JPH04286643A - ポリエステル系樹脂積層フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、表面が比較的平滑であ
るため磁気記録媒体に好適であり、かつ製造時および加
工時の作業性に優れたポリエステル系樹脂積層フィルム
、特に高密度磁気記録媒体に好適な積層フィルムに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】二軸配向されたポリエステルフィルムは
、機械的、電気的特性に優れているため、磁気テープ用
フィルム、電気絶縁用フィルム、包装用フィルムなどと
して多く用いられている。特に最近では、情報記録材料
、とりわけ磁気記録材料として汎用されている。

【０００３】上記磁気記録材料としてフィルムを製造す
る場合には、その表面をできる限り平滑にすることが望
ましい。これは、電磁変換特性を向上させ、高密度での
記録を行うためである。しかし、そのような表面に突起
のない平坦な鏡面を有するフィルムは、滑り性、テープ
にした場合の走行性および巻取り特性が著しく不良であ
り、実用的ではない。一般にフィルムの滑り性、走行性
、巻取り特性などの改良には、フィルムの表面に微細な
突起を付与することによりフィルムとロール、そしてフ
ィルムとフィルムとの間の接触面積を減少させる方法が
採用されている。フィルムの表面の突起はその大きさが
大きい程滑り性の改良効果が大であるのが一般的である
が、上記磁気テープなどの磁気記録媒体のために用いる
場合には、その突起が大きいと、磁気記録信号の欠落、
つまりドロップアウトが発生し、電磁変換特性が著しく
悪くなる。そのため、表面に粗大な突起を持たず、微細
な突起を有するだけで高度の滑り性を有し、磁気記録材
料として有用なフィルムが求められている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
課題を解決するものであり、その目的とするところは、
表面が平坦であり、かつ滑り性、走行性、巻取り特性な
どの作業性に優れ、磁気記録用ベースフィルムとして好
適なポリエステル系フィルムを提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明のポリエステル系
樹脂積層フィルムは、ポリエステル系樹脂を主成分とす
る基材フィルムの少なくとも片面に、樹脂を主成分とす
る表層が積層された積層フィルムであり、該基材フィル
ムは、粒径０．０５〜０．３μｍの球状シリカ（Ａ）を
３０〜２０００ｐｐｍの割合で含有し、かつ該基材フィ
ルムの表面粗度が、中心線平均粗さＲａで０．００７μ
ｍ以下であり、該表層は球状シリカ（Ｂ）を２０００〜
８００，０００ｐｐｍの割合で含有し、該球状シリカ（
Ａ）の平均粒径ＤＡと該球状シリカ（Ｂ）の平均粒径Ｄ
Ｂとの比は（Ｉ）式を満足し、そして該球状シリカ（Ａ
）の基材フィルム中の濃度ＣＡと該球状シリカ（Ｂ）の
表層中の濃度ＣＢとの比は（ＩＩ）式を満足する： 　　　　　　　　　　　　　　１／６０≦ＤＢ／ＤＡ≦
４　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｉ）　　　
　　　１／２０，０００≦ＣＡ／ＣＢ≦１　　　　　　
　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）。

【０００６】本発明のポリエステル系樹脂積層フィルム
を構成する基材フィルムの素材としては、ポリアルキレ
ンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレートなどの
結晶性ポリエステルが用いられ、特にポリエチレンテレ
フタレートあるいはポリエチレンナフタレートを主成分
とするポリエステルが適している。なかでもその繰り返
し単位の８０モル％以上がエチレンテレフタレートある
いはエチレンナフタレートである共重合ポリエステルが
好適である。

