JPH04281235A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
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- JPH04281235A JPH04281235A JP3143452A JP14345291A JPH04281235A JP H04281235 A JPH04281235 A JP H04281235A JP 3143452 A JP3143452 A JP 3143452A JP 14345291 A JP14345291 A JP 14345291A JP H04281235 A JPH04281235 A JP H04281235A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- Y10T428/31678—Of metal
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は光情報記録媒体に関す
る。
る。
【0002】
【従来の技術】レーザー光によって、情報の書込み及び
/または読出しを行うための光情報記録媒体は、光学的
動画像用ディスクや光学的オーディオディスク、書込み
型ディスク等として広く知られている。
/または読出しを行うための光情報記録媒体は、光学的
動画像用ディスクや光学的オーディオディスク、書込み
型ディスク等として広く知られている。
【0003】このような光情報記録媒体に於いて、レー
ザー光が集光照射される記録層を保護する方法として、
エアーサンドイッチ方式や保護層の設置等が知られてい
る。また、記録層に集光されるべきレーザー光が照射さ
れる外表面部分に於ける、レーザー光の反射を防止する
ために、上記外表面部分に反射防止膜を設けることも知
られている(特開昭59−79445号公報)。
ザー光が集光照射される記録層を保護する方法として、
エアーサンドイッチ方式や保護層の設置等が知られてい
る。また、記録層に集光されるべきレーザー光が照射さ
れる外表面部分に於ける、レーザー光の反射を防止する
ために、上記外表面部分に反射防止膜を設けることも知
られている(特開昭59−79445号公報)。
【0004】光情報記録媒体に於いて、記録層を支持す
る基板は、ポリカーボネイト樹脂やアクリル樹脂等のプ
ラスチックやガラス等、一般に誘電性の材料で形成され
る。このため光情報記録媒体は一般に帯電し易い。光情
報記録媒体が帯電すると、微小な塵が静電気により外表
面部に付着して、情報の書込みや読出しの妨げになるし
、帯電電荷が電子回路の誤動作の原因と成ったりする。 このような光情報記録媒体の帯電を防止する目的で、光
情報記録媒体の外表面部分に帯電防止膜を設けることが
提案されている(特開昭60−239946号公報)。
る基板は、ポリカーボネイト樹脂やアクリル樹脂等のプ
ラスチックやガラス等、一般に誘電性の材料で形成され
る。このため光情報記録媒体は一般に帯電し易い。光情
報記録媒体が帯電すると、微小な塵が静電気により外表
面部に付着して、情報の書込みや読出しの妨げになるし
、帯電電荷が電子回路の誤動作の原因と成ったりする。 このような光情報記録媒体の帯電を防止する目的で、光
情報記録媒体の外表面部分に帯電防止膜を設けることが
提案されている(特開昭60−239946号公報)。
【0005】上記のように、光情報記録媒体の外表面部
分は、反射防止機能と帯電防止機能とを合わせ持つこと
が望ましい訳であるが、従来これら両機能を持った光情
報記録媒体は知られていない。
分は、反射防止機能と帯電防止機能とを合わせ持つこと
が望ましい訳であるが、従来これら両機能を持った光情
報記録媒体は知られていない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、上述した
事情に鑑みてなされたものであって、その目的とする所
は、外表面部分が反射防止機能と帯電防止機能とを持っ
た、新規な光情報記録媒体の提供にある。
事情に鑑みてなされたものであって、その目的とする所
は、外表面部分が反射防止機能と帯電防止機能とを持っ
た、新規な光情報記録媒体の提供にある。
【0007】
【課題を解決するための手段】以下、この発明を説明す
る。
る。
【0008】請求項1の光情報記録媒体は「レーザー光
によって情報の書込み及び/または読出しを行う」ため
のものであって「記録層に集光されるべきレーザー光が
照射される外表面部分に反射防止層構造を形成してなり
、上記反射防止層構造が1層以上の透明導電膜を含む」
ことを特徴とする。
によって情報の書込み及び/または読出しを行う」ため
のものであって「記録層に集光されるべきレーザー光が
照射される外表面部分に反射防止層構造を形成してなり
