JPH04267314A - 可飽和リアクトル用巻磁心の製造方法 - Google Patents
可飽和リアクトル用巻磁心の製造方法Info
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- JPH04267314A JPH04267314A JP3048884A JP4888491A JPH04267314A JP H04267314 A JPH04267314 A JP H04267314A JP 3048884 A JP3048884 A JP 3048884A JP 4888491 A JP4888491 A JP 4888491A JP H04267314 A JPH04267314 A JP H04267314A
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Landscapes
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はスイッチング電源、イン
バ−タ等の磁気増幅器、パルス圧縮回路に用いられる磁
気スイッチ、スパイク電圧阻止用素子や電流センサー等
に用いられる高周波における角形比の大きい超微結晶合
金からなる可飽和リアクトル用巻磁心の製造方法に関す
るものである。
バ−タ等の磁気増幅器、パルス圧縮回路に用いられる磁
気スイッチ、スパイク電圧阻止用素子や電流センサー等
に用いられる高周波における角形比の大きい超微結晶合
金からなる可飽和リアクトル用巻磁心の製造方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来、スイッチング電源等に使用されて
いる可飽和リアクトル用磁心には、50%Niパーマロ
イや80%Niパ−マロイ等が使用されていた。
いる可飽和リアクトル用磁心には、50%Niパーマロ
イや80%Niパ−マロイ等が使用されていた。
【0003】しかし、近年スイッチング電源の高周波化
が進むに伴って磁心損失が大きいパーマロイ磁心に代わ
り、高周波でも高角形比で低損失のCo基非晶質磁心が
可飽和リアクトルに使用されるようになってきているが
、Co基非晶質磁心は飽和磁束密度が低いため形状の小
型化の点で不利となるし、高価なCoを主原料するため
工業上価格的に問題がある。
が進むに伴って磁心損失が大きいパーマロイ磁心に代わ
り、高周波でも高角形比で低損失のCo基非晶質磁心が
可飽和リアクトルに使用されるようになってきているが
、Co基非晶質磁心は飽和磁束密度が低いため形状の小
型化の点で不利となるし、高価なCoを主原料するため
工業上価格的に問題がある。
【0004】一方、Fe基非晶質磁心は飽和磁束密度が
Co基非晶質磁心より高い特徴があるが、高周波ではC
o基非晶質磁心に比べ磁心損失の点で劣っており、特に
20kHz以上の周波数で駆動するスイッチング電源の
磁気増幅器に使用した場合、磁心の温度上昇が激しくな
り、電源効率の低下や周囲の部品の信頼性が低下する問
題がある。
Co基非晶質磁心より高い特徴があるが、高周波ではC
o基非晶質磁心に比べ磁心損失の点で劣っており、特に
20kHz以上の周波数で駆動するスイッチング電源の
磁気増幅器に使用した場合、磁心の温度上昇が激しくな
り、電源効率の低下や周囲の部品の信頼性が低下する問
題がある。
【0005】このような状況の下に本発明者等は特開昭
63−302504等で優れた軟磁性を示す超微結晶軟
磁性合金からなる磁心及びその製造方法を出願した。
63−302504等で優れた軟磁性を示す超微結晶軟
磁性合金からなる磁心及びその製造方法を出願した。
【0006】これらの磁心は優れた軟磁気特性を示し、
磁路方向の磁場中熱処理を行うことにより可飽和リアク
トルに適する高角形比で低損失の磁心を得ることができ
る。
磁路方向の磁場中熱処理を行うことにより可飽和リアク