【０００７】上記共重合ポリエステルの他の共重合成分
としては以下のグリコール成分およびジカルボン酸成分
が使用される。グリコール成分としては、炭素数２〜８
個の脂肪族グリコール、または炭素数６〜１２個の脂環
族グリコールが挙げられる。それには、エチレングリコ
ール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロパ
ンジオール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグ
リコール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−シクロ
ヘキサンジメタノール、ｐ−６キシリレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコールなどが
ある。グリコール成分としては、ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレング
リコールなどのポリエーテル型のグリコールが含有され
ていてもよい。ジカルボン酸成分としては、芳香族、脂
肪族、および脂環族のジカルボン酸のいずれもが使用さ
れ得る。芳香族ジカルボン酸としては、イソフタル酸、
オルソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸など
が、脂肪族ジカルボン酸としては、コハク酸、アジピン
酸、セバシン酸、シュウ酸などが、脂環族ジカルボン酸
としては、１，３−シクロペンタンジカルボン酸、１，
４−シクロヘキサンジカルボン酸などがある。この他、
１分子内に水酸基とカルボキシル基とを有するｐ−ヒド
ロキシ安息香酸などのオキシ酸の一部も利用することが
可能である。その他の共重合成分として、アミド結合、
ウレタン結合、エーテル結合、カーボネート結合などを
有する化合物が少量含有されていてもよい。

【０００８】上記ポリエステルの製造法としては、ジカ
ルボン酸成分とグリコール成分とを直接反応させる直接
重合法、およびジカルボン酸成分のジメチルエステルと
グリコール成分とをエステル交換反応させるエステル交
換法など、任意の製造法を適用することができる。

【０００９】本発明の積層フィルムの、表層に用いられ
る樹脂の素材は特に限定されない。合成系、半合成系お
よび天然系のいずれの樹脂もが使用され得る。後述のよ
うに、コート法により表層を基材フィルム上に形成する
場合には、溶液または分散液とすることが可能な有機高
分子化合物が用いられる。上記合成系の樹脂としては、
例えば、エステル系、ビニル系、アクリル系、スチレン
系、アルキッド系、ウレタン系、ビニリデン系、ジエン
系、オレフィン系（共重合体）、アミド系、エポキシ系
またはアミノ系の樹脂が用いられる。上記以外の付加縮
合型樹脂、ポリ縮合型樹脂などの縮合系樹脂、および不
飽和重合型樹脂、開環重合型樹脂などの重合系樹脂も用
いられ得る。半合成系または天然系の樹脂としては、ゴ
ム系樹脂、タンパク質系樹脂などが用いられる。好まし
くは、基材との接着性の良好なエステル系、ビニル系、
アクリル系、ウレタン系、エポキシ系、メラミン系など
の樹脂が用いられる。上記樹脂は、１種もしくは２種以
上が混合して用いられる。上記樹脂に加え、必要に応じ
て、固着性改良剤、増粘剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤
、帯電防止剤、潤滑剤、染料などが添加される。

【００１０】本発明の積層フィルムの基材フィルムおよ
び表層には球状シリカが含有される。基材フィルムに含
有される球状シリカ（Ａ）の平均粒径（ＤＡ）は０．０
５〜０．３μｍであり、好ましくは、０．０７〜０．２
μｍである。球状シリカ（Ａ）の平均粒径（ＤＡ）が０
．０５μｍを下まわる場合には、基材フィルムの滑り性
が極端に悪く、得られる積層フィルムも滑り性に乏しい
。球状シリカ（Ａ）の平均粒子系が０．３μｍを越える
と、基材フィルムの滑り性は良好であるが粗大な突起が
多数形成される。そのため、得られる積層フィルムにも
突起が残るので表面が平滑でなくなり、磁気記録用フィ
ルムとしては好ましくない。

【００１１】該球状シリカ（Ａ）は、基材フィルム中に
３０〜２０００ｐｐｍ、好ましくは５０〜１０００ｐｐ
ｍの割合で含有される。球状シリカ（Ａ）の濃度が３０
ｐｐｍを下まわると、基材の滑り性が極端に悪く、得ら
れる積層フィルムも滑性に乏しい。球状シリカ（Ａ）の
濃度ＣＡが２０００ｐｐｍを越えると、基材の滑り性は
よいが粗大な表面突起が多数形成される。そのため、得
られる積層フィルムにも突起が残留するので表面が平滑
でなくなる。

