JPH04270920A - 位置検出器及び位置測定方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、変位を検出するための
回折格子を用いた位置検出器に係り、特に、そのような
位置検出器の精度及び分解能を向上するための方法及び
システムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】物体の位置をマイクロメータのレンジ以
下の精度で検出するための１つの先行技術システムは、
反射性回折格子から回折されたレーザダイオードの光を
用いるものである。格子に入射される光は、回折され、
２つの回折ビームになって反射される。各回折ビームは
、格子に戻るように反射され、２回目の回折を受け、１
つのビームに結合される。このビームは、結合ビーム中
での干渉を防止するため、２回目の回折の前に互いに直
角に偏光される。結合された信号の平均強度は、光検出
器で検出され、ＤＣ（直流）レベル成分を与える。結合
ビームは、その後、互いに干渉するために各ビームの成
分を選択する偏光子を通過する。

【０００３】２つのビーム間の位相差は、回折格子の位
置に基づいており、回折格子が動くと、２つのビームの
位相関係は変化して、干渉を強め合ったり弱め合ったり
する。１次の回折に対しては、干渉ビームのピークから
ピークまでの周期は、回折格子のピッチをｐ　とすると
、ｐ　／４である。従って、１μｍ　のピッチを有する
回折格子に対しては、干渉ビームのピークは、スケール
が１μｍ　の１／４、即ち２５０ｎｍ動く毎に、発生す
る。

【０００４】２５０ｎｍ内のスケール位置は、スケール
が横方向に変位したときの出力信号のピークを検出する
ことによって、ある精度をもって測定することができる
。 ２５０ｎｍよりも高い精度でスケール位置を測定するた
めには、ピーク間のスケール変位を、補間によって評価
する必要がある。

【０００５】現在のところ、先行技術は１０ｎｍ以内の
位置を確立するように試みているが、これ以上の精度で
何らかの位置を測定することは不可能である。更に、以
下に説明するような、先行技術装置中の可能性のある多
くの問題のために、真の精度は、１０ｎｍ以下ではない
かもしれないが、ユーザは、その位置が不正確であるこ
とに気付いていない。

【０００６】ユーザが１０ｎｍ以下の正確な測定を保証
するためには、レーザ干渉計が必要である。レーザ干渉
計は、ダイオード光源の回折格子よりも、非常に高価、
複雑及び繊細である。

【０００７】１０ｎｍ以下の位置を正確に測定する、ダ
イオードを使った位置検出器は、レーザ干渉計の使用が
要求される現在の高価なシステムの置き換えとして有用
である。

【０００８】図１は、特開平１−２６００５に示されて
いるような従来技術による位置検出器を示している。こ
の先行技術の位置検出器では、レーザダイオードのよう
な単色光源１０が、コリメータ１２と共に、平行ビーム
を、ミラー１４及び、スケール表面に対して垂直に回折
格子スケール１６上に照射する。光は、回折格子１６で
回折されて、正及び負のオーダーのビーム１７及び１８
になる。このビームは、平面の法線に対して、それぞれ
角度θ及び−θで回折される。

【０００９】図２は、図１の回折格子スケール１６の拡
大側面図であり、１次光ビームの回折状態を示している
。回折部材１６は、個々の格子溝２０に対して垂直な運
動である、矢印２２によって示される方向に沿う横方向
変位を行う物体２３に連結されている。光ビーム１５は
、表面の法線方向から回折格子１６上に入射する。正角
度回折ビーム１７は、回折格子１６の表面法線に対して
角度θで格子から回折される。負角度回折ビーム１８は
、前記θと同じ値を有するが、符号が反対の−θの角度
で格子１６から回折される。

【００１０】図３中に示されるように、回折格子溝２０
は、互いに平行に伸びている。１つの回折格子溝２０の
ピッチｐ　は、１つの格子溝２０のある点から隣接する
格子溝２０の同じ点までの長さである。先行技術による
回折格子のピッチｐ　は、１．０６から１．０μｍ　（
＝１０−６ｍ　）の範囲内にある。ビーム１５、１７及
び１８の幅は、通常、数ｍｍの範囲内にあり、従って、
ビームは、通常、数千もの個々の格子溝２０をカバーし
ている。

【００１１】回折格子スケール１６の位置、従って、こ
のスケール１６に連結された物体２３の位置は、図１の
先行技術システムでは、次のようにして決定される。光
ビーム１５は、まず、表面の点１３にぶつかり、既に説
明したように、２つのビームに回折される。正角度回折
ビーム１７は、逆反射器（コーナーキューブ）２５によ
って反射され、表面の選択点２４に戻されて、回折格子
スケール１６に入射する。同様に、負角度ビーム１８は
、逆反射器（コーナーキューブ）２７によって反射され
、回折格子スケール１６の同じ点２４に入射する。回折
ビーム１７及び１８が回折格子スケール１６に２回目に
ぶつかる前に、ビームは、それぞれ、光を遮閉して、選
択された平面内に偏光されるようにする線形偏光子２６
及び２８を通過する。偏光子２６及び２８は、互いに垂
直な偏光軸で配向され、従って、結果として生じる各ビ
ーム３０及び３２は、互いに直角に偏光される。ビーム
は、スケール上の同じ点２４にぶつかり、２回目の回折
を受けて、結合ビーム３４を形成する。

【００１２】互いに直角に偏光された２つの光線は、１
つのビームに結合されたときに干渉しないことがよく知
られている。例え結合ビーム３４が、同じ波長の２つの
ビームの結合であったとしても、それらの偏光状態が直
角であるので、それらは互いに干渉しない。ビーム３４
は、光検出システム１１によって次のような方法で検出
される。

【００１３】図４に示すように、ビーム３４は、様々な
ビームスプリッタ及び光検出器を有する光検出システム
１１に入射する。ビームスプリッタ３６は、出力ビーム
３４の一部を、結合出力ビーム３４の平均強度を検出す
る光検出器３８に向ける。ビームスプリッタ４０は、ビ
ーム３４を２つの成分４２及び４４に分離する。２つの
成分の一方４４は、λ／４（１／４波長）遅延板４６を
通過した後、偏光子４８を通過し、その後、この強度が
光検出器５０によって検出される。ビーム４２の残りの
部分は、偏光子５２を通過し、その強度が光検出器５４
によって検出される。各偏光子４８及び５２は、同じ角
度、通常は結合ビーム３４の２つの部分のそれぞれの偏
光角から４５°に配向されている。各偏光子４８及び５
２の出力は、同じ平面内で偏光された回折ビームの２つ
の成分をもっている。

【００１４】２つの光線３０及び３２は、直角である限
りは干渉しないが、偏光の同じ面内に持ち込まれたとき
には干渉する。各偏光子４８及び５２は、従って、ビー
ム３４の成分を互いに干渉させる。干渉ビームは、ビー
ムの相対的な位相によって、強め合ったり弱め合ったり
して干渉する。先行技術で知られているように、正角度
回折ビーム１７と負角度回折ビーム１８間の相対的な位
相差は、回折格子１６の位置によって変化する。位相差
Ｐは、スケール変位量ｘ　と次式に従って関係付けられ
ている。

【００１５】 Ｐ＝４＊ｎ　（ｘ　／ｐ　）＊（２＊π）　　　　　　
…（１）

【００１６】ここで、ｎ　は回折の次数、ｐ　
はスケールピッチ、Ｐは２つのビームの相対的な位相差
、ｘ　はスケール変位量である。

【００１７】図５に示されているように、２つのビーム
の相対的な位相が、干渉を強め合うか弱め合うので、光
ビーム５３の強度は、回折スケール１６がＸ軸に沿って
変位すると共に正弦波パターンに従って変化する。強め
合う干渉に対しては、光ビームの強度は５１で最大とな
り、弱め合う干渉に対しては、それは５５で最小値を有
する。１次の回折（ｎ　＝１）に対しては、正弦波の周
期は、図５中に示されているようにｐ　／４である。同
様に、信号４９は、回折格子スケール１６が変位すると
共に変化する。波４９及び５３の光強度は、λ／４遅延
板４６が光ビーム４９を波５３よりも９０°遅らせるの
で、互いに９０°のオフセットを有しており、これが回
折部材１６の移動方向の指示を与える２つの直角位相信
号を発生する。直角位相信号５３（Ｉ１　）及び４９（
Ｉ２　）の強度は、次式によって与えられる。

【００１８】 Ｉ１　＝ＤＣ＋Ａ＊ｃｏｓ　（Ｐ）　　　　　　…（２
）Ｉ２　＝ＤＣ＋Ａ＊ｓｉｎ　（Ｐ）　　　　　　…（
３）

【００１９】ここでＩ１　及びＩ２　は、信号５３
及び４９のそれぞれの強度、ＤＣは、平均強度レベル、
Ａは、正弦波状ＡＣ成分の振幅、Ｐは、２つの成分ビー
ム間の位相差である。

【００２０】次式に従って平均強度レベルに比例する第
３の信号Ｉ３　も又、検出器３８から得られる。

【００２１】Ｉ３　＝Ｋ＊ＤＣ　　　　　　…（４）

【
００２２】ここで、ＤＣは平均強度レベル、Ｋは係数で
ある。

【００２３】光検出器３８は、２つの波の偏光状態が偏
光子４８及び５２によって揃えられる前に平均強度、従
って、それらが干渉していないときには２つの成分ビー
ムの平均強度（理想的な場合）を検出する。

【００２４】光ビーム４９、５３及び３４は、各光検出
器５０、５４及び３８によって、既に述べたように電気
信号に変換され、増幅されて、先行技術でよく知られた
方法でスケール変位ｘ　を計算して表示するカウンタに
供給される。

【００２５】ここで説明した図１から図５のシステムは
、公知の先行技術装置に基づいている。

【００２６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
のシステムは、０．２５μｍ　以下の変位を正確に測定
するためには、以下に説明するような理由で、重大な問
題を抱えている。

【００２７】出力信号Ｉ１　及びＩ２　の周期よりも高
い精度を得るためには、該周期内の位相Ｐを補間を用い
て評価する必要がある。補間の精度を最高にするために
は、直角位相信号の振幅Ａが一定に保たれねばならない
。これは、スケール領域に亘ってスケールが同じ回折効
率を持つことを要求することによってなされるが、これ
を達成するのは困難である。

