部； （Ｄ）一般式： （式中、Ｒ及びＲ１　はＣ１−８　の一価の炭化水素基
であり、ａは０ないし３の範囲の数であり、そしてＸは
さらにエーテル、エポキシ、イソシアナト、シアノ、ア
クリルオキシ及びアシルオキシ基からなる群から選んだ
官能基で置換されていてもよい飽和、不飽和又は芳香族
炭化水素基である）をもつ接着促進剤約０ないし約２部
；及び （Ｅ）ポリアルコキシシラン架橋剤約０ないし約５部；
を含有してなる改良された適用速度及びチキソトロピー
挙動をもつ貯蔵安定性の一液型室温硬化性オルガノポリ
シロキサン組成物を提供するものである。

【００１４】

【詳細な開示】本発明の組成物の成分（Ａ）（１）は重
合体鎖の各末端に少なくとも２個のアルコキシ基を末端
置換基として有しかつ２５℃で約１００ないし約１，０
００，０００センチポイズ、好ましくは２５℃で約５，
０００ないし約２００，０００センチポイズの範囲の粘
度をもつジオルガノポリシロキサンであり、該ジオルガ
ノポリシロキサンは、（ａ）実質的に無水の条件下、０
℃ないし１８０℃の範囲の温度で、つぎの成分（ｉ）−
（ｉｉｉ　）： （ｉ）式： （式中、ＲはＣ１−１３の一価の置換又は非置換炭化水
素基である）の化学結合単位から本質的になるシラノー
ル末端ポリジオルガノシロキサン１００部、（ｉｉ）架
橋剤０ないし１０部、及び（ｉｉｉ　）ルイス酸と置換
グアニジン、アミン及びそれらの混合物からなる群から
選んだ化合物との組合せからなる末端キャッピング用触
媒の有効量、の混合物を含んでなる室温硬化性物質をシ
ラノール末端ポリジオルガノシロキサンの末端カップリ
ングを達成するに十分な時間攪拌し；そして（ｂ）工程
（ａ）の混合物を（ｉｖ）ヒドロキシル基用のシラザン
スカベンジャーの有効量と接触させることからなる方法
によって製造されたものである。

【００１５】成分（Ａ）（１）のポリジオルガノシロキ
サンのオルガノ基はＣ１−１５の一価炭化水素基である
。

【００１６】好ましくは、成分（Ａ）（１）を構成する
重合体は一般式（Ｉ）：

【００１７】

【化５】 （式中、各Ｒ及びＲ２　は独立的に置換又は非置換のＣ
１−１５の一価の炭化水素基であり、Ｒ１　はアルキル
基、アルキルエーテル基、アルキルエステル基、アルキ
ルケトン基、アルキルシアノ基から選んだＣ１−８　脂
肪族有機基又はＣ７−１３のアラルキル基であり、ｎは
約５０ないし約２５００の範囲の整数でありそしてａは
０又は１の整数である）を有する。

【００１８】式（Ｉ）において、Ｒは好ましくはＣ１−
１３の一価の炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基及びシ
アノアルキル基から選んだ基であり、Ｒ１　は好ましく
はＣ１−８　のアルキル基又はＣ７−１３のアラルキル
基であり、そしてＲ２　は好ましくはメチル、フェニル
又はビニル基である。Ｒ、Ｒ１　及びＲ２　はそれぞれ
メチル基であることがもっとも好ましい。

【００１９】成分（Ａ）（１）の重合体中の末端珪素原
子は上記したところに従って少なくとも２個のアルコキ
シ基をもたなければならずかつ３個までのアルコキシ基
を有し得る。

【００２０】式（Ｉ）の重合体はこゝに参考文献として
引用する米国特許第４，５１５，９３２号明細書（Ｃｈ
ｕｎｇ　）に記載される方法に従って製造される。この
方法においては、重合体は２５℃で１００ないし１，０
００，０００センチポイズの範囲の粘度をもち、オルガ
ノ基が一価炭化水素基であるシラノール末端ジオルガノ
ポリシロキサン重合体を式： （式中、Ｒ１　，Ｒ２　及びａはさきに定義したとおり
である）のポリアルコキシシラン架橋剤と、末端カップ
リング用触媒の存在下で、反応させることによって製造
される。

【００２１】式（Ｉ）の重合体の製造における末端カッ
プリング反応はアルコキシシランとシラノール末端ジオ
ルガノポリシロキサン重合体の一種又はそれ以上とをブ
レンステッド酸、ルイス酸、ステアリン酸処理炭酸カル
シウム及びアミン及びそれらの混合物からなる群から選
んだ末端カップリング触媒の存在下で混合することによ
って行なわれる。アミンは第１級、第２級又は第３級ア
ミンのいずれでも使用し得る。アミンはより塩基性であ
るほど触媒として良好である。もっとも好ましい触媒は
上述した酸の一つであり、もっとも好ましくはかゝる酸
の一つとアミンとの組合せである。末端カップリングが
完了した後、シラザン（たとえばヘキサメチルジシラザ
ン）を添加してアミン塩触媒を不活性化して貯蔵安定性
の重合体を得る。かゝる触媒及び末端カップリング反応
についての詳細はさきに引用した米国特許第４，５１５
，９３２号明細書（Ｃｈｕｎｇ　）に記載されているの
で参照されたい。

【００２２】成分（Ａ）（１）の重合体を上記Ｃｈｕｎ
ｇ　の米国特許明細書に記載の方法に従って製造するこ
とは本発明にとって臨界的である。というのは、溶解Ｎ
Ｈ３　（シラザン不活性化剤の加水分解の副生成物であ
る）の触媒量の存在は後記式（ＩＩ）のシアノ官能性ポ
リアルコキシシラン（成分（Ａ）（３））及びフューム
ドシリカ上の残存表面シラノールの加水分解のための触
媒として作用するからである。

