JPH04261170A - キナゾリン誘導体およびそれらの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は新規キナゾリン誘導体および医薬として許容さ
れるそれらの塩に関する。より詳しくは、本発明は末梢
あるいは中枢神経系に作用を示す新規キナゾリン誘導体
およびそれらの医薬として許容される塩、それらの製造
法ならびにそれらを含有する医薬組成物に関する。

【０００２】

【発明の目的】従って、本発明の目的の１つは、末梢ま
たは中枢神経系、特に末梢神経系に作用を示す新規キナ
ゾリン誘導体および医薬として許容されるそれらの塩を
提供することである。本発明のもう１つの目的は、新規
キナゾリン誘導体およびそれらの塩の製造法を提供する
ことである。本発明のさらなる目的の１つは、該キナゾ
リン誘導体および医薬として許容されるそれらの塩を有
効成分として含有し、ドーパミン受容体作用薬ならびに
ヒトまたは動物におけるドーパミン受容体介在性疾患、
特に高血圧症、心臓血管障害（たとえば狭心症、心筋梗
塞など）、パーキンソン症候群などの治療薬として有用
な医薬組成物を提供することである。

【０００３】

【発明の構成】上記目的キナゾリン誘導体は新規であっ
て、下記の一般式で示される。 ［式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ水素、ハロゲン、ニトロ
基、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒドロキシアミノ
基、低級アルコキシ基、低級アルキル基、ヒドロキシ基
、スルファモイル基、カルボキシ基、保護されたカルボ
キシ基、カルバモイル基、メルカプト基、低級アルキル
チオ基またはイミダゾリル基、Ｒ３は適当な置換基を有
していてもよいアリール基、Ａは低級アルキレン基、お
よび医薬として許容されるそれらの塩。目的化合物（Ｉ
）の医薬として許容される好適な塩としては慣用の無毒
性の塩であって、無機塩基との塩、たとえばアルカリ金
属塩（たとえばナトリウム塩、カリウム塩など）、アル
カリ土類金属塩（たとえばカルシウム塩、マグネシウム
塩など）、アンモニウム塩；有機塩基との塩、たとえば
有機アミン塩（たとえばトリエチルアミン塩、ピリジン
塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノール
アミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベ
ンジルエチレンジアミン塩など）；無機酸付加塩（たと
えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩など）；有
機酸付加塩（たとえば蟻酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢
酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、
ベンゼンスルホン酸塩など）；塩基性または酸性アミノ
酸（たとえばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン
酸など）との塩などのごとき塩基との塩、または酸付加
塩を包含しうる。

【０００４】本発明によれば、目的化合物（Ｉ）または
その医薬として許容される塩は下記の方法によって製造
できる。 プロセス１ プロセス２ プロセス３ プロセス４ プロセス５ プロセス６ プロセス７ プロセス８

【０００５】 あり、 ロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒ
ドロキシアミノ基、低級アルコキシ基、低級アルキル基
、ヒドロキシ基、スルファモイル基、カルボキシ基、保
護されたカルボキシ基、カルバモイル基、メルカプト基
、低級アルキルチオ基またはイミダゾリル基、、ニトロ
基、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒドロキシアミノ
基、低級アルコキシ基、低級アルキル基、ヒドロキシ基
、スルファモイル基、カルボキシ基、保護されたカルボ
キシ基、カルバモイル基、メルカプト基、低級アルキル
チオ基またはイミダゾリル基、ニトロ基、アミノ基、保
護されたアミノ基、ヒドロキシアミノ基、低級アルコキ
シ基、低級アルキル基、ヒドロキシ基、スルファモイル
基、カルボキシ基、保護されたカルボキシ基、カルバモ
イル基、メルカプト基、低級アルキルチオ基またはイミ
ダゾリル基、 、他方が水素、ハロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護さ
れたアミノ基、ヒドロキシアミノ基、低級アルコキシ基
、低級アルキル基、ヒドロキシ基、スルファモイル基、
カルボキシ基、保護されたカルボキシ基、カルバモイル
基、メルカプト基、低級アルキルチオ基またはイミダゾ
リル基、 ニトロ基、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒドロキシ
アミノ基、低級アルコキシ基、低級アルキル基、ヒドロ
キシ基、スルファモイル基、カルボキシ基、保護された
カルボキシ基、カルバモイル基、メルカプト基、低級ア
ルキルチオ基またはイミダゾリル基、 ハロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護されたアミノ基、
ヒドロキシアミノ基、低級アルコキシ基、低級アルキル
基、ヒドロキシ基、スルファモイル基、カルボキシ基、
保護されたカルボキシ基、カルバモイル基、メルカプト
基、低級アルキルチオ基またはイミダゾリル基、Ｒ４は
エステル化されたカルボキシ基、Ａ１はＣ１−Ｃ５アル
キレン基、Ｘ１、Ｘ２はそれぞれ脱離基、をそれぞれ示
す。）

【０００６】各プロセスで用いられる原料化合物には新
規なものも含まれていると思われるが、これらは、たと
えば、以下の方法または一般公知の方法で製造すること
ができる。 方法Ａ 方法Ｂ 方法Ｃ 方法Ｄ 方法Ｅ

【０００７】 定義の通りであり、 Ｘは脱離基を示す。） 上記方法の原料化合物には新規なものも含まれるが、こ
れらは、たとえば、以下の製造法または一般公知の方法
で製造することができる。

【０００８】本明細書の記載において、本発明がその範
囲内に包含する種々の定義の好適な例および実例を次に
詳細に説明する。「低級」なる語は、特記ない限り、炭
素原子数１〜６、好ましくは１〜４を意味する。好適な
「低級アルキル基」としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘ
キシルなどの直鎖または分枝アルキル基が挙げられ、な
かでも最も好ましいものはメチルである。好適な「低級
アルコキシ基」としては、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペン
チルオキシ、ヘキシルオキシなどであり、なかでも最も
好ましいのは、Ｒ１およびＲ２としてはメトキシおよび
エトキシ、Ｒ３における置換基としてはメトキシ、エト
キシ、プロポキシである。

【０００９】好適な「適当な置換基を有していてもよい
アリール基」としては、ハロゲン（たとえば弗素、塩素
、臭素、沃素）、先に例示したごとき低級アルキル基（
たとえばメチルなど）、先に例示したごとき低級アルコ
キシ（たとえばメトキシ、エトキシ、プロポキシなど）
、アミノ、ニトロなどの置換基１個以上、好ましくは、
１〜３個、より好ましくは１〜２個で置換されていても
よいフェニル、トリル、キシリル、クメニル、メシチル
またはナフチルなどが挙げられ、なかでもより好ましい
のは非置換のフェニル、またはハロゲン、Ｃ１−Ｃ４ア
ルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ニトロおよびアミノか
らなる群より選ばれる置換基で置換されたフェニルであ
り、最も好ましいのはフェニル、２−（または４−）ト
リル、２−（または４−）クロロフェニル、２−メトキ
シフェニル、２−エトキシフェニル、２−プロポキシフ
ェニル、２−ニトロフェニルおよび２−アミノフェニル
である。好適な「ニトロで置換されたアリール基」およ
び「アミノで置換されたアリール基」とは、先に述べた
「適当な置換基を有していてもよいアリール基」のうち
ニトロおよびアミノでそれぞれ置換されたものを意味す
る。

【００１０】好適な「保護されたカルボキシ基」として
は、エステル化されたカルボキシが挙げられ、該エステ
ル化されたカルボキシとしては次に述べるごときものを
挙げることができる。エステル化されたカルボキシのエ
ステル部分の好適な例としては、低級アルキルエステル
（たとえばメチルエステル、エチルエステル、プロピル
エステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イ
ソブチルエステル、ｔ−ブチルエステル、ペンチルエス
テル、ヘキシルエステルなど）、適当な置換基を少なく
とも１個有していてもよい低級アルキルエステルその例
としてたとえば低級アルカノイルオキシ（低級）アルキ
ルエステル［たとえばアセトキシメチルエステル、プロ
ピオニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチル
エステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイル
オキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエス
テル、１−（または２−）アセトキシエチルエステル、
１−（または２−または３−）アセトキシプロピルエス
テル、１−（または２−または３−または４−）アセト
キシブチルエステル、１−（または２−）プロピオニル
オキシエチルエステル、１−（または２−または３−）
プロピオニルオキシプロピルエステル、１−（または２
−）ブチリルオキシエチルエステル、１−（または２−
）イソブチリルオキシエチルエステル、１−（または２
−）ピバロイルオキシエチルエステル、１−（または２
−）ヘキサノイルオキシエチルエステル、イソブチリル
オキシメチルエステル、２−エチルブチリルオキシメチ
ルエステル、３，３−ジメチルブチリルオキシメチルエ
ステル、１−（または２−）ペンタノイルオキシエチル
エステルなど］、低級アルカンスルホニル（低級）アル
キルエステル（たとえば２−メシルエチルエステルなど
）、モノ（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アルキル
エステル（たとえば２−ヨードエチルエステル、２，２
，２−トリクロロエチルエステルなど）；低級アルコキ
シカルボニルオキシ（低級）アルキルエステル［たとえ
ばメトキシカルボニルオキシメチルエステル、エトキシ
カルボニルオキシメチルエステル、プロポキシカルボニ
ルオキシメチルエステル、ｔ−ブトキシカルボニルオキ
シメチルエステル、１−（または２−）メトキシカルボ
ニルオキシエチルエステル、１−（または２−）エトキ
シカルボニルオキシエチルエステル、１−（または２−
）イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステルなど
）、フタリジリデン（低級）アルキルエステル、または
（５−低級アルキル−２−オキソ−１，３−ジオキソー
ル−４−イル）（低級）アルキルエステル［たとえば（
５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソール−４−
イル）メチルエステル、（５−エチル−２−オキソ−１
，３−ジオキソール−４−イル）メチルエステル、（５
−プロピル−２−オキソ−１，３−ジオキソール−４−
イル）エチルエステルなど］；低級アルケニルエステル
（たとえばビニルエステル、アリルエステルなど）；低
級アルキニルエステル（たとえばエチニルエステル、プ
ロピニルエステルなど）；適当な置換基（たとえば低級
アルコキシ、ニトロ、ヒドロキシ、低級アルキルなど）
を少なくとも１個有していてもよい、アル（低級）アル
キルエステル［たとえばモノまたはジまたはトリフェニ
ル（低級）アルキルエステルなど］、たとえば（Ｃ１−
Ｃ４）アルコキシを有していてもよい、モノまたはジま
たはトリフェニル（Ｃ１−Ｃ４）アルキルエステル［た
とえばベンジルエステル、ベンズヒドリルエステル、ト
リチルエステル、フエネチルエステル、４−メトキシベ
ンジルエステル、３，４−ジメトキシベンジルエステル
、ビス（メトキシフェニル）メチルエステルなど］、ニ
トロフェニル（Ｃ１−Ｃ４）アルキルエステル（たとえ
ば４−ニトロベンジルエステルなど）、［ヒドロキシ］
−（Ｃ１−Ｃ４）アルキルフェニル（Ｃ１−Ｃ４）アル
キルエステル（たとえば４−ヒドロキシ−３，５−ジ−
ｔ−ブチルベンジルエステルなど）；適当な置換基を少
なくとも１個有していてもよいアリールエステル（たと
えばフェニルエステル、４−クロロフェニルエステル、
トリルエステル、ｔ−ブチルフェニルエステル、キシリ
ルエステル、メシチルエステル、クメニルエステルなど
）；フタリジルエステルなどを挙げることができる。前
記定義の保護されたカルボキシ基のうちより好ましいの
はＣ１−Ｃ４アルコキシカルボニルであり、最も好まし
いのはメトキシカルボニルである。

【００１１】好適な「エステル化されたカルボキシ基」
としては、「保護されたカルボキシ」で説明したものを
そのまま挙げることができ、なかでも最も好ましいのは
エトキシカルボニルである。好適な「保護されたアミノ
基」としては、次に述べるごとき慣用のアミノ保護基で
保護されたアミノを挙げることができる。好適な「アミ
ノ保護基」としては、カルボン酸、炭酸、スルフォン酸
およびカルバミン酸から誘導されるカルバモイル、脂肪
族アシル、芳香族アシル、複素環アシル芳香族基または
複素環基で置換された脂肪族アシルなどのアシルを挙げ
ることができる。

【００１２】脂肪族アシルとしては、飽和または不飽和
の鎖状または環状のもの、たとえば低級アルカノイル（
たとえばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル
、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル
、ヘキサノイルなど）などのアルカノイル、低級アルキ
ルスルホニル（たとえばメシル、エチルスルホニル、プ
ロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルス
ルホニル、イソブチルスルホニル、ペンチルスルホニル
、ヘキシルスルホニルなど）などのアルキルスルホニル
、カルバモイル、Ｎ−アルキルカルバモイル（たとえば
メチルカルバモイル、エチルカルバモイルなど）、低級
アルコキシカルボニル（たとえばメトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル、ｔ−ブトキシカルボニルなど）などのアル
コキシカルボニル、低級アルケニルオキシカルボニル（
たとえばビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボ
ニルなど）などのアルケニルオキシカルボニル、低級ア
ルケノイル（たとえばアクリロイル、メタクリロイル、
クロトノイルなど）などのアルケノイル、シクロ（低級
）アルカンカルボニル（たとえばシクロプロパンカルボ
ニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカル
ボニルなど）などのシクロアルカンカルボニルなどを挙
げることができる。芳香族基で置換された脂肪族アシル
としては、フェニル（低級）アルコキシカルボニル（た
とえばベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカ
ルボニルなど）などのアルアルコキシカルボニルを挙げ
ることができる。これらのアシル基は、ニトロなどの適
当な置換基１個以上でさらに置換されていてもよく、こ
のような置換基を有するアシルの好ましい例としてはニ
トロアルアルコキシカルボニル（たとえばニトロベンジ
ルオキシカルボニルなど）などを挙げることができる。

【００１３】より好ましいアミノ保護基の例としては、
低級アルキルスルホニルなどの脂肪族アシルが挙げられ
、最も好ましいものとしてはメタンスルホニルが挙げら
れる。前記の如く定義された保護されたアミノ基のより
好ましい例としては、低級アルキルスルホニルアミノの
ごとき脂肪族アシルアミノが挙げられ、最も好ましいも
のとしてはメタンスルホニルアミノが挙げられる。好適
な「ハロゲン」としては、弗素、塩素、臭素、ヨウ素を
挙げることができ、なかでもより好ましいのは塩素と弗
素である。好適な「低級アルキレン基」としては、メチ
レン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン、メチルメチレン、エチル
エチレン、プロピレンなどの直鎖または分枝アルキレン
が挙げられ、なかでもより好ましいのはＣ１−Ｃ４アル
キレンであり、最も好ましいのはテトラメチレンである
。好適な「Ｃ１−Ｃ５アルキレン基」としては、Ｃ６ア
ルキレンを除く前記の「低級アルキレン」が挙げられ、
なかでもより好ましいのはＣ１−Ｃ４アルキレンであり
、最も好ましいのはトリメチレンである。

【００１４】好適な「脱離基」としては、イミダゾール
、低級アルキルイミダゾール（たとえば２−メチルイミ
ダゾールなど）、前記のハロゲン（たとえば塩素など）
、スルホニルオキシ（メシルオキシ、トシルオキシなど
）などのごとき酸残基、トリハロ（低級）アルキルオキ
シ（たとえばトリクロロメトキシなど）などを挙げるこ
とができる。好適な「低級アルキルチオ基」としては、
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピル
チオ、ブチルチオ、ｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘ
キシルチオなどの直鎖または分枝アルキルチオが挙げら
れる。

【００１５】好適な「含窒素複素環基」とは、少なくと
も１個の窒素原子を含有し、酸素、硫黄、などの他のヘ
テロ原子を含有していてもよい飽和または不飽和の単環
または多環複素環基を意味し、該複素環基は基Ａに環の
窒素原子で結合している。好適な含窒素複素環基として
は、１〜４個の窒素原子を含有する３〜８員、好ましく
は５または６員の不飽和複素単環基、たとえばピロール
−１−イル、ピロリン−１−イル、イミダゾール−１−
イル、ピラゾール−１−イル、テトラヒドロピリジン−
１−イル（たとえば１，２，３，６−テトラヒドロピリ
ジン−１−イルなど）、トリアゾリル（たとえば４Ｈ−
１，２，４−トリアゾール−４−イル、１Ｈ−１，２，
３−トリアゾール−１−イル、２Ｈ−１，２，３−トリ
アゾール−２−イルなど）、テトラゾリル（たとえば１
Ｈ−テトラゾール−１−イル、２Ｈ−テトラゾール−２
−イルなど）、ジヒドロトリアジニル（たとえば４，５
−ジヒドロ−１，２，４−トリアジン−４−イル、２，
５−ジヒドロ−１，２，４−トリアジン−２−イルなど
）など；１〜４個の窒素原子を含有する３〜８員、好ま
しくは５または６員の飽和複素単環基、たとえばアゼチ
ジン−１−イル、ピロリジン−１−イル、イミダゾリジ
ン−１（または３−）イル、ピペリジン−１−イル、ピ
ラゾリジン−１−イル、ピペラジン−１−イルなど；