トルに適する高角形比で低損失の磁心を得ることができ
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記超
微結晶巻磁心の製造において、結晶化する前の非晶質合
金薄帯を液体急冷法例えば単ロール法等により量産した
場合、薄帯の後半に行く程薄帯の面粗さが大きくなる傾
向があり、このような非晶質合金薄帯を使用して作製さ
れた超微結晶巻磁心ほど、高周波における角形比の低下
が大きく、可飽和リアクトル用としては不十分な特性で
あることが問題となってきた。
微結晶巻磁心の製造において、結晶化する前の非晶質合
金薄帯を液体急冷法例えば単ロール法等により量産した
場合、薄帯の後半に行く程薄帯の面粗さが大きくなる傾
向があり、このような非晶質合金薄帯を使用して作製さ
れた超微結晶巻磁心ほど、高周波における角形比の低下
が大きく、可飽和リアクトル用としては不十分な特性で
あることが問題となってきた。
【0008】本発明は量産した場合に、合金薄帯の後端
部を使用して作製した超微結晶巻磁心でも高周波におけ
る角形比の低下が少ない、可飽和リアクトルに適する高
周波で角形比の大きい微結晶軟磁性合金からなる巻磁心
の製造方法を提供することを目的とする。
部を使用して作製した超微結晶巻磁心でも高周波におけ
る角形比の低下が少ない、可飽和リアクトルに適する高
周波で角形比の大きい微結晶軟磁性合金からなる巻磁心
の製造方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記問題点
について鋭意研究を進めた結果、超微結晶粒を形成させ
る前の非晶質合金薄帯の応力緩和度が結晶化後の超微結
晶合金からなる巻磁心の磁気特性、特に高周波における
角形比に大きく影響することを初めて見い出し、本発明
を創出するに至った。
について鋭意研究を進めた結果、超微結晶粒を形成させ
る前の非晶質合金薄帯の応力緩和度が結晶化後の超微結
晶合金からなる巻磁心の磁気特性、特に高周波における
角形比に大きく影響することを初めて見い出し、本発明
を創出するに至った。
【0010】本発明は高周波における角形比の大きい超
微結晶軟磁性合金からなる巻磁心を製造する方法であっ
て、液体急冷により非晶質合金薄帯を作製する工程、前
記非晶質合金薄帯を巻回しトロイダル巻磁心とする工程
と、応力緩和度rs/raを以下の関係0.5≦rs/
ra≦1 とする前記非晶質合金の結晶化温度以下の応力緩和熱処
理工程と、前記巻磁心の磁路方向に磁場を印加しつつ当
該非晶質合金の結晶化温度以上に加熱保持して、500
オングストローム以下の平均粒径を有するbcc結晶粒
を形成させる熱処理を施す工程からなることを特徴とす
る可飽和リアクトル用巻磁心の製造方法である。
微結晶軟磁性合金からなる巻磁心を製造する方法であっ
て、液体急冷により非晶質合金薄帯を作製する工程、前
記非晶質合金薄帯を巻回しトロイダル巻磁心とする工程
と、応力緩和度rs/raを以下の関係0.5≦rs/
ra≦1 とする前記非晶質合金の結晶化温度以下の応力緩和熱処
理工程と、前記巻磁心の磁路方向に磁場を印加しつつ当
該非晶質合金の結晶化温度以上に加熱保持して、500
オングストローム以下の平均粒径を有するbcc結晶粒
を形成させる熱処理を施す工程からなることを特徴とす
る可飽和リアクトル用巻磁心の製造方法である。
【0011】以下、本発明について詳細に説明する。前
記巻磁心の製造工程には液体急冷法により非晶質合金薄
帯を作製する工程、非晶質合金薄帯をトロイダルに巻回
す工程および超微結晶粒を形成させる熱処理工程がある
。液体急冷の中で単ロール法による非晶質合金薄帯の製
造の場合、非晶質合金薄帯は超急冷用の高速回転するロ
ールに接触する面(以下ロール面と称する)とロールに
接触しない面(以下自由面と称する)に区別される。 ロール面の面粗さは超急冷用のロ−ルの表面粗さに影響
されるため、大量に合金薄帯を作製した場合には、製造