【００２８】この問題に対処する、より実際的な方法は
、振幅Ａを検出して直角位相信号に自動利得制御を適用
し、Ａが一定に保たれるように、光源出力又は出力アン
プの信号振幅を調整することである。しかしながら、こ
の場合の問題は、振幅Ａを検出することである。

【００２９】例えば米国特許第４６２９８８６号のよう
な先行技術は、（信号Ｉ３　から得ることができる平均
信号レベルＤＣを引いた後の）信号Ｉ１　とＩ２　を２
乗し、２乗された信号を互いに加算し、和の平方根を取
ることによって、振幅Ａを得る方法を用いている。しか
しながら、この方法は、複雑で且つ高価なアナログ回路
を必要とする。

【００３０】例えば米国特許第４６２９８８６号のよう
な先行技術は、又、振幅Ａを得るための手段として、平
均信号レベルＤＣに比例した信号Ｉ３　を用いている。 スケールの偏光効果によって、この技術では正確な測定
ができない。

【００３１】例えば米国特許第４６７６６４５号や特開
昭６２−２００２１９のような先行技術は、スケールに
ぶつかる２つの独立したビームを用いた装置を開示して
いる。

【００３２】この２ビームシステムの１つの欠点は、２
つのビームがスケールに異なる点でぶつかって、その後
１つのビームを形成するように再結合されることである
。もし、スケールの１点に、他の点にない誤差や偏りが
あった場合、これらの相違の結果は、除去されるという
よりもむしろ増幅され、測定に誤差を生じる。更に他の
欠点は、スケールにぶつかる２つの入力ビームがあるた
め、それらの光路長が、スケールにぶつかる前及びぶつ
かった後で等しくならない傾向にあることにある。この
システムは、２つの入力ビームを発生し、２つのビーム
を結合するためにビームスプリッタが使われているため
、スケールの向きのヨー又はチルトの変化の影響を受け
易い。従って、スケールのヨー又はチルトの僅かな変化
に対して誤差が発生する。これらの装置は、又、スケー
ルの長さ方向に沿うスケール変化、格子溝間隔、スケー
ルの全長に沿う異なる点での寸法の違いに弱いが、この
問題は、以下に述べるように、本発明の構成によって解
決される。

【００３３】２つのビームを発生し、その後、再結合す
るためのビームスプリッタの使用は、更に他の誤差を発
生する可能性を生じる。

【００３４】米国特許第４６７６６４５号の図８の実施
例は、２つの独立した角度の問題も有しており、従って
、スケールのヨーやチルト、入射角の相違、光路長差の
変化に弱い。

【００３５】これらの２つの先行技術特許の装置は、従
って、それらを精密測定装置として用いるのを妨げる誤
差を生じる。

【００３６】先行技術の１つの欠点は、図３に示したよ
うに、個々の格子溝２０に平行な偏光ビームの回折効率
が、回折格子溝２０に垂直に偏光した光ビームの回折効
率と一致するとした仮定にある。残念ながら、平行偏光
（Ｐ−偏光）又は垂直偏光（Ｓ−偏光）ビームの回折効
率の比は、通常、格子スケール１６の製造時の不完全さ
によって、回折格子スケール１６の表面領域に亘って変
化する。従って、光の偏光状態に基づくＰ−及びＳ−偏
光の偏光効率の相違を計算に入れていない先行技術の方
法は、正確な位置を与えたり、物体が動いたときの変位
を正確に測定する際に誤差を発生し易い。従って、図１
に示した先行技術装置は、１０ｎｍの範囲でのみ正確で
あると仮定することができる。もし、Ｐ−及びＳ−偏光
の回折効率の比がスケールの不完全性による期待値を越
えて変化すると、誤差は１０ｎｍを越えてしまうであろ
う。

【００３７】図１の先行技術装置に対して、線形偏光入
力ビーム１５の偏光方向が、回折格子スケール１６の格
子溝２０に対して４５°傾いていたと仮定する。Ｐ−偏
光に対する偏光効率をｋｐ、Ｓ−偏光に対する偏光効率
をｋｓとする。偏光効率は、それぞれ平行及び垂直偏光
を伴う回折光の振幅効率を表わす。更に、偏光子２６と
２８は、偏光子２６が格子溝に対して垂直に、偏光子２
８が格子溝に対して平行に向いていると仮定する。これ
らの仮定の基で、次式が、点２４で格子によって２回目
の回折を受けた後の結合ビーム３４の光成分の振幅を規
定する。

【００３８】 　　　　Ｅｌｐ＝Ｂ＊ｋｐ＊ｋｐ＊ｃｏｓ　（ωｔ　＋
Ｐ／２）　　　　　　…（５）　　　　Ｅｌｓ＝０　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　…（６）　　　　Ｅｒｐ＝０　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　…（７）　　　　Ｅｒｓ＝Ｂ＊ｋｓ＊
ｋｓ＊ｃｏｓ　（ωｔ　−Ｐ／２）　　　　　　…（８
）

【００３９】ここで、Ｅ１ｐ及びＥ１ｓは、点２４で
回折された後のビーム３２のベクトル成分であり、Ｅ１
ｐは平行偏光成分、Ｅ１ｓは垂直偏光成分である。Ｅｒ
ｐ及びＥｒｓは、点２４で回折された後のビーム３０の
ベクトル成分であり、Ｅｒｐは平行成分、Ｅｒｓは垂直
成分である。 （用語を簡単にするため、Ｅｒ　は、全ての図において
右側のビーム３０を示しており、これは正角度回折ビー
ムである。同様に、Ｅｌ　は左側のビーム３２を示して
おり、これは負角度回折ビームである。）

【００４０】
既に説明したように、偏光子２６は、ビーム３０中の、
格子溝に平行な光を抽出し、従ってＥｒｐ＝０である。 偏光子２８は、格子溝に垂直な光を抽出し、従ってビー
ム３２中のＥｌｓ＝０である。

【００４１】式（５）から分かるように、回折効率ｋｐ
は、それ自身によって乗算され、従って、出力ビーム３
４のその部分では効果が２乗される。同様に、垂直偏光
効率の効果も２乗される。

【００４２】出力ビームは、偏光が垂直な（従って、干
渉しない）左側及び右側回折ビームの組合せからなり、
出力ビームの成分は、次式によって記述することができ
る。

【００４３】 Ｅｏｐ＝Ｂ＊ｋｐ２　＊ｃｏｓ　（ωｔ　＋Ｐ／２）　
　　　　　…（９）　　　　Ｅｏｓ＝Ｂ＊ｋｓ２　＊ｃ
ｏｓ　（ωｔ　−Ｐ／２）　　　　　　…（１０）

【０
０４４】ここで、Ｅｏｐ及びＥｏｓは、Ｐ−及びＳ−偏
光を有する出力ビーム３４の各ベクトル成分である。

【００４５】出力ビームは、それから偏光子５２を通過
して、次式で示されるような２つのビームの組合せであ
る第１出力信号Ｉ１　を得る。

【００４６】 　　　　Ｉ１　＝Ｃ＊〔ｋｐ４　＋ｋｓ４　＋２＊ｋｐ
２　＊ｋｓ２　＊ｃｏｓ　（Ｐ）〕　　　　…（１１）

【００４７】ここで、Ｃはもう１つの比例定数である。

【００４８】第２出力ビーム４９の成分Ｅｏｐは、λ／
４波長遅延板を通過させることによって９０°だけ遅ら
され、次式のような第２直角位相信号を得る。

【００４９】 　　　　Ｉ２　＝Ｃ〔ｋｐ４　＋ｋｓ４　＋２＊ｋｐ２
　＊ｋｓ２　＊ｓｉｎ　（Ｐ）〕　　　　　　…（１２
）

【００５０】Ｉ１　とＩ２　を、直流成分ＤＣ及び振
幅成分Ａに区分けすることによって、次式が得られる。

【００５１】 ＤＣ＝Ｃ＊（ｋｐ４　＋ｋｓ４　）　　　　　　…（１
３）Ａ＝２＊Ｃ＊ｋｐ２　＊ｋｓ２　　　　　　　　　
…（１４）

【００５２】光検出器３８によって感知され
た出力ビーム３４の直流レベルは、式（９）及び（１０
）によって与えられるように、Ｅｏｐ及びＥｏｓの平方
和に比例しており、次式が得られる。

【００５３】 Ｉ３　＝Ｄ＊（ｋｐ４　＋ｋｓ４　）　　　　　　…（
１５）ここで、Ｄは比例定数である。

【００５４】信号Ｉ３　は、従って、光検出器３８にお
ける平均強度の直流レベルに比例しており、ＤＣを測定
するのに用いられる。しかしながら、一般的に、Ｉ３　
は、（１４）式の振幅Ａには比例していない。Ｉ３が振
幅Ａに比例するためには、Ｐ−及びＳ−偏光の回折効率
の比が、回折格子スケール１６の全体に亘って一定でな
ければならない。勿論、これは一般的に当て嵌まらない
。この式（１）から式（１５）は、先行装置の問題を示
したものである。

【００５５】本発明は、前記従来の問題点に鑑みてなさ
れたもので、物体の位置を高い分解能で正確に測定する
ことが可能な、改良されたシステム及び方法を提供する
ことを目的とする。

【００５６】

【問題点を解決するための手段】本発明は、回折格子を
有し、位置が測定されるべき可動部材に連結された回折
部材と、該回折部材に隣接し、前記回折格子の第１選択
領域上に入射して、該回折格子により第１及び第２回折
ビームに回折される第１光ビームを発生する光源と、前
記回折部材からの前記第１回折ビームを受け取り、該第
１回折ビームを前記回折部材に反射して戻し、前記回折
部材上の第２選択領域に入射して、２回目の回折を受け
、２次回折光の結合ビームに結合するための第１反射手
段と、前記第１回折ビームの光路中に配置され、通過す
る前記第１ビームの偏光状態を回転するための第１偏光
回転部材と、前記回折部材からの前記第２回折ビームを
受け取り、該第２回折ビームを前記回折部材に反射して
戻し、前記回折部材上の前記第２選択領域に入射して、
２回目の回折を受け、２次回折光の結合ビームに結合す
るための第２反射手段と、前記第２回折ビームの光路中
に配置され、通過する前記第２回折ビームの偏光状態を
回転し、前記第１及びこの第２偏光回転部材手段が、２
つの回折ビームのそれぞれが、前記スケールより同じ偏
光作用を受け、前記結合ビームに形成されたときには互
いに９０°であるようにするための第２偏光回転部材手
段と、前記結合ビームを受け取って、格子の変位によっ
て生じる２つのビーム間の位相の変化を示す信号を出力
するための光検出手段と、該光検出手段からの信号を受
け取って、前記可動部材の変位を示す信号を出力するた
めの出力手段とを備えた位置検出器により、前記課題を
達成するものである。