【００２３】成分（Ａ）（２）は補強用充填剤、好まし
くはヒュームドシリカである。その他の充填剤を補強用
充填剤とともに使用することができる。これらの他の充
填剤の例は二酸化チタン、珪酸ジルコニウム、シリカエ
ーロゾル、酸化鉄、珪藻土、カーボンブラック、沈降シ
リカ、ガラス繊維、ポリ塩化ビニル、石英粉末、炭酸カ
ルシウム等を包含する。

【００２４】補強用充填剤は典型的には本発明の組成物
中にポリアルコキシ末端ポリジオルガノシロキサン（Ａ
）１００重量部当り約５ないし約４０重量部、好ましく
は約１０ないし約２０重量部、もっとも好ましくは約１
５ないし約２０重量部の範囲の量で存在させる。

【００２５】全充填剤（すなわち補強用充填剤及び他の
型の充填剤）の使用量は意図される用途に従って広い範
囲内で変動し得る。たとえば、ある種のシーラントとし
ての使用においては、本発明の室温硬化性組成物は充填
剤を配合せずに使用し得る。結合剤の製造用に本発明の
室温硬化性組成物を使用する場合のような他の用途にお
いては、ポリアルコキシ末端ポリジオルガノシロキサン
１００重量部当り７００重量部又はそれ以上の充填剤を
使用し得る。

【００２６】本発明の組成物はまた建設用シーラント及
びコーキングコンパウンドとしても使用し得る。したが
って、充填剤の正確な量は本発明の組成物が使用される
べき用途及び使用される充填剤の種類のような因子によ
って左右されるであろう。

【００２７】シリカ充填剤はオクタメチルシクロテトラ
シロキサンのような活性化剤で予備処理することがしば
しば有利である。

【００２８】成分（Ａ）（３）は一般式（ＩＩ）；

【０
０２９】

【化６】 （式中、各Ｒ３　及びＲ４　は独立的に１ないし１８個
の炭素原子をもつ一価の炭化水素基又は置換炭化水素基
であり、Ｒ５　はＣ２−１２の二価の炭化水素基であり
、そしてｔは約０ないし約３の範囲の数である）をもつ
シアノ官能性ポリアルコキシシランである。

【００３０】式（ＩＩ）の化合物において、Ｒ３　及び
Ｒ４　はアルキル基、たとえばメチル、エチル、プロピ
ル基等；アルケニル基、たとえばビニル、アリル基等；
シクロアルキル基、たとえばシクロヘキシル、シクロヘ
プチル基等；単核アリール基、たとえばメチルフェニル
基等；及びフルオルアルキル基、たとえば３，３，３−
トリフルオルプロピル基、であり得る。好ましくは、Ｒ
３　及びＲ４　はメチル基及びエチル基から選ばれ、Ｒ
３　及びＲ４　がともにメチル基であることがもっとも
好ましい。 Ｒ５　は好ましくは２−１２個、より好ましくは２−８
個の炭素原子をもつアルキレン又はアリーレン型の置換
又は非置換の二価炭化水素基であることが好ましい。

【００３１】上記の式（ＩＩ）の範囲内の好ましい特定
の化合物はγ−シアノプロピルトリメトキシシランであ
る。他の特定の化合物はつぎのものを包含する。

【００３２】３−（シアノエトキシ）−３−メチルブテ
ニルトリメトキシシラン β−シアノエチルメチルジメトキシシランβ−シアノエ
チルトリエトキシシラン β−シアノエチルトリメトキシシラン ２−シアノエチルメチルジエトキシシラン３−シアノプ
ロピルトリエトキシシランシアノプロピルメチルジメト
キシシラン１−シアノエチルトリス（メトキシエトキシ
）シラン。

【００３３】式（ＩＩ）の範囲内の化合物の製造法はた
とえばこゝに参考文献として引用する米国特許第４，４
８３，９７３号及び同第４，５２８，３５３号明細書（
Ｌｕｃａｓら）に記載されている。これらの化合物はシ
アン化オレフィンとトリクロル水素化シランとを白金触
媒の存在下で反応させて所望の中間体を製造し、ついで
この中間体をアルコキシ化して好ましくはγ−シアノプ
ロピルトリメトキシシランを製造するという方法によっ
て製造し得る。したがって、特定の型の一反応はたとえ
ばシアン化アリルとトリクロルシランとの反応であり得
る。この反応においては、メトキシ化中間体を白金触媒
を用いる付加反応に使用した場合にはメトキシ基がシア
ナイド基と反応して所望の生成物の収率を低下せしめる
ので、クロルシランをシアナイドと反応させるものであ
る。

【００３４】本発明の組成物における成分（Ａ）（３）
として使用される好ましいシアノ官能性ポリアルコキシ
シランはシアノアルキルトリアルコキシシランであり、
もっとも好ましくはシアノエチルトリメトキシシランで
ある。

【００３５】成分（Ａ）（３）は本発明の組成物中に全
組成物の重量に基づいて約０．１ないし約３．０重量部
、好ましくは約０．２ないし約１．０重量部、もっとも
好ましくは約０．３ないし約０．８重量部の範囲の量で
存在する。

【００３６】成分（Ｂ）は錫縮合触媒である。この触媒
は一般式（ＩＩＩ　）；

【００３７】

【化７】 （式中、Ｒ６　はＣ１−１８一価炭化水素基及び置換一
価炭化水素基であり、そしてＲ７　，Ｒ８　及びＲ９　
は水素、Ｒ６　，ＯＲ６　，−Ｓｉ（Ｒ６）３　，−Ｏ
Ｓｉ（Ｒ６　）３　、アリール、アシル及びニトリル基
からなる群から選んだ同一でも異なってもよい一価の基
である）のジオルガノ錫ビス−ジケトネート縮合触媒で
あり得る。

