JPH042606A - 高純度の水性シリカゾルの製造方法 - Google Patents

高純度の水性シリカゾルの製造方法

Info

Publication number
JPH042606A
JPH042606A JP2099763A JP9976390A JPH042606A JP H042606 A JPH042606 A JP H042606A JP 2099763 A JP2099763 A JP 2099763A JP 9976390 A JP9976390 A JP 9976390A JP H042606 A JPH042606 A JP H042606A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aqueous
sol
silica
aqueous solution
concentration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2099763A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshitsugu Watabe
渡部 淑胤
Hiromizu Suzuki
鈴木 博水
Mikio Ando
安藤 幹夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to US07/496,254 priority Critical patent/US5100581A/en
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Priority to JP2099763A priority patent/JPH042606A/ja
Priority to EP91104528A priority patent/EP0504467B1/en
Priority to EP91117592A priority patent/EP0537375B1/en
Publication of JPH042606A publication Critical patent/JPH042606A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J13/00Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
    • B01J13/0004Preparation of sols
    • B01J13/0008Sols of inorganic materials in water
    • B01J13/0013Sols of inorganic materials in water from a precipitate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
    • C01B33/146After-treatment of sols
    • C01B33/148Concentration; Drying; Dehydration; Stabilisation; Purification

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、30〜50重量%のSiO□濃度を有し、コ
ロイダルシリカの粒子径は10〜30ミリミクロンであ
って、しかも、シリカ以外の多価金属酸化物を実質的に
含まない所謂高純度を有する安定な水性シリカゾルの製
造法の改良に関する。
特に、本発明の方法により得られたシリカゾルは、鉄、
アルミニウム等多価金属の酸化物の含有率が極度に低い
ので、シリカゾル中これら多価金属分の不存在が望まれ
る用途、例えば、半導体の研磨剤として用いられる。
(従来の技術) 種々の用途に用いられる工業製品の安定な水性シリカゾ
ルは、水溶性のアルカリ金属珪酸塩、特に、安価に入手
できる工業製品の水ガラスから製造されている。
けれども、この水ガラスから製造された安定な水性シリ
カゾルに対し、幾つかの用途、例えば、半導体表面の研
磨剤、石英ファイバー用原料、その他高純度のゾルが望
まれる用途においては、それら分野の技術の高度化と共
に、そのシリカツル中に通常微量に存在する金属酸化物
、特に、多価金属酸化物に原因して、しばしば問題が起
っている。
アルカリ金属酸化物を実質的に含まない水性シリカゾル
の製造法は既に知られている。例えば、米国特許第40
54536号明細書には、アルカリ金属酸化物を実質的
に含まない水性シリカゾルの製造法として、アルカノー
ルアミンの熱水溶液に2〜10%の珪酸水溶液をアミン
に対する5iOzOモル比として1〜100の比率に加
えながら水を泉留除去することによって得られたpH8
〜10、SiO□5〜55%の水性ゾルを、イオン交換
樹脂中を通過させることによってアルカリ金属含量20
0ppm以下、pH2〜5の水性シリカゾルを生成させ
、これにアンモニアをpH9〜10となるように加える
ことによって、アルカリ金属含量200ppm以下のシ
リカゾルを得る方法が開示されている。
更に、特開昭61−158810号公報には、濃度0.
5〜7重量%のアルカリ珪酸塩の水溶液を強酸型陽イオ
ン交換樹脂と接触させて脱アルカリすることにより得ら
れた珪酸液に、酸を加えてpH2,5以下温度0〜98
℃でその珪酸液を処理し、次いでこの処理後の液中の不
純物を限外濾過膜を通過させることにより除いた後、陰
陽イオン交換樹脂の温床、キレート樹脂層等を通過させ
、得られたオリゴ珪酸溶液の一部にアンモニア、アミン
等を加えてpH7〜10のヒールゾルとなし、60〜9
8℃でこのヒールゾルにオリゴ珪酸溶液の残部を徐々に
滴下することによりコロイダルシリカの粒子を成長させ
ることによって、シリカ以外の多価金属酸化物含有率が
低いシリカゾルを得る方法が提案されている。
更に、特開昭63−285112号公報には、約40重
量%のSing濃度を有し、シリカ以外の多価金属酸化
物を実質的に含まない、かつ、コロイダルシリカの大き
さが揃っていてその粒子径が30−100 ミリミクロ
ンである安定な水性シリカゾルの製造法として、酸添加
により0〜2のpHに調整されたSiO2濃度2〜6重
量%の活性珪酸の水溶液を陰陽側イオン交換樹脂で処理
することにより得られた活性珪酸の水溶液に、アルカリ
金属水酸化物を加えてSiO2/M2O(Mはアルカリ
金属原子を表す。)モル比が100〜300である安定
化活性珪酸の水溶液をつくり、この液をアルカリ金属水
酸化物又はアルカリ金属珪酸塩の水溶液に90〜150
℃で液中SiO2/M2Oモル比が20〜60となるま
で徐々に加えた後更に同温度で加熱を続け、これにより
得られたシリカゾルに酸を加えて液中アルカリの40〜
90%を中和し、更に同温度で加熱を続け、得られた水
性シリカゾルを微細多孔性膜を介して濃縮する方法が開
示されている。
(発明が解決しようとする課題) 市販工業製品の水ガラスを原料として、その希釈水溶液
を陽イオン交換樹脂層に通すことによって得られた活性
珪酸の水溶液を用いて、上記米国特許第4054536
号明細書に記載の方法で水性シリカゾルを製造すると、
シリカに対するアルカリ金属含有率200ppm以下の