【００５７】前記位置検出器において、前記第１偏光回
転部材手段を通過する前の前記第１回折ビームの偏光状
態を、前記回折部材上の格子要素に対して垂直で、前記
第１偏光部材を通過した後では前記格子要素に対して平
行とし、前記第２偏光回転部材手段を通過する前の前記
第２回折ビームの偏光状態を、前記回折部材上の格子要
素に対して平行で、前記第２偏光回転部材を通過した後
では前記格子要素に対して垂直とすることができる。

【００５８】又、前記位置検出器において、前記第１ビ
ームの入射角を、前記第１回折ビームと前記回折部材の
表面間の角度、及び、前記第２回折ビームと前記回折部
材間の角度と同じになるように、前記回折部材の表面に
対して正確に選択された角度とすることができる。

【００５９】又、前記位置検出器において、前記入射第
１ビームを、前記回折格子に対して垂直で、且つ、回折
格子要素に対して平行な平面内とすることができる。

【００６０】又、前記位置検出器において、前記入射第
１ビームの偏光方向を、該入射ビームの、１つは前記回
折格子要素に対して平行で、もう１つは垂直な成分が、
同じ強度を持つように配向することができる。

【００６１】又、前記位置検出器において、更に、前記
第１回折ビームの光路中に、前記回折部材上の格子要素
に関して選択された向きにある光線を阻止するための第
１偏光子を含むことができる。

【００６２】又、前記位置検出器において、前記第１偏
光子を、前記第１回折ビームの光路中の前記第１偏光回
転部材よりも前に、これと直列に配置して、前記格子要
素に平行な光を阻止することができる。

【００６３】又、前記位置検出器において、前記第１偏
光子を、前記第１回折ビームの光路中の前記第１偏光回
転部材よりも後に、これと直列に配置して、前記格子要
素に垂直な光を阻止することができる。

【００６４】又、前記位置検出器において、更に、前記
第２回折ビームの光路中に、前記回折部材上の格子要素
に関して選択された向きにある光線を阻止するための第
２偏光子を含むことができる。

【００６５】又、前記位置検出器において、前記第２偏
光子を、前記第２回折ビームの光路中の前記第２偏光回
転部材よりも前に、これと直列に配置して、前記格子要
素に垂直な光を阻止することができる。

【００６６】又、前記位置検出器において、前記第２偏
光子を、前記第２回折ビームの光路中の前記第２偏光回
転部材よりも後に、これと直列に配置して、前記格子要
素に平行な光を阻止することができる。

【００６７】又、前記位置検出器において、前記第１選
択領域及び前記第２選択領域を、前記可動部材の移動方
向に垂直な方向に互いに離すことができる。

【００６８】又、前記位置検出器において、前記可動部
材がＸ軸及びＹ軸方向に変位し、前記回折格子が、互い
に垂直な格子要素を有する回折パターンを含み、前記第
１領域及び前記第２領域を、前記格子要素のそれぞれに
関して、ある角度で互いにオフセットすることができる
。

【００６９】又、前記位置検出器において、更に、前記
第１ビームの光路中に配置され、通過する光線の偏光状
態を回転して、前記回折部材に２回衝突した後で、前記
第２回折ビームの偏光角度から９０°の偏光状態を有す
る第１回折ビームを発生させるための第３光偏光回転部
材を含むことができる。

【００７０】又、前記位置検出器において、前記光偏光
回転部材を、通過する光の偏光状態を写像することによ
って、該偏光状態を設定された軸の周りに回転する半波
長遅延板とすることができる。

【００７１】又、前記位置検出器において、前記光検出
手段が、それぞれスケールの変位及び変位方向を与える
ために結合ビームの直角位相出力信号を与える２つの光
検出器を含むこともできる。

【００７２】又、前記位置検出器において、前記光検出
手段が、前記結合ビームの平均強度を検出する光検出器
を含むこともできる。

【００７３】又、本発明は、位置検出器において、回折
格子を有し、位置が測定されるべき可動部材に連結され
た回折部材と、前記回折格子に近接し、第１選択領域で
前記回折格子上に入射され、回折パターンで前記回折格
子から回折される第１光ビームを発生する光源と、前記
回折部材から正の角度で回折された、偏光状態にあり、
前記回折格子要素に関して垂直な偏光成分と平行な偏光
成分を有する正角度回折ビームを受け取り、該正角度回
折ビームを前記回折部材に反射して戻し、前記回折部材
の第２選択領域上に入射して、２次回折光ビームを発生
するための第１反射手段と、前記正角度ビームの前記第
１反射部材に対する光路中に配置され、前記正ビームの
偏光状態の前記平行又は垂直成分のいずれかの偏光方向
を逆転するが、該正ビームの偏光状態の他の成分には影
響を与えない第１光偏光変調部材手段と、前記正角度ビ
ームの光路中に前記第１光偏光変調部材と共に直列に配
置され、光線が前記第１及び第２光偏光変調手段を直列
に伝播するようにされ、前記平行成分の偏光方向を９０
°だけ１つの方向に回転し、前記垂直成分の偏光方向を
反対方向に９０°だけ回転することによって、前記正角
度ビームが前記回折格子上に入射したときに、前記平行
成分が回折格子要素に垂直となり、前記垂直成分が回折
格子要素に平行となるようにするための第２光偏光変調
部材手段と、前記回折部材から反射された負角度回折ビ
ームを負の角度で受け取り、該負角度回折ビームを前記
回折部材に反射して戻し、前記回折部材の前記第２選択
領域に入射して、前記正角度ビームと結合させて前記正
角度ビームと共に２次回折光の結合ビームとし、前記負
角度回折ビームが偏光され、前記回折格子要素に関して
垂直な偏光成分と平行な偏光成分を有するようにするた
めの第２反射手段と、前記負角度ビームの光路中に配置
され、前記平行成分の偏光方向をある意味で９０°だけ
回転し、前記垂直成分の偏光方向を他の意味で９０°だ
け回転し、前記負角度ビームが前記回折格子上に入射し
たときに、平行成分が格子要素に対して垂直であり、垂
直成分が格子要素に対して平行となり、２次回折された
正及び負のビーム間の偏光角度が９０°であるようにす
るための第３光偏光変調部材手段と、前記結合ビームを
受け取って、その平均強度を決定するための平均光検出
手段と、前記結合ビームの変化を、互いに変化する前記
正角度ビーム及び前記負角度ビームの位相として検出す
るための光検出手段と、前記２つの光検出手段からの信
号を受け取って、前記可動部材の変位を示す信号を出力
するための出力手段とを備えることにより、前記課題を
達成したものである。

【００７４】更に、本発明は、Ｘ−Ｙ位置検出器におい
て、２組の回折格子要素を有し、該格子要素の１組がＸ
方向に伸び、格子要素の他の組がＹ方向に伸び、２つの
組が同じピッチを有し、且つ、互いに垂直で正方形上の
回折パターンを形成し、単一平面上をＸ及びＹ方向に変
位可能な可動部材に連結された回折部材と、該回折部材
に近接され、一方の光源がＸ軸光源、他方の光源がＹ軸
光源であり、各光源がそれぞれ第１Ｘ領域及び第１Ｙ領
域で、前記回折部材上に入射して、Ｘ軸の正角度及び負
角度回折ビーム、及びＹ軸の正角度及び負角度回折ビー
ムを発生するための、１対の光源と、一方の対が前記Ｘ
正角度及び負角度回折ビームを前記回折部材に第２Ｘ領
域で反射して戻して、Ｘ軸光の結合ビームを発生し、第
２の対が、前記Ｙ正角度及び負角度回折ビームを前記回
折部材の第２Ｙ領域に反射して戻して、Ｙ軸光の結合ビ
ームを発生するための、２対の反射部材と、前記回折ビ
ームのそれぞれの光路中に配置され、通過する前記回折
ビームの偏光状態を回転するための光偏光変調部材と、
前記各結合Ｘ及び結合Ｙ軸光ビームを受け取って、前記
格子がＸ又はＹ方向に変位したときに、位相の変化に基
づく前記各Ｘ及びＹ結合ビームの強度の変化を示す信号
を出力するための１対の光検出手段と、該各光検出手段
からの信号を受け取って、前記可動部材のＸ方向及びＹ
方向の位置を共に出力する出力手段とを備えることによ
り、前記課題を達成したものである。

【００７５】又、前記Ｘ−Ｙ位置検出器において、前記
第１及び第２Ｘ領域を、互いにＸ軸に沿ってオフセット
し、前記第１及び第２Ｙ領域を、互いにＹ軸に沿ってオ
フセットすることができる。

【００７６】又、前記Ｘ−Ｙ位置検出器において、前記
第１及び第２Ｘ領域を、互いにＹ軸に沿ってオフセット
し、前記第１及び第２ＸＹ領域を、互いにＸ軸に沿って
オフセットすることができる。

【００７７】又、本発明は、回折格子が連結された物体
の位置を測定するための方法において、前記回折格子上
の第１選択位置に光を入射して、それぞれ前記回折格子
から離れて伸び、それぞれ回折格子要素の方向に対して
垂直に偏光された成分と回折格子要素の方向に平行に偏
光された成分を有する、正角度回折ビーム及び負角度回
折ビームを発生し、前記正角度及び負角度ビームを反射
して、前記回折格子の第２選択位置に戻し、前記正及び
負角度ビームが前記回折格子の第２選択位置に入射する
前に、それらの偏光状態を選択された軸について写像し
、前記回折格子上で前記正及び負ビームを２回目に回折
して、２次回折光の結合ビームを発生し、前記物体が移
動したときの前記正及び負角度ビーム間の位相の相対変
化を検出し、前記正及び負角度ビーム間の位相の相対変
化に基づいて、前記物体の位置を出力することにより、
前記課題を達成したものである。

