JPH04294363A

JPH04294363A - 電子写真感光体

Info

Publication number: JPH04294363A
Application number: JP8346891A
Authority: JP
Inventors: Koichi Oshima; 大嶋　孝一
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1991-03-22
Filing date: 1991-03-22
Publication date: 1992-10-19

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
更に詳しくは高品質の画像を与える電子写真感光体の改
良に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真感光体は、基本的には支持体と
光導電層とから形成されるが、従来より、感光体の電気
特性の改良、感光層と支持体の接着性の改良、感光層の
塗工性の改良、又は、支持体の欠陥被覆のためにポリビ
ニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、エチルセ
ルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド
、エチルセルロース、カゼインなどによる下引き層を設
けることが行なわれている。しかしながら、上記の樹脂
単体層を下引き層にした場合、電気抵抗が大きく、湿度
依存性も大きくなるため、膜厚は１μｍ以下、好適には
０．３〜０．６μｍ以下の膜厚にして、残留電位の増大
を防止する必要があった。この欠点を改良するために、
下引き層にカーボン、金属、金属酸化物等の導電性粒子
を樹脂中に分散し、下引き層の肉厚化をはかる等の提案
がなされている。しかし、これらについても、導電性粒
子の粒径、分散液の調製等の困難さのために、均一塗工
が実現せず、点欠陥、凹凸発生等の防止には不充分であ
った。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述の電気
抵抗に関する問題点を解決すると共に均一塗工に関する
欠点をも解決した電子写真感光体を提供することを目的
とする。又、本発明の別の目的は、支持体と光導電層の
接着性が改良され、さらに多層塗工時に有機溶媒に対し
て溶解又は膨潤しない電子写真感光体を提供することで
ある。又、本発明の別の目的は、レーザー光源により干
渉縞が、画像に表われない電子写真感光体を提供するこ
とである。又、本発明の別の目的は、非導電性支持体、
又は導電性支持体のいずれをも基体として、使用可能な
電子写真感光体を提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、基体上
に、少なくとも電極層及び光導電層を設けた電子写真感
光体において、電極層が酸化スズと酸化インジウムから
なる粒子を分散した樹脂から形成されていることを特徴
とする電子写真感光体が提供される。また、本発明によ
れば、基体上に、少なくとも電極層及び光導電層を設け
た電子写真感光体において、電極層が酸化アンチモンと
酸化スズからなる粒子を分散した樹脂層から形成されて
いる電子写真感光体が提供される。更に、本発明によれ
ば、基体上に、少なくとも電極層及び光導電層を設けた
電子写真感光体において、電極層がチタンブラック粒子
を分散した樹脂から形成されていることを特徴とする電
子写真感光体が提供される。すなわち、本発明は基体上
に少なくとも電極層、光導電層を設けた電子写真感光体
において、電極層の形成成分として、酸化スズと酸化イ
ンジウムからなる粒子を分散した樹脂、酸化アンチモン
と酸化スズからなる粒子を分散した樹脂、あるいはチタ
ンブラック粒子を分散した樹脂を用いたことを特徴とす
る。

【０００５】以下、本発明を更に詳細に説明する。酸化
スズと酸化インジウムからなる粒子としては、ＩＴＯ粒
子が好ましく使用される。このＩＴＯ粒子は微細でかつ
導電性が高く、樹脂との親和性もよく、粉末抵抗が１０
０〜１０２Ωｃｍ程度であり、微細な粒子なら、樹脂に
対して２０〜７０ｖｏｌ％、好ましくは５０〜６０ｖｏ
ｌ％の高濃度に含有させることができ、その時の塗膜の
比抵抗が１０２〜１０４Ωｃｍになる。