【
００１６】１〜２個の酸素原子および１〜３個の窒素原
子を含有する３〜８員、好ましくは５または６員の不飽
和複素単環基、たとえばオキサジニル（例えば４Ｈ−１
，４−オキサジン−４−イルなど）、オキサジアジニル
（例えば４Ｈ−１，２，４−オキサジアジン−４−イル
など）など；１〜２個の酸素原子および１〜３個の窒素
原子を含有する３〜８員、好ましくは５または６員の飽
和複素単環基、たとえばモルホリン−４−イルなど；１
〜２個の硫黄原子および１〜３個の窒素原子を含有する
３〜８員、好ましくは５または６員の不飽和複素単環基
、たとえばチアゾリニル（例えば１，３−チアゾリン−
３−イル、１，２−チアゾリン−２−イルなど）など；
１〜２個の硫黄原子および１〜３個の窒素原子を含有す
る３〜８員、好ましくは５または６員の飽和複素単環基
、たとえばチアゾリジニル（例えば１，３−チアゾリジ
ン−３−イル、１，２−チアゾリジン−２−イルなど）
など；なかでもより好ましいのは、炭素原子１〜４個を
含有する５または６員の飽和または不飽和複素単環基で
あり、最もも好ましいのはピペラジン−１−イルおよび
１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イルであ
る。

【００１７】 りである。Ｒ１およびＲ２はそれぞれ水素、ハロゲン、
ニトロ基、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒドロキシ
アミノ基、低級アルコキシ基、低級アルキル基、ヒドロ
キシ基、スルファモイル基、カルボキシ基、保護された
カルボキシ基、カルバモイル基、メルカプト基または低
級アルキルチオ基、Ｒ３は適当な置換基を有していても
よいアリール基、Ａは低級アルキレン基、

【００１８】 示す通りである。Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ水素、ハロゲン
、ニトロ基、アミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ
（たとえばメチルスルホニルアミノ、エチルスルホニル
アミノなど）などのアシルアミノ基、ヒドロキシアミノ
基、低級アルコキシ基、低級アルキル基、ヒドロキシ基
、スルファモイル基、カルボキシ基、低級アルコキシカ
ルボニルなどのエステル化されたカルボキシ基、カルバ
モイル基、メルカプト基、低級アルキルチオ基またはイ
ミダゾリル基、Ｒ３は非置換のフェニル基、またはハロ
ゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロおよびア
ミノからなる群より選ばれる置換基１〜３個で置換され
たフェニル基、Ａは低級アルキレン基、ラヒドロピリジ
ン−１−イルなどのような窒素原子１〜４個含有する５
または６員の飽和または不飽和複素単環基。

【００１９】本発明の目的化合物（Ｉ）の製造法を以下
に詳細に説明する。 （１）プロセス１ 化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（ＩＩ）またはヒ
ドロキシ基におけるその反応性誘導体またはそれらの塩
を化合物（ＩＩＩ）と反応させることによって製造する
ことができる。化合物（ＩＩ）の好適な塩としては、化
合物（Ｉ）で示したのと同じものが挙げられる。化合物
（ＩＩＩ）の好適な塩としては化合物（Ｉ）で示した酸
付加塩と同じものが挙げられる。化合物（ＩＩ）のヒド
ロキシ基における反応性誘導体の好適な例としては、ハ
ライド（クロライド、ブロマイド、アイオダイドなど）
、スルホネート（たとえばメタンスルホネート、ベンゼ
ンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネートなど）など
が挙げられる。

【００２０】この反応は、通常、アルカリ金属水酸化物
（たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）、
アルカリ土類金属水酸化物（たとえば水酸化マグネシウ
ム、水酸化カルシウムなど）、アルカリ金属水素化物（
たとえば水素化ナトリウム、水素化カリウムなど）、ア
ルカリ土類金属水素化物（たとえば水素化カルシウムな
ど）、アルカリ金属アルコキシド（たとえばナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブト
キシドなど）、アルカリ金属炭酸塩（たとえば炭酸ナト
リウム、炭酸カリウムなど）、アルカリ土類金属炭酸塩
（たとえば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなど）、
アルカリ金属重炭酸塩（たとえば重炭酸ナトリウム、重
炭酸カリウムなど）などの無機塩基；トリメチルアミン
、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ピリジ
ン、ピコリン、ルチジン、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジイソ
プロピルアミンなどの有機塩基の存在下で行われる。本
反応は、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒、たとえ
ばジクロロメタン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、４−メチル−２−ペンタノン、テトラヒドロフ
ランなどまたはそれらの混合物などの溶媒中で行われる
。反応温度は特に限定されず、通常、加温ないし加熱下
で反応は行われる。

【００２１】（２）プロセス２ 化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（ＩＶ）またはそ
の塩のアミド部分を還元することによって製造できる。 化合物（ＩＶ）の好適な塩としては化合物（Ｉ）で示し
たのと同じものが挙げられる。この反応に用いることの
できる還元方法としては、アミド基をアミノメチル基に
変換することのできる慣用の方法、たとえば金属（たと
えば亜鉛、亜鉛アマルガムなど）またはクロム化合物の
塩（たとえば塩化第一クロム、酢酸第一クロムなど）と
有機または無機酸（たとえば酢酸、プロピオン酸、塩酸
、硫酸など）との組合せを用いる還元；慣用の金属触媒
、たとえばパラジウム触媒（たとえばパラジウム海綿、
パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム炭、コロイ
ドパラジウム、パラジウム硫酸バリウム、パラジウム炭
酸バリウム、水酸化パラジウム炭など）、ニッケル触媒
（たとえぼ還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケ
ルなど）、白金触媒（たとえば白金板、白金海綿、白金
黒、コロイド白金、酸化白金、白金線など）などの存在
下で行う慣用の触媒還元；水素化リチウムアルミニウム
；水素化硼素ナトリウム、トリ（低級）アルキルボラン
と水素化硼素ナトリウムの組合せ；ボラン、ジボラン、
水素化硼素ナトリウムと三弗化硼素の組合せ、とくに好
ましくは水素化リチウムアルミニウム、ボラン、ジボラ
ン、水素化硼素ナトリウムと三弗化硼素との組合せなど
を用いる還元方法などが挙げられる。本反応は、通常、
水、アルコール（たとえばメタノール、エタノール、プ
ロパノールなど）、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
酢酸、緩衝液（たとえば燐酸緩衝液、酢酸緩衝液など）
などの反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれ
らの混合溶媒中で行われる。反応温度は特に限定されず
、通常、冷却ないし加温下で反応は行われる。

【００２２】（３）プロセス３ けるニトロ基を還元に付すことによって製造することが
できる。化合物（Ｉ−ａ）および（Ｉ−ｂ）の好適な塩
としては化合物（Ｉ）で示したのと同じものを挙げるこ
とができる。本反応は、通常、次に述べる慣用の方法で
行われる。

【００２３】還元方法 本反応に用いられる還元方法としては、ニトロ基をヒド
ロキシアミノまたはアミノ基に変換することのできる慣
用的方法、たとえば塩化錫（ＩＩ）または亜鉛末を用い
る還元；金属（たとえば亜鉛、亜鉛アマルガムなど）ま
たはクロム化合物の塩（例えば塩化第一クロム、酢酸第
一クロムなど）と有機または無機酸（たとえば酢酸、プ
ロピオン酸、塩酸、硫酸など）との組合せを用いる還元
；慣用の金属触媒、たとえばパラジウム触媒（たとえば
パラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラ
ジウム炭、コロイドパラジウム、パラジウム硫酸バリウ
ム、パラジウム炭酸バリウム、水酸化パラジウム炭など
）、ニッケル触媒（たとえば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネーニッケルなど）、白金触媒（たとえば白金板
、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線
など）などの存在下で行う慣用の接触還元；アルミニウ
ムアマルガムを用いる還元；電解還元などが挙げられる
。接触還元法を用いる場合、反応は中性近付で行うこと
が好ましい。本反応は、通常、水、アルコール（たとえ
ばメタノール、エタノール、プロパノールなど）、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、酢酸、緩衝液（たとえば
燐酸緩衝液、酢酸緩衝液など）などの反応に悪影響を及
ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合溶媒中で行われ
る。反温度は特に限定されず、通常、加温ないし加熱下
で反応は行われる。

【００２４】（４）プロセス４ 化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（Ｖ）またはその
塩を塩基と反応させることによって製造することができ
る。化合物（Ｖ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で
示したものと同じものを挙げることができる。本反応で
用いられる好適な塩基としては、プロセス５で述べたも
のと同じものが挙げられる。本反応は、アルコール（た
とえばメタノール、エタノールなど）、ジクロロメタン
、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、４−メチ
ル−２−ペンタノン、テトラヒドロフランなどの反応に
悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合溶媒
中で行われる。反応温度は特に限定されず、通常、加温
ないし加熱下で反応は行われる。

【００２５】（５）プロセス５ 化合物（Ｉ−ｄ）またはその塩は、化合物（Ｉ−ｃ）ま
たはその塩を加水分解することによって製造することが
できる。化合物（Ｉ−ｃ）および（Ｉ−ｄ）の好適な塩
としては、化合物（Ｉ）で示したのと同じものが挙げら
れる。この加水分解は、塩基または酸の存在下で行うこ
とが好ましい。好ましい塩基としては、アルカリ金属水
酸化物（たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムな
ど）、アルカリ土類金属水酸化物（たとえば水酸化マグ
ネシウム、水酸化カルシウムなど）、アルカリ金属水素
化物（たとえば水素化ナトリウム、水素化カリウムなど
）、アルカリ土類金属水素化物（たとえば水素化カルシ
ウムなど）、アルカリ金属アルコキシド（たとえばナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ
−ブトキシドなど）、アルカリ金属炭酸塩（たとえば炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）、アルカリ土類金属
炭酸塩（たとえば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムな
ど）、アルカリ金属重炭酸塩（たとえば重炭酸ナトリウ
ム、重炭酸カリウムなど）などを挙げることができる。

【００２６】好適な酸としては、有機酸（たとえば蟻酸
、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンス
ルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸など）および無機酸
（たとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸など）を挙げ
ることができる。トリフルオロ酢酸を用いる加水分解は
、一般に、カチオン捕捉剤（たとえばフェノール、アニ
ソールなど）の添加によって促進される。本反応は、通
常、水、ジクロロメタン、アルコール（たとえばメタノ
ール、エタノールなど）、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、アセトンなどの反応に悪影響を及ぼさない慣用の
溶媒またはそれらの混合溶媒中で行われる。液状の塩基
または酸は溶媒としても使用できる。反応温度は特に限
定されず、通常、冷却ないし加熱下で反応は行われる。

【００２７】（６）プロセス６ 化合物（Ｉ−ｅ）および（Ｉ−ｆ）の好適な塩としては
、化合物（Ｉ）で示したのと同じものを挙げることがで
きる。この還元方法および反応条件（たとえば反応温度
、溶媒など）はプロセス３で説明したものと実質的に同
じであるので、これらについてはプロセス３で説明した
ものをそのまま挙げることができる。

【００２８】（７）プロセス７ 化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（ＶＩＩＩ）また
はその塩を化合物（ＸＩ）と反応させることによって製
造することができる。化合物（ＶＩＩＩ）の好適な塩と
しては、化合物（Ｉ）で示したのと同じものが挙げられ
る。この反応は、通常、水、ジクロロメタン、アルコー
ル（たとえばメタノール、エタノールなど）、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、アセトンなどの反応に悪影響
を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合溶媒中で行
われる。反応温度は特に限定されず、通常、加温ないし
加熱下で反応は行われる。この反応において、Ｒ１、Ｒ
２の少なくとも一方がハロゲンであり化合物（ＸＩ）が
カルボニルジイミダゾールである場合、目的化合物（Ｉ
）においてＲ１、Ｒ２のうちの少なくとも一方がイミダ
ゾール−１−イル基に変換されたものが得られることも
ある。

【００２９】（８）プロセス８ 化合物（Ｉ−ｈ）またはその塩は、化合物（Ｉ−ｇ）ま
たはその塩にアミノ保護基を導入することによって製造
することができる。化合物（Ｉ−ｇ）および（Ｉ−ｈ）
の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で示したのと同じも
のが挙げられる。アミノ保護基の好適な導入剤としては
、慣用のもの、たとえば有機カルボン酸、炭酸、スルホ
ン酸およびカルバミン酸またはそれらの慣用の反応性誘
導体などのごときアミノ基のアシル化剤などが挙げられ
る。本反応は、通常、アルカリ金属水酸化物（たとえば
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）、アルカリ土
類金属水酸化物（たとえば水酸化マグネシウム、水酸化
カルシウムなど）、アルカリ金属水素化物（たとえば水
素化ナトリウム、水素化カリウムなど）、アルカリ土類
金属水素化物（たとえば水素化カルシウムなど）、アル
カリ金属アルコキシド（たとえばナトリウムメトキシド
、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドなど
）、アルカリ金属炭酸塩（たとえば炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムなど）、アルカリ土類金属炭酸塩（たとえば
炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなど）、アルカリ金
属重炭酸塩（たとえば重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウ
ムなど）などの無機塩基；トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ピリジン、ピコリ
ン、ルチジン、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルア
ミンなどの有機塩基などの存在下で行われる。さらに、
アミノ保護基導入試薬が遊離酸である場合は、いわゆる
「アシル化」反応に用いる通常の縮合剤の存在下でこの
反応を実施することができる。本反応は、ジクロロメタ
ン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、４−メ
チル−２−ペンタノン、テトラヒドロフランなどの反応
に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合溶
媒中で行われる。反応温度は特に限定されず、通常、冷
却ないし加温下で反応は行われる。上記各プロセスによ
って得られた目的化合物は、常法、たとえば抽出、晶出
、分別結晶化、再結晶、クロマトグラフィーなどにより
、単離、精製できる。

【００３０】上記各方法で用いられる新規な原料化合物
またはその塩の製造方法を次に詳細に説明する。 （Ａ）方法Ａ 化合物（ＩＩ）またはその塩は、化合物（ＶＩ）または
その塩を還元することによって製造することができる。 化合物（ＶＩ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）で示
したのと同じものを挙げることができる。この還元方法
および反応条件（たとえば反応温度、溶媒など）はプロ
セス２と実質的に同様であって、カルボキシ基をヒドロ
キシメチル基に変換することができればよく、従って再
説を省略する。

【００３１】（Ｂ）方法Ｂ 化合物（ＩＶ）またはその塩は、化合物（ＶＩ）または
そのカルボキシ基における反応性誘導体またはその塩を
化合物（ＩＩＩ）と反応させることによって製造するこ
とができる。化合物（ＶＩ）のカルボキシ基における好
適な反応性誘導体としては、酸ハライド（たとえば酸塩
化物、酸臭化物、酸ヨウ化物など）、酸無水物、活性ア
ミド、活性エステルなどが挙げられる。これらの反応性
誘導体の好適な例としては、酸塩化物；酸アジド；置換
燐酸（たとえばジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェ
ニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸など）、ジ
アルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、スルホン酸
（たとえばメタンスルホン酸など）、脂肪族カルボン酸
（たとえば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ピバ
ル酸、吉草酸、イソ吉草酸、２−エチル酪酸、トリクロ
ロ酢酸など）または芳香族カルボン酸（たとえば安息香
酸など）などの酸との混合酸無水物；対称酸無水物；イ
ミダゾール、４−置換イミダゾール、ジメチルピラゾー
ル、トリアゾールまたはテトラゾールとの活性アミド；
または活性エステル（たとえばスクシンイミドエステル
、シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ジ
メチルイミノメチル 、ｐ−ニトロフェニルエステル、２，４−ジニトロフェ
ニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタク
ロロフェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェ
ニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、ｐ
−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−クレシルチオエス
テル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステ
ル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、８−キノ
リルチオエステルなど）またはＮ−ヒドロキシ化合物（
たとえばＮ，Ｎ−ジメチルヒドロキシアミン、１−ヒド
ロキシ−２−（１Ｈ）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシスク
シンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロ
キシ−１Ｈ−ベンゾトリアゾールなど）とのエステルな
どが挙げられる。これらの反応性誘導体は、使用する化
合物（ＶＩ）の種類に応じて適宜選択すればよい。

【００３２】この反応は、通常、アルカリ金属水酸化物
（たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）、
アルカリ土類金属水酸化物（たとえば水酸化マグネシウ
ム、水酸化カルシウムなど）、アルカリ金属水素化物（
たとえば水素化ナトリウム、水素化カリウムなど）、ア
ルカリ土類金属水素化物（たとえば水素化カルシウムな
ど）、アルカリ金属アルコキシド（たとえばナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブト
キシドなど）、アルカリ金属炭酸塩（たとえば炭酸ナト
リウム、炭酸カリウムなど）、アルカリ土類金属炭酸塩
（たとえば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなど）、
アルカリ金属重炭酸塩（たとえば重炭酸ナトリウム、重
炭酸カリウムなど）などの無機塩基；トリメチルアミン
、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ピリジ
ン、ピコリン、ルチジン、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジイソ
プロピルアミンなどの存在下で行われる。本反応は、ジ
クロロメタン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、４−メチル−２−ペンタノン、テトラヒドロフラン
などの反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれ
らの混合溶媒中で行われる。反応温度は特に限定されず
、通常、冷却ないし加温下で反応は行われる。

【００３３】（Ｃ）方法Ｃ 化合物（Ｖ）またはその塩は、化合物（ＶＩＩ）または
そのカルボキシ基における反応性誘導体またはその塩を
アミド化することによって製造することができる。化合
物（ＶＩＩ）のカルボキシ基における好適な反応性誘導
体および塩としては、方法Ｂで示した化合物（ＶＩ）と
同じものを挙げることができる。本反応に用いられる好
適なアミド化剤としては、カルボキシ基をアミド基に変
換することのできる慣用のもの、たとえばアンモニアま
たはその酸付加塩（たとえば塩化アンモニウムなど）な
どが挙げられる。本反応は、方法Ｂで述べたごとき塩基
の存在下で行われる。本反応は、ジクロロメタン、ピリ
ジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、４−メチル−２
−ペンタノン、テトラヒドロフラン、アセトニトリルな
どの反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれら
の混合物中で行われる。反応温度は特に限定されず、通
常、冷却ないし加温下で反応は行われる。