水性シリカゾルを得ることができるが、他の金属、例え
ば、鉄、アルミニウム等多価金属の含有率はシリカに対
し300ppm以上含有する水性シリカゾルしか得られ
ない。
この高い含有率で存在する多価金属は、原料である水ガ
ラス中に約500ppm以上含まれていた多価金属酸化
物に由来するものである。
上記特開昭61−158810号公報に記載の方法では
、水ガラス等原料のアルカリ金属珪酸塩中に存在するア
ルカリ金属及び珪素以外の多価金属のいずれも、シリカ
ゾルを製造する過程において除去することが行われる。
けれども、この除去の方法は、加えられた酸を含有する
活性珪酸の水溶液から、その中に含まれている不純物を
限外濾過膜を通過させて除く際に、活性珪酸の水溶液に
この液の20倍〜1万倍に相当する量の別途調製の酸液
を補給せねばならず、シリカゾルの工業生産プロセスと
しては効率的でない。更に、この特開昭61−1588
10号公報に記載の方法では、コロイダルシリカの粒子
成長のため760時間もの長時間を要し、そしてこの粒
子成長を終えた後にシリカゾルの濃縮が行われるから、
シリカゾルの工業生産プロセスとしてはやはり効率的で
ない。
上記特開昭63−285112号公報に記載の方法では
、30ミリミクロンより小さいコロイダルシリカの安定
な水性ゾルは製造し難い。シリカゾルを結合剤として用
いる場合には、用いられるゾルのコロイダルシリカの粒
子径が小さい程、ゾルはより高い結合力を示すが、その
反面、用いられるゾルのコロイダルシリカの粒子径が小
さい程、ゾルは安定性に乏しくなるので、これを補うに
はゾルのSiO2濃度を低めねばならない。けれども、
一般に結合剤として用いる場合には、高いSing濃度
であってしかも結合力の充分なものが望まれる。
このように、シリカゾルを使用して得られる製品の性能
の向上に適合する如き改良されたシリカゾルを安価な工
業製品として提供することが課題となっている。本発明
は、このような課題及び上記従来のシリカ以外の多価金
属酸化物含量の低いシリカゾル製造法の問題を解決しよ
うとするものであって、シリカ以外の多価金属酸化物含
量がシリカに対し300ppm以下であり、30〜50
重量%のSiO□濃度を有し、そしてコロイダルシリカ
の平均粒子径が10〜30ミリミクロンである安定な水
性シリカゾルを、多価金属酸化物を不純物として含むア
ルカリ金属珪酸塩がら効率よく製造する方法を提供しよ
うとするものである。
(課題を解決するための手段) 本発明の、30〜50重量%のSiO2濃度を有し、シ
リカ以外の多価金属酸化物を実質的に含まない、かつ、
コロイダルシリカの粒子径が10〜30ミリミクロンで
ある安定な水性シリカゾルの製造法は、下記(a)、(
b)、(C)、(d)、(e)、げ)、(g)及び(h
)の工程からなることを特徴とする。
(a)  シリカ以外の多価金属酸化物をシリカに対し
500〜110000ppの比率に含有する水溶性のア
ルカリ金属珪酸塩がこの珪酸塩に由来するSiO□分と
して2〜6重量%の濃度に溶解しているアルカリ金属珪
酸塩の水溶液を、水素型強酸性陽イオン交換樹脂と接触
させることによりSiO□濃度2〜6重量%及びp)1
2〜4の活性珪酸の水溶液を生成させ、この生成液を回
収する工程、 (ハ)(a)工程で回収された活性珪酸の水溶液に強酸
を加えることにより該水溶液をpi(0〜2.0に調整
した後、0〜100℃に0.5〜120時間保持する工
程、 (C)  (b)工程で得られた水溶液を水素型強酸性
陽イオン交換樹脂と接触させた後、この接触によって生
成した液を水酸基型強塩基性陰イオン交換樹脂と接触さ
せることにより、実質的に活性珪酸以外の溶解物質を含
まず、かつ、5ioz4度2〜6重量%及びpH2〜5
の活性珪酸の水溶液を生成させ、この生成液を回収する
工程、 (d)  (C)工程で得られた活性珪酸の水溶液に、
アルカリ金属水酸化物の水溶液を加えることにより得ら
れるSiO2/M2O (但し、Mはアルカリ金属原子
を表わす、)モル比1〜4.5及びSiO□濃度2〜6
重量%を有するアルカリ金属珪酸塩水溶液、この水溶液
を濃縮又は希釈することにより得られるSiO2濃度0
.1〜8重量%のアルカリ金属珪酸塩水溶液、或いは濃
度0.1〜5重量%のアルカリ金属水酸化物の水溶液に
、上記(c)工程で得られた活性珪酸の水溶液を、得ら
れる混合液の温度を60〜150℃に保って充分な撹拌
下に、この混合液中のSiO2/M2O(但し、Mは上
記に同じ。)モル比が30〜300となるまで1〜20
時間の間に供給する工程、 :e)  (d)工程の終了に引続き、(d)工程で得
られた液を撹拌下60〜150″Cに0.1〜10時間
保つことにより10〜30ミリミクロンのコロイダルシ
リカの安定な水性ゾルを生成させる工程、 (f)  (e)工程で得られた安定な水性ゾルから、
このゾルの水を微細多孔性膜を介して除くことにより、
SiO□濃度30〜50重量%の安定な水性シリカゾル
を生成させる工程、 (g)  (f)工程で得られた安定な水性シリカゾル
を水素型強酸性陽イオン交換樹脂と接触させた後、この
接触により生成した水性シリカゾルを水酸基型強塩基性
陰イオン交換樹脂と接触させることによりシリカ以外の
多価金属酸化物を実質的に含まない酸性の水性シリカゾ
ルを生成させる工程、 (h) (g)工程で生成した酸性の水性ゾルに、その
ゾルのpt+が8〜10.5となるようにアンモニアを
加えることにより、30〜50重量%のSiO□濃度を
有し、シリカ以外の多価金属酸化物を実質的に含まず、
そしてコロイダルシリカの粒子径が10〜30ミリミク
ロンである安定な水性シリカゾルを生成させる工程。
本発明の製造方法の(a)工程に用いられるアルカリ金
属珪酸塩としては、市販工業製品として入手されるもの
でよいが、それに含まれるアルカリ金属と珪素とがSi
O□/Mho(但し、Mはアルカリ金属原子を表わす。
)モル比として0.5〜4.5程度である水溶性のもの
が適当である。特に、安価な工業製品としてシリカゾル
を大規模に生産するには、安価な工業製品であるSiO
□/Na2Oモル比が2〜4程度のナトリウム水ガラス
を用いるのが好ましい。
けれども、この市販工業製品の水ガラス中には、通常、
シリカ以外の多価金属酸化物がその水ガラス中のSiO
□分に対し500〜110000pp程度不純物として
含有されている。その含有率が比較的に高い多価金属の
主なものはアルミニウム、鉄、カルシウム、マグネシウ
ム等である。
(a)工程では、このようなシリカ以外の多価金属酸化
物を不純物として含有するアルカリ金属珪酸塩を、この
珪酸塩に由来するSiO□分として2〜6重量%の濃度
に水に溶解させることによって得られたアルカリ金属珪
酸塩水溶液が用いられる。この水としては工業用水を陽
イオン除去処理したものでよい。
本発明の(a)工程に用いられる水素型強酸性陽イオン
交換樹脂は、従来から水ガラス水溶液のアルカリ金属イ
オン除去用に用いられているものでよく、市販の工業製
品として容易に入手される。その例としては、商品名ア
ンバーライ) IB −120Bが挙げられる。
本発明の(a)工程では、上記アルカリ金属珪酸塩水溶
液を上記水素型強酸性陽イオン交換樹脂に接触させるこ
とが行われる。この接触は、このイオン交換樹脂充填の
カラム中を通液させることにより好ましく行うことがで