、上記反射防止層構造が1層以上の透明導電膜を含む」
ことを特徴とする。
【0009】即ち、レーザー光は光情報記録媒体の「外
表面部分」を介して、記録層に集光照射される訳である
が、この外表面部分に「反射防止層構造」が形成される
。 「反射防止層構造」は複層構造として構成され、反射防
止層構造を構成する複数の膜の内に、1層以上の透明導
電膜が含まれるのである。透明導電膜における「透明」
とは、この膜が、記録層に集光照射されるレーザー光に
対して透明であることを意味する。
表面部分」を介して、記録層に集光照射される訳である
が、この外表面部分に「反射防止層構造」が形成される
。 「反射防止層構造」は複層構造として構成され、反射防
止層構造を構成する複数の膜の内に、1層以上の透明導
電膜が含まれるのである。透明導電膜における「透明」
とは、この膜が、記録層に集光照射されるレーザー光に
対して透明であることを意味する。
【0010】反射防止層構造中において、透明導電膜が
設けられる位置は任意である。従って反射防止層構造に
於いて、「最も記録層に近い膜」として透明導電膜が設
けられても良いし、透明導電膜が「反射防止膜に挟まれ
て」形成されてもよく、あるいは反射防止層構造の表面
として「直接外部に露呈された部分」として形成されて
も良い。反射防止層構造の各層は、蒸着またはスパッタ
リング、イオンプレーティング等の真空成膜プロセスに
より形成できる。
設けられる位置は任意である。従って反射防止層構造に
於いて、「最も記録層に近い膜」として透明導電膜が設
けられても良いし、透明導電膜が「反射防止膜に挟まれ
て」形成されてもよく、あるいは反射防止層構造の表面
として「直接外部に露呈された部分」として形成されて
も良い。反射防止層構造の各層は、蒸着またはスパッタ
リング、イオンプレーティング等の真空成膜プロセスに
より形成できる。
【0011】反射防止層構造は、種々の構成のものが可
能であるが、「レーザー波長λに対してλ/4の厚さを
持つSiO2の層、λ/2の厚さを持つIn2O3の層
、λ/4の厚さを持つSiOの層を、空気に接する側か
ら記録媒体表面(反射防止層構造が形成される面)側へ
向かって、上記順序に積層してなる」3層構造のもの(
請求項2)は好適なものの一つである。
能であるが、「レーザー波長λに対してλ/4の厚さを
持つSiO2の層、λ/2の厚さを持つIn2O3の層
、λ/4の厚さを持つSiOの層を、空気に接する側か
ら記録媒体表面(反射防止層構造が形成される面)側へ
向かって、上記順序に積層してなる」3層構造のもの(
請求項2)は好適なものの一つである。
【0012】また、「レーザー波長λに対して(λ/4
)×(0.9〜1.6)の厚さを持ち、屈折率が1.2
〜1.9の範囲にある層」と、「金属を含み、(λ/2
)×(0.1〜1.5)の厚さを持ち、屈折率が1.5
〜2.5の範囲にある層」と、「(λ/4)×(0.7
5〜1.6)の厚さを持ち、屈折率が1.2〜1.9の
範囲にある層」とを、空気に接する側から記録媒体表面
側へ向かって上記順序に積層してなる3層構造のもの(
請求項3)も好適なものの一つである。
)×(0.9〜1.6)の厚さを持ち、屈折率が1.2
〜1.9の範囲にある層」と、「金属を含み、(λ/2
)×(0.1〜1.5)の厚さを持ち、屈折率が1.5
〜2.5の範囲にある層」と、「(λ/4)×(0.7
5〜1.6)の厚さを持ち、屈折率が1.2〜1.9の
範囲にある層」とを、空気に接する側から記録媒体表面
側へ向かって上記順序に積層してなる3層構造のもの(
請求項3)も好適なものの一つである。
【0013】さらに、「レーザー波長λに対して(λ/
4)×(0.75〜1.6)の厚さを持ち、屈折率が1
.2〜1.7の範囲にある層」と、「(λ/4)×(0
.1〜2.2)の厚さを持ち、屈折率が1.7〜2.5
の範囲にある層」とを、空気に接する側から記録媒体表
面側へ向かって上記順序に積層してなる2層構造のもの
(請求項4)も好適なものの一つである。
4)×(0.75〜1.6)の厚さを持ち、屈折率が1
.2〜1.7の範囲にある層」と、「(λ/4)×(0
.1〜2.2)の厚さを持ち、屈折率が1.7〜2.5
の範囲にある層」とを、空気に接する側から記録媒体表
面側へ向かって上記順序に積層してなる2層構造のもの
(請求項4)も好適なものの一つである。
【0014】反射防止層構造を形成される光情報記録媒
体は、情報の書き込みと読出しとを行うものでも、情報
の書き込みのみ、もしくは読出しのみを行うものでも良
いが、上記反射防止層構造は、「読出すべき情報を記録
した記録層が、記録情報に応じて凹凸を有する金属薄膜
反射型の記録層として形成された、情報読出し専用の光
情報記録媒体」に、好適に形成することができる(請求
項5)。
体は、情報の書き込みと読出しとを行うものでも、情報