【０００６】また、Ｓｂ２Ｏ３とＳｎＯ２からなる粒子
としては、、ふつう、ゾルゲル法でたとえば塩化アンチ
モンと塩化スズを水中に投入し、水酸基を多量に含む、
コロイド状の酸化アンチモンと酸化スズの複合化合物を
得、これを大気下電気炉中にて焼成することによって得
られる。この時の仕込みの量比、温度、時間等により組
成の異なる又は、粒径の異なるＳｂ２Ｏ３とＳｎＯ２を
同時に含有する粒子が得られる。Ｓｂ２Ｏ３を適度に含
有したＳｎＯ２は、ＳｎＯ２より高い導電性が得られる
。Ｓｂ２Ｏ３含有ＳｎＯ２粒子の組成は、電極層の粒子
含有率、及び膜厚にもよるが、１００〜１０２Ωｃｍの
ものが、適用される。この範囲をこえた場合においても
、膜厚、含有率その他を調節して電極層としての機能を
持たせることができる。微細な粒子なら２０〜７５ｖｏ
ｌ％、好ましくは５０〜６０ｖｏｌ％に含有させること
ができる。その時の電極層の抵抗値は、テスターで両端子間を１ｃ
ｍの距離にした時、１０６〜１０７Ω以下となる。

【０００７】チタンブラック粒子としては、下記の化１
で示されるものが好ましく使用される。

【化１】チタンブラック粒子の作成法としては、たとえばＴｉＯ
２のアンモニアによる部分還元法等がある。この導電性
粒子は、人体に対する安全性が極めて高く、感光体に用
いる好適な材料である。粒子の導電率は、圧粉体の比抵
抗値で、ふつう１／１０〜１０４オーダーまで可変でき
、電極層のみならず、後記するベース層としても用いる
ことができる。微細な粒子なら、２０〜７５ｖｏｌ％、
好適には５０〜６０ｖｏｌ％含有させることができる。

【０００８】一般に導電性粒子を高濃度に分散し、かつ
、膜厚を大きくすることは、成膜性の著しい低下をまね
き、安定した塗膜状態にならないが、本発明では、前記
した特定な導電性粒子を用いたことから、電極層は５μ
ｍ以下、好ましくは２μｍ以下に更に好ましくは、機能
の有するかぎり薄肉化できるので、安定した塗膜状態を
得ることができる。特に後記するベース層上に塗布する
場合にはより薄肉化され、安定した塗膜状態を形成する
ことができる。

【０００９】電極層は、真空蒸着、スパッター、導電性
粒子を気体に分散し、吹き付ける乾式スプレー法等の乾
式法、浸漬法、スプレー法、電気化学的成膜法等の湿式
法いずれの方法で成膜してもよい。ベース層、光導電層
が浸漬法かつ、連続して生産されている状況では、コス
トメリット等の観点から、電極層は浸漬法で成膜するこ
とが望ましい。浸漬法では、これらの材料を粒子（以後
導電性粒子という）化して、樹脂に分散し、好ましくは
ベース層上に設けられる。導電性粒子は微細であればそ
れだけ緻密に電極層に充填でき効果が高い。ふつう１μ
ｍ以下、好適には０．１μｍ〜０．０１μｍの微粒子が
用いられる。

【００１０】電極層に用いられる樹脂としては、ポリエ
ステル樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ−酢
ビ共重合樹脂等の熱可塑性樹脂、又は、アルキド樹脂、
メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコー
ン樹脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂、又は、ポリ
アミド、ポリイミドが挙げられる。積層構成をとること
から、溶媒不溶の硬化性を有する樹脂が好ましい。又、
紫外線硬化性樹脂も同様の理由で好ましい。又、導電性
粒子は、上記の樹脂との親和性を増し分散安定性を向上
させるために、表面処理がなされてもよいし、分散液に
分散補助剤が添加されてもよい。

【００１１】また電極層塗工液には、以下のような溶媒
が使用できる。メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン
、シプロヘキサン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル等のエーテル類、酢酸メチル、酢
酸エチル等のエステル類、クロロホルム、塩化メチレン
、ジクロルエチレン、四塩化炭素、トリクロロエチレン
等の脂肪族ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、
キシレン、リグロイン、モノクロルベンゼン、ジクルベ
ンゼン等の芳香族類、塗工は、デッピング法、スプレー
法、スピンナー法、ビードコーテング法、マイヤーバー
コーテング法、ブレードコーテング法、ローラーコーテ
ング法、カーテンコーテング法などのコーテング法を用
いて行なうことができる。

