JPH0427282B2 - - Google Patents
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- JPH0427282B2 JPH0427282B2 JP58204447A JP20444783A JPH0427282B2 JP H0427282 B2 JPH0427282 B2 JP H0427282B2 JP 58204447 A JP58204447 A JP 58204447A JP 20444783 A JP20444783 A JP 20444783A JP H0427282 B2 JPH0427282 B2 JP H0427282B2
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- Japan
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- skid rail
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
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- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/14—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment
- F27B9/20—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace
- F27B9/201—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace walking beam furnace
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D3/00—Charging; Discharging; Manipulation of charge
- F27D3/02—Skids or tracks for heavy objects
- F27D3/022—Skids
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)
- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、鋼材を圧延温度まで加熱するための
ウオーキングビーム式金属加熱炉に関するもので
ある。
ウオーキングビーム式金属加熱炉に関するもので
ある。
第1図は従来のウオーキングビーム式金属加熱
炉を示すもので、ウオーキングビームaの上昇、
前進、下降、後進の矩形運動を繰返し行うことに
より、被加熱材料bを、炉体c内でウオーキング
ビームa上と固定ビームd上とを乗り移らして移
動させながら、所定温度(通常1100〜1200℃)ま
でバーナfによつて加熱するようにしている。
炉を示すもので、ウオーキングビームaの上昇、
前進、下降、後進の矩形運動を繰返し行うことに
より、被加熱材料bを、炉体c内でウオーキング
ビームa上と固定ビームd上とを乗り移らして移
動させながら、所定温度(通常1100〜1200℃)ま
でバーナfによつて加熱するようにしている。
しかしながら、斯かる加熱炉においては、一般
に、材料bはウオーキングビームa上に10〜20
%、固定ビームd上に90〜80%乗つているため、
スキツドマークが発生してしまう。
に、材料bはウオーキングビームa上に10〜20
%、固定ビームd上に90〜80%乗つているため、
スキツドマークが発生してしまう。
即ち、固定ビームdは通常水冷パイプで構成さ
れ、且つ該固定ビームd上には耐熱鋼製のスキツ
ドレールeが設けられ、このスキツドレールeも
固定ビームdによつて冷却されるようになつてい
る。従つて、スキツドレールeの高さHは、150
mm以上にすると耐熱が不足するため、従来はH
150mmに設定されていた。このため、スキツドレ
ールeの材料bを支持する部分の温度は、炉内温
度より100〜200℃低下し、材料bのスキツドレー
ルeに接する部分の温度は、他の接触しない部分
に比し80〜150℃程度低かつた(この低温部をス
キツドマークと言う)。更に、前記したようにス
キツドレールeの高さはH150mmであるため、
固定ビームdのパイプ幅Wに対し一般にH/W
1.0になつている。このため、固定ビームdにて
材料bの下面に、バーナfからの火炎に対し影を
作り(シヤドー効果)、スキツドマークの量を増
長させていた。従つて従来の加熱炉においては、 (i) 材料bの温度分布が悪く、品質向上が困難で
あつた、 (ii) スキツドマークの部分を圧延温度まで加熱す
ると、他の部分の温度が100〜150℃高くなり、
その分燃料を多く必要とした、 (iii) 材料の長さを短くすると、各ビームa,d間
の間隔が小さくなり増々シヤドー効果が増長し
てしまつた、 (iv) スキツドレールeは耐熱鋼であるため高価で
あつた、 等、種々の問題を有していた。
れ、且つ該固定ビームd上には耐熱鋼製のスキツ
ドレールeが設けられ、このスキツドレールeも
固定ビームdによつて冷却されるようになつてい
る。従つて、スキツドレールeの高さHは、150
mm以上にすると耐熱が不足するため、従来はH
