JPH04265252A - 耐久性の優れた光学体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は各種光学的機能を有する
耐久性の優れた光学体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来からガラス、プラスチックなどの透
明基板に薄膜を形成して光学的機能を付加したものとし
て、ミラー、熱線反射ガラス、低放射ガラス、干渉フィ
ルター、カメラレンズやメガネレンズの反射防止コート
などがある。

【０００３】通常のミラーでは、無電解メッキ法でＡｇ
が、または真空蒸着法、スパッタリング法などでＡｌや
Ｃｒなどが形成される。これらの中でＣｒ膜は比較的丈
夫なのでコート面が露出した表面鏡としても一部用いら
れている。

【０００４】熱線反射ガラスは、酸化チタンや酸化錫な
どがスプレー法、ＣＶＤ　法あるいは浸漬法などで形成
されてきた。最近では、金属膜、窒化膜、錫をドープし
た酸化インジウム（ＩＴＯ）　などがスパッタリング法
でガラス板面に形成されたものが熱線反射ガラスとして
使われるようになってきた。スパッタリング法は膜厚コ
ントロールが容易で且つ複数の膜を連続して形成でき、
透明酸化膜と組み合せて、透過率、反射率、色調などを
設計することが可能である。このため意匠性を重視する
建築用などに需要が伸びている。

【０００５】室内の暖房機や壁からの輻射熱を室内側に
反射する低放射ガラス（低放射率ガラス）は、銀を酸化
亜鉛で挟んだＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯの３層系またはＺｎ
Ｏ／Ａｇ／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ　の５層系（特願昭６
１−２８０６４４　号参照）などの構成を持ち、複層ガ
ラスか合わせガラスの形で使われる。近年ヨーロッパの
寒冷地での普及が目ざましい。

【０００６】レンズなどの反射防止コートは、酸化チタ
ン、酸化ジルコニウムなどの高屈折率膜と酸化シリコン
、フッ化マグネシウムなどの低屈折率膜を交互に積層し
ている。通常は真空蒸着法が用いられ、成膜時は基板加
熱をして耐擦傷性の向上を図っている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】表面鏡や、単板の熱線
反射ガラス及びレンズなどの反射防止コートなどは、コ
ートされた膜が空気中に露出した状態で使用される。こ
のため、化学的な安定性や耐摩耗性に優れていなければ
ならない。一方、低放射ガラスでも複層ガラスまたは合
わせガラスになる前の運搬や取り扱い時の傷などにより
不良品が発生する。このため安定で耐摩耗性に優れた保
護膜も兼ねた光学薄膜が望まれている。

【０００８】耐久性向上のためには通常化学的に安定で
透明な酸化膜が空気側に設けられる。これらの酸化膜と
しては酸化チタン、酸化錫、酸化タンタル、酸化ジルコ
ニウム、酸化珪素などがあり、必要な性能に応じて選択
され、使用されてきた。

【０００９】しかし、酸化チタン、酸化ジルコニウムは
化学的安定性に優れているが、結晶質の膜になりやすく
表面の凹凸が大きくなる傾向があり、このため擦ったと
きの摩擦が大きくなり耐摩耗性に劣る。

【００１０】一方、酸化錫、酸化珪素はそれぞれ酸、ア
ルカリに弱く長期間の浸漬には耐えない。酸化タンタル
は、これら中では耐摩耗性と化学的安定性の両方を兼ね
備えているが、まだ耐摩耗性に関して十分とは言えない
。