の書き込みのみ、もしくは読出しのみを行うものでも良
いが、上記反射防止層構造は、「読出すべき情報を記録
した記録層が、記録情報に応じて凹凸を有する金属薄膜
反射型の記録層として形成された、情報読出し専用の光
情報記録媒体」に、好適に形成することができる(請求
項5)。
【0015】また、記録層に記録される情報は、一般的
な情報のほか、音声情報でも映像情報でも、これら両者
でも良く(請求項6)、従って、この発明は市販の所謂
CDやLDに対して適用できる。
な情報のほか、音声情報でも映像情報でも、これら両者
でも良く(請求項6)、従って、この発明は市販の所謂
CDやLDに対して適用できる。
【0016】
【作用】図1は、光学的オーディオディスクに多く用い
られる、片面記録型の光情報記録媒体に、この発明を適
用した例を示している。この光情報記録媒体はディスク
状に形成され、中心孔6を駆動軸に嵌合させて回転駆動
される。符号7は中心軸を示す。
られる、片面記録型の光情報記録媒体に、この発明を適
用した例を示している。この光情報記録媒体はディスク
状に形成され、中心孔6を駆動軸に嵌合させて回転駆動
される。符号7は中心軸を示す。
【0017】記録層2は、基板1の片面に形成され、記
録層2の上には保護層3が形成されている。レーザー光
は、保護層3の側から照射されて、記録層2に集光照射
される。そして、保護層3の上、即ち光情報記録媒体の
レーザー光が照射される外表面部分に、反射防止層構造
4が設けられている。
録層2の上には保護層3が形成されている。レーザー光
は、保護層3の側から照射されて、記録層2に集光照射
される。そして、保護層3の上、即ち光情報記録媒体の
レーザー光が照射される外表面部分に、反射防止層構造
4が設けられている。
【0018】図2は、エアーサンドイッチ構造の光情報
記録媒体に、この発明を適用した例を示している。この
例でも、光情報記録媒体はデイスク状であり、中心孔6
を駆動軸に嵌合させて回転駆動される。符号7は、図1
に於けると同じく中心軸を示す。この例では、記録層2
Aを形成された基板1Aと、記録層2Bを形成された基
板1Bとが、記録層同士を近接対向させて一体化されて
いる。符号5はスペーサーを示す。レーザー光は、基板
1Aもしくは1B(ともにレーザー光に対して透明であ
る)を介して記録層2Aもしくは2Bに集光照射される
。
記録媒体に、この発明を適用した例を示している。この
例でも、光情報記録媒体はデイスク状であり、中心孔6
を駆動軸に嵌合させて回転駆動される。符号7は、図1
に於けると同じく中心軸を示す。この例では、記録層2
Aを形成された基板1Aと、記録層2Bを形成された基
板1Bとが、記録層同士を近接対向させて一体化されて
いる。符号5はスペーサーを示す。レーザー光は、基板
1Aもしくは1B(ともにレーザー光に対して透明であ
る)を介して記録層2Aもしくは2Bに集光照射される
。
【0019】そこで、この場合には、レーザー光の照射
される外表面部、即ち、基板1A,1Bの「記録層2A
,2Bを設けられたのとは反対側の面」に反射防止層構
造4A,4Bが設けられる。
される外表面部、即ち、基板1A,1Bの「記録層2A
,2Bを設けられたのとは反対側の面」に反射防止層構
造4A,4Bが設けられる。
【0020】光情報記録媒体の他の構造例としては、図
5乃至7に示すようなものを挙げることができる。
5乃至7に示すようなものを挙げることができる。
【0021】図5の例は、レーザー光に対して透明な基
板1Cの片面に、記録層2と保護層3とを、保護層3A
が表面側になるように形成し、他面に反射防止層構造4
を形成し、レーザー光Lを反射防止層構造4と基板1と
を介して記録層2に集光照射するようにしたものである
。
板1Cの片面に、記録層2と保護層3とを、保護層3A
が表面側になるように形成し、他面に反射防止層構造4
を形成し、レーザー光Lを反射防止層構造4と基板1と
を介して記録層2に集光照射するようにしたものである
。
【0022】図6の例は、レーザー光に対して透明な基
板1C,1Dの片面に、記録層2C,2Dをそれぞれ設
け、他面に反射防止層構造4C,4Dをそれぞれ設けた
ものを、記録層2C,2D同士を近接させるようにして
、接着剤層8により一体化した、所謂「密着サンドイッ
チ構造」のものである。
板1C,1Dの片面に、記録層2C,2Dをそれぞれ設
け、他面に反射防止層構造4C,4Dをそれぞれ設けた
ものを、記録層2C,2D同士を近接させるようにして
、接着剤層8により一体化した、所謂「密着サンドイッ
チ構造」のものである。
【0023】図7の例では、レーザー光に対して透明な
基板1C,1Dの片面に記録層2C,2D、他面に反射
防止層構造4C,4Dをそれぞれ設けられたものが、ス
ペーサー5A,5Bを介して、各記録層2C,2Dを近