き、カラム通過液は、SiO2濃度2〜6重量%及びp
H2〜4の活性珪酸の水溶液として回収される。用いら
れる水素型陽イオン交換樹脂の量としては、アルカリ金
属珪酸塩水溶液中のアルカリ金属イオンの全量を水素イ
オンで交換するに充分な量でよい。カラムを通過させる
速度は1時間当たりの空間速度1〜10程度が好ましい
(d)工程に用いられる強酸の例としては、塩酸、硝酸
、硫酸等の無機酸が挙げられるが、アルミニウム分と鉄
分の除去率を高めるには硝酸が最も好ましい。この強酸
は、(a)工程で回収された活性珪酸の水溶液が変質を
起さない前、好ましくは上記回収直後の活性珪酸の水溶
液に添加される。加えられる強酸の量としては、液のp
Hが0〜2の範囲、好ましくは0.5〜1,8となる量
がよい。(b)工程では、この添加後、液は0〜100
℃に0.5〜120時間保持される。
(C)工程に用いられる水素型強酸性陽イオン交換樹脂
は、(a)工程に用いられたものと同じでよい。
(C)工程に用いられる水酸基型強塩基性陰イオン交換
樹脂も、従来からシリカゾル中の陰イオンを除くのに用
いられていたものでよ(、市販品として容易に入手でき
る。その例としては、商品名アンバーライトIRA−4
10が挙げられる。
(C)工程では、ら)工程で得られた水溶液を先ず、上
記水素型強酸性陽イオン交換樹脂と接触させる。
この接触は、0〜60℃好ましくは5〜50℃で上記水
素型強酸性陽イオン交換樹脂充填のカラム中を1時間当
たりの空間速度2〜20で通液させることにより好まし
く行うことができる。次いで、この通液によって得られ
た水溶液は、好ましくは、得られた直後に、上記水酸基
型強塩基性陰イオン交換樹脂と、0〜60℃好ましくは
5〜50℃で接触させる。この接触も、上記水酸基型強
塩基性陰イオン交換樹脂充填のカラム中を1時間当たり
の空間速度1〜10で通液させることにより好ましく行
うことができる。この通液によって得られた水溶液は、
更に好ましくは、得られた直後に、上記水素型強酸性陽
イオン交換樹脂と、0〜60℃好ましくは5〜50℃で
接触させるのがよい。この接触もやはり、上記水素型強
酸性陽イオン交換樹脂充填のカラム中を1時間当たりの
空間速度1〜20で通液させることにより好ましく行う
ことができる。この通液後の水溶 液は回収され、次の
(d)工程に供されるが、製造後 6時間以内に使用す
るのが好ましい。
(d)工程に用いられる水酸化ナトリウム又は水酸化カ
リウムの水溶液は、好ましくは純度95%以上の市販工
業製品の水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを陽イオ
ンを除去した工業用水に、好ましくは2〜20重量%重
量色濃るように溶かすことにより得られる。
(d)工程に用いられる装置は、通常の、耐酸性、耐ア
ルカリ性及び耐圧性の容器に撹拌機、温度制御装置、液
供給装置等が具備されたものでよい(d)工程では、被
供給液中に供給液が1〜20時間の間に撹拌下に供給さ
れ、この時間の間上記供給によって得られる混合液は、
好ましくはその液からの水の1発による濃縮を避けなが
ら、60〜150℃の温度に保たれる。この被供給液と
しては、(c)工程で得られた活性珪酸の水溶液に上記
アルカリ金属水酸化物の水溶液を加えることによって得
られるSing濃度2〜6重量%とSiO2/M2O(
但し、Hは上記に同し。)モル比が1〜4.5に調整さ
れたアルカリ金属珪酸塩の水溶液、或いはこの水溶液を
濃縮又は希釈することにより得られるSiO□濃度0.
1〜8重量%のアルカリ金属珪酸塩の水溶液、或いは更
に上記アルカリ金属水酸化物の0.1〜5重量%水溶液
等が用いられる。そして供給液としては、(c)工程で
得られた活性珪酸の水溶液が用いられる。そして(d)
工程では、上記被供給液中に上記供給液が加えられるこ
とによって得られる混合液中のSiO2/M2O(但し
、台は上記に同じ。)モル比が30〜300となるまで
、上記被供給液中に上記供給液の供給が続けられる。
(e)工程は、(d)工程の終了に引続き、好ましくは
(d)工程の終了直後から開始される。この(e)工程
では、(d)工程によって得られた液が、撹拌下60〜
150℃で好ましくは0.1〜10時間程度加熱され、
コロイダルシリカの安定な水性ゾルが生成する。
(f)工程に用いられる微細多孔性膜は、通常コロイド
粒子の分散液の濃縮に用いられる市販の工業製品でよく
、10ミリミクロン以下の孔径を有する限外濾過膜が好
ましい。(f)工程での濃縮は、限外濾過膜の安定性を
損なわない限り高い温度で行うのが好ましく、通常水性
シリカゾルの温度を常温〜80℃に保って行うのがよい
(g)工程に用いられる水素型強酸性陽イオン交換樹脂
は、(a)工程及び(C)工程に用いられるものと同じ
でよい。また、水酸基型強塩基性陰イオン交換樹脂も、
(C)工程に用いられる通常のものでよい。(g)工程
における安定な水性ゾルとイオン交換樹脂との接触は、
(C)工程における接触と同様にして行うことができる
。この陰イオン交換樹脂との接触により生成した液を更
に上記陽イオン交換樹脂と接触させると更に好ましい。
(h)工程に用いられるアンモニアは、市販工業製品で
よいが、高純度のものが好ましく、そして5〜28重量
%程度のアンモニア水として用いるのが好ましい。この
アンモニアの代りに、第4級アンモニウム水酸化物、グ
アニジン水酸化物、水溶性アミン等も用いることができ
るが、アンモニアを使うことが特別に不所望である場合
を除き、一般にアンモニアの方が好都合である。
(h)工程では、(g)工程で得られた水性ゾルに、好
ましくはその得られた直後に、上記アンモニアが添加さ
れる。この添加は、常温〜100℃で行うことができる
が、常温で行うのが好ましい。
アンモニアの添加量は、シリカゾルのpHが8〜10゜
5となる量がよい。場合によっては、更に金属成分を含
まない酸、アンモニウム塩等をゾル中1000 ppm
以下の量加えてもよい。
シリカゾルのコロイド粒子の大きさは、BET法と呼ば
れる窒素ガス吸着法により測定される比表積(m”/ 
g )から常法により平均粒子径として算出される。ま
た、このコロイド粒子の大きさは、電子顕微鏡により観
測することができ、(h)工程によって得られたシリカ
ゾルは、平均粒子径10ミリミクロンのものでは通常、
最小の粒子径7ミリミクロン程度から、最大13ミリミ
クロン程度に揃った粒子径を有し、また、平均粒子径3
0ミリミクロンのものでは、最小24ミリミクロン程度
から最大36ミリミクロン程度に揃った粒子径を有して
いる。
(作 用) アルカリ金属珪酸塩の水溶液を水素型強酸性陽イオン交
換樹脂と接触させると、アルカリ金属イオンが除かれた
活性珪酸の水溶液が生成するが、この水溶液中の活性珪
酸は、珪酸又はその低重合体からなる3ミリミクロン以
下の微粒子の形態にあって、この水溶液は、アルミニウ
ムの如き多価金属が存在しても常温下で約100時間以
内にはゲル状に変る程に不安定である。そして、この不
安定性は液中SiO□濃度が高い程、また、液温か高い
程大であるから、シリカゾルを大規模に工業生産する場
合には特に、(a)工程では6重量%程度を越える5i
Oz濃度は避けてその濃度よりも低い濃度の活性珪酸の
水溶液を常温で生成させるのがよい。