【００１１】又、ジルコニウム等と珪素とを含む酸化物
を、プラスチック等のやわらかく傷つきやすい基体に形
成した膜上に設けようとする考えはあったが、耐摩耗性
、化学的安定性がプラスチックに比べはるかに高いガラ
ス基板が使用される用途、例えば自動車用、建築用等の
用途において、通常のガラス板とほぼ同様な使い方がで
きるような耐摩耗性及び耐久性の優れた被膜付ガラス基
板は知られていなかった。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は前述の課題を解
決すべくなされたものであり、ガラス基板上に少なくと
も２層からなる光学薄膜が形成された光学体において、
空気側の最外層が、チタン、ジルコニウム、ハフニウム
、錫、タンタル、及びインジウムの群から選ばれる少な
くとも１種と、珪素とを含む酸化物を主成分とする非晶
質酸化膜からなることを特徴とする耐久性の優れた光学
体を提供するものである。

【００１３】図１は、本発明に係わる光学体の一例の断
面図を示したものであり、１は透明あるいは着色したガ
ラスからなる基板、２は金属、窒化物、炭化物、酸化物
あるいはこれらの複合物などからなる第１層、３は空気
側の最外層となる非晶質酸化膜、特に少なくともジルコ
ニウムと珪素とを含んだ酸化物からなる第２層を示す。

【００１４】図２は、本発明に係わる光学体の別の一例
の断面図を示したものであり、１０　は上記基板１と同
様の各種基板、１１　は透明誘電体膜からなる第１層、
１２は窒化物膜からなる第２層、１３は空気側の最外層
となる非晶質酸化膜、特に、少なくともジルコニウムと
珪素とを含んだ酸化物からなる第３層を示す。

【００１５】本発明は上記したように少なくとも２層構
成よりなるが、場合によっては図１の基板１と第１層２
、第１層２と第２層３、あるいは、図２の基板１０と第
１層１１、第１層１１と第２層１２、又は第２層１２と
第３層１３との間に１層、又は複数の層を形成して付着
力向上や光学特性の調整の機能、又はその他各種機能を
持たしても良い。本発明においては、ガラス基板上に形
成される膜の空気側の最外層に非晶質酸化膜を形成し、
高耐久性が要求される用途に使用可能な、耐摩耗性と化
学的安定性に優れたガラスを実現するものである。

【００１６】図１の第２層３又は図２の第３層１３の非
晶質酸化膜としては特に限定はされるものではなく、Ｘ
線的にみて非晶質であれば良い。具体的には、チタン、
ジルコニウム、ハフニウム、錫、タンタル及びインジウ
ムの群から選ばれる少なくとも１種と、珪素とを含む複
合酸化膜が好ましく、これらの中でも、特にジルコニウ
ムと珪素とを含んだ複合酸化膜が耐擦傷性に優れている
と同時に、十分な化学的安定性を有しているので好まし
い。非晶質酸化膜は、チタン、ジルコニウム、ハフニウ
ム、錫、タンタル、及びインジウムの群から選ばれる少
なくとも１種と、珪素、酸素以外に、硼素等のその他の
成分を含んでいてもよい。

【００１７】このように、第２層３又は第３層１３に、
ジルコニウムと珪素とを含んだ酸化物を用いる場合の珪
素の含有割合は特に限定されるものではない。珪素の含
有割合が増加するにつれ、この膜の屈折率は２．１　か
ら１．８　以下まで減少するが、耐摩耗性と化学的安定
性はいずれも良好である。従って光学的に必要な屈折率
を基にして珪素含有量を選択すれば良い。一般的にはジ
ルコニウム１００　部に対して原子比で１部以上、好ま
しくは３部以上、特に５部以上の珪素が望ましい。これ
より珪素が少ないと十分な非晶質化が得られないため耐
摩耗性能が低下し、通常の珪素を含まない酸化ジルコニ
ウムに対しての優位性が認められなくなる。

【００１８】一方、珪素含有量の上限は特に限定はない
が、ジルコニウム１００　部に対して原子比で２０００
部以下、好ましくは１０００部以下、特に５００　部以
下が望ましい。これより珪素が多いと屈折率が非常に小
さくなるとともに、化学的安定性が不十分となり、又、
耐摩耗性も低下するので好ましくない。