【００７８】又、前記位置測定方法において、更に、前
記写像の前に、前記各正及び負角度ビームを偏光子に通
すことができる。

【００７９】又、前記位置測定方法において、更に、前
記写像の後で、前記各正及び負角度ビームを偏光子に通
すことができる。

【００８０】又、前記位置測定方法において、更に、前
記選択された軸とは異なる第２の軸について、前記正角
度ビームの偏光状態を写像する第２の写像を行うことが
できる。

【００８１】又、前記位置測定方法において、前記写像
を、半波長遅延板に前記各ビームを通すことによって行
うことができる。

【００８２】又、前記位置測定方法において、前記光を
、格子表面に対する正の回折角に等しい角度で、前記回
折格子の格子表面に入射することができる。

【００８３】又、前記位置測定方法において、前記第２
の位置を、前記回折部材上の前記回折要素に平行な方向
に、前記第１の位置からオフセットすることができる。

【００８４】

【作用】本発明において、読取ヘッドは格子に近接して
配置される。この読取ヘッドは、光を格子上に照射する
。この光は、格子によって２つの光ビームに回折される
。この光ビームは格子に向かって戻るように反射され、
２回目の回折を受け、１つのビームに結合される。 各光ビームの偏光状態は、２回目の回折を受ける前に変
調される。回折格子の溝（回折要素）に平行なビームの
偏光成分は、回折格子溝に垂直に回転され、回折格子溝
に垂直なビームの成分は、回折格子溝に平行に回転され
る。それぞれ垂直及び平行方向に偏光された光の回折効
率の違いの影響は、単一ビームに結合される前に、同じ
光が、それぞれ互いに反対の異なる２つの偏光状態で入
射するので打ち消される。

【００８５】１つの実施例においては、偏光子が選択さ
れた偏光角で光を遮閉し、ビームは格子溝に対して垂直
又は平行のいずれかに偏光される。この実施例では、偏
光子から出たビームの偏光状態は９０°回転され、偏光
方向を逆転し、格子溝に対して平行な偏光ビームを垂直
に、垂直な偏光ビームを平行にする。

【００８６】他の実施例においては、反射光が偏光子を
通過せず、ビームは偏光写像ステージを通過して、それ
らの偏光状態を選択された軸について写像する。この実
施例では、ビームの１つが垂直成分について写像され、
平行成分の方向を逆転し、垂直に対して４５°写像され
、切替えられた平行及び垂直成分を有する波を与える。 他方のビームは、平行に対して４５°写像され、偏光さ
れた、回転光ビームを与える。

【００８７】反射された光ビームが、第１光ビームに対
して回折格子に衝突する場所は、１つの実施例では、よ
り長いスケール走行を与えるように選択される。例えば
、回折格子上に入射する光の２つの場所が、格子の移動
方向に垂直に並べられ、その結果、検出パターンが少な
い領域を占め、スケールの同じ長さが、より長い変位を
測定するために使用される。

【００８８】更に他の実施例においては、光が表面に対
して正確な角度で回折格子に入射し、先行技術で可能で
あったよりも小さい格子ピッチでスケールの読取りを可
能とする。この角度は、好ましくは、正の回折角と同じ
である。

【００８９】回折格子は、単一の軸に沿う位置を検出す
るために、全ての格子溝が互いに平行で、移動方向に対
して垂直な単純な格子であることができる。あるいは、
格子は、Ｘ及びＹ軸の位置検出を可能とするＸ−Ｙ格子
であってもよい。格子は、透過格子又は反射格子のいず
れであってもよい。

【００９０】

【実施例】以下図面を参照して、本発明の実施例を詳細
に説明する。

【００９１】図６は、先行技術の問題点を克服する本発
明の原理に従って動作する変位検出システムを示したも
のである。

【００９２】本発明の原理によれば、光検出器３８によ
って感知されたＤＣ値が、振幅Ａに直接比例することが
保証された検出回路が与えられ、従って、自動利得制御
システムと共に振幅Ａの制御に常に用いることができる
。更に、回折ビーム上のスケールの偏光効果は、ビーム
が回折格子１６を１回目と２回目にぶつかる間に、偏光
を調整することによって補正され、前記効果が打ち消さ
れる。出力ビームの２つの成分の偏光は、ビームの各部
分が同じ回折効率となるように回転される。

【００９３】図６に示すように、偏光効果を補償するた
めのシステムは、点１３から回折された光ビーム中に、
点２４で２回目に格子スケール１６にぶつかる前に配置
されたλ／２（半波長）遅延板６０、６２を含む。（図
１の先行技術と類似した要素は、同じ引用数字を持って
いる。）

【００９４】先行技術で知られているように、λ／２遅
延板は、入力ビームの板に対する偏光状態の高速軸につ
いて、鏡像を発生する性質を有する。（λ／２遅延板自
体及びその性質は、先行技術で知られており、任意の公
知の先行技術のλ／２遅延板が本発明で使用できる。）

【００９５】λ／２遅延板６０及び６２の高速軸は、各
偏光子２６及び２８の偏光方向に関して４５°に配向さ
れており、各出力ビーム３７及び３９の偏光方向を、正
確に９０°だけ回転する。各ビームの偏光方向が９０°
回転された後で、ビームは、点２４で格子スケール１６
にぶつかり、２回目の回折を受けて、単一ビーム６４に
結合される。

【００９６】偏光子２６から出た右側ビームは、点１３
で格子スケール１６に最初にぶつかったときの垂直回折
効率によって影響されたビーム１７の部分を表わしてい
る。このビームの偏光状態は、それから遅延板６０によ
って回転され、その結果、それがビーム３９として２回
目に格子スケール１６にぶつかるときに平行回折効率に
よって減衰される。同様に、偏光子２８から出た左側ビ
ームは、点１３でスケールに最初にぶつかったときに平
行回折効率によって減衰され、ビーム３７として点２４
で２回目に格子１６にぶつかる前に回折格子溝２０に垂
直な偏光に回転される。従って、ビーム６４の各部分は
、平行偏光回折効率によって１回、垂直偏光回折効率に
よって１回減衰される。ビーム３７及び３９は、共に同
じ回折効率を通過して、回折効率の相違に基づく強度の
相対的な変化が効率良く打ち消され、偏光回折効率の違
いに基づく２つのビーム間の比が常に１に等しくなるこ
とを保証する。

【００９７】本発明の原理に従う出力ビーム６４の成分
を表わす式は次の通りである。

【００９８】 　　　　Ｅｏｐ＝Ｂ＊ｋｓ＊ｋｐ＊ｃｏｓ　（ωｔ　＋
Ｐ／２）　　　　　　…（１６）　　　　Ｅｏｓ＝Ｂ＊
ｋｐ＊ｋｓ＊ｃｏｓ　（ωｔ　−Ｐ／２）　　　　　　
…（１７）

【００９９】式（１６）及び（１７）から明
らかなように、回折効率ｋｓ及びｋｐの効果が、右側及
び左側ビームの両者において互いに掛け合わされる。ｋ
ｐ＊ｋｓの値は、ｋｓ＊ｋｐの値に等しいであろう。

【０１００】先行技術装置との違いは、（１６）式を（
９）式と比べることによって容易に分かる。（９）式に
よれば、平行回折効率ｋｐはそれ自身によって掛け合わ
されてｋｐ２　の因子を発生し、ｋｐがｋｓに等しくな
ければ誤差を発生する。同様に、（１０）式はｋｓ２　
の因子を含んでいる。しかしながら、（１６）式及び（
１７）式の両者において、ｋｐがｋｓによって掛け合わ
されるので、誤差を２乗するというよりも、誤差が効率
的に打ち消される。

【０１０１】従って、本発明の装置に従う直角位相出力
信号は、次式によって表わされる。

【０１０２】 　　　　Ｉ１　＝Ｃ＊〔（ｋｐ２　＊ｋｓ２　）＋（ｋ
ｓ２　＊ｋｐ２　）　　　　　　　　　　　　　　＋２
＊ｋｐ２　＊ｋｓ２　＊ｃｏｓ　（Ｐ）〕　　　　　　
…（１８）　　　　Ｉ２　＝Ｃ＊〔（ｋｓ２　＊ｋｐ２
　）＋（ｋｐ２　＊ｋｓ２　）　　　　　　　　　　　
　　　＋２＊ｋｓ２　＊ｋｐ２　＊ｓｉｎ　（Ｐ）〕　
　　　　　…（１９）

【０１０３】（１８）式及び（１
９）式を見ると、本発明においては、振幅Ａの部分が、
常に平均強度直流レベルに比例しており、従って、次式
の関係が成立する。この条件は、先行技術の（２）式及
び（３）式において、仮定されてはいたが、スケールの
不完全さのために常には真実ではなかった。

【０１０４】 Ａ＝ＤＣ＝２＊Ｃ＊ｋｐ２　＊ｋｓ２　　　　　　　…
（２０）更に、信号Ｉ３　は次式で表わされる。

【０１０５】 　　　　Ｉ３　＝Ｄ（ｋｐ２　ｋｓ２　＋ｋｓ２　ｋｐ
２　）＝２＊Ｄ＊ｋｐ２　＊ｋｓ２　　　　　　　…（
２１）

【０１０６】従って、信号Ｉ３　は、平均強度直
流レベルに直接比例するだけでなく、回折格子１６の偏
光効果によらず、振幅Ａにも直接比例する。振幅は、（
２０）式によって示されるように、常に直流レベルに等
しい必要はなく、むしろ、振幅が直流レベルに比例して
いれば十分である。従って、偏光子又は半波長遅延板の
一方が、その透過品質に完全に適合していなくても、直
流レベルは、振幅に等しくなくても比例しており、フィ
ードバックを与えるのに用いることができる。直流レベ
ルは、従って、フィードバックループ及びアンプを用い
て振幅Ａを一定値に維持するための自動利得制御システ
ム中で振幅Ａを測定するために用いられる。