【００３８】式（ＩＩＩ　）のＲ６　の範囲に包含され
る基はたとえばフェニル、トリル、クロルフェニル、ナ
フチルのようなＣ６−１３アリール基及びハロゲン化ア
リール基；Ｃ１−１８脂肪族、脂環族基及びそれらのハ
ロゲン化誘導体基、たとえばシクロヘキシル、シクロブ
チル；メチル、エチル、プロピル、クロルプロピル、ブ
チル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビニ
ル、アリル及びトリフルオルプロピル基のようなアルキ
ル及びアルケニル基及びそれらのハロゲン化誘導体基で
ある。

【００３９】式（ＩＩＩ　）の範囲内に包含される錫縮
合触媒の若干の例はつぎの化合物を包含する。

【００４０】ジ（ｎ−ブチル）錫ビス（アセチルアセト
ネート）；ジ（ｎ−ブチル）錫ビス（ベンゾイルアセト
ネート）；ジ（エチル）錫ビス（ラウロイルアセトネー
ト）；ジ（メチル）錫ビス（ピバロイルアセトネート）
；ジ（ｎ−オクチル）錫ビス（アセチルアセトネート）
；ジ（ｎ−プロピル）錫ビス（１，１，１−トリフルオ
ルアセチルアセトネート）；ジ（ｎ−ブチル）錫ビス（
エチルアセトアセテート）；及びジ（ｎ−ブチル）錫（
アセチルアセトネート）（エチルアセトアセテート）。

【００４１】錫縮合触媒はまたたとえばジブチル錫ジラ
ウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジメト
キシド、ジブチル錫ジベンゾエート、ジメチル錫ジブチ
レート及びジメチル錫ジ−ネオデカノエートのようなジ
オルガノ錫ジカルボキシレートであり得る。

【００４２】本発明における使用に適する他の錫触媒は
たとえばカルボメトキシフェニル錫トリスベレート、錫
オクトエート、イソブチル錫トリセロトエート、トリエ
チル錫タートレート、錫オレエート、錫ナフテネート、
ブチル錫トリ−２−エチルヘキソエート、及び錫ブチレ
ートを包含する。

【００４３】本発明における使用に好ましい錫触媒はジ
（ｎ−ブチル）錫ビス（アセチルアセトネート）又はジ
ブチル錫ジアセテートである。

【００４４】触媒の有効量は一般に約０．０１ないし約
２．０重量部、好ましくは約０．１ないし約１．０重量
部、もっとも好ましくは約０．２ないし約０．４重量部
である。

【００４５】成分（Ｃ）はヒドロキシル官能基用のシリ
コーンスカベンジャー化合物である。

【００４６】スカベンジャー化合物は当該技術において
既知である任意のスカベンジャーであり得る。本明細書
において、用語“スカベンジャー”はシリコーン組成物
中の遊離ヒドロキシル基と反応してこれらのヒドロキシ
ル基と結合しかくしてこれらのヒドロキシル基が組成物
中のアルコキシ基と反応するのを阻止するような官能基
をもつ任意の化合物として定義される。この点で、スカ
ベンジャーはスカベンジャー作用を果す基とともにアル
コキシ基を含む後に説明するごとき統合された架橋剤−
スカベンジャーであり得る。

【００４７】本発明のＲＴＶ組成物に使用するに適する
スカベンジャー化合物はたとえばこゝに参考文献として
引用する米国特許第４，８９５，９１８号（Ｌｕｃａｓ
　）、同第４，４１７，０４２号（Ｄｚｉａｒｋ）、同
第４，４６７，０６３号（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）、同第４
，４７７，６２５号（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）、同第４，４
９９，２２９号（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）、同第４，４９９
，２３０号（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）、同第４，３９５，５
２６号（Ｗｈｉｔｅら）及び同第４，４７２，５５１号
（Ｗｈｉｔｅ　ら）明細書に記載されている。

【００４８】本発明における使用に適するスカベンジャ
ーの例は前記米国特許第４，８９５，９１８号明細書（
Ｌｕｃａｓ　）に記載される非環式シラノールスカベン
ジャー及び環式シリル窒素型スカベンジャーを包含する
。

【００４９】本発明のＲＴＶ組成物においてスカベンジ
ャーとして使用し得るスカベンジャー化合物の別の一群
は式（ＩＶ）； （式中、Ｒ１　及びＲ２　はさきに定義したとおりであ
り、そしてＸはシラジル、環式アミド、アミド、アミノ
、カルバマト、エノキシ、イミダト、イソシアナト、オ
キシマト、チオイソシアナト及びウレイド基からなる群
から選んだ加水分解性易脱離基であり、ｃは０ないし３
の整数であり、ｆは１ないし４の整数であるが、ｃ＋ｆ
の合計は１ないし４の範囲にあるものとする）をもつシ
ランである。

【００５０】式（ＩＶ）の範囲内のスカベンジャーはた
とえばさきに引用した米国特許第４，８９５，９１８号
（Ｌｕｃａｓ　）及び同第４，３９５，５２６号（Ｗｈ
ｉｔｅ　ら）明細書に記載されている。

【００５１】同様に、米国特許第４，４６７，０６３号
明細書（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）に記載されているＮ−シリ
ル置換イミダゾール、米国特許第４，４９９，２３０号
明細書（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）に記載されているゼオライ
ト、及び米国特許第４，４７２，５５１号明細書（Ｗｈ
ｉｔｅ　ら）に記載されている有機スカベンジャーも本
発明において使用するに適当である。

【００５２】その他の適当なスカベンジャーの例はさき
に引用した米国特許第４，４９９，２２９号及び同第４
，４７７，６２５号明細書（Ｌｏｃｋｈａｒｔ）に記載
されている珪素含有スカベンジャーを包含する。