【００１９】かかるジルコニウムと珪素とを含んだ酸化
膜は、ジルコニウム、珪素、酸素の３成分だけに限定さ
れるものではなく、耐久性向上、光学定数調整、成膜時
の安定性、あるいは成膜速度の向上などのために他の成
分を含んでいても差し支えないことは言うまでもないこ
とである。また本発明の非晶質酸化膜は必ずしも透明で
ある必要はなく、酸素欠損の状態の吸収性膜や、一部窒
素を含有していても同様に有効である。

【００２０】最外層である第２層３又は第３層１３の膜
厚は特に限定されるものではない。用途に応じて透過色
や反射色を考慮して決定すればよいが、あまり薄いと十
分な耐久性が得られないため、５０Å以上好ましくは１
００　Å以上、特に２００　Å以上であることが望まし
い。

【００２１】第２層３又は第３層１３の膜形成法も特に
限定されない。真空蒸着法、イオンプレーティング法、
スパッタリング法などいずれも可能であるが、熱線反射
ガラスなど、自動車や建築用などの大面積コーティング
が必要な場合は、均一性に優れる反応性スパッタリング
法が好ましい。

【００２２】第１層２の膜材料は特に限定されず、用途
によって、あるいは要求仕様によって金属、窒化物、炭
化物、硼化物、酸化物、珪化物あるいはこれらの複合物
から選択される。

【００２３】熱線反射ガラスの場合は第１層２として窒
化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒化ク
ロム、窒化タンタルなどの窒化物、または錫をドープし
た酸化インジウム（ＩＴＯ）　等が主に選ばれる。

【００２４】第１層２の窒化物膜の膜厚は、希望する透
過率にもよるが、１０００Å以下、好ましくは５００　
Å以下が望まれる。１０００Åを超えると窒化物膜の吸
収が大きくなり過ぎ、又、内部応力のため剥離が生じ易
くなる。

【００２５】窒化物膜を用いる場合、ガラス界面との付
着力を増すために基板と窒化物膜間にもう１層を形成し
図２のような３層構成とするのは有効である。かかる第
１層１１としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸
化ハフニウム、酸化錫、酸化タンタル、酸化インジウム
などの酸化物や、硫化亜鉛などからなる透明誘電体膜が
好ましい。

【００２６】第２層１２の窒化物膜との付着力やスパッ
タリングでの生産性を考えると、第２層の窒化物膜と同
様な元素を含む誘電体膜が好ましいが、特にこれだけに
限定されるものではなく、第１層１１／第２層１２の組
み合わせは酸化タンタル／窒化チタン、酸化ジルコニウ
ム／窒化チタン、あるいは酸化錫／窒化ジルコニウムな
ど種々となりうる。かかる第１層１１の透明誘電体膜は
、前述したような非晶質膜と同様なものを用いてもよい
。

【００２７】かかる誘電体膜１１の膜厚は特に限定され
ないが、これらの誘電体は屈折率も大きく、適当な膜厚
を選択すれば、干渉効果も利用して反射率や色調の調節
も可能である。特に、干渉効果を利用して可視域での高
透過、低反射を目的とする熱線反射ガラスに用いる場合
は、第１層１１と第３層１３の膜厚は光学的膜厚で１０
００〜１８００Åの範囲で調節されるのが好ましい。第
１層１１と第３層１３の屈折率は２．０　〜２．５　の
範囲で選択されるのが望ましいが、この範囲外でも、光
学的膜厚が適正な範囲内であればよい。

【００２８】又、第２層１２の窒化物膜の膜厚は、希望
する透過率にもよるが、１０００Å以下が好ましく、５
０〜５００　Åの範囲が最適である。１０００Åを超え
ると窒化物膜の吸収が大きくなり過ぎ、又、内部応力の
ため剥離が生じ易くなる。