【００３４】（Ｄ）方法Ｄ 化合物（Ｘ）またはその塩は、化合物（ＶＩＩ）または
そのカルボキシ基における反応性誘導体またはその塩を
化合物（ＩＸ）と反応させることによって製造すること
ができる。化合物（Ｘ）の好適な塩としては、化合物（
Ｉ）で示したのと同じものが挙げられる。本反応は、ジ
クロロメタン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、４−メチル−２−ペンタノン、テトラヒドロフラン
などの反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれ
らの混合溶媒中で行われる。反応温度は特に限定されず
、通常、加温ないし加熱下で反応は行われる。

【００３５】（Ｅ）方法Ｅ 化合物（ＶＩＩＩ）またはその塩は、化合物（Ｘ）また
はその塩をアンモニアまたはその反応性均等物またはそ
の塩と反応させることによって製造することができる。 アンモニアの好適な反応性均等物としては、水酸化アン
モニウムなどの慣用のものが挙げられる。アンモニアの
好適な塩としては、塩化アンモニウムなどの酸付加塩を
挙げることができる。本反応は、ジクロロメタン、ピリ
ジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、４−メチル−２
−ペンタノン、テトラヒドロフラン、アセトニトリルな
どの反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれら
の混合物中で行われる。反応温度は特に限定されず、通
常、冷却ないし加温下で反応は行われる。

【００３６】目的キナゾリン誘導体（Ｉ）はそれぞれカ
テコールアミンの神経原性放出および／または腎血管の
拡張およびパーキンソニスムの緩解を仲介するシナプス
前（神経性）および／またはシナプス後（血管性）ドー
パミン受容体を刺激する。キナゾリン誘導体（Ｉ）はド
ーパミン受容体、アドレナリン受容体との相互作用の結
果、心血管系に作用する。本発明の目的化合物（Ｉ）と
その医薬品として許容される塩は新規で、ドーパミン受
容体刺激作用、５−ＨＴ受容体拮抗作用、特に５−ＨＴ
２受容体拮抗作用、α１受容体拮抗作用などを示し、ド
ーパミン受容体作用薬、５−ＨＴ受容体拮抗薬、特に５
−ＨＴ２受容体拮抗薬、α１受容体拮抗薬などとして腎
性高血圧症などの高血圧症およびその他の心血管疾患（
たとえば狭心症、うっ血性心不全、心筋梗塞など）、パ
ーキンソニスム、過プロラクチン血症、レイノー現象、
バージャー疾患および間欠跛行などの末梢灌流障害、経
皮的冠動脈管形成術後の再狭窄などの血栓性および／ま
たは平滑筋細胞増殖性疾患、高コレステロール血症、高
脂血症、排尿障害などの治療または予防に有用である。 化合物（Ｉ）とその医薬品として許容される塩は抗アド
レナリン剤、精神安定剤、鎮静剤、制吐剤、体温低下剤
、骨格筋弛緩剤、抗炎症剤、血糖降下剤、抗ウィルス剤
、血流増加剤としても有用であろう。

【００３７】

【効果】さて、目的化合物（Ｉ）および医薬品として許
容されるその塩の有用性を示すために、本発明の化合物
（Ｉ）の代表的化合物のドーパミン受容体刺激作用に関
する試験データを以下に示す。 試験１［ドーパミン受容体（ＤＡ２受容体）結合アッセ
イ］ 試験方法１：試験化合物のＤＡ２受容体に対する親和性
を以下の試験管内受容体結合アッセイで測定した。体重
１５０−３００ｇの雄性ラットを断頭し、線条体を脳か
ら切除した。この組織を５０ｍＭトリス塩酸（２５℃で
ｐＨ７．４）、１２０ｍＭ塩化ナトリウム、５ｍＭ塩化
カリウム、１ｍＭ塩化カルシウム、１ｍＭ塩化マグネシ
ウム、１０μＭパルギリン、０．１％アスコルビン酸か
ら成る緩衝液３０容にホモジナイズした。ホモジネート
は５０，０００ｇで１５分間遠心した。沈澱物を３０容
の緩衝液に再懸濁し、この組織懸濁液を同様に遠心し、
懸濁した。

【００３８】結合アッセイ中にインキュベーション管に
［フェニル−４−３Ｈ］スピペロン１００μｌ、試験化
合物１００μｌ、組織懸濁液０．８ｍｌを入れた。［フ
ェニル−４−３Ｈ］スピペロンの濃度は０．２ｎＭであ
った。ラット線条体の最終組織濃度は１６０μｇ／ｍｌ
であった。試験管を３７℃で１０分間インキュベートし
た後、ワットマンＧＦ／Ｂ濾紙で減圧濾過し、３ｍｌの
氷冷緩衝液で３回洗浄した。濾紙を液体シンチレーショ
ンカウンターで計測した。

【００３９】［３Ｈ］スピペロンの特異的結合をブタク
ラモル存在下で測定した。試験化合物のＩＣ５０値は試
験化合物１０−９Ｍ、１０−８Ｍ、１０−７Ｍ、１０−
６Ｍ存在下の［３Ｈ］スピペロン結合データから算定し
た。 試験化合物： 化合物Ａ　　［実施例６の生成物］ 試験結果１：

【００４０】試験２［レセルピン誘導ドーパ（ＤＯＰＡ
）蓄積の抑制］ 試験方法２：体重３００−４００ｇの雄性ＳＤラットを
本試験で用いた。ラットを屠殺前１７−１９時間にレセ
ルピン（１ｍｇ／ｋｇ、皮下）で前処置した後、絶食さ
せた。試験化合物を屠殺２時間前にラットに経口投与し
た。［ｍ−ヒドロキシベンジルヒドラジン（１００ｍｇ
／ｋｇ、腹腔内）を屠殺３０分前に投与した。］ラット
を頭部焦点マイクロ波アプリケータを用いてマイクロ波
に１．５秒間当てた。全脳を摘出し、その後、線条体を
分離した。

【００４１】ドーパを以下のように測定した。線条体を
９容の０．１Ｎ過塩素酸溶液（０．４％ＥＤＴＡ・２Ｎ
ａ）にホモジナイズした。ホモジネートを１０，０００
ｒｐｍで１分間遠心し、上清を高速液体クロマトグラフ
ィーに付した。 試験結果２

【００４２】試験３　　［自然発症高血圧ラットに対す
る降圧作用］ 試験方法３：平均動脈血圧約１６０−２００ｍｍＨｇ、
体重３００−３５０ｇの１５−２５週齢の雄性自然発症
高血圧ラットを用いた。左大腿動脈にカニューレを挿入
し、圧トランスジューサーを用いて平均血圧と心拍数を
測定した。経口投与前約１８時間は絶食させた。試験化
合物は０．５％メチルセルロースに懸濁し、経口投与し
た。 試験結果３： 最大血圧下降率（％）を表に示す。

【００４３】本発明の目的化合物（Ｉ）またはその医薬
として許容される塩を治療目的に投与する場合、該化合
物を活性成分とし、経口、非経口ないし外用に適した有
機または無機の固形あるいは液状の賦形剤などの医薬と
して許容される担体を含む慣用の製剤として使用される
。このような製剤は錠剤、顆粒剤、粉剤、カプセル剤な
どの固形製剤であってもよく、あるいは溶液、懸濁液、
シロップ剤、乳剤、リモナーデ剤などの液剤であっても
よい。また必要に応じて、助剤、安定剤、湿潤剤、その
他、乳糖、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、
白陶土、白糖、コーンスターチ、タルク、ゼラチン、寒
天、ペクチン、落花生油、オリーブ油、カカオバター、
エチレングリコール、酒石酸、クエン酸、フマール酸な
どの慣用の添加剤を加えることができる。

【００４４】化合物（Ｉ）の投与形態としては患者の年
令や症状、疾病の種類、使用する化合物（Ｉ）の種類な
どによって異なるが、一般に患者一人当り一日約０．０
０１ｍｇないし約３００ｍｇ、望ましくは約０．１ｍｇ
ないし約５０ｍｇを投与することができる。本発明の目
的化合物（Ｉ）の平均一回量としては約０．００１ｍｇ
、０．０１ｍｇ、０．０３ｍｇ、０．１ｍｇ、０．３ｍ
ｇ、０．６ｍｇ、１．０ｍｇ、３．０ｍｇ、１０．０ｍ
ｇ、５０．０ｍｇ、１００．０ｍｇ等を、抗アドレナリ
ン薬、血圧降下薬、心臓血管薬、精神安定薬、鎮静薬、
制吐薬、体温低下薬、骨格筋弛緩薬、抗炎症剤ならびに
抗ウィルス薬として使用することができる。

【００４５】

【実施例】本発明を下記の製造例および実施例に従って
更に詳細に説明する。 製造例１−１）２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオ
ン（１．６２ｇ）、１，１，１，３，３，３−ヘキサメ
チルジシラザン（３．５４ｇ）および硫酸アンモニウム
（１６０ｍｇ）のトルエン（５ｍｌ）中混合物を３時間
還流する。トルエンと過剰の１，１，１，３，３，３−
ヘキサメチルジシラザンを真空留去し、これに４−ブロ
モクロトン酸エチル（３．８４ｇ）を加える。混合物を
１２０℃に加熱する。３時間後、反応混合物を１００℃
以下に冷却し、エタノールを加える。結晶化した物質を
集め、エタノールで洗浄して、１−（３−エトキシカル
ボニル−２−プロペニル）−２，４−（１Ｈ，３Ｈ）−
キナゾリンジオン（１．９５ｇ）を得る。ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ３，δ）：１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），４
．２０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．９０（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２，３Ｈｚ），５．９０（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１
．５，１３Ｈｚ），６．９５−７．１０（２Ｈ，ｍ），
７．２５−７．３５（１Ｈ，ｍ），７．７０（１Ｈ，ｄ
ｔ，Ｊ＝１．５，７Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝１，７Ｈｚ），９．００（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【００
４６】製造例１−２）１−（３−エトキシカルボニル−
２−プロペニル）−２，４−（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリ
ンジオン（５．５０ｇ）のテトラヒドロフラン−メタノ
ール（２００ｍｌ、３：１ｖ／ｖ）溶液に１０％パラジ
ウム炭（５５０ｍｇ）を加える。混合物を水素１気圧下
、激しく攪拌する。６時間後、触媒を濾去し、溶媒を留
去する。エタノールから再結晶して、１−（３−エトキ
シカルボニルプロピル）−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナ
ゾリンジオン（５．２４ｇ）を結晶として得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．９５−２．０５（２Ｈ，ｍ），２．５０
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．１０−４．２５（４Ｈ
，ｍ），７．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．５０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ
＝１，７Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１，７Ｈ
ｚ），９．００（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【００４７】製造
例１−３）１−（３−エトキシカルボニルプロピル）−
２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン（５５２ｍｇ
）と１Ｎ水酸化ナトリウム（６．０ｍｌ）のメタノール
−テトラヒドロフラン（２６ｍｌ、３．３：１ｖ／ｖ）
中混合物を室温で３時間攪拌する。 有機溶媒を留去し、混合物を１Ｎ塩酸でｐＨ４〜５に調
整して、析出物を得る。集めた析出物を水およびエタノ
ールで順次洗浄して、１−（３−カルボキシプロピル）
−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン（３９３ｍ
ｇ）を粉末として得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７０−１．９５（
２Ｈ，ｍ），２．４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．
０５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７
．８０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．５，６Ｈｚ），８．００
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，６Ｈｚ）

【００４８】製造
例１−４）１−（３−カルボキシプロピル）−２，４（
１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン（２００ｇ）のテトラ
ヒドロフラン（４０ｍｌ）中懸濁液に攪拌下１Ｍボラン
−テトラヒドロフラン（２４．２ｍｌ）を氷浴中で加え
、混合物を室温でさらに２時間攪拌する。反応混合物に
１Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、有機溶媒を留去する
。残留物に水を加えて粉末化し、濾過後、水およびエチ
ルエーテルで順次洗浄して、１−（４−ヒドロキシブチ
ル）−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン（１．
７４ｇ）を結晶として得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．４５−１．７０（
４Ｈ，ｍ），３．３０−３．５０（３Ｈ，ｍ），４．０
５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝５Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．
５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄｔ
，Ｊ＝１．５，５Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１．５，５Ｈｚ）

【００４９】製造例１−５）１−（４−ヒドロキシブチ
ル）−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン（２９
０ｍｇ）、塩化チオニル（０．５４ｍｌ）およびピリジ
ン（９８ｍｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）中混
合物を２時間還流する。溶媒を留去し、残留物をクロロ
ホルムに溶解し、水、飽和重炭酸ナトリウムおよび食塩
水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、蒸発操作
に付す。粗製の物質をエチルエーテル−イソプロピルエ
ーテルから結晶化して、１−（４−クロロブチル）−２
，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン（２２６ｍｇ）
を粉末として得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．８５−２．００（４Ｈ
，ｍ），３．６５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４Ｈｚ），４．１０
−４．２５（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．３５（２Ｈ，
ｍ），７．７５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．５，７Ｈｚ），
８．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７Ｈｚ），８．８
０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【００５０】製造例２−１）２，４−ジオキソ−１Ｈ−
３，１−ベンゾキサジン（２．００ｇ）の乾燥ジメチル
ホルムアミド（２０ｍｌ）溶液に攪拌下水素化ナトリウ
ム（５４０ｍｇ、６０％油中懸濁液）を数回に分けて氷
浴中で加える。３０分後、この混合物に４−ブロモクロ
トン酸エチル（３．７９ｇ）を加える。室温でさらに２
時間攪拌後、２８％水酸化アンモニウム（７．５ｍｌ）
を氷浴中で加える。混合物を同温で３０分間攪拌し、１
Ｎ塩酸で中性とし、酢酸エチルで抽出する。有機抽出層
を合わせ、水および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、蒸発操作に付す。残留物をシリカゲル（
１２０ｇ）クロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ヘ
キサン（１：１ｖ／ｖ）で溶出して、２−（３−エトキ
シカルボニル−２−プロペニルアミノ）ベンズアミド（
２．５３ｇ）を固形物として得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．２５ｇ（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６Ｈｚ），４．００（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，４Ｈ
ｚ），４．２０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），５．８５（
１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），６．００（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１．
５，１２Ｈｚ），６．５５−６．６５（２Ｈ，ｍ），７
．００（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝３．５，１２Ｈｚ），７．２
５−７．３５（１Ｈ，ｍ），７．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝１．５，６．５Ｈｚ）

【００５１】製造例２−２）２−（３−エトキシカルボ
ニル−２−プロペニルアミノ）ベンズアミド（２．３５
ｇ）のメタノール（５０ｍｌ）溶液に１０％パラジウム
炭（２３０ｍｇ）を加える。混合物を水素３気圧下激し
く攪拌する。２時間後、触媒を濾去し、溶媒を留去する
。残留物をシリカゲル（４０ｇ）クロマトグラフィーに
付す。酢酸エチル−ヘキサンの混合溶媒（１：１ｖ／ｖ
）で溶出して、２−（３−エトキシカルボニルプロピル
アミノ）ベンズアミド（１．９５ｇ）を得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．９０−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．４５
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．２５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），５．７
５（１Ｈ，ｂｒｓ），６．６５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ
），６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．３０−７
．４５（２Ｈ，ｍ）

【００５２】製造例２−３）２−（３−エトキシカルボ
ニルプロピルアミノ）ベンズアミド（１．９５ｇ）とＮ
，Ｎ′−カルボニルジイミダゾール（２．５２ｇ）のジ
オキサン（２０ｍｌ）中混合物を１５０℃に加熱する。 ３０分後、混合物を８０℃以下に冷却し、エタノールで
希釈して、粗製の結晶を得る。集めた結晶をエタノール
から再結晶して、１−（３−エトキシカルボニルプロピ
ル）−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン（１．
５３ｇ）を結晶として得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），２．００−２．１５（２Ｈ，ｍ），２．５０
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．１０−４．３０（４Ｈ
，ｍ），７．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．５０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．２５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ
＝１．５，８Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．
５，８Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【００５
３】製造例３ １−（３−カルボキシプロピル）−２，４（１Ｈ，３Ｈ
）−キナゾリンジオン（７４４ｍｇ）と塩化チオニル（
１．３ｍｌ）の乾燥テトラヒドロフラン（１２ｍｌ）中
混合物を１時間還流し、次いで蒸発操作に付す。得られ
た残留物をテトラヒドロフラン（１５ｍｌ）に溶解し、
これをＮ−（２−ニトロフェニル）ピペラジン（６８３
ｍｇ）とトリエチルアミン（６０７ｍｇ）のクロロホル
ム（１５ｍｌ）中混合物に氷浴中で加える。１時間攪拌
後、析出物を集め、クロロホルムに溶解し、水、飽和重
炭酸ナトリウムおよび食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、蒸発操作に付して、１−［４−（４−
（２−ニトロフェニル）ピペラジン−１−イル）−４−
オキソブチル］−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジ
オン（１．０６ｇ）を固形物として得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：２．００−２．２０（２Ｈ
，ｍ），２．５５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．１０
（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝４Ｈｚ），３．６０−３．７０（２Ｈ
，ｍ），３．８０−３．９０（２Ｈ，ｍ），４．２０（
２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），７．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．５，６Ｈ
ｚ），７．５０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．５，６Ｈｚ），
７．７０−７．８５（３Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１．５，６Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，ｂｒ　　
ｓ）