【００５３】これらの珪素含有スカベンジャーは一般式
：

【００５４】

【化８】 （式中、Ｘはさきに定義したとおりであり、ｄは０ない
し４の整数であり、そしてＸによって満たされ得る原子
価以外のＳｉの残りの原子価はＳｉ，Ｈ，Ｃ，Ｏ，Ｎ，
Ｐ，Ｓ，周期律表ＩＩＩａ，ＩＶａ　，Ｖａ，ＶＩａ　
，ＶＩＩａ及びＶＩＩＩ族の遷移元素及びそれらの混合
物から選んだ原子によって満たされ得るものとする）を
有するものである。

【００５５】本発明のＲＴＶ組成物に使用するに好まし
いスカベンジャーはつぎの群（ａ）及び（ｂ）：（ａ）
式： （式中、ＹはＲ１１及び（Ｒ１０）２　Ｎ−から選んだ
一員であり、Ｒ１０及びＲ１１は後記の意義を有する）
をもつ珪素−窒素化合物；及び （ｂ）（１）式： をもつ単位からなる群から選んだ化学結合構造単位３−
１００モル％；及び（２）式： （Ｒ１１）ｃ　ＳｉＯ（４−ｃ／２）　によって表わさ
れる化学結合構造単位０−９７モル％からなる珪素−窒
素重合体；からなる群から選んだ珪素−窒素化合物（上
式中、珪素−窒素重合体の珪素原子はＳｉＯＳｉ結合及
びＳｉＮＲ１０Ｓｉ結合から選んだ一員によって相互に
連結されており、酸素に連結してシロキシ単位を形成す
る原子価及び窒素に連結してシラジル単位を形成する原
子価以外の珪素原子の原子価はＲ１１及び（Ｒ１０）２
　Ｎ−基から選んだ一員に連結されており、Ｒ１１基及
び（Ｒ１０）２Ｎ−基の合計対珪素重合体の珪素原子の
比は１．５ないし３の範囲であり；Ｒ１０は水素、一価
炭化水素基及びフルオルアルキル基からなる群から選ん
だ一員であり；Ｒ１１は水素、一価炭化水素基及びフル
オルアルキル基からなる群から選んだ一員であり；そし
てｃは０ないし３の整数である）である。

【００５６】本発明における使用に適する上記式の範囲
内の珪素−窒素化合物の例はさきに引用した米国特許第
４，４１７，０４２号明細書（Ｄｚｉａｒｋ）に記載さ
れている。これらの化合物はシラザン及び水素含有アミ
ンを包含する。

【００５７】本発明における使用に好ましい珪素−窒素
スカベンジャー化合物はジシラザン及びポリシラザンの
ようなシラザンである。適当なシラザンの例はヘキサメ
チルシクロトリシラザン、オクタメチルテトラシラザン
、トリメチルトリフェニルシクロトリシラザン及びトリ
ビニルトリメチルシクロトリシラザン等を包含する。 本発明における使用にもっとも好ましいポリシラザンは
ヘキサメチルシクロ−Ｎ−メチルトリシラザンでありそ
してもっとも好ましいジシラザンはヘキサメチルジシラ
ザンである。

【００５８】スカベンジャーは本発明の組成物中にポリ
アルコキシ末端ポリジオルガノシロキサン（Ａ）１００
重量部当り約０．１ないし約１０重量部、好ましくは約
０．５ないし約５．０重量部、もっとも好ましくは約１
．０ないし約２．０重量部の範囲の量で存在する。

【００５９】スカベンジャーを本発明の組成物中に存在
させるべきか否かは使用される錫縮合触媒に関係する。 ジオルガノ錫ビス−ジケトネートを縮合触媒として使用
する場合には一般にスカベンジャーを必要としない。し
かしながら、ジオルガノ錫ジカルボキシレートを錫縮合
触媒として使用する場合にはスカベンジャーを使用しな
ければならない。

【００６０】使用する場合、スカベンジャーは本発明の
組成物中に約０．１ないし約１０重量部、好ましくは約
０．５ないし約５．０重量部、もっとも好ましくは約１
．０ないし約２重量部の範囲の量で存在させる。

【００６１】本発明のＲＴＶ組成物はさらに一般式（Ｖ
）； （式中、Ｒ１２及びＲ１３はＣ１−８　の一価の炭化水
素基であり；Ｚはさらにエーテル、エポキシ、イソシア
ナト、シアノ、アクリルオキシ及びアシルオキシ基から
なる群から選んだ官能基によって置換されていてもよい
飽和、不飽和又は芳香族炭化水素残基であり；そしてｂ
は０ないし３の範囲である）をもつ接着促進剤（成分（
Ｄ））を含有し得る。

【００６２】成分（Ｄ）は好ましくは一般式（ＶＩ）（
式中、Ｒ１２及びＲ１３はＣ１−８　の一価の炭化水素
基であり；Ｒ１４及びＲ１５はＣ２−１２の二価の炭化
水素基であり；Ｒ１６は水素及びＣ１−８　の一価の炭
化水素基からなる群から選んだ一員であり；そしてｂは
０ないし３である）をもつ接着促進剤である。

【００６３】式（Ｖ）及び（ＶＩ）の範囲内の適当な接
着促進剤及びそれらの製造法はさきに引用した米国特許
第４，４８３，９７３号明細書（Ｌｕｃａｓ　ら）に記
載されている。

【００６４】式（ＶＩ）において、Ｒ１４及びＲ１５は
アルキレン、アリーレン、アルキレンアリーレン基のよ
うな任意の二価炭化水素基であることができかつ該基は
ハロゲン基、エーテル基、エステル基及びその他の炭化
水素基のような種々の基で置換されていてもよく又は非
置換であることもできる。Ｒ１６は水素又は一価炭化水
素基であることができ、好ましくは水素である。上記式
（ＶＩ）の範囲内の化合物の例はγ−グリシドキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチ
ルジエトキシシラン、及びγ−グリシドキシエチルトリ
メトキシシラン、及びエポキシシクロヘキシルエチルト
リメトキシシラン、及びエポキシシクロヘキシルエチル
トリメトキシシランを包含する。式（ＶＩ）の範囲内の
もっとも好ましい化合物はγ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシランである。