【００２９】第２層３又は第３層１３の最外層がジルコ
ニウムと珪素とを含んだ酸化膜である場合、第１層２と
第２層３の間、又は、第２層１２と第３層１３の層間付
着力を向上させ、且つ第１層２又は第２層１２の内部応
力を低減させるために、第１層２又は第２層１２として
珪素を含む窒化物、特に珪窒化ジルコニウムを用いるこ
とは有効である。

【００３０】第１層２として錫をドープした酸化インジ
ウム（ＩＴＯ）　を用いる場合、熱線反射性能を上げる
ためにはキャリア濃度と移動度が大きく、且つ４０００
Å以上の膜厚のＩＴＯ　が望ましい。干渉による反射色
を抑えるためには、ＩＴＯ　を少なくとも７０００Å以
上形成するのが好ましい。その上に保護層として第２層
３を形成する。

【００３１】このような低抵抗で透過率が高く、且つ耐
久性のある光学薄膜は熱線反射ガラスとしてばかりでは
なく、単板で電磁波シールド用の窓ガラス、自動車のフ
ロントガラスの電熱風防、リアガラスの曇り止め、ある
いは透明アンテナとしても用いることができる。更に、
化学的耐久性を利用してエレクトロクロミック表示素子
の　ＩＴＯ（給電電極）の保護コートとしても使える。

【００３２】低反射ガラスの場合は、空気側の最外層３
より高屈折率を有する膜を第１層２として形成するか、
又は３層、あるいはそれ以上の多層膜構成をとる。３層
膜の場合は、図１の基板１と第１層２、又は第１層２と
第２層３の間にもう一層形成して、屈折率と膜厚を調整
することにより、反射率を低減させる。第１層２と新た
に挿入する層は、特に限定されないが、珪素含有量の異
なる低屈折率膜と高屈折率膜を用いることも可能である
。

【００３３】低放射ガラスの場合は、基板／酸化膜／Ａ
ｇ／非晶質酸化膜（特に、珪素とジルコニウムを含んだ
酸化膜）の３層構成、又は、基板／酸化膜／Ａｇ／酸化
膜／Ａｇ／非晶質酸化膜の５層構成にすると有効である
。かかる酸化膜としては、特に限定はされないが、Ｚｎ
Ｏ　が一例として上げられる。又、ジルコニウムと珪素
とを含む酸化膜を用いても良い。

【００３４】表面鏡に応用する場合は、基板上に、金属
としてガラスとの接着力の良好なクロムなどを第１層２
として形成し、その上に第２層３として本発明の非晶質
酸化膜、特に、珪素とジルコニウムとを含んだ酸化膜を
形成すれば良い。その他の応用として、光学薄膜ではな
いが、サーマルヘッドや磁気ディスクなどのメモリーデ
ィスク等にも用いることもできる。

【００３５】又、本発明においては、図１及び図２に示
したように基板の片面だけに光学薄膜を形成してもよい
し、基板の両面に形成してもよい。

【００３６】

【作用】本発明における光学体の空気側の最外層である
非晶質酸化物膜、即ち、図１第２層３又は図２第３層１
３は、ガラス構成元素である珪素を含むことで非晶質化
されており、表面の平滑さが増すため摩擦抵抗が低減し
、これによって高い耐久性を有しているので、本発明の
光学体において、耐摩耗性や耐薬品性を向上させるため
の保護層の役割を持つ。更にその屈折率、膜厚などの調
整により、光学的な機能、即ち、透過率、反射率、色調
などの調整機能を有する。

【００３７】特に、かかる最外層がジルコニウムと珪素
とを含む酸化物膜である場合における珪素は、酸、アル
カリなどに強い化学的安定性を有する酸化ジルコニウム
に珪素を添加することにより膜が非晶質化し、耐摩耗性
と化学的安定性の両方を満足する大変優れた耐久性を有
する膜の実現に寄与している。

【００３８】又、珪素は、膜の屈折率調節にも寄与する
。即ち、珪素の含有割合を増やすことにより屈折率を下
げることができる。本発明において最外層以外の層は主
に光学的な面での作用を有し、透過や反射性能などを担
っている。