特に、原料中に存在するアルカリ金属、多価金属等が珪
酸の重合体粒子の内部に取り込まれると、これら金属は
除去し難いから、珪酸の重合が進みにくい低濃度の水溶
液が好ましく、更に、常温下でも避けられない徐々なる
珪酸の重合による粒子化を回避するには、生成した活性
珪酸の水溶液全量を、この生成後生しでも早い時期に使
用するのが好ましい。この活性珪酸の水溶液のSiO□
濃度が約2重量%より低いと、後で生成するシリカゾル
の濃縮において除去すべき水量が多くなるために効率的
でない。(a)工程では、生成した活性珪酸の水溶液の
Sing濃度が2〜6重量%となるように、そしてその
生成後直ちに(b)工程に回付できるように、陽イオン
交換樹脂との接触前のアルカリ金属珪酸塩の水溶液は、
SiO2として2〜6重量%の濃度に調整される。
〔以下余白〕
(a)工程において好ましく用いられる陽イオン交換樹
脂充填カラム中への通液は、なるべく多くの金属イオン
を除(ために、1時間当たりの空間速度1〜10程度の
通液速度を与えるのが好ましい。そして生成した活性珪
酸の水溶液中で珪酸の重合や、増粘又はゲル化等が起り
にくいように、液温も0〜60℃程度が採用される。(
a)工程から(C)工程までは、活性珪酸の水溶液を安
定化させるための特別の方法は付加されないから、液の
Sing濃度及び温度は上記濃度及び温度が採用される
(b)工程において加えられる強酸は、活性珪酸又はそ
の重合体内部に結合している解雇イオンの状態にないア
ルカリ金属、多価金属等の不純物金属成分を液中解離イ
オンの状態に変換させる。粒子径の小さい活性珪酸の粒
子径、この強酸による金属成分の溶出は容易であるから
、(a)工程によって得られた活性珪酸の水溶液にこの
強酸を添加することも、できるだけ短時間に終了させる
のが好ましい。
けれども、この加えらえる強酸の量を、活性珪酸の水溶
液のpi+が0以下となる程に増大させると、金属成分
の溶出効果を高めることはできても、(C)工程での陰
イオンの除去が困難となり易く、また、液のpnが2以
上となる添加量では、金属成分の溶出効果に乏しい。強
酸の中でも硝酸はアルミニウム分、鉄分等の金属成分の
溶出に特に高い効果を示す。また、この強酸による多価
金属成分の溶出効果は、液の温度及び溶出時間にも依存
し、温度0〜40℃では10〜120時間、40〜60
℃では2〜10時間、60〜100℃では0.5〜3時
間程度が好ましく、この溶出時間を越える長時間の放置
は、場合によっては液の増粘、或いはゲル化が起ること
があるから避けるのがよい。
(C)工程では、(d)工程において液中に溶出された
金属イオンと加えられた酸による陰イオンが、陽イオン
交換樹脂及び陰イオン交換樹脂によって除かれる。1回
目の陽イオン交換樹脂処理後の生成液中には、加えられ
た酸の陰イオンが存在するために、溶出金属のイオンが
液中に残り易い。場合によっては、陰イオン交換樹脂処
理後の残存金属イオンの量は、液が5〜7のpHを示す
程の量となることもあり、このような場合では、液は約
1時間以内にゲル化を起すことがある。陰イオン交換樹
脂による陰イオンが除かれた後の2度目に行われる陽イ
オン交換樹脂による処理を行うと、このような不所望の
溶出金属イオンを更に除くことができるので好ましい。
この(C)工程によって得られた活性珪酸の水溶液は、
6時間以内にゲル化が起ることもある程に不安定である
から、その生成後なるべく早く、好ましくは直後に(d
)工程に回付される。(d)工程において加えられる好
ましいナトリウム又はカリウムの水酸化物は、(d)工
程においてコロイダルシリカ粒子を10〜30ミリミク
ロンの大きさに成長させる際、これら水酸化物に替えて
他の塩基、例えば、アンモニア、アミン等を上記水酸化
ナトリウム又は水酸化カリウムと同モル比に使用した場
合に比べ、約2倍以上の速さのコロイダルシリカ粒子成
長速度を与える。
(d)工程において、加熱下に被供給液に供給液を加え
る事により、径が揃ったほぼ球形の10〜30ミリミク
ロンの大きさのコロイダルシリカ粒子が生成する。けれ
ども、(d)工程での温度が60″C以下では、シリカ
粒子の成長は遅く、この温度は、60℃以上高い程好ま
しいが、150℃以上にも高いと粒子が30ミリミクロ
ンより大きくなり易く、また、液の蒸気圧が5.85気
圧以上となり、工業生産には有利でない。供給液を供給
する時間も短い程生産効率は高いが、この時間が1時間
より短いとコロイダルシリカ粒子の充分な成長を達成さ
せることができず、また、生成コロイダルシリカ粒子の
大きさが不揃いとなり、粒子径分布が拡大する。この供
給時間が20時間以上では工業生産としては効率的でな
い。この(d)工程で生成する液中には、通常未反応の
活性珪酸及び未成長のシリカ粒子が混在するので、(e
)工程では水の蒸発による液の濃縮が起こらないように
して行うのが好ましい。
(d)工程において混合液中のSiO2/M2Oモル比
が30以下又は300以上になると、得られたゾルの安
定性が乏しくなったり、コロイダルシリカ粒子を10〜
30ミリミクロンの大きさにまで成長させ難く、このモ
ル比としては50〜200が特に好ましい。
(e)工程における加熱は、(d)工程において生成し
た液中の未反応の活性珪酸及び未成長のシリカ粒子を消
失させて、10〜30ミリミクロンの径の揃ったコロイ
ダルシリカの安定な水性ゾルを生成させる。けれども、
150℃以上はでの加熱は工業生産のプロセスとしては
有利でなく、また60℃以下では加熱に長時間を要す。
60〜150℃程度で0.1時間以上がよいが、10時
間以上にも長いと効率的でなく、10時間以下の加熱が
好ましい。
(f)工程では、(e)工程で得られた5iOz濃度2
〜8重量%の水性ゾルの濃縮が行われるが、(e)工程
によって安定化されたゾルは、5iOz?l1度50重
量%程度にまで安定に濃縮することができる。
この濃縮の際、微細多孔性膜を通過する水と一緒にゾル
に含まれていた陽イオンの一部がゾルから除かれるが、
(e)工程で調整されたSiO2/M20モル比30〜
300となる量のアルカリは、これを充分に補う量であ
るからゾルを不安定ならしめることはない。
(f)工程で生成したゾル中には、(e)工程で加えら
れたアルカリ金属イオン及び微量の陰イオンが含まれて
いるので、(g)工程での陽イオン交換樹脂及び陰イオ
ン交換樹脂の処理によって、ゾルからその中の陽イオン
及び陰イオンが除かれる。
特にアルカリ金属イオンを更に除くためには、2度目の
陽イオン交換樹脂処理を行うのがよい。(g)工程で陽
イオンが除かれたゾルは、活性珪酸の水溶液の如き不安
定性は示さないが、尚充分な安定性を有していないから
、イオン交換樹脂による処理もなるべく高温で行わない
方がよく、(g)工程終了後、なるべく早く、好ましく
は直ちに、(h)工程に回付され安定化される。この安
定化のためにゾルに8〜10.5のpFlを与えるのに
用いられるアンモニアは、高純度でかつ安価にアンモニ
ア水として入手されるのみならず、使用後のシリカゾル
から容易に揮散させることができ、シリカゾルを種々の
用途に用いるのに好都合である。
(実施例) (a)工程 原料の水溶性アルカリ金属珪酸塩として、JISS号の
ナトリウム水ガラスを用意した。この水ガラスの水辺外
の主な成分は、Si0□28.8重量%、Na209.