【００１２】表層に含有される球状シリカ（Ｂ）の粒径
は、上記球状シリカ（Ａ）の平均粒径および該球状シリ
カ（Ｂ）の平均粒径が次式（Ｉ）を満足するように定め
られる。 　　　　　　　　　　　　　　１／６０≦ＤＢ／ＤＡ≦
４　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｉ）。

【００１３】粒径比ＤＢ／ＤＡが１／６０よりも小さい
場合には、基材フィルム表面の突起と得られた積層フィ
ルム表面の突起とを比較すると、相対的に基材の表面突
起の方が大きくなる。そのため、積層フィルムにおいて
、表層が充分な滑り性を付与しない。逆に、粒径比ＤＢ
／ＤＡが４よりも大きくなると基材の突起に比べ表層の
突起が相対的に大きくなるため、積層フィルムにおいて
基材が充分な滑り性を付与しない。

【００１４】球状シリカ（Ｂ）は、表層中に２，０００
〜８００，０００ｐｐｍ、好ましくは５，０００〜３０
０，０００ｐｐｍ、さらに好ましくは１０，０００〜２
００，０００ｐｐｍの割合で含有され、かつ上記球状シ
リカ（Ａ）の基材フィルム中の濃度および該球状シリカ
（Ｂ）の表層中の濃度とが次式を満たすように定められ
る。 　　　　　　１／２０，０００≦ＣＡ／ＣＢ≦１　　　
　　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）。

【００１５】球状シリカ（Ｂ）の濃度が２０００ｐｐｍ
未満であると積層フィルムにおいて、表層が充分な滑り
性を付与しない。逆に、８００，０００ｐｐｍを越える
と基材フィルム表面への粒子の固着性に乏しく、耐久性
に劣る。球状シリカ（Ａ）と（Ｂ）との濃度比ＣＡ／Ｃ
Ｂが１／２００００未満の場合には、基材表面の突起が
表層の突起に比べて少ないため、積層フィルムにおいて
基材が充分な滑り性を付与しない。逆に濃度比ＣＡ／Ｃ
Ｂが１を越えると、表層の突起に比べ基材表面の突起が
少ないため、積層フィルムにおいて、表層が充分な滑り
性を付与しない。

【００１６】球状シリカ（Ａ）および（Ｂ）の形状は、
略球状であればよいが、好ましくは下記式（ＩＩＩ）で
算出される面積率が８０％以上、さらに好ましくは９０
％以上である。

【００１７】

【数１】

【００１８】式（ＩＩＩ）において、粒子の投影断面積
および粒子に外接する円の面積は、走査型電子顕微鏡で
観察することにより得られる。外接円に対する面積率が
８０％を下まわる微粒子を用いると、得られる積層フィ
ルムの滑り性にやや劣る。

【００１９】さらに、上記微粒子は、粒径がほぼ均一で
あり、単分散に近い粒度分布を有することが好ましい。 具体的には、走査型電子顕微鏡で観察して得られるバラ
ツキ度が２５％以下であることが好ましい。より好まし
くは２０％以下である。

【００２０】上記粒径のバラツキ度は下記式で示される
。

【００２１】

【数２】

【００２２】上記球状シリカ（Ａ）および（Ｂ）の製法
は特に限定されない。例えば、アルコキシシランを出発
原料としてアミン系触媒を用いた加水分解および縮合反
応を行うことにより製造される。

【００２３】上記アルコキシシランは一般式（ＣｎＨ２
ｎ＋１Ｏ）４Ｓｉ（ｎ＝１〜８）で示される化合物であ
り、それにはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン
などが用いられる。アミン系触媒としては、アンモニア
、トリメチルアミンなどが用いられ得る。上記のアルコ
キシシラン化合物を含む溶液にアミン系触媒を加えて加
水分解を行なうことによりＳｉ（ＯＨ）４で示されるシ
ラノールが形成され、さらにこのシラノールの脱水重縮
合反応により三次元的な結合