後半ほどロールの表面粗さが大きくなるため、薄帯の面
粗さは後端部に行くほど悪くなる。このようなロール面
の面粗さの大きな非晶質合金薄帯からなる巻磁心を熱処
理し超微結晶合金巻磁心を製造する場合、結晶化により
合金薄帯の収縮が起こるが、薄帯間の摩擦抵抗が大きい
ため、巻磁心の内部ひずみが増大し、その結果高周波に
おける角形比の低下が生じることが明らかとなった。
記巻磁心の製造工程には液体急冷法により非晶質合金薄
帯を作製する工程、非晶質合金薄帯をトロイダルに巻回
す工程および超微結晶粒を形成させる熱処理工程がある
。液体急冷の中で単ロール法による非晶質合金薄帯の製
造の場合、非晶質合金薄帯は超急冷用の高速回転するロ
ールに接触する面(以下ロール面と称する)とロールに
接触しない面(以下自由面と称する)に区別される。 ロール面の面粗さは超急冷用のロ−ルの表面粗さに影響
されるため、大量に合金薄帯を作製した場合には、製造
後半ほどロールの表面粗さが大きくなるため、薄帯の面
粗さは後端部に行くほど悪くなる。このようなロール面
の面粗さの大きな非晶質合金薄帯からなる巻磁心を熱処
理し超微結晶合金巻磁心を製造する場合、結晶化により
合金薄帯の収縮が起こるが、薄帯間の摩擦抵抗が大きい
ため、巻磁心の内部ひずみが増大し、その結果高周波に
おける角形比の低下が生じることが明らかとなった。
【0012】この点は従来からよく知られている非晶質
合金薄帯からなる巻磁心と大きく異なり、超微結晶合金
巻磁心に固有の現象である。
合金薄帯からなる巻磁心と大きく異なり、超微結晶合金
巻磁心に固有の現象である。
【0013】そこで、本発明者等は更にこの点について
研究を進め、超微結晶軟磁性合金薄帯からなる巻磁心の
作製の際、非晶質合金薄帯からトロイダル巻磁心を作製
後、当該非晶質合金の結晶化温度以下で応力緩和度rs
/raを以下の関係 0.5≦rs/ra≦1 とする応力緩和熱処理を行うことにより、その後の結晶
化により超微結晶粒を形成させる際に生じる磁心内のひ
ずみが小さくなり、高周波における角形比が著しく改善
されることを見い出した。
研究を進め、超微結晶軟磁性合金薄帯からなる巻磁心の
作製の際、非晶質合金薄帯からトロイダル巻磁心を作製
後、当該非晶質合金の結晶化温度以下で応力緩和度rs
/raを以下の関係 0.5≦rs/ra≦1 とする応力緩和熱処理を行うことにより、その後の結晶
化により超微結晶粒を形成させる際に生じる磁心内のひ
ずみが小さくなり、高周波における角形比が著しく改善
されることを見い出した。
【0014】ここで、rs/raは応力緩和熱処理前の
非晶質合金薄帯を半径rsの巻芯に密着巻きして熱処理
を行い、その後に非晶質合金薄帯を自由にして曲率半径
raを測定して求めた値であり、非晶質合金薄帯の癖つ
きの程度を表している。薄帯に癖がつくということは内
部応力が緩和して巻芯の形になじんだことにほかならな
いから、rs/raは内部応力の緩和の程度を表してい
ると考えられる。実際の巻磁心の製造では熱処理後に薄
帯を自由にすることが出来ないため、巻芯に密着巻きし
た薄帯を一緒に熱処理して応力緩和度を測定し、巻磁心
の応力緩和度とする。
非晶質合金薄帯を半径rsの巻芯に密着巻きして熱処理
を行い、その後に非晶質合金薄帯を自由にして曲率半径
raを測定して求めた値であり、非晶質合金薄帯の癖つ
きの程度を表している。薄帯に癖がつくということは内
部応力が緩和して巻芯の形になじんだことにほかならな
いから、rs/raは内部応力の緩和の程度を表してい
ると考えられる。実際の巻磁心の製造では熱処理後に薄
帯を自由にすることが出来ないため、巻芯に密着巻きし
た薄帯を一緒に熱処理して応力緩和度を測定し、巻磁心
の応力緩和度とする。
【0015】応力緩和度rs/raが0.5より小さい
場合は、結晶化による合金薄帯の収縮による内部応力の
増大のため磁路方向以外にも誘導磁気異方性が生じ、高