150mmに設定されていた。このため、スキツドレ
ールeの材料bを支持する部分の温度は、炉内温
度より100〜200℃低下し、材料bのスキツドレー
ルeに接する部分の温度は、他の接触しない部分
に比し80〜150℃程度低かつた(この低温部をス
キツドマークと言う)。更に、前記したようにス
キツドレールeの高さはH150mmであるため、
固定ビームdのパイプ幅Wに対し一般にH/W
1.0になつている。このため、固定ビームdにて
材料bの下面に、バーナfからの火炎に対し影を
作り(シヤドー効果)、スキツドマークの量を増
長させていた。従つて従来の加熱炉においては、 (i) 材料bの温度分布が悪く、品質向上が困難で
あつた、 (ii) スキツドマークの部分を圧延温度まで加熱す
ると、他の部分の温度が100〜150℃高くなり、
その分燃料を多く必要とした、 (iii) 材料の長さを短くすると、各ビームa,d間
の間隔が小さくなり増々シヤドー効果が増長し
てしまつた、 (iv) スキツドレールeは耐熱鋼であるため高価で
あつた、 等、種々の問題を有していた。
本発明はこのような実情に鑑みなしたもので、
材料の温度分布向上による品質の向上、それによ
る省エネルギー化、更には材料の長さ範囲拡大に
よる炉効率の向上等を図り得るようにしたウオー
キングビーム式金属加熱炉を提供すべくなしたも
のである。
材料の温度分布向上による品質の向上、それによ
る省エネルギー化、更には材料の長さ範囲拡大に
よる炉効率の向上等を図り得るようにしたウオー
キングビーム式金属加熱炉を提供すべくなしたも
のである。
以下、図面を参照して本発明の実施例を説明す
る。
る。
第2図乃至第4図において、1は炉床2に植設
した水冷パイプからなる門型の固定ビーム、3は
炉床2を貫通し炉内にて矩形運動を行うことによ
り被加熱材料4を固定ビーム1との間で移動させ
ようにした水冷パイプから成る門型のウオーキン
グビームで、5はこれら両ビーム1,3の外周を
被覆したキヤスタブル等の断熱材である。前記固
定ビーム1上には被加熱材料4を乗せるため圧縮
強度が高い高アルミナ質レンガ又は炭化ケイ素等
の耐火材製スキツドレール6を、断熱材5を介し
長手方向に多数並設し、且つ該各スキツドレール
6には、材料4から発生するスケールを落下し易
くするための傾斜面7を片側に設け、該傾斜面7
が1個置きに逆方向になるよう配置構成する。
又、前記固定ビーム1の両コーナー部には、固定
ビーム1の水平部より高さL(Lは高い方が良い
が、固定ビーム1のパイプ幅Wの1/4〜1位を選
定する)だけ高くしたレール支えこぶ8と、耐熱
鋼にて形成してレール支え板9とを設ける。図
中、10はウオーキングビームのスキツドレー
ル、11はバーナを示す。
した水冷パイプからなる門型の固定ビーム、3は
炉床2を貫通し炉内にて矩形運動を行うことによ
り被加熱材料4を固定ビーム1との間で移動させ
ようにした水冷パイプから成る門型のウオーキン
グビームで、5はこれら両ビーム1,3の外周を
被覆したキヤスタブル等の断熱材である。前記固
定ビーム1上には被加熱材料4を乗せるため圧縮
強度が高い高アルミナ質レンガ又は炭化ケイ素等
の耐火材製スキツドレール6を、断熱材5を介し
長手方向に多数並設し、且つ該各スキツドレール
6には、材料4から発生するスケールを落下し易
くするための傾斜面7を片側に設け、該傾斜面7
が1個置きに逆方向になるよう配置構成する。
又、前記固定ビーム1の両コーナー部には、固定
ビーム1の水平部より高さL(Lは高い方が良い
が、固定ビーム1のパイプ幅Wの1/4〜1位を選
定する)だけ高くしたレール支えこぶ8と、耐熱
鋼にて形成してレール支え板9とを設ける。図
中、10はウオーキングビームのスキツドレー
ル、11はバーナを示す。
斯かる構成において、固定ビーム1上に耐火材
製のスキツドレール6を設けたので、バーナ11
からの火炎は従来と同様に固定ビーム1の下方部
を自由に通過でき、この火炎からの輻射熱によつ
てスキツドレール6は加熱される。従つて、材料
4に発生するスキツドマークが大幅に低減され
る。
製のスキツドレール6を設けたので、バーナ11
からの火炎は従来と同様に固定ビーム1の下方部
を自由に通過でき、この火炎からの輻射熱によつ
てスキツドレール6は加熱される。従つて、材料
4に発生するスキツドマークが大幅に低減され
る。
具体的には、固定ビーム1のパイプ幅Wを150
mmとした場合、第5図及び第6図に示す如く、高
さHをWの1.3倍以上とすることにより、スキツ
ドマークの温度差を40℃以下にでき、しかも受熱
角比率(シヤドー効果を従来の金属製スキツドレ
ールを1.0とした時の改善率)を従来の金属製ス
キツドレールの約1.5倍と成し得た。従つて、W
=150mmとすると、H20mm位、又はH/W1.3
の関係を満足することが必要である。尚、スキツ
ドレール6の高さを大きくしても、固定ビーム1
の両コーナー部に、パイプを曲げ形成したレール
支えこぶ8とこのこぶ8に取付けたレール支え板
9とでスキツドレール6が確実に固定されている
ので、スキツドレール6に脱落は生じない。
mmとした場合、第5図及び第6図に示す如く、高
さHをWの1.3倍以上とすることにより、スキツ
ドマークの温度差を40℃以下にでき、しかも受熱
角比率(シヤドー効果を従来の金属製スキツドレ
ールを1.0とした時の改善率)を従来の金属製ス
キツドレールの約1.5倍と成し得た。従つて、W
