JPH04283925A - 洗浄乾燥装置 - Google Patents
洗浄乾燥装置Info
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- JPH04283925A JPH04283925A JP4638291A JP4638291A JPH04283925A JP H04283925 A JPH04283925 A JP H04283925A JP 4638291 A JP4638291 A JP 4638291A JP 4638291 A JP4638291 A JP 4638291A JP H04283925 A JPH04283925 A JP H04283925A
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- transport
- drying
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- washing
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Links
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- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 9
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 22
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 3
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 2
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Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は洗浄装置における乾燥装
置に関するものであり、特に温水引き上げ乾燥装置にお
ける搬送アーム及びワークの振動低減に関する。
置に関するものであり、特に温水引き上げ乾燥装置にお
ける搬送アーム及びワークの振動低減に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の装置は、特開平1−3742 号
公報記載のように搬送駆動機構部からアームを介してワ
ークを保持し、純水中に浸漬し低速で引き上げ、蒸気や
熱風などの熱媒体を吹き付けて乾燥を行うものであった
。
公報記載のように搬送駆動機構部からアームを介してワ
ークを保持し、純水中に浸漬し低速で引き上げ、蒸気や
熱風などの熱媒体を吹き付けて乾燥を行うものであった
。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術において
は、搬送駆動機構部からの発塵がワークに付着しないよ
うに、搬送駆動機構部をワークに対して低い位置に設置
し、上方よりクリーンエアのダウンフローを行っている
。
は、搬送駆動機構部からの発塵がワークに付着しないよ
うに、搬送駆動機構部をワークに対して低い位置に設置
し、上方よりクリーンエアのダウンフローを行っている
。
【0004】また上記従来技術の乾燥装置は、温浴槽,
熱媒体を供給するためのノズル,ヒータが垂直に配置さ
れているため、ワークは搬送駆動機構部より長いアーム
を介して保持されることになる。
熱媒体を供給するためのノズル,ヒータが垂直に配置さ
れているため、ワークは搬送駆動機構部より長いアーム
を介して保持されることになる。
【0005】一方温純粋中と大気との間を往復する搬送
アームは、大気中において搬送アームに付着した異物が
温純水中に持ち込まれるのを少なくするため、表面積の
小さくなる形状が望ましい。
アームは、大気中において搬送アームに付着した異物が
温純水中に持ち込まれるのを少なくするため、表面積の
小さくなる形状が望ましい。
【0006】搬送駆動機構部は搬送速度により固有の振
動周波数を持つが、上記の各条件により搬送アームは、
加振源となる搬送駆動機構部との共振現象により振動を
起こしやすい。
動周波数を持つが、上記の各条件により搬送アームは、
加振源となる搬送駆動機構部との共振現象により振動を
起こしやすい。
【0007】この振動は、ワークを温純水中から引き上
げる際の水切れ性を悪くする。また、この振動が大きい
場合にはミストの発生、残留水分によるシミの発生,ノ
ズルなどの他の構造物との接触,ワークの脱落といった
問題を引き起こす。しかし従来は上記振動に対する対策
がなされていなかった。