47重量%、Alto、 280ppm 、 FezO
,。
45ppn+ 、 Ca046ppm 、 MgO25
ppmであった。
上記水ガラス876gを純水6124gに溶かして、5
in2濃度3.6重量%の珪酸ナトリウム水溶液700
0gを調製した。
次いで、25℃の上記珪酸ナトリウム水溶液を、水素型
陽イオン交換樹脂アンバーライl−IR−120B充填
のカラムに1時間当たりの空間速度3で通液した後、得
られた5i02濃度3.54重量%、pH2,78、電
気伝導度667.5μS/cmを有する25℃の活性珪
酸の水溶液5950gを容器に回収した。
(b)工程 用いられる強酸として、市販品の特級試薬の硝酸(比重
1.38、HN3361.3重量%)を用意した。
(a)工程で得られた直後の活性珪酸の水溶液5950
gに上記硝酸20.2 gを加え、pH1,54とし2
0℃に48時間保持してΦ)工程を終了した。
実施例1 上記師)工程終了後、下記(C)工程〜(h)工程を順
次径て本発明による安定な水性シリカゾルを製造した。
水素型強酸性樹脂陽イオン交換樹脂としては、アンバー
ライトIR−120Bをその陽イオン交換容量の3倍に
相当する水素イオン含量の硫酸水溶液で処理したものが
用いられた。また、水酸基型強塩基性陰イオン交換樹脂
としては、アンバーライトIRA−410をその陰イオ
ン交換容量の3倍に相当する水酸基含量の水酸化ナトリ
ウム水溶液で処理したものが用いられた。
(C)工程 上記(d)工程で得られた直後の活性珪酸の水溶液59
70gを、上記強酸性アンバーライトlR120B充填
の約25℃のカラムに、1時間当たりの空間速度5で通
液した後、得られた液全量をそのまま引き続き上記強塩
基性アンバーライトIRA−410を充填した約25℃
のカラムに1時間当たりの空間速度3で通液した。引き
続き、得られた液全量を、別の上記強酸性アンバーライ
トIR−120Bを充填した約25℃のカラムに、1時
間当たりの空間速度5で通液した後、得られた液全量5
030gを容器に回収した。この容器に回収された液は
、Sing濃度3.52重量%、pH4゜38、電気伝
導度27.20 us/cmlを有し、0.25pp蒙
のAf!z(h 、0.19ppmのFe2O,,0,
08ppmのCaO,0,02pp+llのMgOを含
有していた。
(d)工程 内容積51のガラス製反応容器に、撹拌機、加熱装置等
が具備された反応装置が用いられた。
同工程に用いられた10重置%の水酸化カリウム水溶液
43gと純水500gとを上記反応容器に投入して、R
20として0.67重量%の水酸化カリウム水溶液とし
、加熱によって容器内の液温を85℃に調節した後、上
記(c)工程で得られた直後の活性珪酸の水溶液392
0gを供給液とじて6.0時間を要して上記容器内に連
続的に供給し、容器内液温をこの間85℃に保った。但
し、(c)工程で造った活性珪酸の水溶液は不安定であ
るために、(d)工程での供給に合わせて(c)工程の
処理を3回行い、1回分の活性珪酸の水溶液は2時間以
内に使用した。
(e)工程 引続きこの反応混合液を常圧の水の沸騰還流状態に保ち
ながら2時間加熱を続け、4463gのゾルを得た。こ
こに得られたゾルは、5iOz3.09重量%、pH1
0,26、電気伝導度695μS/Cl1l、K2O0
,081重量%、Stow/KxOモル比60を有し、
そのコロイダルシリカ粒子径をBET法比法面表面積換
算して求めたところ、13.0ミリミクロンであり、電
子顕微鏡写真にみられる粒子はほぼ球状であって、粒子
径も揃っていた。
(f)工程 次いで、このシリカゾルを、ポリサルホン製の管状限外
濾過膜が装着された市販の限外濾過装置を用いて、室温
でSing濃度約35重量%となるまで濃縮した。この
濃縮中、液は安定であり、濃縮は極めて円滑であった。
396gのゾルかえられた。
このシリカゾルは、比重1.241、pH9,95,2
0℃粘度24.5cp、ii気伝導度3620 as/
cIllを示し、34.8重量%のSiO□、0.89
重量%の滴定法KzO,5iOr/KgOモル比92.
2.5ppmのA1.0、.2.0ppmのFezOa
 、o、 8 ppmのCaO,0,2ppmのMgO
を含有し、60℃で1ケ月以上変質しない安定性を有し
ていた。
(g)工程 (f)工程で得られたシリカゾルを、水素型陽イオン交
換樹脂アンバーライトIR−120Bを充填した約25
℃のカラムに、1時間当たりの空間速度3の通液速度で
通過させ、次いで、この通過により得られたシリカゾル
を引き続き、水酸基型陰イオン交換樹脂アンバーライ)
IRA−410を充填した約25℃のカラムに、1時間
当たりの空間速度3の速さで通過させ、最後に、この通
過により得られたシリカゾルを引き続き、水素型陽イオ
ン交換樹脂アンバーライトJR−120Bを充填した約
25℃のカラムに、1時間当たりの空間速度3の速さで
通過させることにより、酸性の水性シリカゾル425g
を得た。
このゾルは、比重1.214、pH4,68,20℃粘
度3.2cp、電気伝導度74 gS/cv、  Si
n□濃度32.5重量%、Kat0440ppm 、 
5i02/Ka20モル比1158を有していた。
(h)工程 市販の特級試薬の28%アンモニア水2.3gと純水1
6.7 gを、上記(g)工程で得られた直後の25℃
のシリカゾル300gに撹拌下加えることにより、31
9gのシリカゾルを得た。
この得られたゾルは、比重1.205、pH9,40,
20℃粘度24.8cp、電気伝導度2760 uS/
crn60″Cで1ケ月以上変質しない安定性を有し、
5iOz 30.6重量%、SiO□/(N)14)2
0モル比87、八1203 2.2ppm  、Fez
O31,7ppm  、Kaz04 1 0ppm 、
 C11,0ppm 、 SO4]、 Oppmを含有
していた。
実施例2 この実施例では、実施例1の(a)〜(C)工程と同様
につくられた活性珪酸の水溶液から、下記(d)〜(h
)工程を経てシリカゾルが製造された。用いられたアン
モニア水、イオン交換樹脂、反応装置等は実施例1に用
いられたものと同じものが用いられた。
(d)工程 (C)工程で得られた直後の活性珪酸の水溶液110g
に純水184gと10重量%の高純度水酸化ナトリウム
水溶液16gを加えることにより310gの珪酸ナトリ
ウムの水溶液を調製した。
この水溶液は、5iOz濃度1.25重量%、NazO
Q。
4重量%、SiO□/Na2Oモル比3.21を有して
いた。
次いで、この珪酸ナトリウムの水溶液全量を反応容器に
投入し、攪拌上加熱により常圧の水の沸騰還流温度に昇
温させた後、(d)工程で得られた直後の安定化された
活性珪酸の水溶液4390gをこの反応容器中に常圧の
水の沸騰還流下に8時間を要して連続的に供給した。但
し、(d)工程での供給に合わせて(c)工程による活
性珪酸の水溶液の製造を4回行い、各回で得られた活性
珪酸の水溶液は、2時間以内に使用した。
(e)工程 (d)工程の終了に引続き、(d)工程で得られた液を
常圧の水の沸騰還流下に2時間保つことにより(e)工
程を終了させた。この得られた水性シリカツルはSin
□濃度3.36重量%、Nazoo、 026重量%、
5iOz/NazOモル比132を有し、pH10,0
2、電気伝導度572 uS/crn、 B ET法平
均粒子径21゜0ミリミクロン、60℃で1ケ月以上変
質しないという安定性を有していた。また、電子顕微鏡
写真によると、このコロイダルシリカの粒子はほぼ球状
であって、粒子径が揃っていた。
げ)工程 次いで、(e)工程で得られたゾルを、実施例1の(f
)工程と同様にして限外濾過装置で濃縮したところ、S
iO□濃度約45重量%の安定なシリカゾル353gが
得られた。
このゾルは、比重1.341、PH9,67,20”C
粘度28cp、電気伝導度1950 uS/cmを示し
、44.7重量%の5iOz、0.24重量%の滴定法
Na 、0.5iOz/NazOモル比192.3.2
 ppmのAl2O,,2゜4 pprrlのFe2O
:+ 、1. Opp”のCaO,0,3ppmのMg
Oを含有し、60℃で一ケ月以上変質しない安定性を有
していた。
(g)工程 (f)工程で得られたシリカゾルを、陽イオン交換樹脂
を充填した約25℃のカラムに、1時間当たりの空間速
度3の速さで通過させ、次いでこの通過により得られた
シリカゾルを引き続き、陰イオン交換樹脂を充填した約
25℃のカラムに、1時間当たりの空間速度3の速さで
通過させ、最後に、この通過により得られたシリカゾル
を引き続き、陽イオン交換樹脂を充填した約25℃のカ
ラムに、1時間当たりの空間速度3の速度で通過させる
ことにより、酸性の水性シリカゾル375gを得た。
この得られたゾルは、比重1.312、pl+4.72
.20℃粘度5.4cp、電気伝導度108 tts/
cml、5t(h濃度42.1重量%、Naz0800
ppm 、 5iOz/NagOモル比561を有して
いた。
(h)工程 (g)工程で得られた直後の水性シリカゾル330gに
撹拌下、28重量%アンモニア水3.0gと純水8.1
4 gと10重量%硝酸水溶液0.86 gとを液温2
5℃で加えることにより342gのシリカゾルを得た。
このゾルは、比重1.296、pH9,5,20℃粘度
24.7 cp、電気伝導度3740 μs/cn+、
60℃で1ケ月以上変質しない安定性を有し、5iOz
1度40.6重量%、5iOz/ (NHa)zOモル
比92、Alz(h 2.9ppm 、 FezO32
,2ppm 、 Naz0770ppm 。
Cf 1.0ppn+ 、 SO41,0ppm 、 
NO+ 250ppmを含有していた。
比較例1 この例では、実施例1における(a)〜(c)工程と同
様にして(c)工程まで進められたが、下記の様に(d
)及び(e)工程が変更された。
(d)工程 反応容器に純水500gと10重量%の水酸化カリウム
水溶液43gを投入することにより、K2Oとして0.
67重量%の水酸化カリウム水溶液524gを調製した
。次いで、この液を攪拌上加熱することにより55℃に
昇温し、この温度を保ちながら(c)工程により得られ
た活性珪酸の水溶液3920gを6時間を要して連続的
に加えた。但し、活性珪酸の水溶液の製造は、実施例1
と同様にして(d)工程の時間に合わせて行った。
(e)工程 (d)工程の終了に引続き、容器内液温を55℃に保っ