接対向させて一体化されたエアーサンドイッチ構造とな
っている。これら図6,7の例でも、レーザー光Lは反
射防止層構造と基板とを介して記録層に集光照射される
。
基板1C,1Dの片面に記録層2C,2D、他面に反射
防止層構造4C,4Dをそれぞれ設けられたものが、ス
ペーサー5A,5Bを介して、各記録層2C,2Dを近
接対向させて一体化されたエアーサンドイッチ構造とな
っている。これら図6,7の例でも、レーザー光Lは反
射防止層構造と基板とを介して記録層に集光照射される
。
【0024】基板1,1A,1B,1C,1Dはポリ塩
化ビニルやアクリル、ポリカーボネイト等のプラスチッ
ク樹脂やガラスにより構成される。記録層2,2A,2
B,2C,2Dは、Al,Au,Te,Bi等の金属や
、色素、相変化記録材料等で形成される。図1の構造で
は保護層3はレーザー光に対して透明であるが、図5の
構造においては、保護膜3Aはレーザー光に対して透明
である必要はない。
化ビニルやアクリル、ポリカーボネイト等のプラスチッ
ク樹脂やガラスにより構成される。記録層2,2A,2
B,2C,2Dは、Al,Au,Te,Bi等の金属や
、色素、相変化記録材料等で形成される。図1の構造で
は保護層3はレーザー光に対して透明であるが、図5の
構造においては、保護膜3Aはレーザー光に対して透明
である必要はない。
【0025】反射防止層構造は、保護層3や基板1,1
A,1B,1C,1Dの屈折率に基づき、従来、光学部
品等に於いて広く行われている「反射防止膜の設計理論
」に則り、それぞれ独自の屈折率を持つ、フッ化マグネ
シウム、一酸化珪素、二酸化珪素、酸化チタン、酸化セ
リウム、酸化アルミニウム等、従来の光学部品の反射防
止膜として用いられている透明絶縁性材料による膜と、
n=2前後の屈折率をもつIn2O3,ITO,SnO
2,ZnO等の無機材料による透明導電膜とを組合せて
構成する。このような反射防止層構造に於いては、層構
造を構成する各膜が薄いため、たとえ透明導電膜が外部
に直接露呈しなくても十分な帯電防止効果を実現できる
。
A,1B,1C,1Dの屈折率に基づき、従来、光学部
品等に於いて広く行われている「反射防止膜の設計理論
」に則り、それぞれ独自の屈折率を持つ、フッ化マグネ
シウム、一酸化珪素、二酸化珪素、酸化チタン、酸化セ
リウム、酸化アルミニウム等、従来の光学部品の反射防
止膜として用いられている透明絶縁性材料による膜と、
n=2前後の屈折率をもつIn2O3,ITO,SnO
2,ZnO等の無機材料による透明導電膜とを組合せて
構成する。このような反射防止層構造に於いては、層構
造を構成する各膜が薄いため、たとえ透明導電膜が外部
に直接露呈しなくても十分な帯電防止効果を実現できる
。
【0026】また、請求項2の「レーザー波長λに対し
てλ/4の厚さを持つSiO2の層、λ/2の厚さを持
つIn2O3の層、λ/4の厚さを持つSiOの層を、
空気に接する側から記録媒体表面側へ向かって上記順序
に積層してなる」3層構造の反射防止層構造は、反射防
止の効果に優れるのみならず、機械的強度が大きいため
、光情報記録媒体の外表面を保護する働きもする。
てλ/4の厚さを持つSiO2の層、λ/2の厚さを持
つIn2O3の層、λ/4の厚さを持つSiOの層を、
空気に接する側から記録媒体表面側へ向かって上記順序
に積層してなる」3層構造の反射防止層構造は、反射防
止の効果に優れるのみならず、機械的強度が大きいため
、光情報記録媒体の外表面を保護する働きもする。
【0027】請求項3の、「レーザー波長λに対して(
λ/4)×(0.9〜1.6)の厚さを持ち、屈折率が
1.2〜1.9の範囲にある層」と、「金属を含み、(
λ/2)×(0.1〜1.5)の厚さを持ち、屈折率が
1.5〜2.5の範囲にある層」と、「(λ/4)×(
0.75〜1.6)の厚さを持ち、屈折率が1.2〜1
.9の範囲にある層」とを、空気に接する側から記録媒
体表面側へ向かって上記順序に積層してなる反射防止層
構造も、反射防止効果に優れ、金属を含む真中の層が優
れた帯電防止効果を示す。
λ/4)×(0.9〜1.6)の厚さを持ち、屈折率が
1.2〜1.9の範囲にある層」と、「金属を含み、(
λ/2)×(0.1〜1.5)の厚さを持ち、屈折率が
1.5〜2.5の範囲にある層」と、「(λ/4)×(
0.75〜1.6)の厚さを持ち、屈折率が1.2〜1
.9の範囲にある層」とを、空気に接する側から記録媒
体表面側へ向かって上記順序に積層してなる反射防止層
構造も、反射防止効果に優れ、金属を含む真中の層が優
れた帯電防止効果を示す。
【0028】レーザー光は、波長変動範囲が小さいため
、上記組合せによりレーザーの波長変動をカバーする程
度の狭い波長領域での反射防止効果でも十分であるから
、各層の厚さは薄くてよく、従って短い成膜時間で反射
防止層構造を形成でき、生産性も良い。