げる際の水切れ性を悪くする。また、この振動が大きい
場合にはミストの発生、残留水分によるシミの発生,ノ
ズルなどの他の構造物との接触,ワークの脱落といった
問題を引き起こす。しかし従来は上記振動に対する対策
がなされていなかった。
【0008】本発明は、任意の搬送速度における搬送駆
動機構部と搬送アームの共振を回避することにより、ワ
ーク及び搬送アームの振動を低減することを目的とする
。
動機構部と搬送アームの共振を回避することにより、ワ
ーク及び搬送アームの振動を低減することを目的とする
。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的はワークを保持
する搬送アームに、搬送アームに沿って移動が可能で、
任意の位置で固定できる構造の重りを取付けることによ
り達成される。
する搬送アームに、搬送アームに沿って移動が可能で、
任意の位置で固定できる構造の重りを取付けることによ
り達成される。
【0010】
【作用】搬送駆動機構部は搬送速度により固有の振動周
波数を持つ。また、搬送アームは複数の周波数において
固有振動モードを持つ。
波数を持つ。また、搬送アームは複数の周波数において
固有振動モードを持つ。
【0011】加振源となる上記搬送駆動機構部のある速
度における振動周波数と、搬送アームのある振動モード
の周波数が一致したとき、搬送アームは共振現象を起こ
す。この時、重りを移動させるこよにより搬送アームの
振動モードを変化させることができるので、任意の搬送
速度において共振現象が生じた場合、前記操作を行うこ
とにより共振現象を回避することができる。
度における振動周波数と、搬送アームのある振動モード
の周波数が一致したとき、搬送アームは共振現象を起こ
す。この時、重りを移動させるこよにより搬送アームの
振動モードを変化させることができるので、任意の搬送
速度において共振現象が生じた場合、前記操作を行うこ
とにより共振現象を回避することができる。
【0012】
【実施例】以下本発明の一実施例を示す図1及び図2に
ついて説明する。図1は本発明の搬送アームを持つ乾燥
ユニットの要部構成概略図であり、図2は従来例の搬送
アームである。
ついて説明する。図1は本発明の搬送アームを持つ乾燥
ユニットの要部構成概略図であり、図2は従来例の搬送
アームである。
【0013】ワーク1は搬送駆動機構部6に連結された
搬送アーム7a,7b,7cにより保持され、乾燥装置
上部より垂直に降下し、温浴槽2の内部に満たされた液
体3に浸漬される。この時ワーク1は、ヒータ1により
加熱、乾燥されないような高速で降下しなくてはいけな
い。またワーク1は液体3に浸漬される際には、ワーク
1及び搬送アーム7b,7cによって液体3の液面を乱
したり、液体3を飛散させないような低速で降下しなく
てはいけない。
搬送アーム7a,7b,7cにより保持され、乾燥装置
上部より垂直に降下し、温浴槽2の内部に満たされた液
体3に浸漬される。この時ワーク1は、ヒータ1により
加熱、乾燥されないような高速で降下しなくてはいけな
い。またワーク1は液体3に浸漬される際には、ワーク
1及び搬送アーム7b,7cによって液体3の液面を乱
したり、液体3を飛散させないような低速で降下しなく
てはいけない。
【0014】一定時間浸漬を行った後、ワーク1は搬送
アーム7a,7b,7cによって低速で引き上げられる
ことにより、ワーク1に付着していた水分及び液体3は
表面張力により液体3中に引き降ろされる。次いでワー
ク1の表面にノズル4により熱媒体が吹き付けられる。 その結果ワーク1の表面に付着していた水分や液体3は
除去され、ワーク1は乾燥装置上部まで搬送されて乾燥
処理は終了する。
アーム7a,7b,7cによって低速で引き上げられる
ことにより、ワーク1に付着していた水分及び液体3は
表面張力により液体3中に引き降ろされる。次いでワー
ク1の表面にノズル4により熱媒体が吹き付けられる。 その結果ワーク1の表面に付着していた水分や液体3は
除去され、ワーク1は乾燥装置上部まで搬送されて乾燥
処理は終了する。
【0015】上記のように乾燥装置においては搬送アー
ム7a,7b,7cを複数の速度で駆動することが必要
となり、搬送駆動機構部6は加振源として各々の搬送速
度によって異なる振動周波数を持つ。
ム7a,7b,7cを複数の速度で駆動することが必要
となり、搬送駆動機構部6は加振源として各々の搬送速
度によって異なる振動周波数を持つ。
【0016】この搬送駆動機構部6の振動周波数が、搬
送アーム7a,7b,7cの複数ある振動モードの周波
数のいずれかと一致したとき、搬送アーム7a,7b,
7cは共振し、搬送アーム7a,7b,7c及びワーク
1は振動する。