周波において角形比が低下するため、応力緩和度rs/
raを上記に限定した。より好ましくは0.8≦rs/
ra≦1の場合特に高周波において高角形比の優れた特
性が得られる。
場合は、結晶化による合金薄帯の収縮による内部応力の
増大のため磁路方向以外にも誘導磁気異方性が生じ、高
周波において角形比が低下するため、応力緩和度rs/
raを上記に限定した。より好ましくは0.8≦rs/
ra≦1の場合特に高周波において高角形比の優れた特
性が得られる。
【0016】また、前記応力緩和熱処理は巻磁心の磁路
方向に磁場を印加しながら行うことにより、前記非晶質
合金のキュリー温度以下で誘導磁気異方性が付与される
ため、高周波における角形性の向上に効果がある。
方向に磁場を印加しながら行うことにより、前記非晶質
合金のキュリー温度以下で誘導磁気異方性が付与される
ため、高周波における角形性の向上に効果がある。
【0017】本発明において高周波で角形比の優れた特
性が得られる理由は明らかでないが、以下のような理由
によるものと考えられる。磁心の角形比は磁場中熱処理
により磁路方向に生じる誘導磁気異方性に大きく左右さ
れる。また、磁心には有限の磁歪があるため、磁心内の
応力との磁気弾性効果により、誘導磁気異方性の大きさ
や方向が影響を受ける。内部応力が大きい場合は磁気弾
性効果が大きく、その影響で誘導磁気異方性が磁路方向
に向かず高周波において角形比は低下する。巻磁心を構
成する合金薄帯の面粗さが大きい場合は、薄帯間の摩擦
抵抗により結晶化の際の収縮を拘束するため、巻磁心に
は大きな内部ひずみが生じ、その結果磁路方向への誘導
磁気異方性の発現が妨げられ高周波において角形比が低
下する。本発明のようにトロイダルに巻回された非晶質
巻磁心を非晶質合金の結晶化温度以下で、応力緩和度r
s/raを0.5≦rs/ra≦1の関係とする応力緩
和熱処理を行うことにより、非晶質合金薄帯の面粗さが
大きくても、合金結晶化により超微結晶粒を形成させる
際の合金薄帯の収縮により生じる磁心内のひずみが低減
され、誘導磁気異方性が磁路方向に揃い高周波において
も高角形比の特性が得られると考えられる。
性が得られる理由は明らかでないが、以下のような理由
によるものと考えられる。磁心の角形比は磁場中熱処理
により磁路方向に生じる誘導磁気異方性に大きく左右さ
れる。また、磁心には有限の磁歪があるため、磁心内の
応力との磁気弾性効果により、誘導磁気異方性の大きさ
や方向が影響を受ける。内部応力が大きい場合は磁気弾
性効果が大きく、その影響で誘導磁気異方性が磁路方向
に向かず高周波において角形比は低下する。巻磁心を構
成する合金薄帯の面粗さが大きい場合は、薄帯間の摩擦
抵抗により結晶化の際の収縮を拘束するため、巻磁心に
は大きな内部ひずみが生じ、その結果磁路方向への誘導
磁気異方性の発現が妨げられ高周波において角形比が低
下する。本発明のようにトロイダルに巻回された非晶質
巻磁心を非晶質合金の結晶化温度以下で、応力緩和度r
s/raを0.5≦rs/ra≦1の関係とする応力緩
和熱処理を行うことにより、非晶質合金薄帯の面粗さが
大きくても、合金結晶化により超微結晶粒を形成させる
際の合金薄帯の収縮により生じる磁心内のひずみが低減
され、誘導磁気異方性が磁路方向に揃い高周波において
も高角形比の特性が得られると考えられる。
【0018】また、応力緩和熱処理を磁場中で行った場
合は、非晶質合金のキュリー温度以下で誘導磁気異方性
が予め磁路方向に付与されるため、結晶化時の磁場中熱
処理において磁路方向への誘導磁気異方性の発生が容易
となり高周波における角形性が向上すると考えられる。
合は、非晶質合金のキュリー温度以下で誘導磁気異方性
が予め磁路方向に付与されるため、結晶化時の磁場中熱
処理において磁路方向への誘導磁気異方性の発生が容易
となり高周波における角形性が向上すると考えられる。