、上記組合せによりレーザーの波長変動をカバーする程
度の狭い波長領域での反射防止効果でも十分であるから
、各層の厚さは薄くてよく、従って短い成膜時間で反射
防止層構造を形成でき、生産性も良い。
【0029】
【実施例】以下、実施例を説明する。
【0030】図3は、図1に示すような、片面記録型の
光情報記録媒体に、この発明を実施した例を示す。保護
層3上に設けられた反射防止層構造4は、透明導電膜A
と反射防止膜Bとにより構成されている。保護層3上に
直接設けられ、従って記録層2に近い透明導電膜Aは、
高屈折率薄膜(λ/4)であり、反射防止膜Bは低屈折
率薄膜(λ/4)である。
光情報記録媒体に、この発明を実施した例を示す。保護
層3上に設けられた反射防止層構造4は、透明導電膜A
と反射防止膜Bとにより構成されている。保護層3上に
直接設けられ、従って記録層2に近い透明導電膜Aは、
高屈折率薄膜(λ/4)であり、反射防止膜Bは低屈折
率薄膜(λ/4)である。
【0031】図4も、図1に示すような片面記録型の光
情報記録媒体に、この発明を実施した例を示す。反射防
止層構造4は、透明導電膜Aと反射防止膜B,B’とに
より3層に構成されている。保護層3上には、反射防止
膜B’が低屈折率薄膜(λ/4)としてもうけられ、そ
の上に高屈折率薄膜(λ/2)として設けられた透明導
電膜Aは、更にその上に低屈折率薄膜(λ/4)として
設けられた反射防止膜Bと上記反射防止膜B’とにより
挟まれている。
情報記録媒体に、この発明を実施した例を示す。反射防
止層構造4は、透明導電膜Aと反射防止膜B,B’とに
より3層に構成されている。保護層3上には、反射防止
膜B’が低屈折率薄膜(λ/4)としてもうけられ、そ
の上に高屈折率薄膜(λ/2)として設けられた透明導
電膜Aは、更にその上に低屈折率薄膜(λ/4)として
設けられた反射防止膜Bと上記反射防止膜B’とにより
挟まれている。
【0032】この3層構造の反射防止層構造の場合、透
明導電膜Aの抵抗を102Ω/□程度とすると、反射防
止層構造の表面での抵抗は106Ω/□程度であった。 帯電防止上有効な表面抵抗は、108〜109Ω/□以
下であるから、上記の3層構造の実施例のように、透明
導電膜が電気絶縁性の反射防止膜に挟まれている場合に
も、十分な帯電防止効果が得られる。
明導電膜Aの抵抗を102Ω/□程度とすると、反射防
止層構造の表面での抵抗は106Ω/□程度であった。 帯電防止上有効な表面抵抗は、108〜109Ω/□以
下であるから、上記の3層構造の実施例のように、透明
導電膜が電気絶縁性の反射防止膜に挟まれている場合に
も、十分な帯電防止効果が得られる。
【0033】勿論、図2のエアーサンドイッチ型の光情
報記録媒体の、両方の外表面部分に図3、図4に即して
説明したような反射防止層構造を形成できることは言う
迄もない。
報記録媒体の、両方の外表面部分に図3、図4に即して
説明したような反射防止層構造を形成できることは言う
迄もない。
【0034】図8,9に示す例(煩雑を避けるため、図
3,4,5におけると同一の符号を用いた)では、記録
層2と反射防止層構造4とは、図2,図5,図6,図7
の光情報記録媒体におけるように、基板の互いに反対側
の面に形成されている。
3,4,5におけると同一の符号を用いた)では、記録
層2と反射防止層構造4とは、図2,図5,図6,図7
の光情報記録媒体におけるように、基板の互いに反対側
の面に形成されている。
【0035】図8の例では、反射防止層構造4は図3の
例と同じく、透明導電膜Aと反射防止膜Bとにより構成
されている。基板1を介して記録層2に最も近い透明導
電膜Aは、高屈折率薄膜(膜厚:λ/4〜λ/2)であ
り、反射防止膜Bは低屈折率薄膜(膜厚:λ/4)であ
る。
例と同じく、透明導電膜Aと反射防止膜Bとにより構成
されている。基板1を介して記録層2に最も近い透明導
電膜Aは、高屈折率薄膜(膜厚:λ/4〜λ/2)であ
り、反射防止膜Bは低屈折率薄膜(膜厚:λ/4)であ
る。
【0036】図9の例では、反射防止層構造4は図4の
例と同じく、透明導電膜Aと反射防止膜B,B’とによ
り3層に構成されている。基板1上に直接形成され基板
を介して記録層2に最も近い反射防止膜B’は低屈折率
薄膜(膜厚:λ/4)、その上に設けられた透明導電膜
Aは高屈折率薄膜(膜厚:λ/2)、更にその上に設け
られた反射防止膜Bは低屈折率薄膜(膜厚:λ/4)で
ある。
例と同じく、透明導電膜Aと反射防止膜B,B’とによ
り3層に構成されている。基板1上に直接形成され基板
を介して記録層2に最も近い反射防止膜B’は低屈折率
薄膜(膜厚:λ/4)、その上に設けられた透明導電膜
Aは高屈折率薄膜(膜厚:λ/2)、更にその上に設け
られた反射防止膜Bは低屈折率薄膜(膜厚:λ/4)で
ある。