【００１２】また、本発明においては、基体と電極層の
間（基体と直接接する面）に、主に基体表面の凹凸、う
ねり、点欠陥、加工上生じた傷等を被覆するため、ベー
ス層を設けることができる。このベース層は塗布又はラ
ミネートにより基体上に形成すればよい。

【００１３】紙、プラスチック及び表面粗度の大きい、
アルミニウム、鉄等の金属支持体の表面は、この様に最
初に設けられるベース層によって、基体表面がこれ以後
の塗布等の積層に対して一定の物理的、化学的状態に保
たれる。この層は、無色であってもよいし、色材によっ
て有色に着色されていてもよい。又、透明であってもよ
いし、不透明であってもよい。レーザー光を光源とする
場合の干渉パターンを防止する等の目的からすれば、有
機又は無機顔料によって、着色されていることが望まし
い。電気的には高抵抗であってもよいし低抵抗であって
もよく、その抵抗値は限定されない。

【００１４】材質においては積層塗工可能でなければな
らない。次に塗工される塗工液溶媒に、不溶、難溶であ
ることが望ましい。このような材料としては、たとえば
熱硬化性樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などが
あげられる。このベース層によって、基体から可能なか
ぎり距離を保つことができ、表面の影響を実質的になく
すことができる。したがって膜厚は、１μｍ〜１ｍｍ又
は、それ以上である。又基体表面との接着性を向上させ
るために、ベース層と基体の間にシランカプリング剤等
の処理層があってもよい。

【００１５】また、本発明においては、電極層と光導電
層の間に電極層とは異なる性質を有する化合物を含有す
る層（以後これを中間層という）を設けることができる
。中間層に接着性を与えること、及び電極層より光導電
層に注入される電荷を阻止するために中間層には、金属
酸化物例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＺｎＯ等
の比較的比抵抗の大きい微細な粒子、又は比抵抗が小さ
くても含有率を好適な範囲にすれば適用可能なＩｎ２Ｏ
３、ＳｎＯ２を単独又は、、被覆した微細な粒子等を含
有させることができる。また、アクセプター性、ドナー
性の化合物が含まれていてもよい。特に、ベース層中に
フリーキャリアーの多い、カーボン、Ａｕ、Ａｇ、Ｎｉ
等の導電性粒子を含むのものは、帯電性が高いので特に
有効である。

【００１６】中間層に用いられる樹脂としては、ベース
層又は電極層に用いられる樹脂群、金属アルコラート等
の加水分解によるアイオノマー類があげられる。中間層
の膜厚は、抵抗にもよるが、感光体の電気特性に悪い影
響をおよぼさない程度でなければならない。樹脂単体の
場合３μｍ以下、好適には、０．１〜１．０μｍである
。この層に抵抗制御等のために化合物が混入された場合
には、低抵抗物質で、ふつう１０〜２０μｍ、比較的高
抵抗の物質で、１〜３μｍ、高抵抗の物質で０．１〜１
μｍ以下である。例えば、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２粒子では
、２０〜７０ｖｏｌ％含有させた樹脂硬化膜では、比抵
抗が１０１５〜１０１２Ωｃｍ程度になるので０．５〜
５μｍが好適となる。

【００１７】支持体としては、アルミニウム、鉄、ニッ
ケル、黄銅、ステンレスなどの金属又は、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイ
ロンなどの高分子材料、更には、硬質紙などの材料を円
等状又はシート状に加工したものが用いられる。特に、
上記非導電性円筒状支持体においては、外面のみではな
く電気的アースのために、内面又は内面の端部側、又は
／及び端部、できれば両端部に電極層が塗工されている
ことが必要となる。外面の端部近傍の電極層材料は、必
ずしも、画像部と同一の電極層材料が塗工されている必
要はなく、電気的アースのために用意された塗料等が、
塗工されていればよい。又、この端部近傍に、銅箔テー
プ等の導電性材料で画像部電極層と電気的アースをとっ
てもよいし、両端又は一方の端面のキャップ等を金属製
にするか、非金属製であっても、電気的アースがとれる
様、導通部分に導電性材料を施すことも有効である。上
記電気的アースをとるための一連の導通処理は、本発明
の肉厚のベース層を有する導電性支持体であっても、必
要に応じてなされなければならないことはいうまでもな
い。