【００３９】又、熱線反射性能を有する光学体において
、窒化物膜は熱線反射機能を受け持つものである。 又、干渉効果を利用して可視域での高透過、低反射を目
的とした熱線反射ガラスにおいては、図２の第２層１２
は熱線反射機能を受け持ち、第１層１１及び第３層１３
は、窒化物膜の可視域での反射を防止する機能を有する
。

【００４０】

【実施例】［実施例１］ガラス基板をスパッタリング装
置の真空槽にセットし１×１０−６　Ｔｏｒｒ　まで排
気した。アルゴンと窒素の混合ガスを導入して圧力を２
×１０−３Ｔｏｒｒとした後、チタンを反応性スパッタ
リングして窒化チタン（第１層）を約２００　Å形成し
た。次にアルゴンと酸素の混合ガスに切り替え圧力を２
×１０−３　Ｔｏｒｒ　にして、ジルコニウム／珪素タ
ーゲット（原子比７０／３０）を反応性スパッタリング
してジルコニウムと珪素からなる非晶質酸化膜　ＺｒＳ
ｉｘＯｙ（第２層）を約５３０　Å形成した。

【００４１】こうして得られた熱線反射ガラスの可視光
透過率ＴＶ　、太陽光線透過率ＴＥ　、コート面可視光
反射率ＲＶＦ、ガラス面可視光反射率ＲＶＧは、それぞ
れ５４，　４４，　５，２７（％）であった。膜の耐久
性を調べるために１規定の塩酸、水酸化ナトリウム中に
６時間、あるいは沸騰水中に２時間浸漬したが、いずれ
も透過率、反射率の変化は１％以内であった。

【００４２】砂消しゴムによる擦り試験（プラス社字消
しゴムＮｏ．４８−１００　、直径５ｍｍのカミソリ切
断面を向け、荷重　５００ｇをかけ、５０ｍｍ／分で５
回往復）でも、傷は殆どつかず極めてすぐれた耐摩耗性
を示した。又、ＪＩＳ　Ｒ３２１２　に規定されている
耐摩耗性試験（テーバー試験、摩耗輪ＣＳ−１０Ｆ、加
重　５００ｇ、１０００回転）を実施したところ、試験
前後の可視光線透過率ＴＶ　の変化ΔＴＶ　、及びヘイ
ズ値の変化ΔＨは、いずれも４％以内であり、優れた耐
摩耗性能を示した。

【００４３】［実施例２］実施例１と同様にガラス基板
上に窒化チタン（第１層）を約２００　Å形成した後、
アルゴンと酸素の混合ガスに切り替え圧力を２×１０−
３Ｔｏｒｒにした。次にジルコニウム／珪素ターゲット
（原子比３３／６７）を反応性スパッタリングしてジル
コニウムと珪素からなる非晶質酸化膜　ＺｒＳｉｘＯｙ
（第２層）を約５３０　Å形成した。

【００４４】得られた熱線反射ガラスの光学性能ＴＶ　
、ＴＥ　、ＲＶＦ、ＲＶＧは、それぞれ５５，４３，　
３，　１８（％）であった。実施例１と同様な耐久性試
験を行ったが、同様に優れた性能を示した。

【００４５】［実施例３］ガラス基板をスパッタリング
装置の真空槽にセットし１×１０−６　Ｔｏｒｒ　まで
排気した。 アルゴンと酸素の混合ガスを導入して圧力を２×１０−
３Ｔｏｒｒとし、基板を３５０　℃程度に加熱をしなが
らＩＴＯ　ターゲットをスパッタリングしてＩＴＯ　（
第１層）を約１μ形成した。次にアルゴンと酸素の混合
ガスの割合を変えたジルコニウム／珪素ターゲット（原
子比３３／６７）　を反応性スパッタリングして非晶質
酸化膜ＺｒＳｉｘＯｙ　（第２層）を約８００　Å形成
した。