【0037】図4や図9に示した、3層構造の反射防止
層構造に関する、より具体的な例を以下に説明する。こ
の例は、請求項2の光情報記録媒体の実施例になってい
る。ポリカーボネイトの基板上に、アルミニウムによる
反射型の記録層を有し、この記録層の凹凸により情報を
記録された、市販の光学的オーディオディスクの外表面
に「レーザー波長λ=780nmに対してλ/4の厚さ
を持つSiO2の層、λ/2の厚さを持つIn2O3の
層、λ/4の厚さを持つSiOの層」を、空気に接する
側から記録媒体表面側へ向かって上記順序に積層して反
射防止層構造を形成した。各層はプラズマ蒸着により形
成した。この反射防止層構造において、空気と接するの
はSiO2の層である。
層構造に関する、より具体的な例を以下に説明する。こ
の例は、請求項2の光情報記録媒体の実施例になってい
る。ポリカーボネイトの基板上に、アルミニウムによる
反射型の記録層を有し、この記録層の凹凸により情報を
記録された、市販の光学的オーディオディスクの外表面
に「レーザー波長λ=780nmに対してλ/4の厚さ
を持つSiO2の層、λ/2の厚さを持つIn2O3の
層、λ/4の厚さを持つSiOの層」を、空気に接する
側から記録媒体表面側へ向かって上記順序に積層して反
射防止層構造を形成した。各層はプラズマ蒸着により形
成した。この反射防止層構造において、空気と接するの
はSiO2の層である。
【0038】この反射防止層構造の形成により、光情報
記録媒体の外表面による反射率は、反射防止層形成前の
5%から1%に減少し、記録層での反射光量が増加して
、情報読取りの信頼性が向上した。
記録媒体の外表面による反射率は、反射防止層形成前の
5%から1%に減少し、記録層での反射光量が増加して
、情報読取りの信頼性が向上した。
【0039】読取りの信頼性の向上は、光学的オーディ
オディスクから再生される音の音質に顕著な改善をもた
らした。即ち、市販されているCDとLDに反射防止層
構造を形成したものと、形成しないものにつき、再生音
・像の視聴覚検査を行ったところ、以下に示す如き結果
となった。即ち、以下の表はA,B,C,D,Eの5人
の視聴者による視聴覚検査の結果である。◎は顕著に差
が認められる場合、○は差が認められる場合、△は差が
認められない場合である。
オディスクから再生される音の音質に顕著な改善をもた
らした。即ち、市販されているCDとLDに反射防止層
構造を形成したものと、形成しないものにつき、再生音
・像の視聴覚検査を行ったところ、以下に示す如き結果
となった。即ち、以下の表はA,B,C,D,Eの5人
の視聴者による視聴覚検査の結果である。◎は顕著に差
が認められる場合、○は差が認められる場合、△は差が
認められない場合である。
【0040】
表試料 A B C D E
主要コメント1 ○ ○ ○ ○ ○
バイオリンの高音の抜けが良くなる2 ○
○ ○ ○ ○ 音像定位がはっきりし、低音
が柔らかく厚くなる3 ◎ ○ ○ ◎
◎ 音像に立体感がある4 ○ △ ○
○ ○ ボーカルに立体感、定位・ローレベル
の再生良好5 △ ○ ○ △ △
ボーカルが良い6 ○ △ △ △ △
定位がはっきりし、バックのローレベルが向上7
○ △ ◎ ○ ◎ 8 ◎
△ ◎ ○ ◎ シンセサイザーの音が澄む
9 ◎ △ ◎ ○ ◎ バックのピ
アノの伴奏が鮮明10 ◎ △ ◎ ○ ◎
ボーカル明瞭
。
表試料 A B C D E
主要コメント1 ○ ○ ○ ○ ○
バイオリンの高音の抜けが良くなる2 ○
○ ○ ○ ○ 音像定位がはっきりし、低音
が柔らかく厚くなる3 ◎ ○ ○ ◎
◎ 音像に立体感がある4 ○ △ ○
○ ○ ボーカルに立体感、定位・ローレベル
の再生良好5 △ ○ ○ △ △
ボーカルが良い6 ○ △ △ △ △
定位がはっきりし、バックのローレベルが向上7
○ △ ◎ ○ ◎ 8 ◎
△ ◎ ○ ◎ シンセサイザーの音が澄む
9 ◎ △ ◎ ○ ◎ バックのピ
アノの伴奏が鮮明10 ◎ △ ◎ ○ ◎
ボーカル明瞭
。
【0041】この表から明らかなように、反射防止層構
造により、再生音・像の質が向上していることが分かる
。また、形成された上記反射防止層構造は堅牢性に富み
、表面硬度は鉛筆試験で5H以上の結果が得られた。
造により、再生音・像の質が向上していることが分かる
。また、形成された上記反射防止層構造は堅牢性に富み
、表面硬度は鉛筆試験で5H以上の結果が得られた。
【0042】上記3層の反射防止層構造のSiO2をM
gF2に代えた構成の反射防止層構造でも、上記と略同
様の結果が得られた。
gF2に代えた構成の反射防止層構造でも、上記と略同
様の結果が得られた。
【0043】また、請求項3の光情報記録媒体の実施例
として、市販されているCD及びLDの外表面に、「レ
ーザー波長λ=780nmに対して(λ/4)×(0.