【００５４】製造例４ １−（３−カルボキシ）プロピル−２，４（１Ｈ，３Ｈ
）−キナゾリンジオン（７４４ｍｇ）と塩化チオニル（
１．３０ｍｌ）の乾燥テトラヒドロフラン（１０ｍｌ）
中混合物を１時間還流し、次いで真空下蒸発操作に付す
。得られる残留物を乾燥テトラヒドロフラン（５ｍｌ）
に溶解し、この溶液を４−（４−クロロフェニル）−１
，２，３，６−テトラヒドロピリジン塩酸塩（７１９ｍ
ｇ）とトリエチルアミン（９１１ｍｇ）のクロロホルム
−テトラヒドロフラン（１０ｍｌ、１：１ｖ／ｖ）中混
合物に攪拌下氷浴中で加える。同温で１時間攪拌後、反
応混合物をクロロホルムで希釈し、水、１Ｎ塩酸、飽和
重炭酸ナトリウムおよび食塩水で順次洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、蒸発操作に付す。残留物をシリカゲ
ル（２０ｇ）クロマトグラフィーに付し、クロロホルム
とメタノールの混合溶媒（５０：１ｖ／ｖ）で溶出して
、１−［４−｛４−（４−クロロフェニル）−１，２，
３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル｝−４−オキ
ソブチル］−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン
（１．３６５ｇ）を無定形物として得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．９５−２．２０（２Ｈ
，ｍ），２．４０−２．６５（４Ｈ，ｍ），３．７０（
１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．８５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５
Ｈｚ），４．１０−４．３０（４Ｈ，ｍ），５．９５−
６．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２５（５Ｈ，ｍ
），７．６０−７．８０（２Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ
，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），９．０５（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【
００５５】製造例５−１）２−エトキシカルボニルアミ
ノ−４−ニトロ安息香酸メチル（４．００ｇ）の乾燥ジ
メチルホルムアミド（４０ｍｌ）溶液に攪拌下水素化ナ
トリウム（７１５ｍｇ、６０％油中懸濁液）を数回に分
けて氷浴中で加える。１時間攪拌後、これに１−ブロモ
−４−クロロブタン（２．８１ｇ）を加え、得られる混
合物を室温で１８時間攪拌する。反応混合物を氷水に注
ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出物を水および食塩水で
順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、蒸発操作に付
す。残留物をシリカゲル（１８０ｇ）クロマトグラフィ
ーに付し、ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒（３：１ｖ
／ｖ）で溶出して、２−［Ｎ−（４−クロロブチル）−
Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−４−ニトロ安息香酸
メチル（２．３０ｇ）を油状物として得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．０５−１．２０（３Ｈ
，ｍ），１．７０−１．９５（４Ｈ，ｍ），３．３０−
３．６０（３Ｈ，ｍ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．０
０−４．４０（３Ｈ，ｍ），８．０５−８．２５（３Ｈ
，ｍ）

【００５６】製造例５−２）２−［Ｎ−（４−クロロブ
チル）−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−４−ニトロ
安息香酸メチル（２．２０ｇ）、４−フェニル−１，２
，３，６−テトラヒドロピリジン塩酸塩（１．３２ｇ）
、ヨウ化ナトリウム（９２１ｍｇ）および炭酸カリウム
（１．６９ｇ）の乾燥ジメチルホルムアミド（３０ｍｌ
）中混合物を８０℃で１６時間攪拌する。反応混合物を
氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機抽出層を合わ
せ、水および食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、蒸発操作に付す。粗製の残留物をシリカゲル（
４０ｇ）クロマトグラフィーに付し、クロロホルムとメ
タノールの混合溶媒（５０：１ｖ／ｖ）で溶出して、２
−［Ｎ−｛４−（４−フェニル−１，２，３，６−テト
ラヒドロピリジン−１−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシ
カルボニルアミノ］−４−ニトロ安息香酸メチル（１．
５８ｇ）を得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．２０−１．４５（１Ｈ，ｍ），１．６０
−１．８０（４Ｈ，ｍ），２．５０−２．６５（４Ｈ，
ｍ），２．７０−２．８０（２Ｈ，ｍ），３．１５−３
．２５（２Ｈ，ｍ），３．５０−３．９０（２Ｈ，ｍ）
，３．９０（３Ｈ，ｓ），４．００−４．３５（２Ｈ，
ｍ），６．００−６．１０（１Ｈ，ｍ），７．２５−７
．４０（５Ｈ，ｍ），８．００−８．２０（３Ｈ，ｍ）

【００５７】製造例５−３）２−［Ｎ−｛４−（４−フ
ェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−
イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−４
−ニトロ安息香酸メチル（１．５８ｇ）のメタノール（
１６ｍｇ）溶液に攪拌下２Ｎ水酸化カリウム（５．０ｍ
ｌ）を加える。５０℃で２時間攪拌後、メタノールを減
圧留去する。残留物を水で希釈し、３Ｎ塩酸で酸性とし
、クロロホルムで抽出する。抽出物を食塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、蒸発操作に付す。粗製の２
−［Ｎ−｛４−（４−フェニル−１，２，３，６−テト
ラヒドロピリジン−１−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシ
カルボニルアミノ］−４−ニトロ安息香酸（１．５７ｇ
）を無定形物として得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：０．９０−１．１０（３Ｈ
，ｍ），１．５５−１．８０（２Ｈ，ｍ），１．９０−
２．０５（２Ｈ，ｍ），２．８０−３．００（２Ｈ，ｍ
），３．００−３．１５（２Ｈ，ｍ），３．３０−３．
５０（２Ｈ，ｍ），３．６５−４．１０（６Ｈ，ｍ），
６．００（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），７．２５−７．４０（
５Ｈ，ｍ），７．９５−８．２０（３Ｈ，ｍ）

【００５
８】製造例５−４）２−［Ｎ−｛４−（４−フェニル−
１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブ
チル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−４−ニトロ
安息香酸（１．５３ｇ）、Ｎ，Ｎ′−ジスクシンイミド
イルカーバネート（９２４ｍｇ）およびピリジン（２８
５ｍｇ）の乾燥アセトニトリル（２０ｍｌ）中混合物を
室温で３時間攪拌する。次いでこの混合物に２８％水酸
化アンモニウム（１．４ｍｌ）を氷浴中で加える。１時
間後、反応混合物を水で希釈し、クロロホルムで抽出す
る。抽出物を食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
後、蒸発操作に付す。残留物をシリカゲル（３０ｇ）ク
ロマトグラフィーに付し、クロロホルムとメタノールの
混合溶媒（５０：１ｖ／ｖ）で溶出して、２−［Ｎ−｛
４−（４−フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピ
リジン−１−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニル
アミノ］−４−ニトロベンズアミド（６００ｍｇ）をカ
ラメル状物として得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．５０−１．７５（４Ｈ，ｍ），２．４５
−２．６５（４Ｈ，ｍ），２．７０−２．８０（２Ｈ，
ｍ），３．１５−３．２５（２Ｈ，ｍ），３．６０−３
．７５（２Ｈ，ｍ），４．２０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ
），５．９０−６．１０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．
４０（５Ｈ，ｍ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）
，８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），８．２５（
１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７Ｈｚ）

【００５９】製造例
６ １−（４−ヒドロキシブチル）−２，４（１Ｈ，３Ｈ）
−キナゾリンジオン（７７８ｍｇ）のクロロホルム−テ
トラヒドロフラン（４０ｍｌ、１：１ｖ／ｖ）中懸濁液
に塩化メタンスルホニル（０．５７ｍｌ）とトリエチル
アミン（１．８５ｍｌ）を攪拌下氷浴中で加える。室温
で１８時間攪拌後、反応混合物を攪拌しながら５０℃で
３０時間加熱する。溶媒を留去し、残留物を酢酸エチル
で希釈する。混合物を水および食塩水で順次洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥後、蒸発操作に付す。メタノール
から再結晶して、１−（４−メタンスルホニルオキシブ
チル）−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン（６
７５ｍｇ）を結晶として得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．８５−２．００（４Ｈ
，ｍ），３．００（３Ｈ，ｓ），４．１５−４．２５（
２Ｈ，ｍ），４．３０−４．４０（２Ｈ，ｍ），７．２
０−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．７０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ
＝１．５，６Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．
５，６Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｂｒｓ）

【００６０】
製造例７−１）製造例５−１）と実質的に同様にして、
６−クロロ−２−［Ｎ−（４−クロロブチル）−Ｎ−エ
トキシカルボニルアミノ］安息香酸メチルを収率９０．
７％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０−１．２５（３Ｈ
，ｍ），１．６５−１．８５（４Ｈ，ｍ），３．２０−
３．５０（１Ｈ，ｍ），３．５５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ），３．６５−３．８５（１Ｈ，ｍ），３．９０（３
Ｈ，ｓ），４．０５−４．２０（２Ｈ，ｍ），７．０５
−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．３５−７．４５（２Ｈ，
ｍ）

【００６１】製造例７−２）製造例５−２）と実質的に
同様にして６−クロロ−２−［Ｎ−エトキシカルボニル
−Ｎ−｛４−（４−フェニル−１，２，３，６−テトラ
ヒドロピリジン−１−イル）ブチル｝アミノ］安息香酸
メチルを収率７８．２％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．０５−１．３０（３Ｈ
，ｍ），１．５５−１．７０（４Ｈ，ｍ），２．４０−
２．７５（６Ｈ，ｍ），３．１０−３．２０（２Ｈ，ｍ
），３．２０−３．５０（１Ｈ，ｍ），３．７０−３．
９０（１Ｈ，ｍ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．００−
４．２０（２Ｈ，ｍ），６．０５−６．１０（１Ｈ，ｍ
），７．１０−７．６０（８Ｈ，ｍ）

【００６２】製造
例７−３）製造例５−３）と実質的に同様にして６−ク
ロロ−２−［Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−｛４−（４
−フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−
１−イル）ブチル｝アミノ］安息香酸を収率９６．１％
で得る。 ＩＲ（ヌジョール）：１６８０，１６００，１５８０ｃ
ｍ−１

【００６３】製造例７−４）製造例５−４）と実質的に
同様にして６−クロロ−２−［Ｎ−エトキシカルボニル
−Ｎ−｛４−（４−フェニル−１，２，３，６−テトラ
ヒドロピリジン−１−イル）ブチル｝アミノ］ベンズア
ミドを収率２１．０％で得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．０５−１．４５（３Ｈ
，ｍ），１．５０−１．９０（４Ｈ，ｍ），２．５０−
２．９５（４Ｈ，ｍ），３．２０−３．４０（１Ｈ，ｍ
），３．６０−３．８０（１Ｈ，ｍ），４．００−４．
３０（２Ｈ，ｍ），６．００−６．１０（１Ｈ，ｍ），
７．０５−７．５０（８Ｈ，ｍ）

【００６４】製造例８
−１）製造例５−１）と実質的に同様にして２−［Ｎ−
（４−クロロブチル）−Ｎ−エトキシカルボニル］アミ
ノ−６−ニトロ安息香酸メチルを得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．００−１．３０（３Ｈ
，ｍ），１．６５−１．８５（４Ｈ，ｍ），３．５０−
３．６０（２Ｈ，ｍ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．０
５−４．２０（２Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），８．１
５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，７Ｈｚ）

【００６５】製
造例８−２）製造例５−２）と実質的に同様にして２−
［Ｎ−｛４−（４−フェニル−１，２，３，６−テトラ
ヒドロピリジン−１−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカ
ルボニルアミノ］−６−ニトロ安息香酸メチルを得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．０５−１．２５（３Ｈ
，ｍ），１．５５−１．７５（４Ｈ，ｍ），２．５０−
２．６５（４Ｈ，ｍ），２．７５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４Ｈ
ｚ），３．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），３．９０（
３Ｈ，ｓ），４．００−４．２０（２Ｈ，ｍ），６．０
０−６．１０（１Ｈ，ｍ），７．２５−７．４０（５Ｈ
，ｍ），７．５５−７．６５（２Ｈ，ｍ），８．１０（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）

【００６６】製造例８−３）製造例５−３）と実質的に
同様にして２−［Ｎ−｛４−（４−フェニル−１，２，
３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチル｝−
Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−６−ニトロ安息香酸
を得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．００−１．２５（３Ｈ
，ｍ），１．５５−１．８０（２Ｈ，ｍ），１．９０−
２．１０（２Ｈ，ｍ），２．７０−３．２０（３Ｈ，ｍ
），３．４０−４．２０（９Ｈ，ｍ），６．００（１Ｈ
，ｓ），７．２５−７．５０（７Ｈ，ｍ），８．００（
１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）

【００６７】製造例８−４）２−［Ｎ−｛４−（４−フ
ェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−
イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−６
−ニトロ安息香酸（６８０ｍｇ）と三臭化燐（０．７ｍ
ｌ）の二塩化メチレン（３０ｍｌ）中混合物を３時間還
流する。過剰の三臭化燐をエタノール（２ｍｌ）で氷浴
中分解する。次いで生成する結晶性物質を集め、エタノ
ールで洗浄して、１−［４−（４−フェニル−１，２，
３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチル］−
５−ニトロ−１，２−ジヒドロ−１Ｈ−３，１−ベンゾ
キサジン−２，４−ジオン臭化水素酸塩（４１４ｍｇ）
を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６５−１．９５（
４Ｈ，ｍ），２．７５−２．９０（２Ｈ，ｍ），３．２
０−３．４０（３Ｈ，ｍ），３．１０−３．９０（２Ｈ
，ｍ），４．００−４．２０（３Ｈ，ｍ），６．１５−
６．２５（１Ｈ，ｍ），７．３５−７．５５（５Ｈ，ｍ
），７．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．８０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ）

【００６８】製造例８−５）１−［４−（４−フェニル
−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）
ブチル］−５−ニトロ−１，２−ジヒドロ−４Ｈ−３，
１−ベンゾキサジン−２，４−ジオン臭化水素酸塩（４
１０ｍｇ）のジメチルホルムアミド（４ｍｌ）中懸濁液
に２８％水酸化アンモニウム（１ｍｌ）を氷浴中で加え
、混合物を室温で１時間攪拌する。混合物を氷水に注ぎ
、酢酸エチルで抽出し、抽出物を水および食塩水で洗浄
する。硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、２
−［４−（４−フェニル−１，２，３，６−テトラヒド
ロピリジン−１−イル）ブチルアミノ］−６−ニトロベ
ンズアミド（３００ｍｇ）を無定形物として得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６０−１．８０（４Ｈ
，ｍ），２．４０−２．６０（４Ｈ，ｍ），２．７０（
２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．１０−３．２５（４Ｈ，
ｍ），５．１０−５．２０（１Ｈ，ｍ），６．００−６
．１０（３Ｈ，ｍ），６．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．
５Ｈｚ，７Ｈｚ），７．２０−７．４０（７Ｈ，ｍ）

【００６９】製造例５−１）と実質的に同様にして下記
の化合物を得る。 製造例９−１）２−［Ｎ−（４−クロロブチル）−Ｎ−
エトキシカルボニルアミノ］−５−エトキシ安息香酸エ
チル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．２５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），１．３
５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），１．４５（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６Ｈｚ），１．６０−１．９０（４Ｈ，ｍ），３．２
５−３．４０（１Ｈ，ｍ），３．５５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５Ｈｚ），３．８０−４．２５（５Ｈ，ｍ），４．３０
（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝２，７Ｈｚ），７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），
７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）

【００７０】製造例９−２）２−［Ｎ−（４−クロロブ
チル）−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−５−メトキ
シ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６，１２Ｈｚ）
，１．７０−１．９０（４Ｈ，ｍ），３．３０−３．４
５（１Ｈ，ｍ），３．５５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），
３．９０（３Ｈ×２，ｓ），３．９０−４．４０（３Ｈ
，ｍ），７．００−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．５０（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）

【００７１】製造例９−３）２−［Ｎ−（４−クロロブ
チル）−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−３−クロロ
安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．６０−１．８５（４Ｈ，ｍ），３．３５
−３．７０（４Ｈ，ｍ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．
１０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．２０−４．４０（
１Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．
６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７Ｈｚ），７．８５（
１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７Ｈｚ）

【００７２】製造例
９−４）２−［Ｎ−（４−クロロブチル）−Ｎ−エトキ
シカルボニルアミノ］−４−メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．２０−１．４０（１Ｈ，ｍ），３．３５
−３．５０（１Ｈ，ｍ），３．５５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５
Ｈｚ），３．８５（３Ｈ，ｓ），３．９０（３Ｈ，ｓ）
，３．８０−４．２５（３Ｈ，ｍ），６．７０−６．８
０（１Ｈ，ｍ），６．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２，８Ｈ
ｚ），８．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）

【００７３】
製造例９−５）２−［Ｎ−（４−クロロブチル）−Ｎ−
エトキシカルボニルアミノ］−４，５−ジメトキシ安息
香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０（２Ｈ，ｔ，＝６
Ｈｚ），１．３０−１．４０（１Ｈ，ｍ），１．６５−
１．９５（４Ｈ，ｍ），３．３０−３．６０（３Ｈ，ｍ
），３．８５（３Ｈ，ｓ），３．９０（３Ｈ×２，ｓ）
，３．９５−４．３５（３Ｈ，ｍ），６．６５（１Ｈ，
ｓ），７．５０（１Ｈ，ｓ） 製造例９−６）２−［Ｎ−（４−クロロブチル）−Ｎ−
エトキシカルボニルアミノ］−５−ニトロ安息香酸メチ
ル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．００−１．２０（３Ｈ
，ｍ），１．７０−１．９０（４Ｈ，ｍ），３．５０−
３．６０（２Ｈ，ｍ），３．７０−３．８０（２Ｈ，ｍ
），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．００−４．２０（２Ｈ
，ｍ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．４０
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２，８Ｈｚ），８．８０（１Ｈ，ｂ
ｒ　　ｓ）