【0019】微結晶粒を形成させるための熱処理は、非
晶質合金の結晶化温度以上で行うことにより、微細で均
一な結晶粒を得ることができる。
晶質合金の結晶化温度以上で行うことにより、微細で均
一な結晶粒を得ることができる。
【0020】磁場中熱処理は微結晶合金巻磁心の磁路方
向に磁場を印加しながら行うことにより、可飽和リアク
トルに適する高周波において高角形比の特性を示す。こ
の場合、超微結晶合金の主相のキュリー温度以下で磁路
方向に誘導磁気異方性がきちんと揃い、高周波において
も角形比の低下が生じない。また、磁場中熱処理は2段
階以上で行うこともできる。
向に磁場を印加しながら行うことにより、可飽和リアク
トルに適する高周波において高角形比の特性を示す。こ
の場合、超微結晶合金の主相のキュリー温度以下で磁路
方向に誘導磁気異方性がきちんと揃い、高周波において
も角形比の低下が生じない。また、磁場中熱処理は2段
階以上で行うこともできる。
【0021】応力緩和熱処理の保持時間は5分から24
時間程度が望ましい。5分未満では磁心全体を均一な温
度とすることが困難であり、十分な熱処理効果が得られ
ず、24時間より長いと生産性が悪くなる。また、熱処
理は酸化による特性の劣化を防止するため、通常真空中
あるいは不活性ガス中で行う。
時間程度が望ましい。5分未満では磁心全体を均一な温
度とすることが困難であり、十分な熱処理効果が得られ
ず、24時間より長いと生産性が悪くなる。また、熱処
理は酸化による特性の劣化を防止するため、通常真空中
あるいは不活性ガス中で行う。
【0022】また、本発明によると85〜90%と高い
占積率でも高周波において高角形比を有する巻磁心の作
製が可能となる。更に、面粗さRmaxが3.0〜5.
0μmと大きな非晶質合金薄帯から作製された巻磁心で
も、従来に比べ高周波における角形比が向上する。
占積率でも高周波において高角形比を有する巻磁心の作
製が可能となる。更に、面粗さRmaxが3.0〜5.
0μmと大きな非晶質合金薄帯から作製された巻磁心で
も、従来に比べ高周波における角形比が向上する。
【0023】本発明に係わる巻磁心を構成する超微結晶
合金としては、最大寸法で測定した場合500オングス
トローム以下の平均粒径を有するbcc結晶粒からなる
合金であればよく、例えば、特開昭63−302504
号に開示されている、一般式 (Fe1−aMa)100−x−y−z−α−β−γC
uxSiyBzM’αM’’βXγ(原子%) (但し、MはCo及び/又はNiであり、M’はNb,
W,Ta,Zr,Hf,Ti及びMoからなる群から選
ばれた少なくとも1種の元素、M’’はV,Cr,Mn
,Al,白金族元素,Sc,Y,Au,Zn,Sn,R
eからなる群から選ばれた少なくとも1種の元素、Xは
C,Ge,P,Ga,Sb,In,Be,Asからなる
群から選ばれた少なくとも1種の元素であり、a,x,
y,z,α,β及びγはそれぞれ0≦a<0.5,0.
1≦x≦3,0≦y≦30,0≦z≦24,0≦y+z
≦30,0.1≦α≦30,0≦β≦10及び0≦γ≦
10を満たす。)で表される組成を有する合金が挙げら
れる。
合金としては、最大寸法で測定した場合500オングス
トローム以下の平均粒径を有するbcc結晶粒からなる
合金であればよく、例えば、特開昭63−302504
号に開示されている、一般式 (Fe1−aMa)100−x−y−z−α−β−γC
uxSiyBzM’αM’’βXγ(原子%) (但し、MはCo及び/又はNiであり、M’はNb,
W,Ta,Zr,Hf,Ti及びMoからなる群から選
ばれた少なくとも1種の元素、M’’はV,Cr,Mn
,Al,白金族元素,Sc,Y,Au,Zn,Sn,R
eからなる群から選ばれた少なくとも1種の元素、Xは
C,Ge,P,Ga,Sb,In,Be,Asからなる
群から選ばれた少なくとも1種の元素であり、a,x,
y,z,α,β及びγはそれぞれ0≦a<0.5,0.