て撹拌下2時間加熱を続けることにより(e)工程を終
了した。
得られたゾルは、pH9,87、電気伝導度663g5
/cm、 5i(h3.09重量%、K2O0,081
重量%を含有し、SiO□/に20モル比は60であっ
た。また、電子顕微鏡写真によるとコロイダルシリカ粒
子はほぼ球状であって、粒子径も揃っていたが、BET
法による比表面積から算出された平均粒子径は6.8ミ
リミクロンであった。
(f)工程 (e)工程で得られたゾルを実施例1の(f)工程と同
様にして濃縮を開始したが、ゾルの5in2濃度が約2
7重量%に至った頃、限外濾過膜上にシカゲルが生成し
、濾過速度が著しく低下して濃縮を続行させることがで
きなかった。限外濾過装置からこの27重量%のゾルを
取り出し容器中に回収したが、室温24時間の放置後に
このゾルは全量ゲルに変じた。
(発明の効果) 本発明の方法によると、30〜50重量%の5iOz濃
度を有し、かつ、コロイダルシリカの平均粒子径が10
〜30ミリミクロンである安定な水性シリカゾルを、不
純物として多価金属を含有する通常の工業製品の水ガラ
ス原料から、アルカリ金属酸化物はシリカに対し200
0ppm以下、多価金属酸化物はシリカに対し300p
pm以下という、高純度の工業製品として効率よく生産
することができる。
この本発明の方法により製造された水性シリカゾルは、
粒子径が小さく高い結合強度を示し、そしてそのコロイ
ダルシリカ粒子の大きさが揃っているから、このゾルの
硬化体には均一な微細孔が多数生じ、担体として極めて
優れた性質を有する。このゾルは、−iに、従来から用
いられているシリカゾルの用途に広く用いられるが、特
に、半導体表面の研磨剤、触媒用結合剤、その他高純度
が望まれる結合剤としての用途等に好適に用いられる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下記(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)
    、(g)及び(h)の工程からなる、30〜50重量%
    のSiO_2濃度を有し、シリカ以外の多価金属酸化物
    を実質的に含まない、かつ、コロイダルシリカの粒子径
    が10〜30ミリミクロンである安定な水性シリカゾル
    の製造方法。 (a)シリカ以外の多価金属酸化物をシリカに対し50
    0〜10000ppmの比率に含有する水溶性のアルカ
    リ金属珪酸塩がこの珪酸塩に由来するSiO_2分とし
    て2〜6重量%の濃度に溶解しているアルカリ金属珪酸
    塩の水溶液を、水素型強酸性陽イオン交換樹脂と接触さ
    せることによりSiO_2濃度2〜6重量%及びpH2
    〜4の活性珪酸の水溶液を生成させ、この生成液を回収
    する工程、 (b)(a)工程で回収された活性珪酸の水溶液に強酸
    を加えることにより該水溶液をpH0〜2.0に調整し
    た後、0〜100℃に0.5〜120時間保持する工程
    、 (c)(b)工程で得られた水溶液を水素型強酸性陽イ
    オン交換樹脂と接触させた後、この接触によって生成し
    た液を水酸基型強塩基性陰イオン交換樹脂と接触させる
    ことにより、実質的に活性珪酸以外の溶解物質を含まず
    、かつ、SiO_2濃度が2〜6重量%及びpH2〜5
    である活性珪酸の水溶液を生成させ、この生成液を回収
    する工程、 (d)(c)工程で得られた活性珪酸の水溶液にアルカ
    リ金属水酸化物水溶液を加えることにより得られるSi
    O_2/M_2O(但し、Mはアルカリ金属原子を表す
    。)モル比が1〜4.5であり、かつ、SiO_2濃度
    が2〜6重量%であるアルカリ金属珪酸塩水溶液、この
    水溶液を濃縮又は希釈することにより得られるSiO_
    2濃度0.1〜8重量%のアルカリ金属珪酸塩水溶液、
    或いは濃度0.1〜5重量%のアルカリ金属水酸化物水
    溶液に、上記(c)工程で得られた活性珪酸の水溶液を
    、得られる混合液の温度を60〜150℃に保って充分
    な撹拌下に、この混合液中のSiO_2/M_2O(M
    は上記に同じ。)モル比が30〜300となるまで1〜
    20時間の間に供給する工程、 (e)(d)工程の終了に引続き、(d)工程で得られ
    た液を撹拌下60〜150℃に0.1〜10時間保つこ
    とにより10〜30ミリミクロンのコロイダルシリカの
    安定な水性ゾルを生成させる工程、 (f)(e)工程で得られた水性ゾルから、このゾルの
    水を微細多孔性膜を介して除くことにより、SiO_2
    濃度30〜50重量%の安定な水性シリカゾルを生成さ
    せる工程、 (g)(f)工程で得られた安定な水性シリカゾルを水
    素型強酸性陽イオン交換樹脂と接触させた後、この接触
    により生成した水性シリカゾルを水酸基型強塩基性陰イ
    オン交換樹脂と接触させることによりシリカ以外の多価
    金属酸化物を実質的に含まない酸性の水性シリカゾルを
    生成させる工程、 (h)(g)工程で生成した酸性の水性ゾルに、そのゾ
    ルのpHが8〜10.5となるようにアンモニアを加え
    ることにより、30〜50重量%のSiO_2濃度を有
    し、シリカ以外の多価金属酸化物を実質的に含まず、そ
    してコロイダルシリカの粒子径が10〜30ミリミクロ
    ンである安定な水性シリカゾルを生成させる工程。
JP2099763A 1990-02-22 1990-04-16 高純度の水性シリカゾルの製造方法 Pending JPH042606A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/496,254 US5100581A (en) 1990-02-22 1990-03-20 Method of preparing high-purity aqueous silica sol
JP2099763A JPH042606A (ja) 1990-02-22 1990-04-16 高純度の水性シリカゾルの製造方法
EP91104528A EP0504467B1 (en) 1990-02-22 1991-03-22 Method of preparing high-purity aqueous silica sol
EP91117592A EP0537375B1 (en) 1990-02-22 1991-10-15 Method of preparing high-purity aqueous silica sol

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4200390 1990-02-22
JP2099763A JPH042606A (ja) 1990-02-22 1990-04-16 高純度の水性シリカゾルの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH042606A true JPH042606A (ja) 1992-01-07

Family

ID=40225387

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2099763A Pending JPH042606A (ja) 1990-02-22 1990-04-16 高純度の水性シリカゾルの製造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5100581A (ja)
EP (2) EP0504467B1 (ja)
JP (1) JPH042606A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0557740A2 (en) * 1992-02-27 1993-09-01 Nissan Chemical Industries Ltd. Method of preparing high-purity aqueous silica sol
JP2006045022A (ja) * 2004-08-06 2006-02-16 Nippon Chem Ind Co Ltd 高純度コロイダルシリカの製造方法

Families Citing this family (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5196177A (en) * 1990-01-17 1993-03-23 Nissan Chemical Industries, Ltd. Production of stable aqueous silica sol
SE501214C2 (sv) * 1992-08-31 1994-12-12 Eka Nobel Ab Silikasol samt förfarande för framställning av papper under användande av solen
US5424260A (en) * 1994-02-07 1995-06-13 Aluminum Waste Technology, Inc. Method of recycling aluminum dross
US5571494A (en) * 1995-01-20 1996-11-05 J. M. Huber Corporation Temperature-activated polysilicic acids
WO1997041954A1 (en) * 1996-05-06 1997-11-13 Institute Of Geological & Nuclear Sciences Limited Manufacture and recovery of monodisperse silica sols from a geothermal brine
IT1293068B1 (it) * 1997-07-01 1999-02-11 Kempro Italiana S R L Procedimento per ottenere una sospensione di silice colloidale ad elevata concentrazione e prodotto cosi' ottenuto