【００７４】製造例９−７）２−［Ｎ−（４−クロロブ
チル）−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−６−フルオ
ロ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．０５−１．３０（３Ｈ
，ｍ），１．６５−１．９０（４Ｈ，ｍ），３．４０−
３．７０（４Ｈ，ｍ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．０
０−４．２０（２Ｈ，ｍ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ），７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．４
５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝４，７Ｈｚ）

【００７５】製造例９−８）２−［Ｎ−（４−クロロブ
チル）−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−６−メトキ
シ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０−１．２５（３Ｈ
，ｍ），１．６５−１．８５（４Ｈ，ｍ），３．５５（
２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．９０（６Ｈ，ｓ），４．
００−４．２０（２Ｈ，ｍ），６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．
４０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）

【００７６】製造例９−
９）２−［Ｎ−（４−クロロブチル）−Ｎ−エトキシカ
ルボニルアミノ］−６−メチル安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０−１．３０（３Ｈ
，ｍ），１．６０−１．９０（４Ｈ，ｍ），２．４０（
３Ｈ，ｓ），３．２０−３．５０（１Ｈ，ｍ），３．５
５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．７０−４．００（１
Ｈ，ｍ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．００−４．２０
（２Ｈ，ｍ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７
．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．３５（１Ｈ，ｔ
，Ｊ＝７Ｈｚ）

【００７７】製造例５−２）と実質的に同様にして下記
の化合物を得る。 製造例１０−１）２−［Ｎ−｛４−（４−フェニル−１
，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチ
ル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−５−エトキシ
安息香酸エチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．３５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），１．４
５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），１．５０−１．７０（４
Ｈ，ｍ），２．４５−２．８０（６Ｈ，ｍ），３．１５
−３．４０（３Ｈ，ｍ），３．８５−４．１５（５Ｈ，
ｍ），４．３０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．００−
６．１０（１Ｈ，ｍ），７．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２
，８Ｈｚ），７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．
２５−７．４０（５Ｈ，ｍ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝２Ｈｚ）

【００７８】製造例１０−２）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボキシアミノ］−
５−メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．５０−１．７０（４Ｈ，ｍ），２．４５
−２．６０（４Ｈ，ｍ），２．６５−２．７５（２Ｈ，
ｍ），３．１０−３．２０（２Ｈ，ｍ），３．２５−３
．４０（１Ｈ，ｍ），３．８０（３Ｈ×２，ｓ），３．
８０−４．３５（３Ｈ，ｍ），６．００−６．１０（１
Ｈ，ｍ），７．００−７．５０（８Ｈ，ｍ）

【００７９
】製造例１０−３）２−［Ｎ−｛４−（４−フェニル−
１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブ
チル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−３−クロロ
安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．３５（１Ｈ，ｍ），１．５０−１．６５
（４Ｈ，ｍ），２．４０−２．７０（６Ｈ，ｍ），３．
１０−３．２０（２Ｈ，ｍ），３．３５−３．８０（２
Ｈ，ｍ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．１０（４／３Ｈ
．ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．２０−４．４０（２／３Ｈ，
ｍ），６．００−６．１０（１Ｈ，ｍ），７．２０−７
．４０（６Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．
５，７Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７
Ｈｚ）

【００８０】製造例１０−４）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
４−メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０（１２／５Ｈ，ｔ
，Ｊ＝６Ｈｚ），１．３５（３／５Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ
），１．６０−１．７５（４Ｈ，ｍ），２．５０−２．
７０（４Ｈ，ｍ），２．７０−２．９０（２Ｈ，ｍ），
３．２０−３．３０（２Ｈ，ｍ），３．３０−３．５５
（１Ｈ，ｍ），３．８５（３Ｈ，ｓ），３．９０（３Ｈ
，ｓ），３．８０−４．３０（３Ｈ，ｍ），６．０５（
１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），６．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ
），６．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２，８Ｈｚ），７．２
５−７．４０（５Ｈ，ｍ），８．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）

【００８１】製造例１０−５）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
４，５−ジメトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５Ｈｚ），１．３０−１．４０（１Ｈ，ｍ），１．５５
−１．７５（４Ｈ，ｍ），２．４５−２．７０（４Ｈ，
ｍ），２．７０−２．８０（２Ｈ，ｍ），３．１５−３
．４５（３Ｈ，ｍ），３．８５（３Ｈ，ｓ），３．９０
（３Ｈ×２，ｓ），３．９５−４．３５（３Ｈ，ｍ），
６．０５（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），６．７０（１Ｈ，ｓ）
，７．２５−７．４０（５Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，
ｓ）

【００８２】製造例１０−６）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
５−ニトロ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．００−１．５０（３Ｈ
，ｍ），１．６０−１．８０（４Ｈ，ｍ），２．５０−
２．７０（４Ｈ，ｍ），２．７５−２．９０（２Ｈ，ｍ
），３．２０−３．３０（２Ｈ，ｍ），３．６０−３．
９０（２Ｈ，ｍ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．００−
４．３０（２Ｈ，ｍ），６．００−６．１０（１Ｈ，ｍ
），７．２５−７．５０（６Ｈ，ｍ），８．４０（１Ｈ
，ｄｄ，Ｊ＝２，８Ｈｚ），８．８０（１Ｈ，ｂｒ　　
ｓ）

【００８３】製造例１０−７）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
６−フルオロ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．０５−１．２５（３Ｈ
，ｍ），１．５５−１．８０（４Ｈ，ｍ），２．６０−
２．７５（４Ｈ，ｍ），２．８０−２．９５（２Ｈ，ｍ
），３．２５−３．４０（２Ｈ，ｍ），３．４０−３．
８０（２Ｈ，ｍ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．００−
４．２０（２Ｈ，ｍ），６．００−６．１０（１Ｈ，ｍ
），７．００−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．２５−７．
５０（６Ｈ，ｍ）

【００８４】製造例１０−８）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
６−メトキシ安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０−１．２５（３Ｈ
，ｍ），１．５５−１．７５（４Ｈ，ｍ），２．５０−
２．７０（４Ｈ，ｍ），３．８０−３．９０（２Ｈ，ｍ
），３．７５−３．８５（２Ｈ，ｍ），３．９０（６Ｈ
，ｓ），４．００−４．２０（２Ｈ，ｍ），６．００−
６．１０（１Ｈ，ｍ），６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．２５−
７．４５（６Ｈ，ｍ）

【００８５】製造例１０−９）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
６−メチル安息香酸メチル ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０−１．２５（３Ｈ
，ｍ），１．５５−１．８０（４Ｈ，ｍ），２．４０（
３Ｈ，ｓ），２．５５−２．７５（４Ｈ，ｍ），２．７
５−２．９５（２Ｈ，ｍ），３．２０−３．４５（２Ｈ
，ｍ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．００−４．２０（
２Ｈ，ｍ），６．００−６．１０（１Ｈ，ｍ），７．０
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．１５−７．４０（７
Ｈ，ｍ）

【００８６】製造例５−３）と実質的に同様にして下記
の化合物を得る。 製造例１１−１）２−［Ｎ−｛４−（４−フェニル−１
，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチ
ル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−５−エトキシ
安息香酸 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．４０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．５０−１．７５（２Ｈ，ｍ），１．７５
−１．９５（２Ｈ，ｍ），２．７５−３．００（４Ｈ，
ｍ），３．２０−３．７０（６Ｈ，ｍ），３．８５−４
．１０（４Ｈ，ｍ），６．００（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），
６．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２，７．５Ｈｚ），６．９
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．２０−７．５０
（６Ｈ，ｍ）

【００８７】製造例１１−２）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
５−メトキシ安息香酸 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．００（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．５０−１．６５（２Ｈ，ｍ），１．７０
−２．０５（２Ｈ，ｍ），２．８０−３．１０（４Ｈ，
ｍ），３．３０−３．４０（２Ｈ，ｍ），３．５５−３
．７０（２Ｈ，ｍ），３．８０（５Ｈ，ｂｒ　　ｓ），
４．００（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．００（１Ｈ，
ｂｒ　　ｓ），６．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２，８Ｈｚ
），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．２０−７
．４０（５Ｈ，ｍ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ
）

【００８８】製造例１１−３）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
３−クロロ安息香酸

【００８９】製造例１１−４）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
４−メトキシ安息香酸 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．０５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．５０−１．７０（２Ｈ，ｍ），１．８５
−２．０５（２Ｈ，ｍ），２．８０−２．９０（２Ｈ，
ｍ），２．９５−３．１０（２Ｈ，ｍ），３．３０−３
．４０（２Ｈ，ｍ），３．５５−３．８０（４Ｈ，ｍ）
，３．８５（３Ｈ，ｓ），４．００（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６
Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），６．
８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７．５Ｈｚ），７．２
５−７．４０（５Ｈ，ｍ），８．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７．５Ｈｚ）

【００９０】製造例１１−５）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
４，５−ジメトキシ安息香酸 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．０５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．５０−１．７０（２Ｈ，ｍ），１．９０
−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．８５−３．２０（４Ｈ，
ｍ），３．３０−３．５０（２Ｈ，ｍ），３．６０−３
．７５（２Ｈ，ｍ），３．９０（２Ｈ×２，ｓ），３．
８０−４．１０（４Ｈ，ｍ），６．００（１Ｈ，ｂｒ　
　ｓ），６．６０（１Ｈ，ｓ），７．２５−７．４０（
５Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｓ）

【００９１】製造例１１−６）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
５−ニトロ安息香酸 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０−１．２０（３Ｈ
，ｍ），１．５０−１．７０（２Ｈ，ｍ），２．００−
２．２０（２Ｈ，ｍ），２．８５−３．００（２Ｈ，ｍ
），３．１０−３．２０（２Ｈ，ｍ），３．４０−３．
６０（２Ｈ，ｍ），３．７０−４．００（４Ｈ，ｍ），
４．００−４．１５（２Ｈ，ｍ），６．００（１Ｈ，ｂ
ｒ　　ｓ），７．２５−７．４０（６Ｈ，ｍ），８．２
０−８．３０（１Ｈ，ｍ），８．６５−８．７５（１Ｈ
，ｍ）

【００９２】製造例１１−７）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
６−フルオロ安息香酸 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．０５−１．３０（３Ｈ
，ｍ），１．５５−１．７５（２Ｈ，ｍ），１．９０−
２．１０（２Ｈ，ｍ），２．８０−３．００（２Ｈ，ｍ
），３．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．３０−３
．５０（２Ｈ，ｍ），３．６０−３．９０（４Ｈ，ｍ）
，４．００−４．２０（２Ｈ，ｍ），６．００（１Ｈ，
ｂｒ　　ｓ），６．９０−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．
２０−７．４０（２Ｈ，ｍ）

【００９３】製造例１１−８）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
６−メトキシ安息香酸 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．００−１．２０（３Ｈ
，ｍ），１．５５−１．７５（２Ｈ，ｍ），１．８５−
２．１０（２Ｈ，ｍ），３．８０−３．９５（２Ｈ，ｍ
），３．０５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．３５−３
．５０（２Ｈ，ｍ），３．６０−３．８０（７Ｈ，ｍ）
，４．００−４．１５（２Ｈ，ｍ），５．８０（１Ｈ，
ｂｒ　　ｓ），６．００（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），６．７
０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６Ｈｚ），７．２０−７．４０（６Ｈ，ｍ）

【００９
４】製造例１１−９）２−［Ｎ−｛４−（４−フェニル
−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）
ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−６−メチ
ル安息香酸 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．００−１．３０（３Ｈ
，ｍ），１．３０−１．８０（２Ｈ，ｍ），１．８５−
２．４０（２Ｈ，ｍ），２．４５（３Ｈ，ｓ），２．６
０−２．８５（１Ｈ，ｍ），２．９０−３．４０（５Ｈ
，ｍ），３．５０−３．８０（２Ｈ，ｍ），４．００−
４．３５（４Ｈ，ｍ），６．１０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）
，７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．１５−７．
４０（７Ｈ，ｍ）

【００９５】製造例５−４）と実質的に同様にして下記
の化合物を得る。 製造例１２−１）２−［Ｎ−｛４−（４−フェニル−１
，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチ
ル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−５−エトキシ
ベンズアミド

【００９６】製造例１２−２）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
５−メトキシベンズアミド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．５０−１．６５（４Ｈ，ｍ），２．４５
−２．６５（４Ｈ，ｍ），２．７０−２．８０（２Ｈ，
ｍ），３．２０（２Ｈ，ｍ），３．６０（２Ｈ，ｂｒ　
　ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．２０（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝６Ｈｚ），６．００−６．１０（１Ｈ，ｍ），７．
００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２，８Ｈｚ），７．１０（１Ｈ
，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．２０−７．４０（６Ｈ，ｍ）

【００９７】製造例１２−３）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
３−クロロベンズアミド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．２０（３／２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６Ｈｚ），１．３５（３／２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ）
，１．５０−１．７５（４Ｈ，ｍ），２．４０−２．８
０（６Ｈ，ｍ），３．１５−３．５０（３Ｈ，ｍ），３
．７０−４．００（１Ｈ，ｍ），４．１０−４．４０（
２Ｈ，ｍ），５．８５（１／２Ｈ，ｂｒｓ），６．００
−６．２０（２Ｈ，ｍ），６．８０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ
），７．２０−７．４０（６Ｈ，ｍ），７．５０−７．
６５（２Ｈ，ｍ）

【００９８】製造例１２−４）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
４−メトキシベンズアミド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．５５−１．７０（４Ｈ，ｍ），２．４５
−２．７０（４Ｈ，ｍ），２．７５（２Ｈ，ｍ），３．
１５−３．２５（２Ｈ，ｍ），３．５０−３．７５（２
Ｈ，ｍ），３．８５（３Ｈ，ｓ），４．２０（２Ｈ，ｑ
，Ｊ＝６Ｈｚ），６．００−６．１０（１Ｈ，ｍ），６
．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），６．９０（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２，７Ｈｚ），７．２０−７．４０（６Ｈ，ｍ
），７．７０（１　　ｏｒ　　２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）

【００９９】製造例１２−５）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
４，５−ジメトキシベンズアミド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．３５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．５５−１．６５（４Ｈ，ｍ），２．４０
−２．５０（２Ｈ，ｍ），３．５５−３．６５（２Ｈ，
ｍ），３．９０（３Ｈ，ｓ），３．９５（３Ｈ，ｓ），
４．２０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），５．７５−５．９
０（３／５Ｈ，ｂｒ　　ｓ），６．００−６．１０（１
Ｈ，ｍ），６．６０（１Ｈ，ｓ），７．２５−７．４０
（８Ｈ，ｍ）

【０１００】製造例１２−６）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−
５−ニトロベンズアミド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．２０−１．３５（３Ｈ
，ｍ），１．５５−１．９０（４Ｈ，ｍ），２．５０−
２．７０（４Ｈ，ｍ），２．７０−２．９０（２Ｈ，ｍ
），３．２０−３．３５（２Ｈ，ｍ），４．１０−４．
３０（２Ｈ，ｍ），６．０５（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），７
．２０−７．４５（６Ｈ，ｍ），８．３０（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２Ｈｚ），９．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）

【０
１０１】製造例８−４）および８−５）と実質的に同様
にして下記の化合物を得る。 製造例１３−１）２−［Ｎ−｛４−（４−フェニル−１
，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチ
ルアミノ］−６−フルオロベンズアミドＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ３，δ）：１．６５−１．８５（４Ｈ，ｍ），２．５
０−２．７０（４Ｈ，ｍ），２．８０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
４Ｈｚ），６．０５−６．１０（１Ｈ，ｍ），６．３０
（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１，８，１０Ｈｚ），６．５０（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．２０−７．４５（６Ｈ，
ｍ），８．５５（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【０１０２】製造
例１３−２）２−［Ｎ−｛４−（４−フェニル−１，２
，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチル｝
アミノ］−６−メトキシベンズアミドＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３，δ）：１．７０−１．８５（４Ｈ，ｍ），２．５５
−２．７０（４Ｈ，ｍ），２．８５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５
Ｈｚ），３．１５−３．３５（４Ｈ，ｍ），３．９０（
３Ｈ，ｓ），５．５０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），６．００
−６．１０（１Ｈ，ｍ），６．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７
Ｈｚ），６．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．１５
−７．４０（６Ｈ，ｍ），７．８０（１Ｈ，ｂｒｓ）

【０１０３】製造例１３−３）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチル｝アミノ］−６−メチルベンズアミドＮ
ＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６０−１．８０（４Ｈ，
ｍ），２．４０（３Ｈ，ｓ），２．５０−２．７０（４
Ｈ，ｍ），２．７０−２．８０（２Ｈ，ｍ），３．１０
−３．２５（４Ｈ，ｍ），４．９０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ
），５．７５−５．９５（２Ｈ，ｍ），６．００−６．
１０（１Ｈ，ｍ），６．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）
，７．１０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．２５−７．
４０（６Ｈ，ｍ）