1≦x≦3,0≦y≦30,0≦z≦24,0≦y+z
≦30,0.1≦α≦30,0≦β≦10及び0≦γ≦
10を満たす。)で表される組成を有する合金が挙げら
れる。
【0024】
【実施例】以下、本発明を実施例に従って説明するが本
発明はこれらに限定されるものではない。
発明はこれらに限定されるものではない。
【0025】(実施例1)原子%でCu1%、Nb3%
、Si13.5%、B9%、残部実質的にFeからなる
組成の合金溶湯を単ロール法により急冷し、幅5mm、
厚さ18μmの非晶質合金薄帯を作製した。得られた非
晶質合金薄帯の後端部より外径19mm、内径15mm
のトロイダル磁心を作製した。
、Si13.5%、B9%、残部実質的にFeからなる
組成の合金溶湯を単ロール法により急冷し、幅5mm、
厚さ18μmの非晶質合金薄帯を作製した。得られた非
晶質合金薄帯の後端部より外径19mm、内径15mm
のトロイダル磁心を作製した。
【0026】次にこの磁心を図1に示す熱処理パターン
で熱処理した。磁場は磁心の磁路方向に印加した。磁場
の強さは10 Oeである。
で熱処理した。磁場は磁心の磁路方向に印加した。磁場
の強さは10 Oeである。
【0027】応力緩和熱処理は所定の温度に昇温した炉
中にトロイダル磁心を入れ、無磁場中で1時間保持後炉
から取り出し空冷を行った。この際、温度を200℃か
ら450℃まで変え、種々の応力緩和度rs/raを有
する非晶質合金薄帯を作製した。次に、550℃に保持
した炉に磁心を入れ、磁場中で1時間熱処理後、磁場を
印加したまま磁心を炉から取り出し空冷した。熱処理後
の合金は100〜200オングストローム程度の超微細
結晶粒からなっていた。
中にトロイダル磁心を入れ、無磁場中で1時間保持後炉
から取り出し空冷を行った。この際、温度を200℃か
ら450℃まで変え、種々の応力緩和度rs/raを有
する非晶質合金薄帯を作製した。次に、550℃に保持
した炉に磁心を入れ、磁場中で1時間熱処理後、磁場を
印加したまま磁心を炉から取り出し空冷した。熱処理後
の合金は100〜200オングストローム程度の超微細
結晶粒からなっていた。
【0028】図2に100kHzにおける角形比Br/
B1(Brは残留磁束密度、B1は1 Oeの磁場中の
磁束密度)の応力緩和度rs/ra依存性を示す。
B1(Brは残留磁束密度、B1は1 Oeの磁場中の
磁束密度)の応力緩和度rs/ra依存性を示す。
【0029】rs/raが0.5より小さい場合は角形
比が90%以下と小さく、可飽和リアクトル用としては
不十分な特性であるが、rs/raが0.5以上では角
形比が90%以上、0.7以上では約95%と極めて高
角形比の特性が得られる。
比が90%以下と小さく、可飽和リアクトル用としては
不十分な特性であるが、rs/raが0.5以上では角
形比が90%以上、0.7以上では約95%と極めて高
角形比の特性が得られる。
【0030】このように本発明に係わる製造方法を適用
することにより、高周波において高角形比の合金を得る
ことができる。
することにより、高周波において高角形比の合金を得る
ことができる。
【0031】(実施例2)実施例1と同様な方法でトロ
イダル磁心を作製した。
イダル磁心を作製した。
【0032】次にこの磁心を図3に示す熱処理パターン
で熱処理した。磁場は磁心の磁路方向に印加した。磁場
の強さは10 Oeである。
で熱処理した。磁場は磁心の磁路方向に印加した。磁場
の強さは10 Oeである。
【0033】応力緩和熱処理は所定の温度に昇温した炉
中にトロイダル磁心を入れ、磁場中で1時間保持後炉か
ら取り出し空冷を行った。この際、温度を200℃から
450℃まで変え、種々の応力緩和度rs/raを有す
る非晶質合金薄帯を作製した。次に、550℃に保持し
た炉に磁心を入れ、磁場中で1時間熱処理後、磁場を印
加したまま磁心を炉から取り出し空冷した。熱処理後の
合金は100〜200オングストローム程度の超微細結
晶粒からなっていた。
中にトロイダル磁心を入れ、磁場中で1時間保持後炉か
ら取り出し空冷を行った。この際、温度を200℃から
450℃まで変え、種々の応力緩和度rs/raを有す
る非晶質合金薄帯を作製した。次に、550℃に保持し
た炉に磁心を入れ、磁場中で1時間熱処理後、磁場を印
加したまま磁心を炉から取り出し空冷した。熱処理後の
合金は100〜200オングストローム程度の超微細結
晶粒からなっていた。
【0034】図4に100kHzにおける角形比Br/
B1の応力緩和度rs/ra依存性を示す。rs/ra