9〜1.6)の厚さを持つSiO2の層、(λ/2)×
(0.1〜1.5)の厚さを持つIn2O3の層、(λ
/4)×(0.75〜1.6)の厚さを持つSiOの層
」を、空気に接する側から記録媒体表面側へ向かって上
記順序に積層形成したところ、光情報記録媒体表面での
反射率は1%以下となり、表面電気抵抗率も108Ω/
□以下であった。
として、市販されているCD及びLDの外表面に、「レ
ーザー波長λ=780nmに対して(λ/4)×(0.
9〜1.6)の厚さを持つSiO2の層、(λ/2)×
(0.1〜1.5)の厚さを持つIn2O3の層、(λ
/4)×(0.75〜1.6)の厚さを持つSiOの層
」を、空気に接する側から記録媒体表面側へ向かって上
記順序に積層形成したところ、光情報記録媒体表面での
反射率は1%以下となり、表面電気抵抗率も108Ω/
□以下であった。
【0044】上記各実施例とも、塵埃試験において、塵
埃の付着は殆どなかった。
埃の付着は殆どなかった。
【0045】
【発明の効果】以上、この発明によれば新規な光情報記
録媒体を提供できる。この光情報記録媒体は上記の如く
、レーザー光を照射される外表面部分が反射防止機能と
帯電防止機能とを有するので、外表面部分によるレーザ
ー光反射や、光情報記録媒体の帯電に伴う諸問題を有効
に解決でき、情報の書込み・読出しの信頼性を向上させ
ることができる。
録媒体を提供できる。この光情報記録媒体は上記の如く
、レーザー光を照射される外表面部分が反射防止機能と
帯電防止機能とを有するので、外表面部分によるレーザ
ー光反射や、光情報記録媒体の帯電に伴う諸問題を有効
に解決でき、情報の書込み・読出しの信頼性を向上させ
ることができる。
【0046】なお、実施例では反射防止膜と透明導電膜
の屈折率の関係を一般の反射防止条件に合わせて設定し
たが、光情報記録媒体で対象となるレーザー光は波長域
が狭いため、従来からフィルター用に用いられているV
コート等、レーザーの波長域に対して反射防止となる材
料、膜厚を選択するなど、基本的には反射防止と帯電防
止を実現できる構成であれば良い。
の屈折率の関係を一般の反射防止条件に合わせて設定し
たが、光情報記録媒体で対象となるレーザー光は波長域
が狭いため、従来からフィルター用に用いられているV
コート等、レーザーの波長域に対して反射防止となる材
料、膜厚を選択するなど、基本的には反射防止と帯電防
止を実現できる構成であれば良い。
【0047】また、従来から、薄膜コーティングの分野
で、薄膜相互の密着性を高めるために中間層を設けたり
、保護膜を設けたりすることが行われているが、この発
明に於いても、必要に応じて反射防止層構造中に中間層
を設けたり、反射防止層構造に保護膜を形成して良い。
で、薄膜相互の密着性を高めるために中間層を設けたり
、保護膜を設けたりすることが行われているが、この発
明に於いても、必要に応じて反射防止層構造中に中間層
を設けたり、反射防止層構造に保護膜を形成して良い。
【図1】光情報記録媒体の構造の1例を示す図である。
【図2】光情報記録媒体の構造の別例を示す図である。
【図3】1実施例を説明するための図である。
【図4】別実施例を説明するための図である。
【図5】光情報記録媒体の構造の他の例を示す図である
。
。
【図6】光情報記録媒体の構造の更に他の例を示す図で
ある。
ある。
【図7】光情報記録媒体の構造の更に他の例を示す図で
ある。
ある。
【図8】他の実施例を説明するための図である。
【図9】更に他の実施例を説明するための図である。
1 基板
2 記録層
3 保護層
4 反射防止層構造
5,5A,5B スペーサー8
接着剤層 A 透明導電膜 B,B’ 反射防止膜 L レーザー光
接着剤層 A 透明導電膜 B,B’ 反射防止膜 L レーザー光
Claims (6)
- 【請求項1】レーザー光によって情報の書込み及び/ま
たは読出しを行うための光情報記録媒体であって、記録
層に集光されるべきレーザー光が照射される外表面部分
に反射防止層構造を形成してなり、上記反射防止層構造
が1層以上の透明導電膜を含むことを特徴とする光情報
記録媒体。 - 【請求項2】請求項1において、反射防止層構造が、レ
ーザー波長λに対してλ/4の厚さを持つSiO2の層
、λ/2の厚さを持つIn2O3の層、λ/4の厚さを
持つSiOの層を、空気に接する側から記録媒体表面側
へ向かって上記順序に積層してなることを特徴とする光
情報記録媒体。 - 【請求項3】請求項1において、反射防止層構造が、レ
ーザー波長λに対して(λ/4)×(0.9〜1.6)
の厚さを持ち屈折率が1.2〜1.9の範囲にある層と
、金属を含み(λ/2)×(0.1〜1.5)の厚さを
持ち屈折率が1.5〜2.5の範囲にある層と、(λ/
4)×(0.75〜1.6)の厚さを持ち屈折率が1.