【０１０７】図７に示されているように、振幅Ａは、（
２０）式で示されるように平均直流レベルに等しい。 平均強度、即ち直流レベルは、今や振幅を一定値に維持
するための自動利得制御システム中で振幅Ａを測定する
ために用いられる。共に先行技術で周知の回路要素であ
るフィードバックループ及びアンプが、回折格子の偏光
効果に拘らず、振幅Ａを一定値に維持するのを保証する
ために用いられる。

【０１０８】既に述べたように、そのようなフィードバ
ックが先行技術で用いられたとき、それは、残念ながら
、回折効率が異なると振幅Ａが直流レベルに直接比例し
ないため、エラーを複合する効果を有していた。

【０１０９】図６に示すように、ビーム１７と１８が格
子スケール１６にぶつかる各点の間でビームの偏光方向
を回転する他の利点は、ビームが各回折点で受ける位相
シフトによる誤差を除去することである。回折点におい
て、出力ビームは、入力ビームに対して位相が遅延され
る。この位相の遅れは、Ｐ−及びＳ−偏光ビームに対し
て異なっている。もし検出が先行技術に従って行われれ
ば、この位相変化ΔＰは、格子が変位したときの要素ビ
ーム間の位相差Ｐに加えられる。スケールの不完全性に
よって一般的であるように、ΔＰがスケール領域に亘っ
て変化すると、スケール変位によって生じたのではない
位相変化に基づく変位測定の誤差となる。本発明により
、回折ビームが、１つの回折点ではＰ−偏光され、他の
回折点ではＳ−偏光されるように矯正することによって
、位相差ΔＰが効率的に除去される。従って、回折によ
って生じる位相シフトに基づくスケール変位の誤差がな
く、これは本発明の先行技術に対する他の利点である。

【０１１０】本発明の原理によれば、単一のビームがス
ケール上の単一点に入射する。スケール自体がビームを
分離し、２回目に入射する際に、検出用ビームにビーム
を結合する。単一ビームを用いて単一点にぶつけること
によって、２つの回折ビームのそれぞれについて均一の
スケール条件が保証される。反射ビームがスケールにぶ
つかるときには、それらは共に同じ点でぶつかり、やは
り臨界点における一様なスケール条件が保証される。ス
ケールからの２つの回折を選択することによって、スケ
ール自体がビーム分離及び結合要素となる。単一の入射
ビームを用いて、スケール自体を分離及び結合要素とし
て用いることは、誤差を生じる機会を大いに減らす単純
な設計である。

【０１１１】図８−図１０は、偏光子２８及び遅延板６
２の他の配置を示している。図６で示されているように
、偏光子２８及び半波長遅延板６２の望ましい位置は、
反射器２７によって生じる光ビーム３７の効果を減らす
ために、反射器２７の後である。しかしながら、いくつ
かの実施例においては、光が反射器２７にぶつかる前に
光の偏光状態を変えることが望ましいかもしれない。図
８に示されているように、偏光子２８及び半波長遅延板
６２は、ビーム１８中の、それが反射器２７にぶつかる
前に配置されている。光ビームの偏光状態は、図６を用
いて説明したような方法で変えられる。光ビーム３７は
、それから回折格子１６に戻り、既に説明した原理に従
って、２回目の回折を受ける。

【０１１２】図９は、偏光子２８が反射器２７の前に配
置され、半波長遅延板が反射器２７の後に配置された実
施例を示している。出力ビーム３７は、反射器２７がビ
ームの偏光状態を変えないと仮定して、図６に関して既
に説明した如く変調される。

【０１１３】図１０は、偏光子２８が、反射器２７の前
及びその反射後の両ビーム１８及び３７を横切って伸び
ている。光は、それから半波長遅延板６２に入射して、
既に述べたように出力ビーム３７を与える。

【０１１４】図８−図１０の変形実施例は、ある状況下
において、光ビーム１８の偏光状態を、２回目の回折を
受ける前に適当に変えることを保証したい場合に望まし
い。

【０１１５】偏光子及び半波長遅延板の順序は、所望に
より交替される。例えば、半波長遅延板６２は、偏光子
２８の前のビーム中に配置され得る。図６、図８−図１
０に示した変形例は、遅延板６２に対しても適用できる
。遅延板は、偏光子の前のビーム中や、反射器の前又は
後のいずれかに配置できる。図１０の偏光子２８に対し
て示したのと同様に、反射前又は反射後の両ビーム１８
及び３７に広がる１／４波長板を使用することもできる
。波は１／４波長遅延板を２回通過するので、１／２波
長遅延板によるように、効率的に回転される。本発明の
範囲内において、他の変形も可能である。

【０１１６】図１の従来技術及び図６の本発明システム
に関して説明したシステム及び方法の１つの欠点は、偏
光子２６及び２８が所望の偏光を持たない光を遮閉する
ため、かなりの光が失われるということである。

【０１１７】図１１及び図１２（ａ　）−（ｅ　）は、
格子１６から２つの反射を得るシステム及び方法を示し
ている。ここで、スケール格子の偏光効果は打ち消され
、ビームは、スケールに２回目にぶつかった後で互いに
直角に偏光され、その結果、それらは出力ビーム６８の
中で干渉しない。λ／２遅延板７０が、左側回折ビーム
７６の光路中に配置されている。２つのλ／２遅延板７
２及び７４が、右側ビームの光路中の、格子１６に２回
目にぶつかる前に直列に配置されている。各λ／２遅延
板７０、７２及び７４の高速及び低速軸は、偏光を選択
された軸について写像するように選択されている。

【０１１８】図１２（ａ　）−（ｅ　）は、図１１のシ
ステムにおいて、異なる段階におけるビームを表わして
いる。（光ビームの偏光はベクトルとして取り扱われ、
偏光の変化にベクトル数学が適用されている。）

【０１
１９】既に説明したように、λ／２遅延板は、ビームの
偏光の写像をその高速軸について発生する効果を有する
。入射ビーム１５の偏光は、図６（ａ　）で、角度β＝
４５°のＥｉ　として表わされている。

【０１２０】ベクトル数学で知られているように、入射
ビーム１５の偏光ベクトルＥｉ　は、格子溝２０に平行
な成分Ｅｉｐと、格子溝２０に垂直な成分Ｅｉｓの２つ
の成分に分けられる。入射ビーム１５が回折格子１６に
点１３でぶつかったとき、左側ビーム７６と右側ビーム
７８の２つの回折ビームが発生される。既に説明したよ
うに、理解及び引用を容易とするため、負角度回折ビー
ムが左側ビームとされ、正角度回折ビームが右側ビーム
とされている。図１１及び図１２（ｂ　）に示されるよ
うに、左側ビーム７６は、（Ｅ左側）に対して偏光ベク
トルＥｌ　を有し、平行方向に関して角度αを有する。 αは、Ｐ−及びＳ−偏光効率の相違に基づく任意の角度
である。Ｐ−及びＳ−回折効果が等しければ、角度αは
４５°となる。しかしながら、Ｐ−及びＳ−回折効果は
通常等しくなく、従って、αは未知の値であり、４５°
より大きいか又は小さい。同様に、回折ビーム７８の右
側は、ビーム７８のＥｒ　で表わされる偏光方向を同じ
角度αで有している。何故ならば、２つのビームは格子
１６の同じ場所に入射し、格子１６にぶつかる際に同じ
偏光を有するからである。

【０１２１】右側ビーム７８は、その後、逆反射器（コ
ーナーキューブ）２５によって反射され、第１λ／２遅
延板７２の方に向けられる。図１２（ｃ　）に示されて
いるように、λ／２遅延板７２は、その高速軸が回折格
子溝２０に対して垂直となるように配向されている。従
って、ビーム７８の偏光は、垂直軸成分の周りに写像さ
れ、偏光Ｅｒ　を垂直偏光についての写像に回転する。 λ／２遅延板７２から出たビーム８０は、図１２（ｃ　
）に示すような偏光を有している。ビーム８０は、その
後、第２λ／２遅延板７４に入射する。図１２（ｄ　）
に示したように、λ／２遅延板７４の高速軸は、格子溝
２０に対する平行方向から４５°に配向されており、従
って、ビーム８０の偏光を、出力波８２の偏光に写像す
る。

【０１２２】左側ビームの偏光の写像は、λ／２遅延板
７０の高速軸を格子溝２０に対して平行な方向から４５
°に配向することによって発生され、ビーム７６の写像
８４が発生される。図１２（ｄ　）に示すように、出力
波８４は、垂直ベクトルに対して角度αの偏光を持つよ
うになる。

【０１２３】格子溝に対して平行及び垂直な偏光成分は
、図１２（ｂ　）と図１２（ｄ　）を比較すれば分かる
ように、２つのλ／２板によって逆転された振幅を有す
る。従って、ビーム８２と８４が回折格子１６に２回目
にぶつかったとき、Ｓ−及びＰ−偏光効率の相違の効果
が打ち消される。各ビーム８２及び８４は、回折格子に
第２の点２４でぶつかり、新しい出力ビーム６８となっ
て回折される。出力ビーム６８は、図１２（ｅ　）で示
される左側及び右側ビームの結合である。Ｓ−及びＰ−
偏光回折効率の相違が打ち消され、従って、右側成分及
び左側成分は、同じ大きさを持ち、互いに９０°偏光さ
れている。更に、左側ビーム及び右側ビームの偏光は、
９０°だけ異なっており、従って、単一ビームに結合す
るときに、望ましい性質として、それらは干渉しない。

【０１２４】出力信号の位相の全ての変化は、スケール
の誤差によるものではなく、物体２３が動いたときの回
折格子１６の変位の結果であり、従って、変位の正確な
測定が可能になる。図６の装置に関して説明した式（１
６）−（２１）は、従って、実際の変位を決定するのに
使われる。しかしながら、偏光子が使われていないので
、実際の信号強度はかなり大きくなる。各ビームＩ１　
、Ｉ２　及びＩ３　の強度は、偏光子が使われたときの
対応するビーム強度の２倍以上である。