が0.5以上で約95%もの優れた高角形比特性が得ら
れる。また、実施例1に示した無磁場中で応力緩和熱処
理した場合に比べ著しく角形比の向上が見られる。
B1の応力緩和度rs/ra依存性を示す。rs/ra
が0.5以上で約95%もの優れた高角形比特性が得ら
れる。また、実施例1に示した無磁場中で応力緩和熱処
理した場合に比べ著しく角形比の向上が見られる。
【0035】(実施例3)原子%でCo0.5%、Cu
1.5%、Nb2%、Mn0.5%、Si13.5%、
B9%、残部実質的にFeからなる組成の合金溶湯を単
ロール法により急冷し、幅10mm、厚さ20μmの非
晶質合金薄帯を作製した。得られた非晶質合金薄帯の後
端部から外径19mm、内径15mmのトロイダル磁心
を作製した。
1.5%、Nb2%、Mn0.5%、Si13.5%、
B9%、残部実質的にFeからなる組成の合金溶湯を単
ロール法により急冷し、幅10mm、厚さ20μmの非
晶質合金薄帯を作製した。得られた非晶質合金薄帯の後
端部から外径19mm、内径15mmのトロイダル磁心
を作製した。
【0036】次にこの磁心を図5及び図6に示すような
本発明に係わる各種の熱処理パターンで熱処理を行った
。磁場は磁心の磁路方向に印加した。磁場の強さは10
Oeである。
本発明に係わる各種の熱処理パターンで熱処理を行った
。磁場は磁心の磁路方向に印加した。磁場の強さは10
Oeである。
【0037】表1に100kHzにおける角形比Br/
B1を測定した結果を示す。
B1を測定した結果を示す。
【表1】
表1からわかるように熱処理は各種のパターンが可能で
、応力緩和熱処理と磁路方向の磁場中熱処理との組合せ
により100kHzの高周波において95%以上の高角
形比の特性が得られる。
、応力緩和熱処理と磁路方向の磁場中熱処理との組合せ
により100kHzの高周波において95%以上の高角
形比の特性が得られる。
【0038】(実施例4)原子%でCo0.2%、Cu
1%、Nb2.5%、Zr1%、Mn0.3%、Si1
5.5%、B7.2%、P0.1%残部実質的にFeか
らなる組成の合金溶湯を単ロール法により急冷し、幅5
mm、厚さ18μmの非晶質合金薄帯を作製した。得ら
れた非晶質合金薄帯の先端から約500mおきに試料を
採取し外径19mm、内径15mmのトロイダル磁心を
作製した。
1%、Nb2.5%、Zr1%、Mn0.3%、Si1
5.5%、B7.2%、P0.1%残部実質的にFeか
らなる組成の合金溶湯を単ロール法により急冷し、幅5
mm、厚さ18μmの非晶質合金薄帯を作製した。得ら
れた非晶質合金薄帯の先端から約500mおきに試料を
採取し外径19mm、内径15mmのトロイダル磁心を
作製した。
【0039】次にこの磁心を図7に示す本発明熱処理パ
ターンおよび図8に示す従来の熱処理パターンで熱処理
した。磁場は磁心の磁路方向に印加した。磁場の強さは
10 Oeである。
ターンおよび図8に示す従来の熱処理パターンで熱処理
した。磁場は磁心の磁路方向に印加した。磁場の強さは
10 Oeである。
【0040】図9に100kHzにおける角形比Br/
B1の先端からの距離による変化を示す。従来の方法で
は薄帯の後端部から作製された磁心ほど高周波における
角形比の低下が見られるが、本発明の製造方法を適用し
た場合は後端部でも角形比は低下せず90%以上の高角
形比の特性が得られる。
B1の先端からの距離による変化を示す。従来の方法で
は薄帯の後端部から作製された磁心ほど高周波における
角形比の低下が見られるが、本発明の製造方法を適用し
た場合は後端部でも角形比は低下せず90%以上の高角
形比の特性が得られる。
【0041】(実施例5)表2に示す組成の合金溶湯を
単ロール法により急冷し、幅5mm、厚さ20μmの非
晶質合金薄帯を作製し、得られた非晶質合金薄帯の後端
部からトロイダル磁心を外径19mm、内径15mmに
巻回し、図7に示す本発明熱処理パターンおよび図8に
示す従来の熱処理パターンで熱処理を行い、100kH
zにおける角形比Br/B1を測定した。測定した結果
を表2に示す。
単ロール法により急冷し、幅5mm、厚さ20μmの非
晶質合金薄帯を作製し、得られた非晶質合金薄帯の後端
部からトロイダル磁心を外径19mm、内径15mmに
巻回し、図7に示す本発明熱処理パターンおよび図8に
示す従来の熱処理パターンで熱処理を行い、100kH
zにおける角形比Br/B1を測定した。測定した結果
を表2に示す。
【0042】表2からわかるように各合金組成とも、従