【００２４】

【化１】

【００２５】を有するポリシロキサンが形成される。

【００２６】別法としては、次に示すケイ酸アルカリ分
解法も用いられる。ケイ酸ソーダ水溶液を陽イオン交換
し、脱ナトリウムを行なうことにより活性ケイ酸を得る
。この活性ケイ酸塩のｐＨを中性〜アルカリ性にすると
脱水縮合が生じ、三次元的な結合を有する球状シリカが
得られる。

【００２７】本発明のポリエステル系樹脂積層フィルム
の製造法は特に限定されない。例えば、（１）基材フィ
ルムおよび表層となるフィルムを各々調製し、これらを
熱時ラミネートする方法（例えば、押出しコート法）；
（２）基材フィルムを調製し、このフィルム表面に、表
層を形成する樹脂と球状シリカとを含む分散液を塗布乾
燥する方法；（３）基材フィルムと表層とでなる積層フ
ィルムを共押出しにより形成する方法などが挙げられる
。表層は基材フィルムの少なくとも片面に設けられる。 上記（１）および（２）の方法においては、基材フィル
ムは、例えば、上記基材フィルムを形成するポリエステ
ルおよび球状シリカ（Ａ）を混合して押出し法、上記樹
脂の溶液に球状シリカ（Ａ）を混合して得られる分散液
をキャスティングする方法、などにより調製され得る。 （１）の方法における表層フィルムも同様に調製され得
る。本発明の積層フィルムに使用される基材フィルムは
、含有される球状シリカおよび樹脂に含まれる触媒残渣
などにより、その表面が粗面であり、その粗面の度合は
、後述の中心線平均粗さ（Ｒａ）で示すと０．００７μ
ｍ以下である。Ｒａが０．０７μｍを越えると、基材フ
ィルムが大きな突起をその表面に有するようになり、そ
の結果、得られる積層フィルムの表面の平滑性に劣る。

【００２８】（２）の方法において、球状シリカ（Ｂ）
および樹脂を含む分散液は、リバースロールコーター、
グラビアコーター、ロッドコーター、エアドクタコータ
ー、あるいはこれ以外の従来の公知の装置を用いて基材
フィルム上に塗布される。特にポリエステルを溶融押出
しすることにより得られる未延伸フィルム、あるいは該
未延伸フィルムを縦または横方向へ一軸延伸した後の一
軸延伸フィルムに、球状シリカ（Ｂ）と表層を形成する
樹脂とを含む塗布液（コート液）を塗布し、次いで一軸
または二軸に延伸を行ない、熱処理を行って得られる、
二軸配向積層フィルムが好ましい。このような積層フィ
ルムにおいては、球状シリカ（Ｂ）により、表面に充分
な突起が形成されるため、充分な滑り性が得られる。コ
スト等の点でも好ましい。上記（１）および（２）の方
法においては、基材フィルム表面に表層フィルムを積層
する前に、もしくは分散液を塗布する前に、該基材フィ
ルム表面にコロナ放電処理、電子線照射処理、紫外線照
射処理、プラズマ処理を行うこと、あるいはアンカー剤
をコートすることにより前処理を行うと、基材と表層と
の密着性が改善され得る。上記（１）および（３）の方
法など、共押出しや押出しコート法で積層フィルムを調
製する場合には、表層を形成する樹脂は、熱可塑性樹脂
、特に、基材との密着性が良好である熱可塑性のポリエ
ステル基材を用いることが望ましい。この場合、基材フ
ィルムを形成するポリエステルと表層を形成するポリエ
ステルとは同種の化合物であっても異種の化合物であっ
てもよい。