【００６５】式（Ｖ）及び（ＶＩ）の化合物はシリコー
ン製造業者によって文献に記載のごとく製造することが
できあるいは特殊化学品供給業者から取得することがで
きる。

【００６６】かゝる化合物を製造する一方法においては
、アリルグリシジルエーテルとトリメトキシ水素化シラ
ンとを白金触媒の存在下に反応させる。この一般的方法
に従って上記式（Ｖ）の範囲内の他の化合物を製造する
ことができる。

【００６７】接着促進剤は本発明の組成物中にポリアル
コキシ末端ポリジオルガノシロキサン（Ａ）１００重量
部当り約０．６ないし約５重量部、好ましくは約０．８
ないし約１．６重量部、もっとも好ましくは約１．０な
いし約１．６重量部の量で存在させる。接着促進剤が０
．６重量部より少ない量で存在する場合にはプライマー
不使用での改良された接着性を達成することはできない
であろう。

【００６８】本発明のＲＴＶ組成物はさらに成分（Ｅ）
として一般式（ＶＩＩ）； （式中、Ｒ１　，Ｒ２　及びａはさきに定義したとおり
である）のポリアルコキシシラン架橋剤を含有し得る。

【００６９】上記式（ＶＩＩ　）によって表わされる化
合物の代表的な例はメチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、及びビニルトリメトキシシランを包
含する。メチルトリメトキシシランが好ましい。

【００７０】ポリアルコキシシラン架橋剤は本発明のＲ
ＴＶ組成物中にポリアルコキシ官能性ポリジオルガノシ
ロキサン（Ａ）１００重量部当り約０ないし約１０重量
部、好ましくは約０．１ないし約２．０重量部、もっと
も好ましくは約０．５ないし約１．０重量部の範囲内の
量で存在し得る。

【００７１】本発明の組成物はさらに２５℃で１０ない
し５０００センチポイズの粘度をもちかつオルガノ基が
好ましくは１−８個の炭素原子をもつ一価炭化水素基で
あるトリオルガノシリル末端ジオルガノポリシロキサン
（Ｈ）を約１ないし約５０重量部含有し得る。かゝる線
状ジオルガノポリシロキサン重合体は可塑剤として有用
である。好ましくは、かゝる可塑剤はシラノール基を含
有しないが、通常は約５００ｐｐｍ　のシラノール基が
存在する。さらに、そのオルガノ置換基はメチル基であ
ることが好ましく、またその粘度は２５℃で１０ないし
１０００センチポイズの範囲であることが好ましい。

【００７２】前述した可塑剤の代りに又はそれに加えて
、本発明の室温硬化性組成物はさらに三官能価体、四官
能価体又は三官能価体及び四官能価体の混合物を高割合
で含むシロキサン液体（ＭＤＴ液体）を１ないし２０重
量部の割合で含有することが望ましい。一般に、かゝる
可塑剤は（ｉ）モノアルキルシロキシ単位、シロキシ単
位又はそれらの混合物２５−６０モル％、（ｉｉ）トリ
アルキルシロキシ単位１−６モル％；及び（ｉｉｉ　）
ジアルキルシロキシ単位３４−７４モル％を含んでなり
、しかも該可塑剤液体は約０．１ないし約２重量％の珪
素に結合されたヒドロキシル単位を含有する。

【００７３】本発明の組成物はさらにその他の化合物、
たとえば白金のような難燃化剤も含有し得る。

【００７４】本発明のＲＴＶ組成物の製造のために使用
される方法は臨界的である。特に、改良された適用速度
及びチキソトロピー挙動シーラントとしての特性の達成
は製造中の成分の添加順序に関係する。本発明の貯蔵安
定性、室温硬化性シリコーン組成物は、つぎの工程：（
Ｉ）重量で、つぎの成分（１）−（３）：（１）２５℃
で約１００ないし約１，０００，０００センチポイズの
粘度をもち、各重合体鎖末端の珪素原子が少なくとも２
個のアルコキシ基を末端置換基として有しかつオルガノ
基がＣ１−１５の一価の炭化水素基であるポリジオルガ
ノシロキサン１００部；たゞし該ポリジオルガノシロキ
サンは（ａ）実質的に無水の条件下０℃ないし１８０℃
の範囲の温度で、つぎの成分（ｉ）−（ｉｉｉ　）； （ｉ）式： （式中、ＲはＣ１−１３の一価の置換又は非置換炭化水
素基である）の化学結合単位から本質的になるシラノー
ル末端ポリジオルガノシロキサン１００部；（ｉｉ）架
橋剤０ないし１０部；及び （ｉｉｉ　）ルイス酸と置換グアニジン、アミン及びそ
れらの混合物からなる群から選んだ化合物との組合せか
らなる末端キャッピング用触媒の有効量；の混合物を含
んでなる室温硬化性物質をシラノール末端ポリジオルガ
ノシロキサンの末端カップリングを達成するに十分な時
間攪拌し；そして（ｂ）工程（ａ）の混合物を（ｉｖ）
ヒドロキシル基用のシラザンスカベンジャーの有効量と
接触させることからなる方法によって製造されたものと
する；（２）補強用充填剤約５ないし約２０部；及び（
３）式：