【００１８】光導電層は単層型あるいは積層型のいずれ
であってもよいが、電荷発生層と電荷移動層を別々に設
けた機能分離型の光導電層が好ましい。

【００１９】電荷発生層を構成する電荷発生物質として
は、スーダンレッド、ダイアンブルーなどのアゾ顔料、
キノン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジ
ゴ顔料、フタロシアニン顔料、キナクリドン顔料、スク
エアリック顔料などが使用される。該電荷発生層は、電
荷発生物質を分散して、微粒化したものを用いて、形成
するか又はポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、ポリアクリレート、ポリビニルブチラール、ポリ
酢酸ビニルなどに分散して形成する。膜厚は０．０５〜
３μｍが好ましい。

【００２０】電荷移動層を構成する電荷移動物質として
は、アントラセン、ピレン、フェナントレン、又は、コ
ロネンなどの多環状芳香族化合物、インドール、カルバ
ゾール、オキサゾール、イミダゾール、ピラゾールなど
の含窒素環状化合物の単体および、高分子化合物、ヒド
ラゾン誘導体、スチレン誘導体又はトリフェニルアミン
誘導体などの正孔移動化合物などが用いられる。

【００２１】又、電荷受容物質としては、無水こはく酸
、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタ
ル酸、テトラクロル無水フタル酸、テトラブロム無水フ
タル酸、３−ニトロ無水フタル酸、４−ニトロ無水フタ
ル酸、無水ヒロメリット酸、無水メリット酸、テトラシ
アノエチレン、テトラシアノキシジメタン、Ｏ−ジント
ロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、１，３，５−トリ
ニトロベンゼン、パラニトロベンゾニトリル、ピクリル
クロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、ブロム
アニル、２−メチルナフトキノン、ジフロロジシアノパ
ラベンゾキノン、アントラキノン、ジニトロアントラキ
ノン、トリニトロフルオレノン、９−フルオレニリデン
−（ジシアノメチレンマロノジニトリル）、ピクリン酸
、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、３，５−
ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、５−ニト
ロサリチル酸、３，５−ジニトロサリチル酸、フタル酸
などがあげられる。

【００２２】これらの化合物は、一般的に低分子量で、
それ自身では、成膜性に乏しいため、樹脂に分散又は溶
解して使用される。その様な樹脂としては、ポリカーボ
ネート、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリメタクリ
ル酸エステル類、スチレン−メタクリル酸共重合体、ス
チレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエステル、ポ
リサルホン等が挙げられる。電荷移動層の厚さは５〜５
０μｍ、好適には、１５〜２０μｍである。

【００２３】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。

【００２４】実施例１トリクロルエチレンで洗浄したＡｌシリンダー（表面粗
度４μＲｚ、６０ｍｍφ×３００ｍｍｌ）を用意した。この上に下記ベース層塗工液を浸漬塗工し、１３０℃３
０分で熱風乾燥し、１０μｍのベース層を設けた。（ベース層塗工液）（Ａ液）スチレン−メチルメタクリレート−２−ヒドロ
キエチルメタクリルレート樹脂（重量比２０：３０：５
０、溶媒トルエン：メチルエチルケトン＝１：１、３０
重量％溶液）（Ｂ液）ポリイソシアネートオリゴマー（スミジュール
ＨＴ、住友バイエル社製）Ａ液１００部とＢ液３７部と
トルエン：メチルエチルケトンの１：１混合溶媒を適当
量加え、約２０ｃｐのベース層塗工液を作成した。このベース層の上に、下記処方の電極層塗工液を浸漬塗
工して、１５０℃３０分熱風乾燥し、膜厚２μｍの電極
層を設けた。

【００２５】（電極層塗工液）（Ｃ液）ＩＴＯ粒子（ＳｎＯ２とＩｎ２Ｏ３の重量比５
：９５、ＢＥＴ値４０ｍ２／ｇ三菱金属製）４００部と
、５００部のシクロヘキサノンに２０部のブチラール樹
脂（エスレックＢＬ−１、積水化学工業製）を溶解した
樹脂液を硬質ガラスポットへ投入し、ＰＳＺボールを分
散媒体に用い３０日間ボールミル分散した。（Ｄ液）ディスモジュールＢＬ−３１７５（住友バイエ
ル社製）Ｃ液９６部とＤ液４部とメチルエチルケトンと
シクロヘサノンの混合溶媒を加え、約１０ｃｐの電極層
塗工液を作成した。次いで、この電極層上に、下記電荷
発生層塗工液を浸漬塗工し、１３０℃１０分乾燥し、膜
厚、０．６μｍの電荷発生層を形成した。