US7169261B2 (en) 1999-05-04 2007-01-30 Akzo Nobel N.V. Silica-based sols
JP3785322B2 (ja) * 1999-05-04 2006-06-14 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. シリカをベースとするゾル
US6334880B1 (en) * 1999-12-07 2002-01-01 Silbond Corporation Abrasive media and aqueous slurries for chemical mechanical polishing and planarization
US6541083B1 (en) 2000-01-11 2003-04-01 Guardian Industries Corp. Vacuum IG unit with alkali silicate edge seal and/or spacers
US6747065B1 (en) * 2000-09-01 2004-06-08 Chemical Products Corporation System and method for producing high purity colloidal silica and potassium hydroxide
DE10152993A1 (de) * 2001-10-26 2003-05-08 Bayer Ag Zusammensetzung für das chemisch-mechanische Polieren von Metall- und Metall/Dielektrikastrukturen mit hoher Selektivität
WO2003042322A1 (en) * 2001-11-09 2003-05-22 Silbond Corporation Abrasive media and aqueous slurries
US8409618B2 (en) 2002-12-20 2013-04-02 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Odor-reducing quinone compounds
US7666410B2 (en) * 2002-12-20 2010-02-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Delivery system for functional compounds
US7582308B2 (en) * 2002-12-23 2009-09-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Odor control composition
US7582485B2 (en) * 2003-10-16 2009-09-01 Kimberly-Clark Worldride, Inc. Method and device for detecting ammonia odors and helicobacter pylori urease infection
US7794737B2 (en) 2003-10-16 2010-09-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Odor absorbing extrudates
US7488520B2 (en) 2003-10-16 2009-02-10 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. High surface area material blends for odor reduction, articles utilizing such blends and methods of using same
US7438875B2 (en) * 2003-10-16 2008-10-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for reducing odor using metal-modified silica particles
US7413550B2 (en) 2003-10-16 2008-08-19 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Visual indicating device for bad breath
US7678367B2 (en) * 2003-10-16 2010-03-16 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for reducing odor using metal-modified particles
US7754197B2 (en) * 2003-10-16 2010-07-13 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for reducing odor using coordinated polydentate compounds
US7141518B2 (en) 2003-10-16 2006-11-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Durable charged particle coatings and materials
US7837663B2 (en) * 2003-10-16 2010-11-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Odor controlling article including a visual indicating device for monitoring odor absorption
US7879350B2 (en) * 2003-10-16 2011-02-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for reducing odor using colloidal nanoparticles
US7629392B2 (en) * 2004-04-07 2009-12-08 Akzo Nobel N.V. Silica-based sols and their production and use
US7732495B2 (en) * 2004-04-07 2010-06-08 Akzo Nobel N.V. Silica-based sols and their production and use
US20060223052A1 (en) * 2005-03-30 2006-10-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Technique for detecting microorganisms
US8052788B2 (en) * 2005-08-10 2011-11-08 Nalco Company Method of producing silica sols with controllable broad size distribution and minimum particle size
US7977103B2 (en) 2006-04-20 2011-07-12 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for detecting the onset of ovulation
US20090163887A1 (en) * 2007-12-20 2009-06-25 Arehart Kelly D Odor control cellulose granules with quinone compounds
RU2557238C2 (ru) * 2007-12-27 2015-07-20 У.Р. Грейс Энд Ко.-Конн. Способ получения коллоидных частиц оксидов металлов
EA201100571A1 (ru) * 2008-09-30 2011-10-31 Эвоник Дегусса Гмбх Получение кремния для солнечных батарей из диоксида кремния
AU2009299906A1 (en) 2008-09-30 2010-04-08 Evonik Degussa Gmbh Production of solar-grade silicon from silicon dioxide
TWI427034B (zh) 2010-12-22 2014-02-21 Ind Tech Res Inst 無機奈米片材之有機分散液及其製造方法
DE102011004534A1 (de) 2011-02-22 2012-08-23 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung wässriger kolloidaler Silikasole hoher Reinheit aus Alkalimetallsilikatlösungen
JP2014511330A (ja) * 2011-02-22 2014-05-15 エボニック デグサ ゲーエムベーハー アルカリ金属ケイ酸塩溶液からの高純度水性コロイダルシリカゾルの製造方法
DE102011017783A1 (de) 2011-04-29 2012-10-31 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung wässriger kolloidaler Silikasole hoher Reinheit aus Alkalimetallsilikatlösungen
KR20140009378A (ko) 2011-02-25 2014-01-22 에보니크 데구사 게엠베하 SiO2 성형물의 제조 방법
DE102011006406A1 (de) 2011-03-30 2012-10-04 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von SiO2-Formkörpern