【００７５】

【化９】 （式中、各Ｒ３　及びＲ４　は独立的に１ないし約１８
個の炭素原子をもつ一価の炭化水素基又は置換炭化水素
基であり、Ｒ５　はＣ２−１２の二価の炭化水素基であ
り、そしてｔは約０ないし約３の範囲の数である）をも
つシアノ官能性ポリアルコキシシラン約０．１ないし約
３部；を含んでなる混合物、すなわち（１），（２）及
び（３）を含んでなる混合物を５０℃を超える温度で充
填剤上のヒドロキシル基のシリル化を達成するに十分な
時間、典型的には約１ないし約５分間、攪拌し；そして
（ＩＩ）工程（Ｉ）の反応生成物（Ａ）を、つぎの成分
（Ｂ）−（Ｅ）： （Ｂ）錫縮合触媒の有効量； （Ｃ）ヒドロキシル官能基用のスカベンジャー化合物約
０．１ないし約１０．０部； （Ｄ）一般式： （式中、Ｒ１２及びＲ１３はＣ１−８　の一価の炭化水
素基であり、Ｚはさらにエーテル、エポキシ、イソシア
ナト、シアノ、アクリルオキシ及びアシルオキシ基から
なる群から選んだ官能基で置換され得る飽和、不飽和又
は芳香族炭化水素残基であり、そしてｂは０ないし３で
ある）をもつ接着促進剤約０ないし約２部；及び（Ｅ）
架橋用ポリアルコキシシラン約０ないし約５部；と無水
の条件下で十分混合する；工程からなる方法によって製
造される。

【００７６】本発明のＲＴＶ組成物は種々の基体、特に
石工基体上に被覆し得る。適当な基体の例はアルミニウ
ム、ガラス、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポ
リ塩化ビニル及びコンクリートを包含する。

【００７７】

【実施例の記載】つぎに本発明を例証する目的で実施例
を示す。これらの実施例は単に本発明の好ましい実施態
様を例示するもので、何等本発明を限定するものではな
い。実施例中、すべての部は重量部である。

【００７８】実施例 　　以下の実施例において、用語“ＣＥＴＭＳ”は２−
シアノエチルトリメトキシシランを表わし、用語“Ｄ４
　”はオクタメチルシクロテトラシロキサンを表わす。 実施例１ 　　実施例１はウエルナー・プライデラー（Ｗｅｒｎｅ
ｒ−Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ　）型二軸スクリュー押出機
を使用してＣＥＴＭＳ−変性ＲＴＶ組成物を連続的に製
造する方法を説明する。特に本実施例はＣＥＴＭＳ含量
と得られるシーラントの押出速度との関係を例証するも
のである。

【００７９】押出機のすべての部位を７５℃に加熱した
。押出機のバレル１に、Ｄ４　で処理されたヒュームド
シリカ充填剤１７重量部、ヘキサメチルジシラザン０．
５重量部を含みかつ１３０，０００センチポイズの粘度
をもつメチルジメトキシ末端ポリジメチルシロキサン６
０重量部及びＣＥＴＭＳ０．７５重量部（すなわちシー
ラントの０．５重量％）を連続的に添加した。バレル８
には、１３０，０００センチポイズの粘度をもつメチル
ジメトキシ末端ポリジメチルシロキサン４０重量部、２
５℃で約３０，０００センチストークスの粘度をもつジ
メチルポリシロキサン液体１７．５重量部及び２５℃で
５０センチポイズの粘度をもつ脱蔵されたＭＤＴシラノ
ール含有液体１７．５重量部を連続的に添加した。バレ
ル１１には脱気用の真空を適用した。バレル１２には、
ジブチル錫ジアセテート０．３６重量部、グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン０．３８重量部、１，３，
５−トリス−トリメトキシシリルプロピルイソシアヌレ
ート０．７５重量部、ヘキサメチルジシラザン３重量部
及びメチルトリメトキシシラン１．０５重量部を連続的
に添加した。ＲＴＶシーラントは４０ポンド／時の速度
で連続的に製造された。 実施例２−４ 　　実施例２−４においては、ＣＥＴＭＳをそれぞれ０
％，０．３％及び０．７％使用して実施例１の方法を反
復した。適用速度は１／８インチの開口部をもつノズル
を取付けたセムコチューブ（Ｓｅｍｃｏ　Ｔｕｂｅ）か
ら９０ｐｓｉ　で１分間に押出されるシーラントの重量
を測定することによって決定した。１００ｇ／分未満の
適用速度値は許容し得ないほど低い値であると考えられ
る。

【００８０】図１から認め得るごとく、適用速度はＣＥ
ＴＭＳの添加量が高いほど増加する。 実施例５−８ 　　１３０，０００センチポイズの粘度をもつメチルジ
メトキシ末端ポリジメチルシロキサンの代りに２０，０
００センチポイズの粘度をもつメチルジメトキシ末端ポ
リジメチルシロキサンを使用して実施例１−４の方法を
反復した。実施例５はＣＥＴＭＳ含量とシーラントのチ
キソトロピー挙動との関係を実証する。

【００８１】シーラントのチキソトロピー挙動の尺度と
してボーイングフロー（Ｂｏｅｉｎｇ　Ｆｌｏｗ　）試
験法を採用した。結果を図２に示す。０．３インチを超
えるフロー値は許容し得ないほど高いと考えられる。

【００８２】図２から認め得るごとく、ボーイングフロ
ー値はＣＥＴＭＳの添加量が増加するほど減少し、これ
はより良好なチキソトロピー挙動が付与されることを示
している。 実施例９ 　　実施例９はＣＥＴＭＳをウエルナー・プライデラー
型押出機のバレル１２中にシラン配合物として添加する
ことによりＣＥＴＭＳ変性ＲＴＶ組成物を連続的に製造
する方法を例示するものである。特に本実施例はＣＥＴ
ＭＳをウエルナー・プライデラーミキサー中に導入する
方法及び位置の臨界性を実証するものである。

【００８３】ＣＥＴＭＳを（７重量部の量で）ジブチル
錫ジアセテート、グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、トリストリメトキシシリルプロピル−（イソシア
ヌレート）、ヘキサメチルジシラザン及びメチルトリメ
トキシシランとの配合物として添加したことを除いて実
施例１を反復した。得られるシーラントの適用速度は９
５ｇ／分でありそしてボーイングフロー値は０．７５イ
ンチであった。この結果を、ＣＥＴＭＳを実施例１−８
に示したごとく押出機のバレル１中に別個に添加してそ
の他の成分の添加前に充填剤とその場で反応させた場合
の適用速度２２０ｇ／分及びボーイングフロー値０．１
インチと比較した。