=150mmとすると、H20mm位、又はH/W1.3
の関係を満足することが必要である。尚、スキツ
ドレール6の高さを大きくしても、固定ビーム1
の両コーナー部に、パイプを曲げ形成したレール
支えこぶ8とこのこぶ8に取付けたレール支え板
9とでスキツドレール6が確実に固定されている
ので、スキツドレール6に脱落は生じない。
更に、前述したように、スキツドレール6を耐
火材製としたので、レール幅も従来の40〜100mm
に対し200〜800mmと増加でき、又増加しても材料
4の温度低下を生じない。
火材製としたので、レール幅も従来の40〜100mm
に対し200〜800mmと増加でき、又増加しても材料
4の温度低下を生じない。
尚、第3図において、ウオーキングビーム3上
に設けたスキツドレール10は、スキツドレール
6と同様の耐火材としてもよいが、従来と同様の
金属製としてもよい。なぜなら、材料4がウオー
キングビーム3上に乗つている時間は、固定ビー
ム1のそれに比し1/4〜1/9と僅かであり、スキツ
ドマークの発生量が少ないからである。又、第3
図においては、固定ビーム1を2列としている
が、そのまま或いはパイプ径を大きくして1列と
してもよい。
に設けたスキツドレール10は、スキツドレール
6と同様の耐火材としてもよいが、従来と同様の
金属製としてもよい。なぜなら、材料4がウオー
キングビーム3上に乗つている時間は、固定ビー
ム1のそれに比し1/4〜1/9と僅かであり、スキツ
ドマークの発生量が少ないからである。又、第3
図においては、固定ビーム1を2列としている
が、そのまま或いはパイプ径を大きくして1列と
してもよい。
第7図は本発明の他の実施例であり、炉床2の
中央に第3図で示したと同様な耐火材製スキツド
レール6を備えた固定ビーム1を、又その外側に
耐火材製スキツドレール6′を備えた1本パイプ
式の固定ビーム1′を設け、更にスキツドレール
6,6′間にウオーキングビーム3を夫々設けた
ものである。
中央に第3図で示したと同様な耐火材製スキツド
レール6を備えた固定ビーム1を、又その外側に
耐火材製スキツドレール6′を備えた1本パイプ
式の固定ビーム1′を設け、更にスキツドレール
6,6′間にウオーキングビーム3を夫々設けた
ものである。
このような配置とした加熱炉の場合、従来であ
ると、中央の固定ビーム1が材料4に近くてシヤ
ドー効果が極めて大きく、材料4の下面の加熱が
困難であつたが、本発明においては、スキツドレ
ール6の高さを前述したように200mm以上にでき
るので、シヤドー効果を小さくすることが可能で
ある。更に前述したようにスキツドレール6の幅
を200〜800mmと大きくできるので、中央の固定ビ
ーム1のみを利用して仮想線で示すように、従来
支えることができなかつた短尺の材料4を支える
ことができる。即ち、実線で示すように長尺の材
料から短尺の材料4まで加熱が可能である。又、
このように、中央の固定ビーム1を短尺用に、外
側の固定ビーム1′,1′を長尺用に区分する場
合、固定ビーム1のスキツドレール6の上面を、
固定ビーム1′,1′のスキツドレール6′,6′の
上面よりS(例えば20〜50mm)だけ低くすること
ができ、長尺材料4への固定ビーム1′,1′のシ
ヤドー効果を更に低減することができる。
ると、中央の固定ビーム1が材料4に近くてシヤ
ドー効果が極めて大きく、材料4の下面の加熱が
困難であつたが、本発明においては、スキツドレ
ール6の高さを前述したように200mm以上にでき
るので、シヤドー効果を小さくすることが可能で
ある。更に前述したようにスキツドレール6の幅
を200〜800mmと大きくできるので、中央の固定ビ
ーム1のみを利用して仮想線で示すように、従来
支えることができなかつた短尺の材料4を支える
ことができる。即ち、実線で示すように長尺の材
料から短尺の材料4まで加熱が可能である。又、
このように、中央の固定ビーム1を短尺用に、外
側の固定ビーム1′,1′を長尺用に区分する場
合、固定ビーム1のスキツドレール6の上面を、
固定ビーム1′,1′のスキツドレール6′,6′の
上面よりS(例えば20〜50mm)だけ低くすること
ができ、長尺材料4への固定ビーム1′,1′のシ
ヤドー効果を更に低減することができる。
尚、本発明は前記実施例にのみ限定されるもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り種種変
更を加え得ることは勿論である。
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り種種変
更を加え得ることは勿論である。
以上説明したように、本発明のウオーキングビ
ーム式金属加熱炉によれば、 〈〉 固定ビームのスキツドレールを耐火材製
としたので、レール高さを高くでき(H/W
1.3、又はWを従来と同様150mmとするとH
200mm)、スキツドマークが大幅に低減され被加
熱材料の品質を向上し得る。
ーム式金属加熱炉によれば、 〈〉 固定ビームのスキツドレールを耐火材製
としたので、レール高さを高くでき(H/W
1.3、又はWを従来と同様150mmとするとH
200mm)、スキツドマークが大幅に低減され被加
熱材料の品質を向上し得る。
〈〉 固定ビームのスキツドレールの高さを大
きくできるので、固定ビームによるシヤドー効
果が改善され、被加熱材料の下面の加熱率が向
上する。