【００４６】このようにして得られた熱線反射ガラスの
耐久性を、実施例１と同様に評価したところ極めて優れ
た耐久性を示した。

【００４７】［実施例４］ガラス基板をスパッタリング
装置の真空槽にセットし１×１０−６　Ｔｏｒｒ　まで
排気した。 アルゴンと酸素の混合ガスを導入して圧力を２×１０−
３Ｔｏｒｒとした後、タンタルを反応性スパッタリング
して酸化タンタル（第１層）を約６２０　Å形成した。 　続けてジルコニウム／珪素ターゲット（原子比３３／
６７）　を同じく反応性スパッタリングして非晶質酸化
膜　ＺｒＳｉｘＯｙ（第２層）を約８００　Å形成した
。

【００４８】一旦、真空をリークし基板を裏返して、再
び同様な二層膜を裏面にも形成した。このようにして得
られた低反射ガラスの片面の反射率は約１．６　％であ
った。また耐久性も実施例１と同様に極めて優れていた
。

【００４９】［実施例５］ガラス基板をスパッタリング
装置の真空槽にセットし、１×１０−６　Ｔｏｒｒ　ま
で排気した。アルゴンと酸素の混合ガスを導入して圧力
を２×１０−３Ｔｏｒｒとした後、珪素を含むジルコニ
ウムターゲット（原子比Ｚｒ／Ｓｉ＝３３／６７）を高
周波マグネトロンスパッタリングして非晶質酸化膜　Ｚ
ｒＳｉｘＯｙ（第１層）を約６００　Å形成した。次に
、アルゴンと窒素の混合ガスに切り替え圧力を２×１０
−３Ｔｏｒｒにしてチタンターゲットを高周波マグネト
ロンスパッタリングして窒化チタン（第２層）を約５０
Å形成した。その後、再び第１層と同じ条件で　ＺｒＳ
ｉｘＯｙ膜（第３層）を約６００　Å形成した。

【００５０】こうして得られた試料のＴＶ　、ＴＥ　、
ＲＶＦ、ＲＶＧは、それぞれ約８０、７２、７　、１０
（％）であった。実施例１と同様の耐久性試験を行った
が、実施例１と同様に優れた性能を示した。

【００５１】［実施例６］ガラス基板をスパッタリング
装置の真空槽にセットし、１×１０−６　Ｔｏｒｒ　ま
で排気した。アルゴンと酸素の混合ガスを導入して圧力
を２×１０−３Ｔｏｒｒとした後、珪素を含むチタニウ
ムターゲットを高周波マグネトロンスパッタリングして
非晶質酸化膜ＴｉＳｉｘＯｙ　膜（第１層）を約６００
　Å形成した。

【００５２】次に、アルゴンと窒素の混合ガスに切り替
え圧力を２×１０−３Ｔｏｒｒにしてチタンターゲット
を高周波マグネトロンスパッタリングして窒化チタン（
第２層）を約５０Å形成した。その後、再び第１層と同
じ条件で非晶質酸化膜　ＴｉＳｉｘＯｙ（第３層）を約
６００　Å形成した。こうして得られた試料の可視光透
過率、太陽光透過率は、実施例５とほぼ同様な性能であ
った。又、耐久性も実施例５と同様の結果が得られた。

【００５３】［実施例７］青色のガラス基板上に実施例
２と同様にして窒化チタン（第１層）を約２０Å、その
上に非晶質酸化膜　ＺｒＳｉｘＯｙ（膜中のＺｒとＳｉ
の原子比はＺｒ／Ｓｉ＝３３／６７）（第２層）を約　
１００Å形成した。

【００５４】得られた熱線反射ガラスの光学性能をＴＶ
　、ＴＥ、ＲＶＦ、ＲＶＧは、それぞれ、７２、５６、
　９、　９（％）であった。実施例１と同様な耐久性試
験を行ったが、同様に優れた性能を示した。