【００２９】得られた積層フィルムが未延伸の場合には
、通常、上記のように一軸もしくは二軸延伸が行われる
。得られた積層フィルム（未延伸もしくは延伸）の表面
にコロナ放電処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、
プラズマ処理などを施すことにより、フィルム表面の濡
れ性や接着性を向上させることも可能である。

【００３０】このようにして得られた本発明のポリエス
テル系樹脂積層フィルムは、その表面が比較的平滑であ
るため、磁気記録媒体用のフィルムとして使用され、特
に高密度用記録媒体として好適である。さらに積層フィ
ルム表面には、適度の大きさおよび密度の突起が存在す
るため、滑り性、テープにした場合の走行性、巻取り特
性などの作業性に優れる。

【００３１】

【実施例】以下に本発明を実施例につき具体的に説明す
る。実施例における部は、特に指示のない限り重量部を
示す。得られる基材フィルムおよび積層フィルムの評価
方法を次に示す。

【００３２】（１）静摩擦係数（μｓ）ＡＳＴＭ　　Ｄ
−１８９４−６３に準拠し、スレッド式スリップテスタ
ー（ＤＡＶＥＮＰＯＲＴ）を用い、フィルム／フィルム
間の静摩擦係数（μｓ）を測定する。測定環境は２３℃
、相対湿度６５％である。

【００３３】（２）光学式非接触粗さ計による積層フィ
ルムの中心線平均粗さ（ＳＲａ） 積層フィルム表面の凹凸の状態を（株）小坂研究所製光
学式非接触３次元表面粗さ計（ＥＴ−３０ＨＫ）を用い
て次のようにして測定する。フィルム長手方向に対して
４５°方向に長さ０．２５ｍｍにわたって０．５μｍピ
ッチで５００点に分割し、カットオフ値０．０８ｍｍで
、各点の高さを測定する。測定値を３次元粗さ解析装置
（ＳＰＡ−１１）にインプットする。同様に、フィルム
の幅方向に０．０７５ｍｍにわたって０．５μｍ間隔で
１５０回、測定を行い、この測定値を、解析装置にイン
プットする。これにより、中心線平均粗さ（ＳＲａ）が
算出される。

【００３４】 （３）粗大突起数（０．５４μｍ以上の高さの突起数）
フィルム表面にアルミニウムを５００オングストローム
の厚みで蒸着した後、ナッハ社製二光束干渉顕微鏡を用
いて拡大倍率８００倍で２０ｍｍ２の面積をくなまく走
査する。２．０次以上の干渉縞を有する突起の数を求め
、１ｃｍ２当りの個数に換算して、これを粗大突起数と
する。

【００３５】（４）触針式三次元表面粗さ計による基材
フィルムの平均粗さ（Ｒａ） フィルム表面の微細突起の高さを（株）小坂研究所製触
針式粗さ計（ＳＥ−３ＡＫ）を用いて測定する。この測
定は、フィルムの長手方向に対して４５°方向に、針の
半径２μｍ、荷重３０ｍｇの条件下で行なう。得られた
データを３次元粗さ解析装置（ＳＰＡ−１１）にインプ
ットすることにより平均粗さＲａが算出される。

【００３６】（５）電磁変換特性 得られた積層フィルムの表層面に、厚さ３μｍの磁性層
を塗工法により形成した後、これを２分の１インチ幅に
裁断し、ＶＨＳ規格のビデオテープを得る。得られたテ
ープの標準テープ（比較例１）に対するクロマＳ／Ｎ値
を、（株）シバソク製ＴＧ−７形ＮＴＳＣ　　ＴＶ試験
信号発生器および９２５Ｄ／１形ＮＴＳＣカラービデオ
ノイズ測定器を用いて測定する。得られたＳ／Ｎ値を３
段階に評価し、次のランク付けで示す。