【００８４】かくして、ＣＥＴＭＳの添加のタイミング
がＲＴＶ組成物の適用速度及びチキソトロピー挙動に影
響を及ぼすことが明らかに認められる。

【図面の簡単な説明】

【図１】室温硬化性シリコーン組成物の適用速度に及ぼ
す２−シアノエチルトリメトキシシラン（ＣＥＴＭＳ）
含量の影響を示す実施例１−４の実験データのグラフで
ある。横座標はＣＥＴＭＳ含量（％）、縦座標は組成物
の適用速度（グラフ／分）を表わす。

【図２】室温硬化性シリコーン組成物のボーイングフロ
ー値に及ぼすＣＥＴＭＳ含量の影響を示す実施例５−８
の実験データのグラフである。横座標はＣＥＴＭＳ含量
（％）、縦座標は組成物のボーイングフロー値（インチ
）を表わす。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　重量で、つぎの成分（Ａ）−（Ｅ）：
   （Ａ）重量で、 （１）２５℃で約１００ないし約１，０００，０００セ
   ンチポイズの粘度をもち、各重量体鎖末端の珪素原子が
   少なくとも２個のアルコキシ基を末端置換基として有し
   かつオルガノ基がＣ１−１５の一価炭化水素基であるポ
   リジオルガノシロキサン１００部；たゞし該ポリジオル
   ガノシロキサンは（ａ）実質的に無水の条件下、０℃な
   いし１８０℃の範囲の温度において、つぎの成分（ｉ）
   −（ｉｉｉ　）： （ｉ）式： （式中、ＲはＣ１−１３の一価の置換又は非置換炭化水
   素基である）の化学結合単位から本質的になるシラノー
   ル末端ポリジオルガノシロキサン１００部、（ｉｉ）架
   橋剤０−１０部、及び （ｉｉｉ　）ルイス酸と置換グアニジン、アミン及びそ
   れらの混合物からなる群から選んだ化合物との組合せか
   らなる末端キャッピング用触媒の有効量、の混合物を含
   んでなる室温硬化性物質をシラノール末端ポリジオルガ
   ノシロキサンの末端カップリングを達成するに十分な時
   間攪拌し；そして（ｂ）工程（ａ）の混合物を（ｉｖ）
   ヒドロキシル基用のシラザンスカベンジャーの有効量と
   接触させることからなる方法によって製造されたものと
   する；（２）補強用充填剤約５ないし約４０部；及び（
   ３）式： 【化１】 （式中、各Ｒ３　及びＲ４　は独立的に１ないし約１８
   個の炭素原子をもつ一価の非置換又は置換炭化水素基で
   あり、Ｒ５　はＣ２−１２の二価の炭化水素基であり、
   そしてｔは約０ないし約３の範囲の数である）をもつシ
   アノ官能性ポリアルコキシシラン約０．１ないし約３部
   ；を含んでなる混合物、すなわち（Ａ）（１）、（Ａ）
   （２）及び（Ａ）（３）を含んでなる混合物、を５０℃
   を超える温度で、充填剤上のヒドロキシル基のシリル化
   を達成するに十分な時間攪拌することによって得られる
   生成物；（Ｂ）錫縮合触媒の有効量； （Ｃ）ヒドロキシル官能基用のスカベンジャー化合物０
   ．１ないし約１０．０部； （Ｄ）一般式： （式中、Ｒ１２及びＲ１３はＣ１−８　の一価の炭化水
   素基であり、Ｚはさらにエーテル、エポキシ、イソシア
   ナト、シアノ、アクリルオキシ及びアシルオキシ基から
   なる群から選んで官能基で置換されていてもよい飽和、
   不飽和又は芳香族炭化水素残基であり、そしてｂは０な
   いし３の範囲の数である）をもつ接着促進剤約０ないし
   約２部；及び （Ｅ）架橋用ポリアルコキシシラン約０ないし約５部；
   を含有してなる、改良された押出速度及びチキソトロピ
   ー挙動をもつ室温硬化性シリコーン組成物。
2. 【請求項２】　　錫縮合触媒が一般式：【化２】 （式中、Ｒ６　はＣ１−１８の一価の炭化水素基及び置
   換炭化水素基であり；Ｒ７　，Ｒ８　及びＲ９　は水素
   、Ｒ６　，ＯＲ６　，−Ｓｉ（Ｒ６　）３　，−ＯＳｉ
   （Ｒ６　）３　，アリール、アシル及びニトリルからな
   る群から選んだ同一でも異なってもよい一価の基である
   ）のジオルガノ錫−ビス−ジケトネート縮合触媒である
   請求項１記載の組成物。
3. 【請求項３】　　錫縮合触媒がジオルガノ錫ジカルボキ
   シレートである請求項１記載の組成物。
4. 【請求項４】　　錫縮合触媒はカルボメトキシフェニル
   錫トリスベレート、錫オクトエート、イソブチル錫トリ
   セロテート、トリエチル錫タートレート、錫オレエート
   、錫ナフテネート、ブチル錫トリ−２−エチルヘキソエ
   ート及び錫ブチレートから選んだものである請求項１記
   載の組成物。
5. 【請求項５】　　シアノ官能性ポリアルコキシシランが
   シアノアルキルトリアルコキシシランである請求項１記
   載の組成物。
6. 【請求項６】　　接着促進剤が一般式：（式中、Ｒ１２
   及びＲ１３はＣ１−８　の一価の炭化水素基であり、Ｒ
   １４及びＲ１５はＣ２−１２の二価の炭化水素基であり
   、Ｒ１６は水素及びＣ１−８　の一価の炭化水素基から
   なる群から選んだ一員であり、そしてｂは０ないし３で
   ある）をもつエポキシ官能性ポリアルコキシシランであ
   る請求項１記載の組成物。
7. 【請求項７】　　ポリアルコキシシラン架橋剤がメチル
   トリメトキシシランである請求項１記載の組成物。
8. 【請求項８】　　シアノ官能性ポリアルコキシシランを