来例に比べ本発明により製造された磁心が高角形比の特
性を示す。
来例に比べ本発明により製造された磁心が高角形比の特
性を示す。
【0043】
【表2】
【発明の効果】本発明によれば可飽和リアクトルに適す
る高周波で高角形比の優れた磁気特性を示す巻磁心を製
造できるためその効果は著しいものがある。
る高周波で高角形比の優れた磁気特性を示す巻磁心を製
造できるためその効果は著しいものがある。
【図1】本発明に係わる熱処理パターン例を示した図で
ある。
ある。
【図2】磁気特性の応力緩和度依存性を示したグラフで
ある。
ある。
【図3】本発明に係わる熱処理パターンを示した図であ
る。
る。
【図4】磁気特性の応力緩和度依存性を示したグラフで
ある。
ある。
【図5】本発明に係わる熱処理パターンを示した図であ
る。
る。
【図6】本発明に係わる熱処理パターンを示した図であ
る。
る。
【図7】本発明に係わる熱処理パターンを示した図であ
る。
る。
【図8】従来の熱処理パターンを示した図である。
【図9】磁気特性の薄帯先端からの距離による変化を示
したグラフである。
したグラフである。
Claims (2)
- 【請求項1】 高周波における角形比の大きい超微結
晶軟磁性合金からなる巻磁心を製造する方法であって、
液体急冷により非晶質合金薄帯を作製する工程、前記非
晶質合金薄帯を巻回しトロイダル巻磁心とする工程と、
応力緩和度rs/raを以下の関係 0.5≦rs/ra≦1 とする前記非晶質合金の結晶化温度以下の応力緩和熱処
理工程と、前記巻磁心の磁路方向に磁場を印加しつつ当
該非晶質合金の結晶化温度以上に加熱保持して、500
オングストローム以下の平均粒径を有するbcc結晶粒
を形成させる熱処理を施す工程からなることを特徴とす
る可飽和リアクトル用巻磁心の製造方法。 - 【請求項2】 応力緩和熱処理工程の1部あるいは全
部に当該巻磁心の磁路方向に磁場を印加する請求項1に
記載の可飽和リアクトル用巻磁心の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3048884A JPH04267314A (ja) | 1991-02-21 | 1991-02-21 | 可飽和リアクトル用巻磁心の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3048884A JPH04267314A (ja) | 1991-02-21 | 1991-02-21 | 可飽和リアクトル用巻磁心の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04267314A true JPH04267314A (ja) | 1992-09-22 |
Family
ID=12815713
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3048884A Pending JPH04267314A (ja) | 1991-02-21 | 1991-02-21 | 可飽和リアクトル用巻磁心の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04267314A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007119412A1 (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-25 | Hitachi Metals, Ltd. | 閉磁路磁心およびその製造方法 |
JPWO2016002945A1 (ja) * | 2014-07-03 | 2017-06-01 | 国立大学法人東北大学 | 磁心の製造方法 |
-
1991
- 1991-02-21 JP JP3048884A patent/JPH04267314A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007119412A1 (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-25 | Hitachi Metals, Ltd. | 閉磁路磁心およびその製造方法 |
JPWO2016002945A1 (ja) * | 2014-07-03 | 2017-06-01 | 国立大学法人東北大学 | 磁心の製造方法 |
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