きくできるので、固定ビームによるシヤドー効
果が改善され、被加熱材料の下面の加熱率が向
上する。
〈〉 固定ビームの下方部は従来通り空間であ
るため、バーナの火炎による輻射によつて耐火
材製スキツドレールを加熱することができ、省
エネルギー化に寄与し得る。
るため、バーナの火炎による輻射によつて耐火
材製スキツドレールを加熱することができ、省
エネルギー化に寄与し得る。
〈〉 スキツドレールが耐火材製であるため、
レール幅を広くでき、1列で被加熱材料を支え
得るので、短尺材料の加熱が可能となる。
レール幅を広くでき、1列で被加熱材料を支え
得るので、短尺材料の加熱が可能となる。
〈〉 耐火材製スキツドレールとしたので、従
来の耐熱鋼製スキツドレールに比し安価であ
る。
来の耐熱鋼製スキツドレールに比し安価であ
る。
等の優れた効果を奏し得る。
第1図は従来のウオーキングビーム式金属加熱
炉の概略図、第2図は本発明のウオーキングビー
ム式金属加熱炉の概略切断側面図、第3図は第2
図の−矢視図、第4図は第2図の−矢式
図、第5図はH/Wとスキツドマーク温度差との
関係を示す線図、第6図はH/Wと受熱角比率と
の関係を示す線図、第7図は本発明の他の実施例
を示す概略切断正面図である。 1は固定ビーム、2は炉床、3はウオーキング
ビーム、4は被加熱材料、6はスキツドレールを
示す。
炉の概略図、第2図は本発明のウオーキングビー
ム式金属加熱炉の概略切断側面図、第3図は第2
図の−矢視図、第4図は第2図の−矢式
図、第5図はH/Wとスキツドマーク温度差との
関係を示す線図、第6図はH/Wと受熱角比率と
の関係を示す線図、第7図は本発明の他の実施例
を示す概略切断正面図である。 1は固定ビーム、2は炉床、3はウオーキング
ビーム、4は被加熱材料、6はスキツドレールを
示す。
Claims (1)
- 1 炉体内にて、固定ビームとウオーキングビー
ムとの間で被加熱材料を移動させながら加熱する
ようにしたウオーキングビーム式金属加熱炉にお
いて、水冷パイプにより構成した固定ビームの上
部に、断熱材を介して耐火材製のスキツドレール
を設け、該スキツドレールの両端を、前記固定ビ
ームの両コーナー部に固定ビームの水平部より高
く形成したレール支えこぶと、該レール支えこぶ
に取付けたレール支え板とにより固定したことを
特徴とするウオーキングビーム式金属加熱炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20444783A JPS6096712A (ja) | 1983-10-31 | 1983-10-31 | ウオ−キングビ−ム式金属加熱炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20444783A JPS6096712A (ja) | 1983-10-31 | 1983-10-31 | ウオ−キングビ−ム式金属加熱炉 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6096712A JPS6096712A (ja) | 1985-05-30 |
JPH0427282B2 true JPH0427282B2 (ja) | 1992-05-11 |
Family
ID=16490674
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20444783A Granted JPS6096712A (ja) | 1983-10-31 | 1983-10-31 | ウオ−キングビ−ム式金属加熱炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6096712A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6356246U (ja) * | 1986-09-29 | 1988-04-15 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4917313A (ja) * | 1972-04-19 | 1974-02-15 | ||
JPS5731140U (ja) * | 1980-07-29 | 1982-02-18 | ||
JPS5831365A (ja) * | 1981-08-20 | 1983-02-24 | Ricoh Co Ltd | 記録体クリ−ニング装置 |
-
1983
- 1983-10-31 JP JP20444783A patent/JPS6096712A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4917313A (ja) * | 1972-04-19 | 1974-02-15 | ||
JPS5731140U (ja) * | 1980-07-29 | 1982-02-18 | ||
JPS5831365A (ja) * | 1981-08-20 | 1983-02-24 | Ricoh Co Ltd | 記録体クリ−ニング装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6096712A (ja) | 1985-05-30 |
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