【００３７】×：−１ｄＢ未満 ○：−１ｄＢ以上＋１ｄＢ未満 ◎：＋１ｄＢ以上。

【００３８】実施例１ ■基材フィルムの調製 球状シリカ（Ａ）として平均粒径０．１８μｍの球状シ
リカを１５００ｐｐｍの割合でポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）と混合して２９０℃で溶融押出しを行な
い、１５℃の冷却ロールで冷却し、厚さ１２０μｍの未
延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを周速の異な
る８５℃の一対のロール間で縦方向に３．５倍に延伸し
た。

【００３９】■表層フィルム作成用塗布液の調製球状シ
リカ（Ｂ）として平均粒径０．０８μｍの球状シリカが
イソプロピルアルコールに均一に分散されたオルガノゾ
ル（ＳｉＯ２含有率２０ｗｔ％）５部を、水５０部およ
びイソプロピルアルコール５０部の混合溶液に混合して
分散させた。次いで該分散液８０部に対しポリエステル
系共重合樹脂（東洋紡績社製ＭＤ１２５０）の水系分散
液２０部を混合し、均一になるまでよく撹拌して塗布液
とした。塗布液の固形分のうちＳｉＯ２は１０ｗｔ％、
そして共重合ポリエステル樹脂は９０ｗｔ％である。

【００４０】■積層フィルムの調製 ■項で得られた基材表面に、■項で得られた塗布液をロ
ールコーター方式で塗布し、７０℃の熱風で乾燥した。 次いでテンターで９８℃で横方向に３．５倍延伸し、さ
らに２１０℃で熱固定して厚さ１０μｍの二軸延伸積層
ポリエステルフィルムを得た。得られた積層フィルムの
表層の単位面積あたりの重量は二軸延伸後で０．０４ｇ
／ｍ２であった。球状シリカ（Ａ）の基材フィルム中の
濃度ＣＡと球状シリカ（Ｂ）の表層中の濃度ＣＢとの比
（ＣＡ／ＣＢ）は１／６６．７である。得られた基材フ
ィルムおよび積層フィルムの評価結果を表１に示す。実
施例２〜４および比較例１〜７の結果もあわせて表１に
示す。表１の結果から粗大な突起が少なく、滑り性の良
好なフィルムが得られたことがわかる。

【００４１】実施例２ 実施例１の方法を次のように変更して二軸延伸積層ポリ
エステルフィルムを得た。球状シリカ（Ａ）として平均
粒径０．２μｍの球状シリカを用い、１００ｐｐｍの割
合でＰＥＴと混合して基材フィルムを得た。球状シリカ
（Ｂ）としては平均粒径０．０２μｍの球状シリカを用
いた。塗布液固形分中のＳｉＯ２の含有割合は３０ｗｔ
％とし、共重合ポリエステル樹脂の含有割合は７０ｗｔ
％とした。積層フィルムの表層単位面積あたりの重量は
二軸延伸後で０．０２ｇ／ｍ２とした。球状シリカ（Ａ
）の基材フィルム中の濃度ＣＡと球状シリカ（Ｂ）の表
層中の濃度ＣＢとの比（ＣＡ／ＣＢ）は１／３０００で
ある。表１から粗大な突起が少なく、滑り性の良好なフ
ィルムが得られたことがわかる。

【００４２】実施例３ 実施例１の方法を次のように変更して二軸延伸積層ポリ
エステルフィルムを得た。球状シリカ（Ａ）として平均
粒径０．０８μｍの球状シリカを用い、２０００ｐｐｍ
の割合でＰＥＴと混合して基材フィルムを得た。球状シ
リカ（Ｂ）としては、平均粒径０．１２μｍの球状シリ
カを用いた。塗布液固形分中のＳｉＯ２の含有割合は１
ｗｔ％とし、共重合ポリエステル樹脂の含有割合は９９
ｗｔ％とした。積層フィルムの表層の単位面積当りの重
量は、二軸延伸後で０．０８ｇ／ｍ２とした。球状シリ
カ（Ａ）の基材フィルム中の濃度ＣＡと球状シリカ（Ｂ
）の表層中の濃度ＣＢとの比（ＣＡ／ＣＢ）は１／５で
ある。表１から、粗大な突起がなく、よく滑り性の良好
なフィルムが得られたことがわかる。