【０１２５】先行技術装置の他の欠点は、それらが光源
の波長よりも小さいピッチを有するスケールでは使えな
いということである。現在、波長約７８０ｎｍを有する
レーザダイオードが光源として使われている。使用可能
な最小スケールピッチは、約１μｍ　である。

【０１２６】本発明の他の実施例によれば、図１３及び
図１４に示すように、垂直方向に関して角度φの入射ビ
ーム９２を有している。（図１３は、図１４の平面図で
あり、従って、光源が各逆反射器から水平方向にオフセ
ットされていることを示している。）図１４中の角度θ
ｉ　は、入射角度φを格子溝２０と直交する垂直面へ投
影した角度であり、図１４中の角度θｚ　及びθｆ　は
、それぞれ０次の回折ビーム９６と１次回折ビーム９８
を前記垂直面へ投影した角度である。

【０１２７】単色光源９０は、平行光線化されたビーム
９２を、回折格子１６の表面の垂直方向９４に対して角
度φで回折格子１６上に照射する。このビーム９２は、
０次の回折ビーム９６と１次の回折ビーム９８（それぞ
れ右側及び左側ビーム）に回折される。０次ビーム９６
及び１次回折ビーム９８は、それぞれ逆反射器１００及
び１０２によって回折格子１６に反射して戻される。２
つの反射ビーム１０４及び１０６は、各回折ビーム９６
及び９８に対して平行であり、その結果、それらは入射
ビームがスケールにぶつかった点９１からオフセットさ
れた点１０８でスケールにぶつかる。点１０８で回折ビ
ームは２回目の回折を受け、結合されて単一出力ビーム
１１０となる。この出力ビーム１１０は、図４に示した
と同じタイプの光検出回路１１によって分析される。偏
光子１１４、１１６及びλ／２遅延板１１８、１２０は
、図６について既に説明したと同じ作用を有する。図１
１について説明したように、λ／２板のみが使われてい
る配置も使用可能である。

【０１２８】入射ビームの入射点９１の、反射ビームの
入射点１０８に対する関係は、スケールを読み取る際に
望ましい条件が与えられるように選択される。図１３に
示したように、入射点９１及び出射点１０８は、スケー
ル格子溝２０の方向に垂直に互いに間隔が空けられてい
る。（スケール格子溝２０は、それらの方向をはっきり
示す目的で、かなり拡大されて示されている。実際の装
置においては、各格子のピッチは約１μｍ　であり、入
射点９１及び１０８の直径は、十分に大きく、数千の格
子溝２０をカバーする。）

【０１２９】入射点９１及び１０８は、それらが重なら
ないように、離されていなければならない。ビームによ
ってカバーされる領域は、かなりのスケール領域をとる
かもしれない。

【０１３０】図１５は、図１３と同じ読取ヘッドを示し
ているが、反射器１０２及び１００は、入射点９１及び
１０８が、スケール移動方向に沿うというよりもむしろ
、互いに横方向に、格子溝２０と平行に配置されるよう
に配向されている。図１５の配置によれば、幅広のスケ
ールが必要であるけれども、スケール移動方向のビーム
足跡が狭くなるため、決まったスケール長に対してより
長い測定範囲が可能である。

【０１３１】入射ビーム９２が正確な角度を有する利点
は、回折格子にぶつかる光についての物理的な原理を検
討すれば最もよく理解される。格子によって回折される
光の角度は、次式で与えられる。

【０１３２】 ｓｉｎ　θｉ　＋ｓｉｎ　θ０　＝ｎ　＊λ／ｐ　　　
　　　　…（２２）

【０１３３】ここでθｉ　は、格子
１６に垂直で格子溝２０に平行な平面に対する入射ビー
ムの角度、θ０　は、同じ面に対する回折ビームの角度
、ｎ　は回折の次数、λは光の波長、ｐ　は格子ピッチ
である。

【０１３４】表面に対して垂直な入射ビームに対しては
、ｓｉｎ　θｉ＝０である。表面に垂直なビームに対す
る式（２２）は、一次の回折に対しては、ｓｉｎ　θ０
　＝λ／ｐ　となる。０．７８μｍ　の光の波長及び１
μｍ　のピッチに対しては、角度θ０　＝５１．２６°
となる。１．５μｍ　のピッチに対しては、θ０　＝３
１°となるが、０．８μｍ　のピッチに対しては、θ０
　＝７７°となる。０．７８μｍ　のピッチに対しては
、θ０　＝９０°となるが、これは、反射器及びセンサ
を配置するのに困難な場所である。ピッチが０．７８μ
ｍ　よりも小さくなると、ｓｉｎ　θ０　が１より大き
くならなければならず、不可能であり、一次の回折は本
質的に消えてしまう。この理由で、入射ビームが表面に
対して垂直である場合には、十分な回折角を確保するた
めに、ピッチは、入射光の波長よりもいくらか大きくな
ければならない。

【０１３５】小さなピッチを使うことの利点は、スケー
ルの直線性がかなり改善されることである。スケールを
製造する際に、スケールパターンの直線性に比べて、ス
ケール全体の精度についての注意がしばしば忘れられる
。スケールパターンの直線性について関心が払われる理
由は、誤差をもたらすスケール因子が、各読取りに単一
の校正定数を乗ずることによって、電子回路でかなり容
易に補正されるからである。しかしながら、直線性誤差
は、各スケール点に対して個々の校正値を必要とするの
で、校正定数を決定するのは困難である。

【０１３６】スケールをホログラフィーで製造する方法
は、高い直線性を有するスケールを得ることを可能にす
る。直線性は、主に、ミラーの表面品質にかかっている
。ミラー表面の不完全さが、波面を、完全に平坦な状態
から歪める。波面の偏りｄ　は、次式に示す誤差ｅ　を
生じる。

【０１３７】 ｅ　＝（ｄ　／λｇ　）＊ｐ　　　　　　　　　…（２
３）

【０１３８】ここでλｇ　は、スケールの製造に用
いられる光源の波長、ｐ　はスケールピッチである。

【０１３９】この式から、直線性誤差は、スケールピッ
チに直接比例することがわかる。スケールピッチが小さ
くなるほど、ホログラフィーによって製造されたスケー
ルの直線性誤差も小さくなる。

【０１４０】図１３−図１５の読取りヘッドの利点は、
基本的な回折方程式を検討することによってもわかる。

【０１４１】 ｓｉｎ　θｉ　＋ｓｉｎ　θ０　＝ｎ　＊λ／ｐ　　　
　　　　　　…（２４）

【０１４２】ここで、ｎ　は、
回折光の回折の次数、θｉ　は入射光の角度、θ０　は
回折光の角度である。

【０１４３】θｉ　が（０でなく）θ０　に等しく設定
されると、上式は次式のようになる。

【０１４４】 ｓｉｎ　θ０　＋ｓｉｎ　θ０　＝ｎ　＊λ／ｐ　　　
　　　　　　…（２５）又は ２　　ｓｉｎ　θ０　＝ｎ　＊λ／ｐ　　　　　　　　
　　　　　　　…（２６）この（２６）式を変形すると
、次の（２７）式が得られる。 ｓｉｎ　θ０　＝ｎ　＊λ／２ｐ　　　　　　　　　　
　　　　　　　…（２７）

【０１４５】従って、ピッチ
は、従来技術で可能であったものに比べて、１／２に小
さくでき、同じ光波長に対して同じ回折角θ０　を達成
することができる。入射ビーム９２の角度θｉ　を一次
回折ビーム９８の角度θ０　に等しく設定することで、
スケール表面１６に垂直な方向にスケールが走り出てし
まうことによる測定スケール変位の誤差もなくなる。

【０１４６】図１３−図１５の読取りヘッドの他の利点
は、入射ビームが表面に垂直でないということであり、
これによって図１の先行技術の光源１０に反射されて戻
ってしまう光に伴う問題点が避けられる。戻り反射光は
、レーザダイオードのビーム中、従って、スケール出力
ビーム中にノイズを発生する。

【０１４７】他の利点は、図１の従来技術に従う読取り
ヘッドのような、完全に対称な形状配置で問題となる、
読取りヘッド中の有害な多重反射の影響を除去できるこ
とである。逆反射器の所の偏光子が２回目の回折によっ
て生じる０次のビームを防いだとしても、それは、逆反
射器からきたビームがスケールに再びぶつかるときであ
り、その点で発生された２次の回折ビームは、各ビーム
光路を逆に辿ってレーザダイオード光源１０に入り、そ
れを妨害する。光源１０をある角度に置くことによって
、このような問題点が避けられる。

【０１４８】前記のように、傾けられた入射ビームによ
れば、検出器からの出力信号の分解能は、スケールピッ
チをｐ　としてｐ　／２となる。０．５μｍ　ピッチの
スケールに対しては、出力分解能は、出力信号周期につ
いて０．２５μｍ　となり、これは、１μｍ　ピッチの
スケールと法線入射入力ビームに対するものと同じであ
る。

【０１４９】より小さなスケールピッチの利点は、より
良いスケール直線性が得られることにある。所望であれ
ば、ビーム９８は、一次の回折ビームの代わりに、二次
の回折ビームとして選択することもできる。与えられた
スケールピッチに対して、出力信号周期についてｐ　／
４の分解能、即ち、法線入射ビームによるスケール読取
りと同じ分解能を達成することができる。

【０１５０】図６−図１５に関連して説明された読取り
ヘッドの原理は、Ｘ−Ｙ変位測定装置で使われる読取り
ヘッドに対しても適用できる。図１３−図１５に関して
概略を説明した原理が、図１６及び図１７のＸ−Ｙエン
コーダとして示されている。

【０１５１】図１６は、Ｘ−Ｙデコーダ読取りヘッドの
平面図である。この読取りヘッドは、互いに垂直で、各
格子が変位測定方向に対して垂直である格子上に入射す
る基本的に２つの独立した線形読取りヘッドである。即
ち、光源１２１からの光は、検出器１１と関連してＸ方
向の変位を測定し、光源１２４からの光は、光検出器シ
ステム１２と関連してＹ方向の変位を測定する。