【０１０４】製造例２−１）と実質的に同様にして下記
の化合物を得る。 製造例１４−１） ２−（３−エトキシカルボニル−２−プロペニルアミノ
）−５−メトキシベンズアミド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５Ｈｚ），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．９５−４．０５
（２Ｈ，ｍ），４．２０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝５Ｈｚ），５
．９０（１　　ｏｒ　　２Ｈ，ｂｒ　　ｓ），６．０５
（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１．５，１２Ｈｚ），６．５０−６
．６０（１Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（３Ｈ，ｍ）

【０１０５】製造例１４−２）２−（３−エトキシカル
ボニル−２−プロペニルアミノ）−４−クロロベンズア
ミド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），４．００（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，５Ｈｚ
），４．２０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），５．９０（２
Ｈ，ｂｒ　　ｓ），６．００（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１，１
２Ｈｚ），６．５５−６．６５（２Ｈ，ｍ），７．００
（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝３，１２Ｈｚ），７．３５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ） 製造例２−２）と実質的に同様にして下記の化合物を得
る。

【０１０６】製造例１５−１）２−（３−エトキシカル
ボニルプロピルアミノ）−５−メトキシベンズアミドＮ
ＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６
Ｈｚ），１．９０−２．０５（２Ｈ，ｍ），２．４０（
２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．２０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６
Ｈｚ），３．７５（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝６Ｈｚ），５．９０（２Ｈ，ｂｒ　　ｓ），６．６
５−６．７５（１Ｈ，ｍ），６．９５−７．０５（２Ｈ
，ｍ）

【０１０７】製造例１５−２）２−（３−エトキシカル
ボニルプロピルアミノ）−４−クロロベンズアミドＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ），１．９０−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．４５（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．２０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），５．８０（
２Ｈ，ｂｒｓ），６．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，
８Ｈｚ），６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７
．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）

【０１０８】製造例２
−３）と実質的に同様にして下記の化合物を得る。 製造例１６−１）１−（３−エトキシカルボニルプロピ
ル）−６−メトキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリ
ンジオン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．９５−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．５０
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４
．１０−４．２５（４Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｄｄ
，Ｊ＝２，８Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ
），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），８．９０（１
Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【０１０９】製造例１６−２）１−（３−エトキシカル
ボニルプロピル）−７−クロロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）
−キナゾリンジオン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．３０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．９５−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．５０
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．１０−４．３０（４Ｈ
，ｍ），７．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７Ｈｚ）
，７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），８．１５（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），８．８０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ
）

【０１１０】製造例１−３）と実質的に同様にして下記
の化合物を得る。 製造例１７−１）１−（３−カルボキシプロピル）−６
−メトキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７０−１．９０（
２Ｈ，ｍ），２．４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．
２０−３．５０（２Ｈ，ｍ），３．８０（３Ｈ，ｓ），
４．０５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），７．４０（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝１．５，８Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１．５Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）

【０１１１】製造例１７−２）１−（３−カルボキシプ
ロピル）−７−クロロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾ
リンジオン ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．７０−１．９０（
２Ｈ，ｍ），２．４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．
０５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ
，Ｊ＝１，８Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ
），８．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）

【０１１２】製
造例１−４）と実質的に同様にして下記の化合物を得る
。 製造例１８−１）１−（４−ヒドロキシブチル）−６−
メトキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオンＮ
ＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．４０−１．７０（４
Ｈ，ｍ），３．３０−３．５０（２Ｈ，ｍ），３．８０
（３Ｈ，ｓ），４．００（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），７
．３０−７．５０（３Ｈ，ｍ）

【０１１３】製造例１８
−２）１−（４−ヒドロキシブチル）−７−クロロ−２
，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．４０−１．７０（
４Ｈ，ｍ），３．３０−３．５０（２Ｈ，ｍ），４．０
０−４．１０（２Ｈ，ｍ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝１．５，７Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５
Ｈｚ），８．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）

【０１１４
】製造例１−５）と実質的に同様にして下記の化合物を
得る。 製造例１９−１）１−（４−クロロブチル）−６−メト
キシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオンＮＭＲ
（ＣＤＣｌ３，δ）：１．８５−１．９５（４Ｈ，ｍ）
，３．６０−３．７０（２Ｈ，ｍ），３．９０（３Ｈ，
ｓ），４．１０−４．２０（２Ｈ，ｍ），７．２０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２
，８Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）

【０１１５】製造例１９−２）１−（４−クロロブチル
）−７−クロロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジ
オン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．８５−２．００（４Ｈ
，ｍ），３．６０−３．７０（２Ｈ，ｍ），４．１０−
４．２０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．３０（２Ｈ，ｍ
），８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１，７Ｈｚ），８．９
５（１Ｈ，ｂｒｓ）

【０１１６】製造例３と実質的に同様にして下記の化合
物を得る。 製造例２０−１）１−［４−｛４−（４−トリル）−１
，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル｝−４
−オキソブチル］−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリン
ジオン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：２．００−２．２０（２Ｈ
，ｍ），２．３５（３Ｈ，ｓ），２．４５−２．６５（
４Ｈ，ｍ），３．６５−３．７５（１Ｈ，ｍ），３．８
０−３．９０（１Ｈ，ｍ），４．１０−４．３０（４Ｈ
，ｍ），５．９５−６．１０（１Ｈ，ｍ），７．１０−
７．３５（５Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（２Ｈ，ｍ
），８．２０−８．４０（２Ｈ，ｍ）

【０１１７】製造
例２０−２）１−［４−｛４−（２−トリル）ピペラジ
ン−１−イル｝−４−オキソブチル］−２，４（１Ｈ，
３Ｈ）−キナゾリンジオンＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：
２．００−２．２０（２Ｈ，ｍ），２．３５（３Ｈ，ｓ
），２．５５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），２．８５−３
．００（４Ｈ，ｍ），３．６０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４Ｈｚ
），３．８０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４Ｈｚ），４．２０（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），６．９５−７．０５（２Ｈ，ｍ
），７．１０−７．３０（５Ｈ，ｍ），７．７５（２Ｈ
，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），８．４０
（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【０１１８】製造例２０−３）１−［４−（４−フェニ
ルピペラジン−１−イル）−４−オキソブチル］−２，
４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン

【０１１９】製造例２０−４）１−［４−｛４−（２−
エトキシフェニル）ピペラジン−１−イル｝−４−オキ
ソブチル］−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．５０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），２．００−２．２０（２Ｈ，ｍ），２．５５
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．０５−３．１５（４Ｈ
，ｍ），３．６０−３．７０（２Ｈ，ｍ），３．８０−
３．９０（２Ｈ，ｍ），４．１０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ），４．１５−４．２５（２Ｈ，ｍ），６．８５−７
．０５（４Ｈ，ｍ），７．２０−７．３０（１Ｈ，ｍ）
，７．７０−７．８０（２Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），８．８０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【０
１２０】製造例２１ 製造例９−３）、１０−３）および１１−３）と実質的
に同様にして得られた２−［Ｎ−（４−クロロブチル）
−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ−４−クロロ安息香酸
メチルを用いて製造した２−［Ｎ−｛４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル｝−Ｎ−エトキシカルボニルアミノ］−４−ク
ロロ安息香酸から製造例１２−３）と実質的に同様にし
て２−［Ｎ−｛４−（４−フェニル−１，２，３，６−
テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチル｝−Ｎ−エト
キシカルボニルアミノ］−４−クロロベンズアミドを得
る。

【０１２１】製造例２２ 製造例１−１）、１−２）および１−３）と実質的に同
様にして得られた２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジ
オンを用いて製造した１−（３−カルボキシ）プロピル
−６−クロロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオ
ンから製造例４と実質的に同様にして６−クロロ−１−
［４−（４−フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロ
ピリジン−１−イル）−４−オキソブチル］−２，４（
１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオンを得る。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：　　２．４０−２．６５（
４Ｈ，ｍ），３．５０−３．６５（１Ｈ，ｍ），３．６
５−３．７５（１Ｈ，ｍ），３．８５−３．９５（１Ｈ
，ｍ），４．１０−４．３０（５Ｈ，ｍ），６．００−
６．６５（１Ｈ，ｍ），７．２０−７．４０（５Ｈ，ｍ
），７．６５−７．８５（２Ｈ，ｍ），８．１５−８．
２５（１Ｈ，ｍ），９．２５（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【０
１２２】実施例１−１）１−（４−クロロブチル）−２
，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリジンオン（１６０ｍｇ）
、Ｎ−（２−プロポキシフェニル）ピペラジン塩酸塩（
１７８ｍｇ）、ヨウ化カリウム（１０５ｍｇ）および炭
酸ナトリウム（２００ｍｇ）のメチルイソブチルケトン
（１５ｍｌ）中混合物を５時間還流する。酢酸エチルで
希釈後、反応混合物を水および食塩水で順次洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥後、蒸発操作に付す。残留物をシ
リカゲル（１５ｇ）クロマトグラフィーに付し、クロロ
ホルム−メタノール（５０：１ｖ／ｖ）で溶出して、１
−［４−｛４−（２−プロポキシフェニル）ピペラジン
−１−イル｝ブチル］−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾ
リンジオン（２６６ｍｇ）を得る。 ｍｐ：〜６８℃ ＩＲ（ヌジョール，ν）：１６８０，１６００ｃｍ−１
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．１０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．６０−１．９０（６Ｈ，ｍ），２．５５
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），２．６０−２．８０（４Ｈ
，ｍ），３．１０−３．２５（４Ｈ，ｍ），３．９５（
２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５
Ｈｚ），６．８−７．００（４Ｈ，ｍ），７．２０−７
．３０（１Ｈ，ｍ），７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ
），７．７０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１，７Ｈｚ），８．２
０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１，７Ｈｚ），８．９５（１Ｈ，
ｂｒ　　ｓ）

【０１２３】実施例１−２）１−（４−メタンスルホニ
ルオキシブチル）−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリン
ジオン（３１２ｍｇ）、４−フェニル−１，２，３，６
−テトラヒドロピリジン（２００ｍｇ）とトリエチルア
ミン（３０３ｍｇ）の混合物を１．５時間還流する。反
応混合物を酢酸エチル−水に注ぎ、酢酸エチルで抽出す
る。有機抽出層を合わせ、水および食塩水で順次洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥後、蒸発操作に付す。粗製の
残留物を熱エタノールで洗浄して、１−［４−（４−フ
ェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−
イル）ブチル］−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジ
オン（１１４ｍｇ）を粉末として得る。 ｍｐ：１７０−１７３．５℃ ＩＲ（ヌジョール，ν）：１７１０，１６７０，１６０
０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６０−１．９５（４Ｈ
，ｍ），２．５０−２．７０（４Ｈ，ｍ），２．７５（
２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），７．２０−７．４５（７
Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．５，６，
６Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，６Ｈｚ
）

【０１２４】実施例２−１）１−［４−｛４−（２−ニ
トロフェニル）ピペラジン−１−イル｝−４−オキソブ
チル］−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン（５
００ｍｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）中懸濁液
に１Ｍボラン−テトラヒドロフラン（３．４２ｍｌ）を
氷浴中で加える。３０分間還流後、反応混合物に１Ｎ塩
酸（７ｍｌ）を加え、さらに３０分間還流する。混合物
を飽和重炭酸ナトリウム水溶液でアルカリ性とし、酢酸
エチルで希釈する。有機層を飽和重炭酸ナトリウムおよ
び食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、蒸発操
作に付す。得られる残留物をシリカゲル（２０ｇ）クロ
マトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール（２
０：１ｖ／ｖ）で溶出して、結晶を得る。エタノールか
ら再結晶して、１−［４−｛４−（２−ニトロフェニル
）ピペラジン−１−イル｝ブチル］−２，４（１Ｈ，３
Ｈ）−キナゾリンジオン（７７ｍｇ）を得る。 ｍｐ：１６４−１６５℃ ＩＲ（ヌジョール，ν）：１７００，１６５０，１６０
０ｃｍ−１ 　　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６０−１．９０（
４Ｈ，ｍ），２．４５−２．８０（６Ｈ，ｍ），３．０
０−３．２５（４Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５Ｈｚ），７．０５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１，６Ｈｚ），
７．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１，６Ｈｚ），７．２０−
７．４０（３Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１
．５，６．５Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．
６Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１，６Ｈｚ），
８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，６．５Ｈｚ），８
．６５（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【０１２５】実施例２−２）１−［４−｛４−（４−ク
ロロフェニル）−１，２，３，６−テトラヒドロピリジ
ン−１−イル｝ブチル−４−オキソ］−２，４（１Ｈ，
３Ｈ）−キナゾリンジオン（４００ｍｇ）の乾燥テトラ
ヒドロフラン（５ｍｌ）溶液に攪拌下水素化リチウムア
ルミニウム（７７ｍｇ）を氷浴中で加える。１５分間攪
拌後、反応混合物に飽和重炭酸ナトリウムを加えて反応
を停止させ、クロロホルムで希釈する。分解物を濾過し
、有機の濾液を飽和重炭酸ナトリウム水溶液および食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、蒸発操作に付
す。残留物をシリカゲル（１５ｇ）クロマトグラフイー
に付し、クロロホルムとメタノールの混合溶媒（５０：
１ｖ／ｖ）で溶出し、ジエチルエーテルで結晶化して１
−［４−｛４−（４−クロロフェニル）−１，２，３，
６−テトラヒドロピリジン−１−イル｝ブチル］−２，
４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン（２５ｍｇ）を得
る。 ｍｐ：１６２−１６６℃ ＩＲ（ヌジョール，ν）：１６８０，１６００ｃｍ−１
　　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６０−１．９０（
４Ｈ，ｍ），２．５５−２．７０（４Ｈ，ｍ），２．７
０−２．８５（２Ｈ，ｍ），３．２０−３．３０（２Ｈ
，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），６．０５
−６．１５（１Ｈ，ｍ），７．２０−７．４０（６Ｈ，
ｍ），７．６５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１，６．５Ｈｚ），
８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１，６．５Ｈｚ），８．４
５（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【０１２６】実施例３ １−［４−｛４−（２−ニトロフェニル）ピペラジン−
１−イル｝ブチル］−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリ
ンジオン（９０ｍｇ）のエタノール（８ｍｌ）溶液に塩
化錫（ＩＩ）（１５９ｍｇ）を８０℃で加える。同温で
１時間攪拌後、反応混合物に氷と飽和重炭酸ナトリウム
水溶液を加えて反応を停止し、クロロホルムで抽出する
。有機抽出層を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、蒸発操作に付して、無定形
物を得る。これをジイソプロピルエーテルから結晶化し
て１−［４−｛４−（２−アミノフェニル）ピペラジン
−１−イル｝ブチル］−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾ
リンジオン（３１ｍｇ）を得る。 ｍｐ：〜１２１℃ ＩＲ（ヌジョール，ν）：１６８０，１６００ｃｍ−１
　　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６０−１．９０（
４Ｈ，ｍ），２．４５−２．８０（６Ｈ，ｍ），２．８
５−３．１０（４Ｈ，ｍ），３．９０−４．０５（２Ｈ
，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．７０
−６．８０（２Ｈ，ｍ），６．９０−７．１０（２Ｈ，
ｍ），７．２０−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．７０（１
Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１，６Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝１，６Ｈｚ），８．６０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【０
１２７】実施例４ ２−［Ｎ−｛４−（４−フェニル−１，２，３，６−テ
トラヒドロピリジン−１−イル）ブチル｝−Ｎ−エトキ
シカルボニル］アミノ−４−ニトロベンズアミド（６０
０ｍｇ）と水酸化カリウム（１４４ｍｇ）の無水エタノ
ール（１０ｍｌ）中混合物を３時間還流する。溶媒を留
去し、残留物を水で希釈し、３Ｎ塩酸で酸性とし、クロ
ロホルムで抽出する。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥後、蒸発操作に付す。粗製の残留物を
熱エタノールで洗浄して、１−［４−（４−フェニル−
１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブ
チル］−７−ニトロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリ
ンジオン（４５０ｍｇ）を粉末として得る。 ｍｐ：２４２−２４４℃ ＩＲ（ヌジョール，ν）：１７１０，１６８０ｃｍ−１
　　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６５−１．９
５（４Ｈ，ｍ），２．７０−２．９０（２Ｈ，ｍ），３
．１５−４．１０（６Ｈ，ｍ），４．１５−４．２５（
２Ｈ，ｍ），６．２０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），７．３０
−７．５５（５Ｈ，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１．５，６Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈ
ｚ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）

【０１２８】
実施例５ １−［４−（４−フェニル−１，２，３，６−テトラヒ
ドロピリジン−１−イル）ブチル］−７−ニトロ−２，
４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン（８４０ｍｇ）の
無水エタノール（３０ｍｌ）中懸濁液に攪拌下塩化錫（
ＩＩ）（１．９０ｇ）を８０℃で加える。３時間攪拌後
、混合物に２Ｎ水酸化カリウムを加えて反応を停止後、
クロロホルムで希釈する。有機層をデカントし、残留物
をクロロホルムで洗浄する。有機層を合わせ、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、蒸発操作に付す。メタノール性１０
％塩酸で再結晶して、１−［４−（４−フェニル−１，
２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチル
］−７−アミノ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジ
オン塩酸塩（５４６ｍｇ）を結晶として得る。 ｍｐ：２９７−２９９℃ ＩＲ（ヌジョール，ν）：１６８０，１６００ｃｍ−１
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６０−１．９５（
４Ｈ，ｍ），２．６５−３．００（２Ｈ，ｍ），３．１
０−３．３５（３Ｈ，ｍ），３．５５−４．２０（５Ｈ
，ｍ），６．２０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），６．５０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．５５（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）
，７．３０−７．５５（５Ｈ，ｍ），７．７０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）