【００４３】実施例４ 実施例１の方法を次のように変更して二軸延伸積層ポリ
エステルフィルムを得た。球状シリカ（Ａ）として平均
粒径０．１２μｍの球状シリカを用い、１０００ｐｐｍ
の割合でＰＥＴと混合して３００℃で溶融押出しし、１
５℃の冷却ロールで冷却して厚さ１２０μｍの未延伸フ
ィルム（基材フィルム）を得た。次いで、基材フィルム
の表面に実施例１と同じ塗布液を塗布、乾燥後、テンタ
ーで横方向に３．２倍延伸し、さらに周速の異なる８５
℃の一対のロール間で縦方向に４．７倍延伸した。これ
を２１０℃で熱固定し、厚さ８μｍの二軸延伸積層ポリ
エステルフィルムを得た。積層フィルムの表層の単位面
積当りの重量は二軸延伸後で０．０５ｇ／ｍ２であった
。球状シリカ（Ａ）の基材フィルム中の濃度ＣＡと球状
シリカ（Ｂ）の表層中の濃度ＣＢとの比（ＣＡ／ＣＢ）
は１／１００である。表１の結果から、粗大な突起が少
なく、滑り性の良好なフィルムが得られたことがわかる
。

【００４４】比較例１ 塗布液に球状シリカ（Ｂ）が実質的に含有されていない
こと以外は、実施例と同様である。表１の結果から、得
られたフィルムは、平面性に優れているが滑り性が悪い
ことが明らかである。

【００４５】比較例２ 球状シリカ（Ａ）が実質的に含まれていないポリエチレ
ンテレフタレートをフィルムを基材フィルムとして用い
たこと以外は、実施例１と同様である。表１の結果から
、得られたフィルムは、平面性に特に優れているが、滑
り性が悪いことが明らかである。

【００４６】比較例３ 塗布液固形分中のＳｉＯ２の割合を０．１ｗｔ％とした
こと以外は実施例１と同様である。球状シリカ（Ａ）の
基材フィルム中の濃度ＣＡと球状シリカ（Ｂ）の表層中
の濃度ＣＢとの比（ＣＡ／ＣＢ）は１／０．６７である
。 表１の結果から、得られたフィルムは平面性に特に優れ
ているが、滑り性が悪いことが明らかである。

【００４７】比較例４ 基材フィルム中の球状シリカ（Ａ）の濃度を２０ｐｐｍ
としたこと以外は、実施例１と同様である。球状シリカ
（Ａ）の基材フィルム中の濃度ＣＡと球状シリカ（Ｂ）
の表層中の濃度ＣＢとの比（ＣＡ／ＣＢ）は５０００で
ある。表１の結果から、得られたフィルムは、平面性が
特に優れているが、滑り性が悪いことが明らかである。

【００４８】比較例５ 球状シリカ（Ａ）の平均粒子径を０．４μｍとしたこと
以外は実施例１と同様である。球状シリカ（Ａ）の基材
フィルム中の濃度ＣＡと球状シリカ（Ｂ）の表層中の濃
度ＣＢとの比（ＣＡ／ＣＢ）は１／６６．７である。表
１の結果から、得られたフィルムは滑り性が良好である
が、粗大な突起が多く、そのため良好な電磁変換特性は
得られないことがわかる。