【００５５】［比較例１］実施例５の効果を見るために
、珪素を含まない酸化ジルコニウム膜（第１層）をガラ
ス基板面上に約６００　Å形成した。次に、アルゴンと
窒素の混合ガスに切り替え圧力を２×１０−３Ｔｏｒｒ
にしてチタンターゲットを高周波マグネトロンスパッタ
リングして窒化チタン（第２層）を約５０Å形成した。 その後、再び第１層と同じ条件で酸化ジルコニウム膜（
第３層）を約６００　Å形成した。こうして得られた試
料を砂消しゴム試験にかけたところ、耐摩耗性は劣り多
数の傷が生じた。

【００５６】［比較例２］実施例６の効果を見るために
、珪素を含まない酸化チタン膜（第１層）をガラス基板
面上に約６００　Å形成した。次に、アルゴンと窒素の
混合ガスに切り替え圧力を２×１０−３Ｔｏｒｒにして
チタンターゲットを高周波マグネトロンスパッタリング
して窒化チタン（第２層）を約５０Å形成した。その後
、再び第１層と同じ条件で酸化チタン膜（第３層）を約
６００　Å形成した。こうして得られた試料を砂消しゴ
ム試験にかけたところ、耐摩耗性は劣り多数の傷が生じ
た。

【００５７】

【発明の効果】本発明は、ガラス基板からみて一番外側
、即ち、空気側の最外層に非晶質酸化膜を用いることに
より、実施例１〜７に示すように、被膜付きでないガラ
ス基板とそれほど遜色のない化学的安定性と耐摩耗性に
優れた光学体を得ることを可能にするものである。これ
により従来は使用できなかった苛酷な用途にも本発明の
光学体を使用することができる。

【００５８】又、非晶質酸化膜として珪素を含んだもの
を用いる場合は、珪素の含有割合を変えることにより、
かかる酸化膜の屈折率を調節することができ、光学的な
膜設計の自由度が拡大するという効果も奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わる光学体の一例の一部断面図

【図
２】本発明に係わる熱線反射性能を有する光学体の一例
の一部断面図

【符号の説明】

１　　ガラス基板 ２　　金属、窒化物、炭化物、硼化物、酸化膜、珪化物
、あるいはこれらの複合物からなる膜（第１層）３　　
非晶質酸化膜（第２層） １０　　ガラス基板 １１　　透明誘電体膜（第１層） １２　　窒化膜（第２層） １３　　非晶質酸化膜（第３層）

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ガラス基板上に少なくとも２層からなる光
   学薄膜が形成された光学体において、空気側の最外層が
   、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、錫、タンタル、
   及びインジウムの群から選ばれる少なくとも１種と、珪
   素とを含む酸化物を主成分とする非晶質酸化膜からなる
   ことを特徴とする耐久性の優れた光学体。
2. 【請求項２】非晶質酸化膜が少なくともジルコニウムと
   珪素とを含む酸化膜からなることを特徴とする請求項１
   記載の耐久性の優れた光学体。
3. 【請求項３】ガラス基板上に、該ガラス基板側から順に
   窒化物膜、非晶質酸化膜の少なくとも２層が形成されて
   なることを特徴とする請求項１又は２記載の耐久性の優
   れた光学体。
4. 【請求項４】ガラス基板上に、該ガラス基板側から順に
   透明誘電体膜、窒化物膜、非晶質酸化膜の少なくとも３
   層が形成されてなることを特徴とする請求項１又は２記
   載の耐久性の優れた光学体。
5. 【請求項５】窒化物膜が窒化チタン、窒化ジルコニウム
   、窒化ハフニウム、窒化タンタル及び窒化クロムの群か
   ら選ばれる少なくとも１種からなることを特徴とする請
   求項３又は４記載の耐久性の優れた光学体。