【０１２９】実施例６ １−［４−（４−フェニル−１，２，３，６−テトラヒ
ドロピリジン−１−イル）ブチル］−７−メトキシ−２
，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン（３００ｍｇ）
と４７％臭化水素酸（３．８ｍｌ）の酢酸（６ｍｌ）中
混合物を２４時間還流する。水で希釈後、析出物を集め
る。粗製の結晶性物質をエタノールから再結晶して、１
−［４−（４−フェニル−１，２，３，６−テトラヒド
ロピリジン−１−イル）ブチル］−７−ヒドロキシ−２
，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン臭化水素酸塩（
１４０ｍｇ）を得る。 ｍｐ：２７８−２８０℃ ＩＲ（ヌジョール，ν）：１６９０，１６６０，１６０
０ｃｍ−１ 　　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１，６０−１．９
０（４Ｈ，ｍ），２．７５−２．８５（２Ｈ，ｍ），３
．２０−３．４０（４Ｈ，ｍ），３．６５−４．１０（
４Ｈ，ｍ），６．１５−６．２５（１Ｈ，ｍ），６．７
０−６．８０（２Ｈ，ｍ），７．３５−７．５５（５Ｈ
，ｍ），７．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），９．６０
（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）

【０１３０】実施例７ 実施例４と実質的に同様にして５−クロロ−１−［４−
（４−フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジ
ン−１−イル）ブチル］−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナ
ゾリンジオンを収率６２．２％で得る。 ＩＲ（ヌジョール，ν）：１６９０，１５９０ｃｍ−１
　　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．７０−２．２０（
４Ｈ，ｍ），２．７０−３．３０（６Ｈ，ｍ），３．５
０−３．８０（２Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），６．００（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），７．２５−
７．４５（７Ｈ，ｍ），７．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）

【０１３１】実施例８ ２−［４−（４−フェニル−１，２，３，６−テトラヒ
ドロピリジン−１−イル）ブチルアミノ］−６−ニトロ
ベンズアミド（３００ｍｇ）とＮ，Ｎ′−カルボニルジ
イミダゾール（５５４ｍｇ）のジオキサン（３ｍｌ）中
混合物を１５０℃で２時間攪拌する。反応中に溶媒を除
去する。残留物をエタノールとエーテルの混合物から結
晶化する。粗製の結晶性物質を集め、塩化メチレンで洗
浄し、エタノールから再結晶して、１−［４−（４−フ
ェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−
イル）ブチル］−５−ニトロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−
キナゾリンジオン（２６５ｍｇ）を得る。 ｍｐ：１８２℃（分解） ＩＲ（ヌジョール）：１７１０，１６８０，１６１０，
１５３０ｃｍ−１ 　　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．５０−１．５
５（４Ｈ，ｍ），２．４０−２．５５（２Ｈ，ｍ），２
．６０−２．７０（２Ｈ，ｍ），３．００−３．１０（
２Ｈ，ｍ），３．３０−３．４０（２Ｈ，ｍ），３．９
０−４．００（２Ｈ，ｍ），６．１５−６．２０（１Ｈ
，ｍ），６．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．５０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．２０−７．５０（８Ｈ
，ｍ）

【０１３２】実施例９ 実施例５と実質的に同様にして１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−５−アミノ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナ
ゾリンジオンを得る。 ｍｐ：２０４℃（分解） ＩＲ（ヌジョール）：１６８０，１５８０，１５００ｃ
ｍ−１ 　　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．５０−１．５
５（４Ｈ，ｍ），２．４０−２．５５（２Ｈ，ｍ），２
．６０−２．７０（２Ｈ，ｍ），３．００−３．１０（
２Ｈ，ｍ），３．３０−３．４０（２Ｈ，ｍ），３．９
０−４．００（２Ｈ，ｍ），６．１５−６．２０（１Ｈ
，ｍ），６．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．５０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．２０−７．５０（８Ｈ
，ｍ）

【０１３３】実施例１０ ５−ニトロ−１−［４−（４−フェニル−１，２，３，
６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチル］−２，
４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン（５００ｍｇ）の
クロロホルム（９ｍｌ）−メタノール（１ｍｌ）溶液に
メタノール中２Ｎ硫酸溶液（１．１９ｍｌ）を０℃で加
える。溶媒を留去し、結晶性残留物を１０％水−エタノ
ール（３０ｍｌ）から再結晶して、５−ニトロ−１−［
４−（４−フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピ
リジン−１−イル）ブチル］−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−
キナゾリンジオン硫酸塩（４９７ｍｇ）を淡褐色結晶と
して得る。 ｍｐ：１８７−１８８℃ ＩＲ（ヌジョール）：３５４０，１７００，１６８５，
１６０５ｃｍ−１ 　　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．５８−１．９
０（４Ｈ，ｍ），２．７２（２Ｈ，ｂｒ　　ｓ），３．
１２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．４５（２Ｈ，ｂｒ
　　ｓ），３．８０（２Ｈ，ｂｒ　　ｓ），４．１０（
２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），６．１８（１Ｈ，ｓ），７．
２８−７．５５（６Ｈ，ｍ），７．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ），７．９１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ），９．
５０（１Ｈ，ｂｒｓ）

【０１３４】実施例１−２）と実質的に同様にして下記
の化合物を得る。 実施例１１−１）１−［４−｛４−（２−クロロフェニ
ル）ピペラジン−１−イル｝ブチル］−２，４（１Ｈ，
３Ｈ）−キナゾリンジオン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６０−１．９０（４Ｈ
，ｍ），２．５０−２．８５（６Ｈ，ｍ），３．００−
３．３０（４Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ），６．９０−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１５−７
．４０（５Ｈ，ｍ），７．７０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１，
７Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１，７Ｈｚ），
８．８０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ） ＩＲ（ヌジョール）：１７００，１６８０，１６１０ｃ
ｍ−１ 　　ｍｐ：１７６−１７８℃

【０１３５】実施例１１−２）１−［４−｛４−（２−
メトキシフェニル）ピペラジン−１−イル｝ブチル］−
２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオンＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ３，δ）：１．６０−２．１０（４Ｈ，ｍ），２．
５０−２．６０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），２．６５−
２．８０（４Ｈ，ｍ），３．１０−３．２５（４Ｈ，ｍ
），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５Ｈｚ），６．８５−７．０５（４Ｈ，ｍ），７．２０
−７．３０（１Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７
Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１，７Ｈｚ），８
．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１，７Ｈｚ） ＩＲ（ヌジョール）：１６７０，１６００ｃｍ−１　　
ｍｐ：〜１１０℃

【０１３６】実施例１−１）と実質的に同様にして下記
の化合物を得る。 実施例１１−３）１−［４−｛４−（２−メトキシフェ
ニル）ピペラジン−１−イル｝ブチル］−６−メトキシ
−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオンＮＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ３，δ）：１．６０−１．９０（４Ｈ，ｍ），２
．５０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｔ
，Ｊ＝６Ｈｚ），６．８５−７．０５（４Ｈ，ｍ），７
．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１５Ｈｚ），８．７５（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）ＩＲ（
ヌジョール）：１７００，１６６０，１５８０ｃｍ−１ 　　ｍｐ：１９８−２００℃

【０１３７】実施例１１−４）１−［４−｛４−（２−
クロロフェニル）ピペラジン−１−イル｝ブチル］−６
−メトキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６０−１．９０（４Ｈ
，ｍ），２．５５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），２．６０
−２．７５（４Ｈ，ｍ），３．０５−３．２０（４Ｈ，
ｍ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６Ｈｚ），６．９５−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．２
０−７．３０（３Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝１，７Ｈｚ），７．６０−７．７０（１Ｈ，ｍ），８
．８５（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ） ＩＲ（ヌジョール）：１７１０，１６６０ｃｍ−１　　
ｍｐ：２０４−２０６℃

【０１３８】実施例１１−５）１−［４−｛４−（２−
メトキシフェニル）ピペラジン−１−イル｝ブチル］−
７−クロロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６０−１．９０（４Ｈ
，ｍ），２．５５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），２．６５
−２．８０（４Ｈ，ｍ），３．１０−３．２０（４Ｈ，
ｍ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝５Ｈｚ），６．８５−７．０５（４Ｈ，ｍ），７．２
５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７Ｈｚ），７．３５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ） ＩＲ（ヌジョール）：１７００，１６８０，１６００ｃ
ｍ−１ 　　ｍｐ：１９０−１９１℃

【０１３９】実施例１１−６）１−［４−｛４−（２−
クロロフェニル）ピペラジン−１−イル｝ブチル］−７
−クロロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオンＮ
ＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．５０−１．９０（４Ｈ，
ｍ），２．５０−２．８５（６Ｈ，ｍ），３．０５−３
．３０（４Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ
），６．９５−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．
３０（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．４０（２Ｈ，ｍ），
８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．５５（１Ｈ，
ｂｒ　　ｓ） ＩＲ（ヌジョール）：１６９０，１６００ｃｍ−１　　
ｍｐ：１７４−１７６℃

【０１４０】実施例１１−７）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−７−ヒドロキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−
キナゾリンジオン臭化水素酸塩 ｍｐ：２７８−２８０℃

【０１４１】実施例１１−８）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−５−ニトロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナ
ゾリンジオン ｍｐ：１８２℃（分解）

【０１４２】実施例２−１）と実質的に同様にして下記
の化合物を得る。 実施例１２−１）１−［４−｛４−（４−トリル）−１
，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル｝ブチ
ル］−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオンＮＭＲ
（ＣＤＣｌ３，δ）：１．７０−１．９０（４Ｈ，ｍ）
，２．３５（３Ｈ，ｓ），２．５５−２．７０（４Ｈ，
ｍ），２．７５−２．８５（２Ｈ，ｍ），３．２０−３
．３０（２Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ
），６．００−６．１０（１Ｈ，ｍ），７．１０−７．
３５（５Ｈ，ｍ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）
，７．６５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１，７Ｈｚ），８．２０
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１，７Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｂ
ｒ　　ｓ） ＩＲ（ヌジョール）：１７１０，１６７０，１６００ｃ
ｍ−１ 　　ｍｐ：１５２−１５６℃

【０１４３】実施例１２−２）１−［４−｛４−（２−
トリル）ピペラジン−１−イル｝ブチル］−２，４（１
Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６０−１．９０（４Ｈ
，ｍ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．５０（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝５Ｈｚ），２．６０−２．７０（４Ｈ，ｍ），２．
９５（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝４Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝５Ｈｚ），６．９５−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．
１０−７．４０（４Ｈ，ｍ），７．７０（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ＝１．５，７Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１
．５，７Ｈｚ），８．７５（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）ＩＲ（
ヌジョール）：１７００，１６００ｃｍ−１　　ｍｐ：
７４−８５℃

【０１４４】実施例１２−３）１−［４−（４−フェニ
ルピペラジン−１−イル）ブチル］−２，４（１Ｈ，３
Ｈ）−キナゾリンジオン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６０−１．９０（４Ｈ
，ｍ），２．５５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４Ｈｚ），２．６０
−２．７５（４Ｈ，ｍ），３．２５（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝４
Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．８０
−７．００（３Ｈ，ｍ），７．２０−７．４０（４Ｈ，
ｍ），７，７０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１，７Ｈｚ），８．
２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１，７Ｈｚ），８．６５（１Ｈ
，ｂｒｓ） ＩＲ（ヌジョール）：１７１０，１６７０，１６００ｃ
ｍ−１ 　　ｍｐ：１６４−１６７℃

【０１４５】実施例１２−４）１−［４−｛４−（２−
エトキシフェニル）ピペラジン−１−イル｝ブチル］−
２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオンＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ３，δ）：１．４５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），１
．６０−１．９０（４Ｈ，ｍ），２．５０（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝５Ｈｚ），２．６５−２．８０（４Ｈ，ｍ），３．
１０−３．２５（４Ｈ，ｍ），４．００−４．２０（４
Ｈ，ｍ），６．８０−７．００（４Ｈ，ｍ），７．３０
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．５，７Ｈｚ
），８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７Ｈｚ），８
．７５（１Ｈ，ｂｒｓ）ＩＲ（ヌジョール）：１６８０
，１６００ｃｍ−１　　ｍｐ：〜８５℃

【０１４６】実施例１２−５）６−クロロ−１−［４−
（４−フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジ
ン−１−イル）ブチル］−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナ
ゾリンジオン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６５−１．９０（４Ｈ
，ｍ），２．５５−２．７０（４Ｈ，ｍ），２．７０−
２．８５（２Ｈ，ｍ），３．２０−３．３０（２Ｈ，ｍ
），４．０５−４．２０（２Ｈ，ｍ），６．０５−６．
１５（１Ｈ，ｍ），７．２０−７．４５（６Ｈ，ｍ），
７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，８Ｈｚ），８．１
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）ｍｐ：１５９℃（分解
） ＩＲ（ヌジョール）：１６８０，１６００ｃｍ−１

【０
１４７】実施例１２−６）１−［４−（４−フェニル−
１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブ
チル］−７−ヒドロキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナ
ゾリンジオン臭化水素酸塩 ｍｐ：２７８−２８０℃

【０１４８】実施例１２−７）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−５−ニトロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナ
ゾリンジオン ｍｐ：１８２℃（分解）

【０１４９】実施例４と実質的に同様にして下記の化合
物を得る。 実施例１３−１）１−［４−（４−フェニル−１，２，
３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチル］−
６−エトキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオ
ン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．４０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），１．６５−１．９０（４Ｈ，ｍ），２．５５
−２．７０（４Ｈ，ｍ），２．７０−２．８０（２Ｈ，
ｍ），３．１５−３．２５（２Ｈ，ｍ），４．００（２
Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），６．０５−６．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７
．４０（７Ｈ，ｍ），７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ
），８．６０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ） ＩＲ（ヌジョール）：１６９０，１６５０，１５８０ｃ
ｍ−１ 　　ｍｐ：１７０−１７２℃

【０１５０】実施例１３−２）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−６−メトキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キ
ナゾリンジオン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．７０−１．９０（４Ｈ
，ｍ），２．５５−２．７０（４Ｈ，ｍ），２．８０（
２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４Ｈｚ），３．２０−３．３０（２Ｈ，
ｍ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６Ｈｚ），６．０５−６．１５（１Ｈ，ｍ），７．２
０−７．４５（７Ｈ，ｍ），７，６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２Ｈｚ），８．６０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）ＩＲ（ヌジョ
ール）：１６７０ｃｍ−１　　ｍｐ：１９２−１９４℃

【０１５１】実施例１３−３）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−８−クロロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナ
ゾリンジオン ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６０−１．９０（
４Ｈ，ｍ），２．６０−２．８０（２Ｈ，ｍ），２．９
０−３．７５（６Ｈ，ｍ），４．２５−４．４０（２Ｈ
，ｍ），６．２０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），７．２５−７
．５０（６Ｈ，ｍ），７．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１，
６Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１，６Ｈｚ） ＩＲ（ヌジョール）：１６８０，１６００ｃｍ−１　　
ｍｐ：１９４−１９７℃

【０１５２】実施例１３−４）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−７−メトキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キ
ナゾリンジオン　　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１
．７０−１．９０（４Ｈ，ｍ），２．６０−２．７０（
４Ｈ，ｍ），２．８５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．
２５−３．３５（２Ｈ，ｍ），３．８５（３Ｈ，ｓ），
４．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），６．０５−６
．１０（１Ｈ，ｍ），６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ
），６．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２，８Ｈｚ），７．２
５−７．４０（５Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）ＩＲ（ヌジョ
ール）：１６９０，１６１０ｃｍ−１　　ｍｐ：１７１
−１７３℃

【０１５３】実施例１３−５）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−６，７−ジメトキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ
）−キナゾリンジオン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．８５−２．００（４Ｈ
，ｍ），２．７５−２．８５（２Ｈ，ｍ），２．８５−
２．９５（２Ｈ，ｍ），３．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ），３．９５（３Ｈ，ｓ），４．０５（３Ｈ，ｓ），
４．２０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．００−６．０
５（１Ｈ，ｍ），６．７０（１Ｈ，ｓ），７．２５−７
．４０（５Ｈ，ｍ），７．６０（１Ｈ，ｓ）ＩＲ（ヌジ
ョール）：１６８０，１６２０ｃｍ−１

【０１５４】実
施例１３−６）１−［４−（４−フェニル−１，２，３
，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチル］−７
−クロロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６０−１．９０（４Ｈ
，ｍ），２．５５−２．７０（４Ｈ，ｍ），２．７５−
２．８５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．２０−３．３
０（２Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），
６．０５−６．１５（１Ｈ，ｍ），７．２０−７．４５
（７Ｈ，ｍ），８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ） ＩＲ（ヌジョール）：１６８０，１６００ｃｍ−１　　
ｍｐ：１５２−１５４℃

【０１５５】実施例１３−７）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−６−ニトロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナ
ゾリンジオン ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６５−１．７５（
４Ｈ，ｍ），２．４０−２．６０（４Ｈ，ｍ），２．６
０−２．７０（２Ｈ，ｍ），３．１０−３．２０（２Ｈ
，ｍ），４．０５−４．２０（２Ｈ，ｍ），６．２０（
１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），７．２０−７．５０（５Ｈ，ｍ）
，７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．４０（１Ｈ
，ｄｄ，Ｊ＝２，８Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２Ｈｚ） ＩＲ（ヌジョール）：１７１０，１６７０，１６１０ｃ
ｍ−１ 　　ｍｐ：１９４℃（分解）

【０１５６】実施例１３−８）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−７−ヒドロキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−
キナゾリンジオン臭化水素酸塩 ｍｐ：２７８−２８０℃

【０１５７】実施例１３−９）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−５−ニトロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナ
ゾリンジオン ｍｐ：１８２℃（分解）