   約０．２ないし約１．０部の範囲の量で存在させる請求
   項１記載の組成物。
9. 【請求項９】　　重量で、つぎの成分（Ａ）−（Ｅ）：
   （Ａ）重量で、 （１）２５℃で約１００ないし約１，０００，０００セ
   ンチポイズの粘度をもち、各重合体鎖末端の珪素原子が
   少なくとも２個のアルコキシ基を末端置換基として有し
   かつ一般式： 【化３】 （式中、各Ｒ，Ｒ１　及びＲ２　はそれぞれメチル基で
   あり、ｎは約５０ないし約２５００の範囲の整数であり
   、そしてａは０又は１の整数である）をもつポリジオル
   ガノシロキサン１００部；たゞし該ポリジメチルシロキ
   サンは（ａ）実質的に無水の条件下、０℃ないし１８０
   ℃の範囲の温度において、つぎの成分（ｉ）−（ｉｉｉ
   　）：（ｉ）式： （式中、ＲはＣ１−１３の一価の置換又は非置換炭化水
   素基である）の化学結合単位から本質的になるシラノー
   ル末端ポリジオルガノシロキサン１００部、（ｉｉ）架
   橋剤０ないし１０部、及び（ｉｉｉ　）ルイス酸と置換
   グアニジン、アミン及びそれらの混合物からなる群から
   選んだ化合物との組合せからなる末端キャッピング用触
   媒の有効量、の混合物を含んでなる室温硬化性物質をシ
   ラノール末端ポリジオルガノシロキサンの末端カップリ
   ングを達成するに十分な時間攪拌し、そして（ｂ）工程
   （ａ）の混合物を（ｉｖ）ヒドロキシル基用のシラザン
   スカベンジャーの有効量と接触させることからなる方法
   によって製造されたものとする； （２）ヒュームドシリカ充填剤約１５ないし約２０部；
   及び （３）β−シアノエチルトリメトキシシラン約０．３な
   いし約０．８部；を含んでなる混合物を約７５℃の温度
   で約３０分間攪拌することによって得られる生成物；（
   Ｂ）ジブチル錫ジアセテート約０．２ないし約０．４部
   ； （Ｃ）ヘキサメチルジシラザン約１．０ないし約２．０
   部； （Ｄ）γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン約
   １ないし約２部；及び （Ｅ）メチルトリメトキシシラン約０ないし約５部を含
   有してなる改良された押出速度及びチキソトロピー挙動
   をもつ室温硬化性シリコーン組成物。
10. 【請求項１０】　　つぎの工程： （Ｉ）重量でつぎの成分（１）−（３）：（１）２５℃
    で約１００ないし約１，０００，０００センチポイズの
    粘度をもち、各重合体鎖末端の珪素原子が少なくとも２
    個のアルコキシ基を末端置換基として有しかつオルガノ
    基がＣ１−１５の一価の炭化水素基であるポリジオルガ
    ノシロキサン１００部；たゞし該ポリジオルガノシロキ
    サンは（ａ）実質的に無水の条件下０℃ないし１８０℃
    の範囲の温度で、つぎの成分（ｉ）−（ｉｉｉ　）： （ｉ）式： （式中、ＲはＣ１−１３の一価の置換又は非置換炭化水
    素基である）の化学結合単位から本質的になるシラノー
    ル末端ポリジオルガノシロキサン１００部；（ｉｉ）架
    橋剤０ないし１０部；及び （ｉｉｉ　）ルイス酸と置換グアニジン、アミン及びそ
    れらの混合物からなる群から選んだ化合物との組合せか
    らなる末端キャッピング用触媒の有効量；の混合物を含
    んでなる室温硬化性物質をシラノール末端ポリジオルガ
    ノシロキサンの末端カップリングを達成するに十分な時
    間攪拌しそして（ｂ）工程（ａ）の混合物を（ｉｖ）ヒ
    ドロキシル基用のシラザンスカベンジャーの有効量と接
    触させることからなる方法によって製造されたものとす
    る；（２）補強用充填剤約５ないし約２０部；及び（３
    ）式： 【化４】 （式中、各Ｒ３　及びＲ４　は独立的に１ないし約１８
    個の炭素原子をもつ一価の炭化水素基又は置換炭化水素
    基であり、Ｒ５　はＣ２−１２の二価の炭化水素基であ
    り、そしてｔは約０ないし約３の範囲の数である）をも
    つシアノ官能性ポリアルコキシシラン約０．１ないし約
    ３部；を含んでなる混合物、すなわち（１），（２）及
    び（３）を含んでなる混合物を５０℃を超える温度で充
    填剤上のヒドロキシル基のシリル化を達成するに十分な
    時間攪拌し；そして（ＩＩ）工程（Ｉ）の反応生成物（
    Ａ）を、つぎの成分（Ｂ）−（Ｅ）： （Ｂ）錫縮合触媒の有効量； （Ｃ）ヒドロキシル官能基用のスカベンジャー化合物約
    ０．１ないし約１０．０部； （Ｄ）一般式： （式中、Ｒ１２及びＲ１３はＣ１−８　の一価の炭化水
    素基であり、Ｚはさらにエーテル、エポキシ、イソシア
    ナト、シアノ、アクリルオキシ及びアシルオキシ基から
    なる群から選んだ官能基で置換され得る飽和、不飽和又
    は芳香族炭化水素残基であり、そしてｂは０ないし３で
    ある）をもつ接着促進剤約０ないし約２部；及び（Ｅ）
    架橋用ポリアルコキシシラン約０ないし約５部；と無水
    の条件下で十分混合する；工程からなる、改良された押
    出速度及びチキソトロピー挙動をもつ貯蔵安定性の室温
    硬化性シリコーン組成物の製造法。