【００４９】比較例６ 実施例１の方法を次のように変更して二軸延伸積層ポリ
エステルフィルムを得た。基材フィルムとして、平均粒
子径が０．０２μｍの球状シリカ（Ａ）を２０００ｐｐ
ｍの割合で含有するＰＥＴフィルムを用いた。球状シリ
カ（Ｂ）の平均粒子径を０．０２μｍとし、かつ塗布液
の固形分のうちＳｉＯ２は１０ｗｔ％、そして共重合ポ
リエステル樹脂は９０ｗｔ％とした。さらに、積層フィ
ルム表層の単位面積あたりの重量は二軸延伸後で０．０
２ｇ／ｍ２とした。球状シリカ（Ａ）の基材フィルム中
の濃度ＣＡと球状シリカ（Ｂ）の表層中の濃度ＣＢとの
比（ＣＡ／ＣＢ）は１／５０である。表１の結果から、
得られたフィルムは表面の平面性に優れているものの、
滑り性に乏しいことがわかる。

【００５０】比較例７ 実施例１の方法を次のように変更して二軸延伸積層ポリ
エステルフィルムを得た。球状シリカ（Ａ）の基材フィ
ルム中の濃度を３０００ｐｐｍとし、塗布液固形分中の
ＳｉＯ２は５ｗｔ％、共重合ポリエステル樹脂は９５ｗ
ｔ％とした。球状シリカ（Ａ）の基材フィルム中の濃度
ＣＡと球状シリカ（Ｂ）の表層中の濃度ＣＢとの比（Ｃ
Ａ／ＣＢ）は１／１６．７である。表１の結果から、得
られたフィルムは滑り性に優れているが、粗大な突起が
多く、そのため電磁変換特性に劣ることが明らかである
。

【００５１】

【表１】

【００５２】上記実施例から明らかなように、本発明の
ポリエステル系樹脂積層フィルムは、表面の平滑性に優
れるため磁気テープにしたときの電磁変換特性が良好で
ある。さらに、滑り性など加工時の作業性およびテープ
にした時の走行性に優れるため、磁気記録媒体用のベー
スフィルムとして好適である。これに対して、基材の表
面粗さ、球状シリカの平均粒径または濃度が本発明の範
囲を外れる場合（比較例１〜５）は、滑り性はよいが電
磁変換特性が不良である（比較例３、５）か、もしくは
粗大突起が少なく平面性は良いが滑りが極端に悪い（比
較例１、２、４）ことがわかる。

【００５３】

【発明の効果】本発明によれば、このように、滑り性、
テープとしたときの走行性、巻取り特性などの作業性に
優れ、かつ、表面が比較的平坦であるポリエステル系樹
脂積層フィルムが得られる。この積層フィルムは、磁気
記録媒体用フィルム、絶縁フィルム、包装用フィルムな
ど各種のフィルムとして使用され得、特に高密度磁気記
録媒体用フィルムとして好適である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ポリエステル系樹脂を主成分とする基材フ
   ィルムの少なくとも片面に、樹脂を主成分とする表層が
   積層されたポリエステル系樹脂積層フィルムであって、
   該基材フィルムが、粒径０．０５〜０．３μｍの球状シ
   リカ（Ａ）を３０〜２０００ｐｐｍの割合で含有し、か
   つ該基材フィルムの表面粗度が、中心線平均粗さＲａで
   ０．００７μｍ以下であり、該表層が球状シリカ（Ｂ）
   を２，０００〜８００，０００ｐｐｍの割合で含有し、
   該球状シリカ（Ａ）の平均粒径ＤＡと該球状シリカ（Ｂ
   ）の平均粒径ＤＢとの比が（Ｉ）式を満足し、そして該
   球状シリカ（Ａ）の基材フィルム中の濃度ＣＡと該球状
   シリカ（Ｂ）の表層中の濃度ＣＢとの比が（ＩＩ）式を
   満足する、 ポリエステル系樹脂積層フィルム： 　　　　　　　　　　　　　　１／６０≦ＤＢ／ＤＡ≦
   ４　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｉ）　　　
   　　　１／２０，０００≦ＣＡ／ＣＢ≦１　　　　　　
   　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）