DE102011004753A1 (de) 2011-02-25 2012-08-30 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zum Aufreinigen von Silicium
DE102011004748A1 (de) 2011-02-25 2012-08-30 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von SiO2-Formkörpern
JP5920603B2 (ja) * 2011-09-05 2016-05-18 日産化学工業株式会社 精製された珪酸アルカリ水溶液及びシリカゾルの製造方法
CN105800622B (zh) * 2011-09-16 2019-07-05 日产化学工业株式会社 被纯化了的活性硅酸液和硅溶胶的制造方法
DE102012202589A1 (de) 2012-02-21 2013-08-22 Evonik Degussa Gmbh Einsatz für einen Schmelztiegel
DE102012202586A1 (de) 2012-02-21 2013-08-22 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von Silizium über carbothermische Reduktion von Siliciumoxid mit Kohlenstoff in einem Schmelzofen
DE102012202587A1 (de) 2012-02-21 2013-08-22 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung von hochreinem SiO2
DE102012213021A1 (de) 2012-07-25 2014-01-30 Evonik Degussa Gmbh Formkörper umfassend Siliziumdioxid
CN103043671B (zh) * 2012-12-27 2014-12-03 上海新安纳电子科技有限公司 一种聚硅酸生产方法
US9737860B2 (en) 2014-02-28 2017-08-22 Pall Corporation Hollow fiber membrane having hexagonal voids
US9446355B2 (en) 2014-02-28 2016-09-20 Pall Corporation Porous polymeric membrane with high void volume
US9309126B2 (en) 2014-02-28 2016-04-12 Pall Corporation Rapidly dissolvable nanoparticles
US9610548B2 (en) 2014-02-28 2017-04-04 Pall Corporation Composite porous polymeric membrane with high void volume
US9764292B2 (en) 2014-02-28 2017-09-19 Pall Corporation Porous polymeric membrane with high void volume
US9561473B2 (en) 2014-02-28 2017-02-07 Pall Corporation Charged hollow fiber membrane having hexagonal voids
US9776142B2 (en) 2014-02-28 2017-10-03 Pall Corporation Porous polymeric membrane with high void volume
US9302228B2 (en) 2014-02-28 2016-04-05 Pall Corporation Charged porous polymeric membrane with high void volume
US10442899B2 (en) 2014-11-17 2019-10-15 Silbond Corporation Stable ethylsilicate polymers and method of making the same
CN113603098A (zh) * 2021-07-05 2021-11-05 航天特种材料及工艺技术研究所 一种低成本制备高纯硅酸的方法
CN113828266A (zh) * 2021-10-22 2021-12-24 安庆远航化工有限公司 一种硅溶胶加工用蒸汽冷凝装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA521741A (en) * 1956-02-14 E.I. Du Pont De Nemours And Company Process for the production of silica sols
US2574902A (en) * 1948-12-15 1951-11-13 Du Pont Chemical processes and composition
US2577484A (en) * 1950-09-08 1951-12-04 Du Pont Process for producing stable silica sols
US2750345A (en) * 1954-02-25 1956-06-12 Du Pont Process for producing sols of 5-8 millimicron silica particles, and product
US3012973A (en) * 1959-03-18 1961-12-12 Du Pont Concentrated silica aquasols of low viscosity and their preparation
IT649599A (ja) * 1960-04-13
US3440174A (en) * 1965-04-26 1969-04-22 Nalco Chemical Co Method of making silica sols containing large particle size silica
GB1148950A (en) * 1966-12-23 1969-04-16 Monsanto Chemicals Production of colloidal compositions
US3822216A (en) * 1972-09-29 1974-07-02 Nalco Chemical Co Acid or mineral anion stabilization of silica sols
US4054536A (en) * 1974-12-23 1977-10-18 Nalco Chemical Company Preparation of aqueous silica sols free of alkali metal oxides

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0557740A2 (en) * 1992-02-27 1993-09-01 Nissan Chemical Industries Ltd. Method of preparing high-purity aqueous silica sol
JP2006045022A (ja) * 2004-08-06 2006-02-16 Nippon Chem Ind Co Ltd 高純度コロイダルシリカの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0504467B1 (en) 1997-10-01
US5100581A (en) 1992-03-31
EP0537375B1 (en) 1995-01-04
EP0537375A1 (en) 1993-04-21
EP0504467A1 (en) 1992-09-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH042606A (ja) 高純度の水性シリカゾルの製造方法
US5407600A (en) Stable aqueous alumina sol and method for preparing the same
JP3367132B2 (ja) 高純度の水性シリカゾルの製造法
JPH07118008A (ja) 細長い形状のシリカゾルの製造法
JP5398963B2 (ja) 低ナトリウムで非球状のコロイダルシリカ
JPH06199515A (ja) 酸性シリカゾルの製造方法
JP4222582B2 (ja) 高純度シリカゾルの製造方法
JPH0454617B2 (ja)
US4054536A (en) Preparation of aqueous silica sols free of alkali metal oxides
JP2001294417A (ja) コロイダルシリカの製造方法
JP3225553B2 (ja) 高純度の水性シリカゾルの製造方法
JP2508713B2 (ja) 高純度大粒子径シリカゾルの製造法
JP5431120B2 (ja) コロイダルシリカの製造方法
JP3225549B2 (ja) 高純度の水性シリカゾルの製造法
JP3993993B2 (ja) シリカゾルおよびシリカ系複合酸化物ゾルの製造方法
JP3758391B2 (ja) 高純度シリカ水性ゾル及びその製造方法
JP3362793B2 (ja) シリカゾルの製造方法
JPH0455127B2 (ja)
JPH0127975B2 (ja)
JP2001002411A (ja) 水性シリカゾルの製造方法
JPH0455970B2 (ja)
JP5377135B2 (ja) コロイダルシリカの製造方法
JP2009184858A (ja) ヒドラジンが固定化されたシリカ粒子よりなるコロイダルシリカ
CN104860322A (zh) 一种低钠离子含量高纯硅溶胶的制备方法
JP2004189534A (ja) 低アルカリ金属含有水性シリカゾルの製造方法