【０１５２】図１３−図１５に関して既に説明したのと
同じ原理が、図１６と図１７の実施例にも適用される。 光源１２１からの光は、点１２８に入射し、各回折ビー
ムに回折され、反射器１１７及び１１９によって、点１
３０に反射して戻される。それは、２回目の回折を受け
、既に説明したと同様な方法で、検出器１１によって感
知される。同様に、光源１２４からの光は、点１３２で
回折され、逆反射器１３６及び１３８で、点１４０に向
けて反射され、そこで、ビームは２回目の回折を受けて
、検出器１２で感知される。同じ構成要素には同じ引用
数字を付した図１３−図１５に関して既に説明したよう
に、ビームは適当な偏光子及びλ／２遅延板を通過する
。

【０１５３】図１６の実施例において、入射点１２８と
１３０の関係は、各スケール移動の方向に沿っており、
Ｘビームはスケールに沿ってＸ方向の横方向に間隔をあ
けられている。同様に、Ｙビーム１３２と１４０の２つ
の入射点は、スケールのＹ方向に沿って横方向に間隔を
あけられている。図１７の実施例において、光源１２１
、１２４及び逆反射器１１７、１１９、１３６及び１３
８は、スケール上の各入射点が、図１５に関して説明し
たと同様に、各スケール方向に垂直であるように配向さ
れている。

【０１５４】図１８は、Ｘ−Ｙ変位感知装置のために単
一の光源が使用されている設計を示している。以前の実
施例で２つに分かれていた光源は、単一の光源１４１と
１つの逆反射器（コーナーキューブ）１４２で置換えら
れている。単一光源Ｘ−Ｙ位置検出器の作用は、両方向
の測定に対して同じであり、図６−図１７に関して既に
説明したものと同様である。

【０１５５】以下、Ｘ方向の変位に関して動作原理を説
明する。

【０１５６】レーザダイオード１４１からの単色で平行
光線化された入射ビーム１４６は、その偏光方向が、ス
ケール１６上の格子に対するＰ−及びＳ−偏光方向に対
して４５°の角度となるように直線偏光されている。こ
のビームは、スケールに対して垂直な平面内にあり、Ｘ
−Ｚ及びＹ−Ｚ平面の両方に対して４５°の角度をなし
ている。図１８の座標系に示すように、Ｚ−軸は、紙面
に垂直である。入射ビームは、それからＸ及びＹ測定方
向の間で対称的に分けられる。ビーム１４６は、点１４
８で回折されて、０次ビーム１５０と２つの一次ビーム
１５１及び１５２になる。０次ビーム１５０は、逆反射
器１４２で反射されて、点１５４に戻る。（図１８の平
面図において、ビーム１５０及び反射ビーム１５３は一
致しているように見えるが、実際は、側面図で明らかな
ように、逆反射器１４２によって、互いに垂直方向にオ
フセットされ、分離されている。）

【０１５７】反射ビーム１５３は、偏光子１５６及びλ
／２遅延板１５８を通過して、偏光方向が９０°回転さ
れる。点１５４で、このビームは２回目の回折を受け、
変位検出するためのＸ−及びＹ−回折ビームを伴うビー
ムに結合される。

【０１５８】Ｘ方向の変位は、反射され、ビーム１５５
及びビーム１５３に変調された一次ビーム１５２からの
結合ビーム１６４を使って測定される。ビーム１５２は
、逆反射器１６２によって反射され、偏光子１４３及び
λ／２遅延板１４５を通過して、ビーム１５５として戻
され、２回目の回折のために点１５４上に入射する。 １５３として反射して戻された０次の回折ビームは、一
次の回折反射ビーム１５５と結合されて、結合出力ビー
ム１６４となる。各要素ビームは、直交する偏光方向を
有しており、図６に関して説明したように、互いに干渉
しない。ビーム１６４は、ハーフミラー１６９によって
反射され、Ｘ検出器１６８によって取出される。Ｘ検出
器１６８は、図１の検出器１１に関して配置を図示し、
説明したものと同様である。Ｘ方向の直線変位が、この
ようにして感知される。

【０１５９】Ｙ変位は、Ｘ変位と同様な方法で感知され
る。入射ビーム１４６は、回折ビーム１５０と、他の一
次回折ビーム１５１に分離される。ビーム１５１は、ビ
ーム１５７として反射され、偏光子１６１及び半波長遅
延板１６３を通過する。ビーム１５７は２回目の回折を
受け、ビーム１５３と結合されて、Ｙ検出器１７２によ
って検出される出力ビーム１７０を形成し、Ｙ方向の変
位が感知される。

【０１６０】入射ビームとスケール間の角度θｉ　（図
１９参照）は、次のように選択される。

【０１６１】

【数１】

【０１６２】ここでλは光源の波長、ｐ　はスケールピ
ッチである。

【０１６３】このようにθｉ　を選択すると、一次回折
ビームとスケール間の角度もθｉ　に等しくなる。これ
は、スケール表面に垂直な方向へのスケールの飛び出し
による測定の誤差を除去するのに役立つ。入射点１４８
及び１５４は、Ｘ及びＹ回折格子の正方形のグリッドパ
ターンに沿って互いに対角線方向に間隔をあけるように
選択されている。図１１の実施例のように偏光子が使用
されていなければ、感知されるビームの強度は、２つの
光源によって感知されるものと等しくなるであろう。

【０１６４】図１９は、図１３〜図１５のものと同様の
本発明の原理を有する装置を示しており、回折格子１６
は、反射格子ではなく、透過格子である。透過格子を用
いること自体は、この分野で周知であり、その教えを与
えることによって、回折部材１６として反射格子ではな
く回折格子を用いるシステムを構成することも可能であ
る。

【０１６５】簡単に説明すると、光ビーム９２は、回折
部材１６に初期角度θｉ　で入射する。この光は、０次
ビーム９６と一次ビーム９８に回折される。これらのビ
ームは、スケール１６で反射されるのではなく透過する
。 反射器、偏光子及び半波長板は、回折格子１６に関して
光源１０とは反対側にあり、同様の要素に同じ引用数字
を使った図６−図１０及び図１３−図１５に関して既に
説明したように動作する。光ビームが２回目の回折を受
けた後で、結合ビームが、既に説明したように、検出器
１１に与えられる。

【０１６６】図２０は、回折部材１６が透過部材であり
、その表面に塗装され、又はエッチングされたパターン
を有している。図２０の構成の動作は、透過部材１６の
使用という点を除いて、図６−図１０の動作と同様であ
り、既に説明しているので、この分野の当業者にとって
明らかであろう。

【０１６７】利用可能な任意の透過性又は反射性回折部
材を含む、異なる回折部材及び格子要素を使用すること
ができる。現在この分野で利用可能な適当な回折部材又
は格子要素が使用できる。格子は、表面レリーフ格子、
光感光乳剤格子、薄い格子（浅い格子溝又は薄い格子板
）又は位相格子であることができる。表面レリーフ溝及
び塗装パターンが例示されていたが、適当な光の回折を
与える任意の要素が使用できる。

【０１６８】様々な実施例に関して、本発明を示し、説
明した。図１１に関して検討した特別な様相が、他の図
面中に示された実施例でも、本発明の原理に従って使用
できることは明らかである。本発明の原理が、直線型エ
ンコーダについて説明され線形運動を感知することが図
示されていたが、回転型エンコーダや回転運動の感知に
も又、本発明の原理を用いることができ、特許請求の範
囲中で規定されたような権利範囲内に入るものである。 同様に、構成や方法の様々な変形例も又、特許請求の範
囲によってのみ限定され、各実施例の具体的な説明によ
っては限定されない特許請求の範囲の権利範囲内に入る
ものである。

【０１６９】

【発明の効果】本発明によれば、スケール格子の偏光効
果が中立化されるので、比較的安価な光源と格子を用い
て、１０ｎｍよりも良い精度で直線変位及び正確な位置
を正確に測定することができるという利点を与える。先
行技術に対する第２の利点は、回折格子からの第２反射
の時の光の強度が、先行技術装置のそのような反射より
もかなり大きく、ノイズの影響を受け難い装置を提供で
きることである。

【０１７０】光源からの入射ビームを回折格子に対して
ある角度とすることで、先行技術装置では不可能であっ
た、光の波長よりも短いピッチを有する回折格子の使用
が可能となる。光源からの入射ビームを回折格子に対し
てある角度とすることの他の利点は、入射ビームへの戻
り反射光が避けられ、読取りヘッド内の多重反射による
有害な影響が除去されることである。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、先行技術に係る位置検出装置の側面図
である。