【０１５８】実施例６と実質的に同様にして下記の化合
物を得る。 実施例１４−１）１−［４−（４−フェニル−１，２，
３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチル］−
６−ヒドロキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジ
オン臭化水素酸塩 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６０−１．９０（
４Ｈ，ｍ），２．７５−２．９０（２Ｈ，ｍ），３．２
０−３．４０（３Ｈ，ｍ），３．６０−３．９０（２Ｈ
，ｍ），３．９０−４．１０（３Ｈ，ｍ），６．２０（
１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），７．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２，
８Ｈｚ），７．３０−７．５５（７Ｈ，ｍ），９．６０
（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），９．８０（１Ｈ，ｓ）ＩＲ（ヌ
ジョール）：１６７０，１４８０ｃｍ−１　　ｍｐ：２
７４−２７６℃

【０１５９】実施例１４−２）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−６，７−ジヒドロキシ−２，４（１Ｈ，３
Ｈ）−キナゾリンジオン臭化水素酸塩ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄ６，δ）：１．６０−１．９０（４Ｈ，ｍ），２．
７５−２．８５（２Ｈ，ｍ），３．２０−３．４０（５
Ｈ，ｍ），３．６０−３．９０（２Ｈ，ｍ），３．９０
−４．０５（３Ｈ，ｍ），６．２０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ
），６．８０（１Ｈ，ｓ），７．３０−７．５５（６Ｈ
，ｍ），９．６０（１ｏｒ　　２Ｈ，ｂｒ　　ｓ） ＩＲ（ヌジョール）：３６５０−３１００，１６９０，
１６６０，１６２０ｃｍ−１ 　　ｍｐ：２８０−２８２℃

【０１６０】実施例１４−３）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−５−ヒドロキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−
キナゾリンジオン塩酸塩 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．６０．１．９５（４Ｈ
，ｍ），２．７５−２．９０（２Ｈ，ｍ），３．２０−
４．００（６Ｈ，ｍ），４．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），６．２０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），６．７０（１Ｈ
，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ
），７．３５−７．７０（６Ｈ，ｍ）ＩＲ（ヌジョール
）：１６９０，１６５０，１６２０，１２６０ｃｍ−１ 　　ｍｐ：２６２−２６４℃

【０１６１】実施例１５ 実施例５と実質的に同様にして１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−６−アミノ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナ
ゾリンジオン塩酸塩を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６０−１．９５（
４Ｈ，ｍ），２．７０−３．００（２Ｈ，ｍ），３．０
０−３．９０（４Ｈ，ｍ），３．９０−４．２０（４Ｈ
，ｍ），６．２０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），７．３０−７
．６５（７Ｈ，ｍ），７．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ
） ＩＲ（ヌジョール）：１６８０，１６２０ｃｍ−１　　
ｍｐ：〜２１０℃

【０１６２】実施例１６−１）実施例８と実質的に同様
にして、２−［Ｎ−｛４−（４−フェニル−１，２，３
，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチルアミノ
］−６−フルオロベンズアミドから１−［４−（４−フ
ェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−
イル）ブチル］−５−（イミダゾール−１−イル）−２
，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオンを得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．５５−１．８０（
４Ｈ，ｍ），２．４０−２．６０（２Ｈ，ｍ），２．６
０−２．７０（２Ｈ，ｍ），３．０５−３．２０（２Ｈ
，ｍ），３．３０−３．５５（２Ｈ，ｍ），４．０５−
４．２０（２Ｈ，ｍ），６．２０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ）
，７．００（１Ｈ，ｓ），７．１０−７．２０（１Ｈ，
ｍ），７．２０−７．５０（６Ｈ，ｍ），７．７０（３
Ｈ，ｂｒｓ） ＩＲ（ヌジョール）：１７００，１６７０，１６００，
１４９０ｃｍ−１ 　　ｍｐ：２１３−２１５℃

【０１６３】実施例１６−２）２−［Ｎ−｛４−（４−
フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１
−イル）ブチルアミノ−６−フルオロベンズアミド（９
００ｍｇ）、クロロ蟻酸トリクロロメチル（１．５ｍｌ
）および活性炭（触媒量）のジオキサン（２０ｍｌ）中
混合物を８０℃で１時間攪拌する。溶媒を減圧下に除去
する。残留物をメタノール性１０％塩酸に溶解し、次い
でこの溶液を濾過する。濾液を蒸発操作に付し、残留物
をエタノール−エーテルから結晶化する。粗製の結晶を
集め、熱エタノールで洗浄して、１−［４−（４−フェ
ニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イ
ル）ブチル］−５−フルオロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−
キナゾリンジオン塩酸塩（８０ｍｇ）を得る。 ｍｐ：２７６℃（分解） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６０−１．９０（
４Ｈ，ｍ），２．７０−２．９０（２Ｈ，ｍ），３．１
５−４．２０（８Ｈ，ｍ），６．２０（１Ｈ，ｂｒ　　
ｓ），７．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．３０
−７．６０（６Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝
４，７Ｈｚ） ＩＲ（ヌジョール）：１６８０，１６１０ｃｍ−１

【０
１６４】実施例１６−２）と実質的に同様にして下記の
化合物を得る。 実施例１６−３）１−［４−（４−フェニル−１，２，
３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチル］−
５−メトキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオ
ン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．５０−１．７０（４Ｈ
，ｍ），２．４０−２．５５（４Ｈ，ｍ），３．０５−
３．１５（２Ｈ，ｍ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．０
０−４．１０（２Ｈ，ｍ），６．２０（１Ｈ，ｂｒ　　
ｓ），６．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．１０（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．２０−７．５０（６Ｈ，
ｍ） ＩＲ（ヌジョール）：１６７０，１５９０，１２６０ｃ
ｍ−１ 　　ｍｐ：２１９−２２１℃

【０１６５】実施例１６−４）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−５−メチル−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナ
ゾリンジオン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：１．７０−２．００（４Ｈ
，ｍ），２．５５−２．７０（４Ｈ，ｍ），２．７０−
２．８５（５Ｈ，ｍ），３．２０−３．３０（２Ｈ，ｍ
），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ），６．０５−６
．１５（１Ｈ，ｍ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ
），７．２０−７，５０（７Ｈ，ｍ）ＩＲ（ヌジョール
）：１６８０，１５９０，１４９０ｃｍ−１ 　　ｍｐ：１７５−１７７℃

【０１６６】実施例１６−５）１−［４−（４−フェニ
ル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル
）ブチル］−５−ニトロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナ
ゾリンジオン ｍｐ：１８２℃（分解）

【０１６７】実施例１７ １−［４−（４−フェニル−１，２，３，６−テトラヒ
ドロピリジン−１−イル）ブチル］−７−アミノ−２，
４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン塩酸塩（７０ｍｇ
）、塩化メタンスルホニル（０．０２ｍｌ）、炭酸カル
シウム（５０ｍｇ）のジメチルホルムアミド（１ｍｌ）
中混合物を室温で２時間攪拌する。反応混合物を氷水に
注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出物を水および食塩水
で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、蒸発操作に
付す。粗製の残留物を熱エタノールで洗浄し、次いでメ
タノール性１０％塩酸で処理し、蒸発操作に付す。 エタノールから再結晶して、１−［４−（４−フェニル
−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）
ブチル］−７−メタンスルホニルアミノ−２，４（１Ｈ
，３Ｈ）−キナゾリンジオン塩酸塩（１８ｍｇ）を結晶
として得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．６５−２．０５（
４Ｈ，ｍ），２．７０−２．９０（２Ｈ，ｍ），３．１
５−３．５０（５Ｈ，ｍ），３．６０−４．１５（６Ｈ
，ｍ），６．２０（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），７．４５−７
．５５（５Ｈ，ｍ），７．９５（１Ｈ，ｂｒ　　ｓ），
８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），９．０５−９．２
０（１Ｈ，ｍ） ＩＲ（ヌジョール）：１６８０，１６１０，１５９０ｃ
ｍ−１ 　　ｍｐ：２５４℃（分解）

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　式： （式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ水素、ハロゲン、ニ
   トロ基、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒドロキシア
   ミノ基、低級アルコキシ基、低級アルキル基、ヒドロキ
   シ基、スルファモイル基、カルボキシ基、保護されたカ
   ルボキシ基、カルバモイル基、メルカプト基、低級アル
   キルチオ基またはイミダゾリル基、Ｒ３は適当な置換基
   を有していてもよいアリール基、Ａは低級アルキレン基
   、 をそれぞれ示す）で表わされる化合物または医薬として
   許容されるその塩。
2. 【請求項２】　　式中、Ｒ１およびＲ２がそれぞれ水素
   、ハロゲン、ニトロ基、アミノ基、アシルアミノ基、ヒ
   ドロキシアミノ基、低級アルコキシ基、低級アルキル基
   、ヒドロキシ基、スルファモイル基、カルボキシ基、エ
   ステル化されたカルボキシ基、カルバモイル基、メルカ
   プト基、低級アルキルチオ基またはイミダゾリル基、Ｒ
   ３が非置換のフェニル基、またはハロゲン、低級アルキ
   ル、低級アルコキシ、ニトロおよびアミノからなる群よ
   り選ばれる置換基１〜３個で置換されたフェニル基、窒
   素原子１〜４個を含有する５または６員の飽和複素単環
   基、酸素原子１〜２個および窒素原子１〜３個含有する
   ５または６員の不飽和複素単環基、酸素原子１〜２個お
   よび窒素原子１〜３個含有する５または６員の飽和複素
   単環基、硫黄原子１〜２個および窒素原子１〜３個含有
   する５または６員の不飽和複素単環基、硫黄原子１〜２
   個および窒素原子１〜３個含有する５または６員の飽和
   複素単環基、である請求項１）に記載の化合物。
3. 【請求項３】 員の飽和または不飽和複素単環基である請求項２）に記
   載の化合物。
4. 【請求項４】 −イル基、イミダゾール−１−イル基、ピラゾール−１
   −イル基、テトラヒドロピリジン−１−イル基、トリア
   ゾリル基、テトラゾリル基、ジヒドロトリアジニル基、
   アゼチジン−１−イル基、ピロリジン−１−イル基、イ
   ミダゾリジン−１−イル基、ピペリジン−１−イル基、
   ピラゾリジン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、
   オキサジニル基、オキサジアジニル基、モルホリン−４
   −イル基、チアゾリニル基またはチアゾリジン−１−イ
   ル基である請求項３）に記載の化合物。
5. 【請求項５】　　式中、Ｒ１およびＲ２がそれぞれ水素
   、ハロゲン、ニトロ基、アミノ基、低級アルカンスルホ
   ニルアミノ基、低級アルコキシ基、低級アルキル基、ヒ
   ドロキシ基またはイミダゾリル基、 ピリジン−１−イル基である請求項４）に記載の化合物
   。
6. 【請求項６】　　式中、Ｒ１およびＲ２がそれぞれ水素
   、ハロゲン、ニトロ基、アミノ基、Ｃ１−Ｃ４アルカン
   スルホニルアミノ基、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１−
   Ｃ４アルキル基、ヒドロキシ基またはイミダゾリル基、
   Ｒ３が非置換のフェニル基、またはハロゲン、Ｃ１−Ｃ
   ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ニトロおよびアミ
   ノからなる群より選ばれる置換基で置換されたフェニル
   基、ＡがＣ１−Ｃ４アルキレン基、である請求項５）に
   記載の化合物。
7. 【請求項７】　　式中、Ｒ１およびＲ２がそれぞれ水素
   、塩素、沸素、ニトロ基、アミノ基、メタンスルホニル
   アミノ基、メトキシ基、エトキシ基、メチル基、ヒドロ
   キシ基またはイミダゾール−１−イル基、Ｒ３が非置換
   のフェニル基、または塩素、メチル、メトキシ、エトキ
   シ、プロポキシ、ニトロおよびアミノからなる群より選
   ばれる置換基で置換されたフェニル基、Ａがテトラメチ
   レン基、である請求項６）に記載の化合物。
8. 【請求項８】 ７）に記載の化合物。
9. 【請求項９】 ン−１−イル基である請求項７）に記載の化合物。
10. 【請求項１０】　　１−［４−（４−フェニル−１，２
    ，３，６−テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチル］
    −７−ニトロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオ
    ン、１−［４−（４−フェニル−１，２，３，６−テト
    ラヒドロピリジン−１−イル）ブチル］−７−ヒドロキ
    シ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン臭化水素
    酸塩、１−［４−（４−フェニル−１，２，３，６−テ
    トラヒドロピリジン−１−イル）ブチル］−５−ニトロ
    −２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオンまたはその
    硫酸塩、１−［４−（４−フェニル−１，２，３，６−
    テトラヒドロピリジン−１−イル）ブチル］−６−ニト
    ロ−２，４（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオン、１−［
    ４−（４−フェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピ
    リジン−１−イル）ブチル］−６−ヒドロキシ−２，４
    （１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオンまたはその臭化水素
    酸塩、１−［４−（４−フェニル−１，２，３，６−テ
    トラヒドロピリジン−１−イル）ブチル］−６，７−ジ
    ヒドロキシ−２，４−（１Ｈ，３Ｈ）−キナゾリンジオ
    ンまたはその臭化水素酸塩、または１−［４−（４−フ
    ェニル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−１−
    イル）ブチル］−５−ヒドロキシ−２，４（１Ｈ，３Ｈ
    ）−キナゾリンジオンである請求項９）の化合物。
11. 【請求項１１】　　（ａ）式： 表わされる化合物またはヒドロキシ基におけるその反応
    性誘導体またはその塩を式： で表わされる化合物またはその塩と反応させて、式：で
    表される化合物またはその塩を得るか、（ｂ）　　式：
    で表わされる化合物またはその塩のアミド部分を還元し
    て、式（Ｉ）の化合物またはその塩を得るか、（ｃ）　
    　式： で表わされる化合物またはその塩の におけるニトロ基を還元して、式： で表わされる化合物またはその塩を得るか、（ｄ）　　
    式： で表わされる化合物またはその塩を塩基と反応させて、
    式（Ｉ）の化合物またはその塩を得るか、（ｅ）　　式
    ：で表わされる化合物またはその塩を加水分解して、式
    ：で表わされる化合物またはその塩を得るか、（ｆ）　
    　式： で表わされる化合物またはその塩の および／または におけるニトロ基を還元して、式： で表わされる化合物またはその塩を得るか、（ｇ）　　
    式： で表わされる化合物またはその塩を式：Ｘ１−ＣＯ−Ｘ
    ２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ＸＩ）
    で表わされる化合物と反応させて、式（Ｉ）の化合物ま
    たはその塩を得るか、（ｈ）　　式： で表わされる化合物またはその塩をアミノ保護基導入剤
    と反応させて、式： で表わされる化合物またはその塩を得ることを特徴とす
    る式： （式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ水素、ハロゲン、ニ
    トロ基、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒドロキシア
    ミノ基、低級アルコキシ基、低級アルキル基、ヒドロキ
    シ基、スルファモイル基、カルボキシ基、保護されたカ
    ルボキシ基、カルバモイル基、メルカプト基、低級アル
    キルチオ基、またはイミダゾリル基、Ｒ３は適当な置換
    基を有していてもよいアリール基、Ａは低級アルキレン
    基、 ロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒ
    ドロキシアミノ基、低級アルコキシ基、低級アルキル基
    、ヒドロキシ基、スルファモイル基、カルボキシ基、保
    護されたカルボキシ基、カルバモイル基、メルカプト基
    、低級アルキルチオ基またはイミダゾリル基、ン、ニト
    ロ基、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒドロキシアミ
    ノ基、低級アルコキシ基、低級アルキル基、ヒドロキシ
    基、スルファモイル基、カルボキシ基、保護されたカル
    ボキシ基、カルバモイル基、メルカプト基、低級アルキ
    ルチオ基またはイミダゾリル基、ニトロ基、アミノ基、
    保護されたアミノ基、ヒドロキシアミノ基、低級アルコ
    キシ基、低級アルキル基、ヒドロキシ基、スルファモイ
    ル基、カルボキシ基、保護されたカルボキシ基、カルバ
    モイル基、メルカプト基、低級アルキルチオ基またはイ
    ミダゾリル基、 、他方が水素、ハロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護さ
    れたアミノ基、ヒドロキシアミノ基、低級アルコキシ基
    、低級アルキル基、ヒドロキシ基、スルファモイル基、
    カルボキシ基、保護されたカルボキシ基、カルバモイル
    基、メルカプト基、低級アルキルチオ基またはイミダゾ
    リル基、 ニトロ基、アミノ基、保護されたアミノ基、ヒドロキシ
    アミノ基、低級アルコキシ基、低級アルキル基、ヒドロ
    キシ基、スルファモイル基、カルボキシ基、保護された
    カルボキシ基、カルバモイル基、メルカプト基、低級ア
    ルキルチオ基またはイミダゾリル基、 ハロゲン、ニトロ基、アミノ基、保護されたアミノ基、
    ヒドロキシアミノ基、低級アルコキシ基、低級アルキル
    基、ヒドロキシ基、スルファモイル基、カルボキシ基、
    保護されたカルボキシ基、カルバモイル基、メルカプト
    基、低級アルキルチオ基またはイミダゾリル基、Ｒ４は
    エステル化されたカルボキシ基、Ａ１はＣ１−Ｃ５アル
    キレン基、をそれぞれ示す）で示される化合物またはそ
    の塩の製造法。
12. 【請求項１２】　　請求項１）に記載の化合物を有効成
    分として含有する医薬組成物。 【０００１】