【００２６】（電荷発生層塗工液）１５φｃｍ硬化ガラ
スポット中に、ＰＳＺボールを、内容量の約半分まで投
入し、次に下記アゾ顔料２５ｇと、シクロヘキサノン４
１５ｇを投入した。５０時間のポールミリング後、更に
シクロヘキサノン５６０ｇを加えて２４時間ボールミリ
ングした。このミルベースにシクロヘキサノンを加えて
約２．０ｗｔ％まで希釈し電荷発生層塗工液を作成した
。

【化２】次に、前記電荷発生層上に、下記電荷移動層塗工液を浸
漬塗工し、１２０℃２０分乾燥して、膜厚２０μｍの電
荷移送層を設け、本発明の電子写真用感光体を得た。（電荷移動層塗工液）　　　　下記構造式の電荷移動材料　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　２０部

【化３】　　　　ポリカーボネート（パンライトＣ−１４００、
帝人化成）　　　　　　　　２０部　　　　シリコーン
オイル（ＫＦ−５０、信越シリコーン）　　　　　　　
　０．００４部　　　　塩化メチレン　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　１６０部この感光体ドラム
を−５．５ｋｖ帯電、ＬＤ光を用いた画像露光、トナー
現像、転写、クリーニングプロセスを有するプリンタに
取り付けコピー動作させた。得られた画像は、白地に黒
ポチ等異常画像のない鮮明なコピーであった。

【００２７】比較例１実施例１のＡｌシリンダーに、直接、同処方の電荷発生
層と電荷移動層を積層した感光体、及び、下引き層とし
て、下記処方のポリアミド樹脂層０．７μｍ形成し、次
いで、電荷発生層、電荷輸送層を形成した感光体を作製
した。（下引き層塗工液）　　　　ポリアミド樹脂（ＣＭ８０００、東レ製）　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６部　
　　　メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　８０部　　　　１−ブタノール　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　１４部これらの
感光体を同様にして、プリンタにとりつけ、コピーをと
ったところ、画像に多数の点欠陥および干渉パターン等
の異常画像が現われた。以上の様に本発明の厚いベース
層次いで設けられた導電層を有する感光体の画像が最も
良好であった。

【００２８】実施例２実施例１のＡｌシリンダー上に、下記ベース層塗工液を
浸漬塗工し、１３０℃３０分で熱風乾燥し、１２μｍの
酸化チタニウムを分散したベース層を形成した。（ベース層塗工液）ブチラール樹脂（エスレックＢＬ−
１）４０部をシクロヘキサノンとメチルエチルケトンの
重量比１：１からなる混合溶媒に溶解し、酸化チタニウ
ム（ＴＡ−３００、富士チタン製）４５０部とともに、
硬質ガラスポットに投入し、同溶媒を加え、合計投入量
を９８０部に調整しＰＳＺボールを加え５日間ボールミ
ルした。このミルベース１６８部とヘキサメチレンジイ
ソシアネート４．５部を加えベース層塗工液を作製した
。この上に、実施例１と同様にして、３μｍの電極層、
及び、電荷発生層、電荷移送層を積層して、電子写真感
光体を作成した。又、上記感光体の電極層と電荷発生層
の間に、比較例１の下引き層と同処方の中間層を０．６
μｍ設けた感光体も作成した。これらの感光体を複写機
にとりつけ、コピーを作成したところ点欠陥のほとんど
ない、基体の粗度の影響のない良好な画像が得られた。