送アーム7a,7b,7cの複数ある振動モードの周波
数のいずれかと一致したとき、搬送アーム7a,7b,
7cは共振し、搬送アーム7a,7b,7c及びワーク
1は振動する。
【0017】上記振動が発生した際、搬送アーム7a,
7b,7cに取付けられた重り8a,8bの位置を調整
することにより上記振動を回避することができる。
7b,7cに取付けられた重り8a,8bの位置を調整
することにより上記振動を回避することができる。
【0018】上記振動を回避するための重り8a,8b
の位置を決定する方法としてたとえば以下のような例が
ある。
の位置を決定する方法としてたとえば以下のような例が
ある。
【0019】1つは上記振動が発生した速度における搬
送駆動機構部6の振動周波数を測定し、その周波数にお
ける搬送アーム7a,7b,7cの振動モードをCAE
などを用いて解析し、その振動モードの腹となる部分に
重り8a,8bを固定する方法である。
送駆動機構部6の振動周波数を測定し、その周波数にお
ける搬送アーム7a,7b,7cの振動モードをCAE
などを用いて解析し、その振動モードの腹となる部分に
重り8a,8bを固定する方法である。
【0020】もう1つは重り8a,8bの位置を少しず
つ変更しながら搬送アーム7a,7b,7cを駆動し、
必要とする全ての速度において振動が発生しない重り8
a,8bの位置を決定する方法である。
つ変更しながら搬送アーム7a,7b,7cを駆動し、
必要とする全ての速度において振動が発生しない重り8
a,8bの位置を決定する方法である。
【0021】次に搬送機構部の他の一実施例を示す図3
について説明する。
について説明する。
【0022】本実施例においては搬送駆動機構部6,搬
送アーム7,重り8,ワーク1は一直線上に配置される
。重り8は搬送アーム7に取付けられ、搬送アームの長
手方向に沿って任意の位置へ移動させて固定することが
できる。
送アーム7,重り8,ワーク1は一直線上に配置される
。重り8は搬送アーム7に取付けられ、搬送アームの長
手方向に沿って任意の位置へ移動させて固定することが
できる。
【0023】また、本搬送機構部は任意の角度で洗浄乾
燥装置に設置され、例えば水平方向あるいは鉛直方向に
ワークを搬送することができる。
燥装置に設置され、例えば水平方向あるいは鉛直方向に
ワークを搬送することができる。
【0024】本実施例において搬送駆動機構部6は加振
源として搬送速度によって異なる振動周波数を持つ。
源として搬送速度によって異なる振動周波数を持つ。
【0025】この搬送駆動機構部6の振動周波数が、搬
送アーム7の複数ある振動モードの周波数のいずれかと
一致したとき、搬送アーム7は共振し搬送アーム7及び
ワーク1は振動する。
送アーム7の複数ある振動モードの周波数のいずれかと
一致したとき、搬送アーム7は共振し搬送アーム7及び
ワーク1は振動する。
【0026】上記振動が発生した際、搬送アーム7に取
付けた重り8の位置を調整することにより、上記振動を
回避することができる。
付けた重り8の位置を調整することにより、上記振動を
回避することができる。
【0027】次に搬送機構部のさらに他の一実施例を示
す図4について説明する。
す図4について説明する。
【0028】本実施例においては、搬送アーム7は支点
9によって支持され、一方の端部でワーク1を保持し、
反対の端部を搬送駆動機構部6により駆動されることに
より、ワーク1を搬送することができる。また、重り8
は搬送アーム7に取付けられ、搬送アームの長手方向に
沿って任意の位置へ移動させて固定することができる。
9によって支持され、一方の端部でワーク1を保持し、
反対の端部を搬送駆動機構部6により駆動されることに
より、ワーク1を搬送することができる。また、重り8
は搬送アーム7に取付けられ、搬送アームの長手方向に
沿って任意の位置へ移動させて固定することができる。
【0029】本実施例において搬送駆動機構部6は加振
源として搬送速度によって異なる振動周波数を持つ。
源として搬送速度によって異なる振動周波数を持つ。
【0030】この搬送駆動機構部6の振動周波数が、搬
送アーム7の複数ある振動モードの周波数のいずれかと
一致したとき、搬送アーム7は共振し搬送アーム7及び
ワーク1は振動する。
送アーム7の複数ある振動モードの周波数のいずれかと
一致したとき、搬送アーム7は共振し搬送アーム7及び
ワーク1は振動する。
【0031】上記振動が発生した際、搬送アーム7に取
付けた重り8の位置を調整することにより、上記振動を
回避することができる。
付けた重り8の位置を調整することにより、上記振動を
回避することができる。
【0032】
【発明の効果】本発明によれば複数の任意の速度におい