【図２】図２は、回折格子及びそれによって回折された
光の拡大側面図である。

【図３】図３は、図２の平面図である。

【図４】図４は、図１の先行技術の検出システムの読取
りヘッドの構成を示す側面図である。

【図５】図５は、先行技術における、２つの光信号の格
子位置に対する光強度の関係の例を示す線図である。

【図６】図６は、本発明の一実施例による位置検出シス
テムの側面図である。

【図７】図７は、本発明の一実施例における、２つの光
信号の格子位置に対する光強度の関係の例を示す線図で
ある。

【図８】図８は、本発明の実施例における、偏光子及び
半波長遅延板の他の配置を示す側面図である。

【図９】図９は、同じく、偏光子及び半波長遅延板の更
に他の配置を示す側面図である。

【図１０】図１０は、同じく、偏光子及び半波長遅延板
の更に他の配置を示す側面図である。

【図１１】図１１は、本発明の第２実施例による位置検
出システムの側面図である。

【図１２】図１２は、図１１の第２実施例における、様
々な位置での回折ビームの偏光成分とベクトルの関係を
示す線図である。

【図１３】図１３は、本発明の更に他の実施例の平面図
である。

【図１４】図１４は、図１３の側面図である。

【図１５】図１５は、本発明の更に他の実施例の平面図
である。

【図１６】図１６は、本発明の一実施例によるＸ−Ｙ位
置検出器の平面図である。

【図１７】図１７は、本発明の他の実施例によるＸ−Ｙ
位置検出器の平面図である。

【図１８】図１８は、本発明の更に他の実施例によるＸ
−Ｙ位置検出器の平面図である。

【図１９】図１９は、回折部材１６が透過格子である本
発明の他の実施例の側面図である。

【図２０】図２０は、回折部材１６がスケールパータン
を有する透過板である他の実施例の側面図である。

【符号の説明】

１０、９０、１２１、１２４、１４１…単色光源（レー
ザダイオード）、 １１、１２、１６８、１７２…光検出システム（回路）
、 １２…コリメータ、 １４…ミラー、 １５、９２、１４６…入射（光）ビーム、１６…回折格
子スケール（回折部材）、１７、３０…正角度回折ビー
ム、 １８、３２…負角度回折ビーム、 ２０…回折格子溝（格子要素）、 ２３…物体、 ２５、２７、１００、１０２、１１７、１１９、１３６
、１３８、１４２…逆反射器（コーナーキューブ）、２
６、２８、１１４、１１６、１４３、１５６、１６１…
線形偏光子、 ３８…光（平均強度）検出器、 ５０、５４…光（直角位相信号）検出器、Ｉ１　、Ｉ２
　…直角位相信号、 ６０、６２、７０、７２、７４、１１８、１２０、１４
５、１５８、１６３…半波長（λ／２）遅延板、６４、
６８、１１０、１６４、１７０…単一（結合）出力ビー
ム、 ７６、９８…左側（負角度）回折ビーム、７８、９６…
右側（正角度）回折ビーム、１０４、１０６、１５３…
反射ビーム、１６８…Ｘ検出器、 １７２…Ｙ検出器。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】回折格子を有し、位置が測定されるべき可
   動部材に連結された回折部材と、該回折部材に隣接し、
   前記回折格子の第１選択領域上に入射して、該回折格子
   により第１及び第２回折ビームに回折される第１光ビー
   ムを発生する光源と、前記回折部材からの前記第１回折
   ビームを受け取り、該第１回折ビームを前記回折部材に
   反射して戻し、前記回折部材上の第２選択領域に入射し
   て、２回目の回折を受け、２次回折光の結合ビームに結
   合するための第１反射手段と、前記第１回折ビームの光
   路中に配置され、通過する前記第１ビームの偏光状態を
   回転するための第１偏光回転部材と、前記回折部材から
   の前記第２回折ビームを受け取り、該第２回折ビームを
   前記回折部材に反射して戻し、前記回折部材上の前記第
   ２選択領域に入射して、２回目の回折を受け、２次回折
   光の結合ビームに結合するための第２反射手段と、前記
   第２回折ビームの光路中に配置され、通過する前記第２
   回折ビームの偏光状態を回転し、前記第１及びこの第２
   偏光回転部材手段が、２つの回折ビームのそれぞれが、
   前記スケールより同じ偏光作用を受け、前記結合ビーム
   に形成されたときには互いに９０°であるようにするた
   めの第２偏光回転部材手段と、前記結合ビームを受け取
   って、格子の変位によって生じる２つのビーム間の位相
   の変化を示す信号を出力するための光検出手段と、該光
   検出手段からの信号を受け取って、前記可動部材の変位
   を示す信号を出力するための出力手段と、を備えた位置
   検出器。
2. 【請求項２】請求項１において、前記第１偏光回転部材
   手段を通過する前の前記第１回折ビームの偏光状態が、
   前記回折部材上の格子要素に対して垂直で、前記第１偏
   光部材を通過した後では前記格子要素に対して平行であ
   り、前記第２偏光回転部材手段を通過する前の前記第２
   回折ビームの偏光状態が、前記回折部材上の格子要素に
   対して平行で、前記第２偏光回転部材を通過した後では
   前記格子要素に対して垂直であることを特徴とする位置
   検出器。
3. 【請求項３】請求項１において、前記第１ビームの入射
   角が、前記第１回折ビームと前記回折部材の表面間の角
   度、及び、前記第２回折ビームと前記回折部材間の角度
   と同じになるように、前記回折部材の表面に対して正確
   に選択された角度であることを特徴とする位置検出器。
4. 【請求項４】請求項１において、更に、前記第１回折ビ
   ームの光路中に、前記回折部材上の格子要素に関して選
   択された向きにある光線を阻止するための第１偏光子を
   含むことを特徴とする位置検出器。
5. 【請求項５】請求項１において、前記可動部材がＸ軸及
   びＹ軸方向に変位し、前記回折格子が、互いに垂直な格
   子要素を有する回折パターンを含み、前記第１領域及び
   前記第２領域が、前記格子要素のそれぞれに関して、あ
   る角度で互いにオフセットされていることを特徴とする
   位置検出器。
6. 【請求項６】請求項１において、更に、前記第１ビーム
   の光路中に配置され、通過する光線の偏光状態を回転し
   て、前記回折部材に２回衝突した後で、前記第２回折ビ
   ームの偏光角度から９０°の偏光状態を有する第１回折
   ビームを発生させるための第３光偏光回転部材を含むこ
   とを特徴とする位置検出器。
7. 【請求項７】回折格子を有し、位置が測定されるべき可
   動部材に連結された回折部材と、前記回折格子に近接し
   、第１選択領域で前記回折格子上に入射され、回折パタ
   ーンで前記回折格子から回折される第１光ビームを発生
   する光源と、前記回折部材から正の角度で回折された、
   偏光状態にあり、前記回折格子要素に関して垂直な偏光
   成分と平行な偏光成分を有する正角度回折ビームを受け
   取り、該正角度回折ビームを前記回折部材に反射して戻
   し、前記回折部材の第２選択領域上に入射して、２次回
   折光ビームを発生するための第１反射手段と、前記正角
   度ビームの前記第１反射部材に対する光路中に配置され
   、前記正ビームの偏光状態の前記平行又は垂直成分のい
   ずれかの偏光方向を逆転するが、該正ビームの偏光状態
   の他の成分には影響を与えない第１光偏光変調部材手段
   と、前記正角度ビームの光路中に前記第１光偏光変調部
   材と共に直列に配置され、光線が前記第１及び第２光偏
   光変調手段を直列に伝播するようにされ、前記平行成分
   の偏光方向を９０°だけ１つの方向に回転し、前記垂直
   成分の偏光方向を反対方向に９０°だけ回転することに
   よって、前記正角度ビームが前記回折格子上に入射した
   ときに、前記平行成分が回折格子要素に垂直となり、前
   記垂直成分が回折格子要素に平行となるようにするため
   の第２光偏光変調部材手段と、前記回折部材から反射さ
   れた負角度回折ビームを負の角度で受け取り、該負角度
   回折ビームを前記回折部材に反射して戻し、前記回折部
   材の前記第２選択領域に入射して、前記正角度ビームと
   結合させて前記正角度ビームと共に２次回折光の結合ビ
   ームとし、前記負角度回折ビームが偏光され、前記回折
   格子要素に関して垂直な偏光成分と平行な偏光成分を有
   するようにするための第２反射手段と、前記負角度ビー
   ムの光路中に配置され、前記平行成分の偏光方向をある
   意味で９０°だけ回転し、前記垂直成分の偏光方向を他
   の意味で９０°だけ回転し、前記負角度ビームが前記回
   折格子上に入射したときに、平行成分が格子要素に対し
   て垂直であり、垂直成分が格子要素に対して平行となり
   、２次回折された正及び負のビーム間の偏光角度が９０
   °であるようにするための第３光偏光変調部材手段と、
   前記結合ビームを受け取って、その平均強度を決定する
   ための平均光検出手段と、前記結合ビームの変化を、互
   いに変化する前記正角度ビーム及び前記負角度ビームの
   位相として検出するための光検出手段と、前記２つの光
   検出手段からの信号を受け取って、前記可動部材の変位
   を示す信号を出力するための出力手段と、を備えた位置
   検出器。
8. 【請求項８】２組の回折格子要素を有し、該格子要素の
   １組がＸ方向に伸び、格子要素の他の組がＹ方向に伸び
   、２つの組が同じピッチを有し、且つ、互いに垂直で正
   方形上の回折パターンを形成し、単一平面上をＸ及びＹ
   方向に変位可能な可動部材に連結された回折部材と、該
   回折部材に近接され、一方の光源がＸ軸光源、他方の光
   源がＹ軸光源であり、各光源がそれぞれ第１Ｘ領域及び
   第１Ｙ領域で、前記回折部材上に入射して、Ｘ軸の正角
   度及び負角度回折ビーム、及びＹ軸の正角度及び負角度
   回折ビームを発生するための、１対の光源と、一方の対
   が前記Ｘ正角度及び負角度回折ビームを前記回折部材に
   第２Ｘ領域で反射して戻し、Ｘ軸光の結合ビームを発生
   し、第２の対が、前記Ｙ正角度及び負角度回折ビームを
   前記回折部材の第２Ｙ領域に反射して戻して、Ｙ軸光の
   結合ビームを発生するための、２対の反射部材と、前記
   回折ビームのそれぞれの光路中に配置され、通過する前
   記回折ビームの偏光状態を回転するための光偏光変調部
   材と、前記各結合Ｘ及び結合Ｙ軸光ビームを受け取って
   、前記格子がＸ又はＹ方向に変位したときに、位相の変
   化に基づく前記各Ｘ及びＹ結合ビームの強度の変化を示
   す信号を出力するための、１対の光検出手段と、該各光
   検出手段からの信号を受け取って、前記可動部材のＸ方
   向及びＹ方向の位置を共に出力する出力手段と、を備え
   たことを特徴とするＸ−Ｙ位置検出器。
9. 【請求項９】回折格子が連結された物体の位置を測定す
   るための方法において、前記回折格子上の第１選択位置
   に光を入射して、それぞれ前記回折格子から離れて伸び
   、それぞれ回折格子要素の方向に対して垂直に偏光され
   た成分と回折格子要素の方向に平行に偏光された成分を
   有する、正角度回折ビーム及び負角度回折ビームを発生
   し、前記正角度及び負角度ビームを反射して、前記回折
   格子の第２選択位置に戻し、前記正及び負角度ビームが
   前記回折格子の第２選択位置に入射する前に、それらの
   偏光状態を選択された軸について写像し、前記回折格子
   上で前記正及び負ビームを２回目に回折して、２次回折
   光の結合ビームを発生し、前記物体が移動したときの前
   記正及び負角度ビーム間の位相の相対変化を検出し、前
   記正及び負角度ビーム間の位相の相対変化に基づいて、
   前記物体の位置を出力することを特徴とする位置測定方
   法。