2〜1.9の範囲にある層とを、空気に接する側から記
録媒体表面側へ向かって上記順序に積層してなることを
特徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項4】請求項1において、反射防止層構造が、レ
ーザー波長λに対して(λ/4)×(0.75〜1.6
)の厚さを持ち、屈折率が1.2〜1.7の範囲にある
層と、(λ/4)×(0.1〜2.2)の厚さを持ち、
屈折率が1.7〜2.5の範囲にある層とを、空気に接
する側から記録媒体表面側へ向かって上記順序に積層し
てなることを特徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項5】読出すべき情報を記録した記録層が、記録
情報に応じて凹凸を有する金属薄膜反射型の記録層であ
り、反射防止層構造が、上記記録層に集光されるべきレ
ーザー光が照射される外表面部分に形成されたことを特
徴とする、請求項1または2または3または4の光情報
記録媒体。 - 【請求項6】記録層に記録される情報が音声情報および
/または映像情報であることを特徴とする、請求項1ま
たは2または3または4または5の光情報記録媒体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14345291A JP3069149B2 (ja) | 1990-07-09 | 1991-06-14 | 光情報記録媒体 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP18105290 | 1990-07-09 | ||
JP2-181052 | 1990-07-09 | ||
JP3-14866 | 1991-01-14 | ||
JP1486691 | 1991-01-14 | ||
JP14345291A JP3069149B2 (ja) | 1990-07-09 | 1991-06-14 | 光情報記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04281235A true JPH04281235A (ja) | 1992-10-06 |
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Family
ID=27280801
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country | Link |
---|---|
US (1) | US5368908A (ja) |
JP (1) | JP3069149B2 (ja) |
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JP2008287880A (ja) * | 1997-06-27 | 2008-11-27 | Sony Corp | 光記録媒体 |
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JP2001023245A (ja) * | 1999-07-09 | 2001-01-26 | Sony Corp | 光記録媒体および光記録装置 |
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JP4006994B2 (ja) * | 2001-12-18 | 2007-11-14 | 株式会社リコー | 立体構造体の加工方法、立体形状品の製造方法及び立体構造体 |
US7097923B2 (en) | 2002-04-30 | 2006-08-29 | Hitachi Global Storage Technologies | Method for forming thin film heads using a tri-layer anti-reflection coating for photolithographic applications and a structure thereof |
US7365408B2 (en) | 2002-04-30 | 2008-04-29 | International Business Machines Corporation | Structure for photolithographic applications using a multi-layer anti-reflection coating |
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JP4451268B2 (ja) * | 2004-03-04 | 2010-04-14 | 株式会社リコー | 光学素子及びその製造方法と、これを用いた光学製品、光ピックアップ及び光情報処理装置 |
WO2009051423A2 (en) * | 2007-10-17 | 2009-04-23 | Lg Electronics Inc. | Recording medium and manufacturing method of recording medium |
CN101477305B (zh) * | 2008-01-03 | 2012-10-10 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 用于压印制程的模仁制造方法 |
CN105276846B (zh) * | 2014-11-14 | 2018-07-06 | 中国建筑材料科学研究总院 | 吸收边连续可调的太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法 |
Family Cites Families (2)
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JPH07111788B2 (ja) * | 1987-01-23 | 1995-11-29 | 株式会社日立製作所 | 光情報記録媒体 |
US5100700A (en) * | 1989-03-10 | 1992-03-31 | Ricoh Company, Ltd. | Information recording medium |
-
1991
- 1991-06-14 JP JP14345291A patent/JP3069149B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1991-07-08 US US07/727,067 patent/US5368908A/en not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008287880A (ja) * | 1997-06-27 | 2008-11-27 | Sony Corp | 光記録媒体 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US5368908A (en) | 1994-11-29 |
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