て共振現象による振動をを発生させることなくワーク1
を搬送することができる。
て共振現象による振動をを発生させることなくワーク1
を搬送することができる。
【0033】ワーク1及び搬送アーム7a,7b,7c
の振動はミストの発生、残留水分による乾燥シミの発生
の原因になるので、上記振動を回避することにより安定
した搬送性能を得ることができる。
の振動はミストの発生、残留水分による乾燥シミの発生
の原因になるので、上記振動を回避することにより安定
した搬送性能を得ることができる。
【0034】またワーク1の脱落や、搬送アーム7a,
7b,7cの他構造部への接触を起こすことなく、安定
した搬送を行うことができる。
7b,7cの他構造部への接触を起こすことなく、安定
した搬送を行うことができる。
【図1】本発明の一実施例である搬送アームを持つ乾燥
ユニットの、要部構成概略図である。
ユニットの、要部構成概略図である。
【図2】従来例の搬送アームを示す図である。
【図3】本発明の他の一実施例を示す図である。
【図4】本発明のさらに他の一実施例を示す図である。
1…ワーク、2…温浴槽、3…液体、4…ノズル、5…
ヒータ、6…搬送駆動機構部、7…搬送アーム、8…重
り、9…支点。
ヒータ、6…搬送駆動機構部、7…搬送アーム、8…重
り、9…支点。
Claims (5)
- 【請求項1】乾燥ユニットと、搬送駆動機構部と、この
送駆動機構部で動かされ乾燥ユニットに被洗浄乾燥物で
あるワークの出し入れを行なうアームとを備えている洗
浄乾燥装置において、アームに共振防止用の重りを設け
たことを特徴とする洗浄乾燥装置。 - 【請求項2】請求項1において、アームの長手方向に調
整移動できるように重りを設けたことを特徴とする洗浄
乾燥装置。 - 【請求項3】請求項1あるいは請求項2において、乾燥
ユニットに温浴槽と乾燥室を備え、乾燥室が上側になる
ように上下に並べて配置したことを特徴とする洗浄乾燥
装置。 - 【請求項4】請求項3において温浴槽と乾燥室が連続す
るように形成したことを特徴とする洗浄乾燥装置。 - 【請求項5】請求項4において、温浴槽と乾燥室内を移
動できるようにアームを配置したことを特徴とする洗浄
乾燥装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4638291A JPH04283925A (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | 洗浄乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4638291A JPH04283925A (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | 洗浄乾燥装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04283925A true JPH04283925A (ja) | 1992-10-08 |
Family
ID=12745594
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4638291A Pending JPH04283925A (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | 洗浄乾燥装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04283925A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002164319A (ja) * | 2000-06-27 | 2002-06-07 | Interuniv Micro Electronica Centrum Vzw | 基板の液体処理方法及び乾燥処理方法 |
-
1991
- 1991-03-12 JP JP4638291A patent/JPH04283925A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002164319A (ja) * | 2000-06-27 | 2002-06-07 | Interuniv Micro Electronica Centrum Vzw | 基板の液体処理方法及び乾燥処理方法 |
JP4629270B2 (ja) * | 2000-06-27 | 2011-02-09 | アイメック | 基板の液体処理方法及び乾燥処理方法 |
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