【００２９】実施例３実施例１において、ベース塗工液を下記のものに代え、
かつ電極層塗工液中のＩＴＯ粒子をＳｂ２Ｏ３とＳｎＯ
２を同時に含有する粒子（Ｓｂ２Ｏ３とＳｎＯ２の重量
比１５：８５、ＢＥＴ値３８ｍ２／ｇ、三菱金属製）に
代えた以外は実施例１と同様にして電子写真用感光体を
作成し、実施例１と同様な試験に供したところ、白地に
黒ぽちのない鮮明な画像が得られた。（ベース層塗工液）１５φｃｍ硬化ガラスポットに、１
０ｍｍφのＰＳＺボールを入れる。次いでアルキド樹脂
（ベッコゾール、固形分５０％：大日本インキ製）１０
０部、メラミン樹脂（スーパーベッカミン固形分５０％
、大日本インキ製）３３部、酸化チタン（ルチル型、平
均粒径０．４μｍ）２００部、及びトルエンとメチルエ
チルケトンの重量比１：２の混合溶媒３００部を加え５
日間ボールミルした。更に、３００部の混合溶媒を加え
１日間ボールミルした。

【００３０】実施例４アクリル樹脂シリンダー（表面粗度５μＲｚ、長さ３〜
５ｍｍ、深さ最大６μｍのケンマキズ１０〜２０ケ／ｃ
ｍ２、６０ｍｍφ×３００ｍｍｌ）を用意した。比較例
１の中間層を浸漬塗工し、上端部２ｍｍを残して、内外
面下端部全てに、ポリアミド樹脂層を設けた。次いで、
実施例３のベース層塗工液を、浸漬塗工し１１０℃３０
分乾燥して、７μｍのベース層を上端部１０ｍｍを残し
て外面のみ塗工した。次いで、実施例３の電極層塗工液
に、触媒として、ジブチル錫ラウレートを、ブチラール
樹脂に対して、２ｗｔ％添加したものを、上端部４ｍｍ
をのこして内外面、下端部全てに塗工し、１１０℃６０
分で硬化し２μｍの電極層を形成した。ついで、実施例
１の電荷発生層、電荷移動層を上端部８ｍｍを残して外
面のみに塗布乾燥し、電子写真感光体を作成した。上端
部に露出した電極層の内外面部を銅箔テープで導電処理
し、金属キャップでとめた。これらの感光体を複写機に
とりつけ、コピーを作成したところ点欠陥のほとんどな
い、基体の粗度の影響のない良好な画像が得られた。

【００３１】実施例５実施例３において、電極層塗工液のＡ液のＳｂＯ２とＳ
ｎＯ２からなる粒子をチタンブラック（１３Ｍ、三菱金
属製）に代えた以外は実施例３と同様にして電子写真感
光体を作成し、実施例１と同様な試験に供したところ、
白地に黒ぽちのない鮮明な画像が得られた。

【００３２】実施例６実施例４において、電極層塗工液として実施例５のもの
を用いた以外は実施例４と同様にして電子写真感光体を
作成した。これらの感光体を複写機にとりつけ、コピー
を作成したところ点欠陥のほとんどない、基体の粗度の
影響のない良好な画像が得られた。

【００３３】

【発明の効果】本発明の電子写真用感光体は、前記構成
からなるので、支持体と光導電層の接着性が改良され、
さらに多層塗工時に有機溶媒に対して溶解又は膨潤せず
、レーザー光源による干渉縞等の異常画像が発生しない
。また基体として非導電性支持体、又は導電性支持体の
いずれをも使用することができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　基体上に、少なくとも電極層及び光導
電層を設けた電子写真感光体において、電極層は酸化ス
ズと酸化インジウムからなる粒子を分散した樹脂から形
成されていることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】　　基体上に、少なくとも電極層及び光導
電層を設けた電子写真感光体において、電極層は酸化ア
ンチモンと酸化スズからなる粒子を分散した樹脂から形
成されていることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項３】　　基体上に、少なくとも電極層及び光導
電層を設けた電子写真感光体において、電極層がチタン
ブラック粒子を分散した樹脂から形成されていることを
特徴とする電子写真感光体。
【請求項４】　　電極層と基体との間にベース層を設け
たことを特徴とする請求項１乃至３の電子写真感光体。
【請求項５】　　光導電層と電極層の間に中間層を設け
たことを特徴とする請求項１乃至３の電子写真感光体。