JP5431120B2 - コロイダルシリカの製造方法 - Google Patents

コロイダルシリカの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5431120B2
JP5431120B2 JP2009254692A JP2009254692A JP5431120B2 JP 5431120 B2 JP5431120 B2 JP 5431120B2 JP 2009254692 A JP2009254692 A JP 2009254692A JP 2009254692 A JP2009254692 A JP 2009254692A JP 5431120 B2 JP5431120 B2 JP 5431120B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silica
aqueous solution
potassium
colloidal silica
silica particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009254692A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011098859A (ja
Inventor
昌宏 泉
勝 中條
雪美 齋藤
かおり 山岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Chemical Industrial Co Ltd
Original Assignee
Nippon Chemical Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Chemical Industrial Co Ltd filed Critical Nippon Chemical Industrial Co Ltd
Priority to JP2009254692A priority Critical patent/JP5431120B2/ja
Publication of JP2011098859A publication Critical patent/JP2011098859A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5431120B2 publication Critical patent/JP5431120B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Silicon Compounds (AREA)

Description

本発明は、印刷紙用のインク吸収性フィラー、塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、触媒用バインダー、電子材料用研磨材等に有用なコロイダルシリカおよびその製造方法に関する。
非球状のシリカ粒子からなるコロイダルシリカは、数多く提案されている。特許文献1には、電子顕微鏡観察による5〜40ミリミクロンの範囲内の一様な太さで一平面内のみの伸長を有する細長い形状の非晶質コロイダルシリカ粒子が液状媒体中に分散されてなる安定なシリカゾルが記載されている。特許文献2には、珪酸液添加工程の前、添加工程中または添加工程後に、アルミニウム塩などの金属化合物を添加する製法によって得られる細長い形状のシリカ粒子から成るシリカゾルが記載されている。特許文献3には、アルコキシシランの加水分解により得られる長径/短径比が1.4〜2.2の繭型のシリカ粒子から成るコロイダルシリカが記載されている。特許文献4には、水ガラス法の活性珪酸水溶液に代替して、アルコキシシランの加水分解液を使用し、アルカリには水酸化テトラアルキルアンモニウムを使用して、非球状のシリカ粒子を含有するコロイダルシリカが得られることが記載されている。
水ガラス法のコロイダルシリカの製造方法において、アルカリ剤に水酸化ナトリウム以外の、例えば水酸化カリウムや水酸化リチウムなどが使用できることは知られている(特許文献5)。
特開平1−317115号公報(特許請求の範囲) 特開平4−187512号公報 特開平11−60232号公報(特許請求の範囲) 特開2001−48520号公報(特許請求の範囲および実施例) 特開2003−109921号公報(特許請求の範囲および実施例)
特許文献1に記載のコロイダルシリカは、その製造過程において、水溶性のカルシウム塩、マグネシウム塩またはこれらの混合物を添加する工程があるので、製品にはそれらが不純物として残存している。特許文献2に記載のコロイダルシリカは、その製造過程において、水溶性のアルミニウム塩を添加する工程があるので、製品にはそれらが不純物として残存している。また、特許文献3および特許文献4に記載のコロイダルシリカは、アルコキシシランをシリカ源とするので、製品は高純度であるが、シリカの4倍のモル数の大量の副生アルコールの回収工程が必要となる上に、アルコキシシラン自体の価格が高いという問題がある。また、特許文献5は、シリカ粒子の形状についての考察はなされていない。
従って、本発明の目的は、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩等の珪素以外の多価金属化合物を用いることなく、非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカを製造する方法およびその製造方法により得られるコロイダルシリカを提供することである。
本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、上記の課題を解決することができた。
すなわち、本発明は、カリウムイオンを含有し透過型電子顕微鏡観察による長径/短径比が1.2〜10の範囲にり且つ長径/短径比の平均値が2〜5である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカの製造方法であって、
以下の工程
(a)珪酸アルカリ水溶液をカチオン交換樹脂に接触させて活性珪酸水溶液を調製する工程、
(b)この活性珪酸水溶液にカリウムイオンの供給源となる化合物を、シリカ/カリウムのモル比が30〜100になるように添加し、pH8以上のアルカリ性にした後、加熱してシリカ粒子を形成させる工程、及び
(c)続いて加熱下に、pH9〜11のアルカリ性を維持しながら、活性珪酸水溶液とアルカリ剤とカリウムイオンの供給源となる化合物とを添加するか、または活性珪酸水溶液とアルカリ剤を添加し、シリカ/カリウムのモル比が50〜200でシリカ粒子を成長させて、シリカ粒子の平均短径を5〜10nmとする工程
を有することを特徴とするコロイダルシリカの製造方法である。
上記コロイダルシリカの製造方法は、常法である水酸化アルカリ金属や珪酸アルカリをアルカリ剤に用いたコロイダルシリカの製造方法と概略同一である。すなわち、上記コロイダルシリカの製造方法は、珪酸ソーダより活性珪酸水溶液を製造する工程は常法と同一であるが、シリカ粒子の形成工程においてカリウムイオンの存在下でアルカリ剤を使用する点が異なる。アルカリ剤として水酸化カリウムを使用すれば、ほかのカリウムイオン源を加える必要はない。また、シリカ粒子の成長工程ではカリウムイオンは添加してもよいし、添加しなくてもよい。得られたコロイダルシリカを濃縮する工程は常法と同一である。
本発明によれば、印刷紙用のインク吸収性フィラーや塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、触媒用バインダー、電子材料用研磨材等に有用なコロイダルシリカを安価に提供することができる。
実施例1で得られた種ゾルのシリカ粒子のTEM写真である。 実施例2で得られたコロイダルシリカのシリカ粒子のTEM写真である。 実施例3で得られた種ゾルのシリカ粒子のTEM写真である。 実施例4で得られたコロイダルシリカのシリカ粒子のTEM写真である。 実施例5で得られた種ゾルのシリカ粒子のTEM写真である。 実施例6で得られたコロイダルシリカのシリカ粒子のTEM写真である。 比較例1で得られたコロイダルシリカのシリカ粒子のTEM写真である。 比較例2で得られたコロイダルシリカのシリカ粒子のTEM写真である。
以下、本発明をさらに説明する。
本発明のコロイダルシリカは、カリウムイオンの存在下で活性珪酸を原料として製造されるものであって、カリウムイオンを含有し且つ透過型電子顕微鏡観察による長径/短径比が1.2〜10の範囲にある非球状の異形シリカ粒子群を含有する。また、この非球状の異形シリカ粒子群は、透過型電子顕微鏡観察による長径/短径比の平均値が1.2〜5であることが好ましい。
本発明における長径/短径比は、得られたコロイダルシリカの透過型電子顕微鏡写真にスケールをあてて、ランダムに選択したシリカ粒子100個について、シリカ粒子の最も長い辺aと最も短い辺bとを測定し、この値(a1、a2、・・・、a100およびb1、b2、・・・、b100)を用いてそれぞれの粒子の長径/短径比(a1/b1、a2/b2、・・・、a100/b100)を算出し、最小値側の5点の値の算術平均値を上限とし、最大値側の5点の値の算術平均値を下限としたものである。また、本発明における長径/短径比の平均値とは、得られたコロイダルシリカの透過型電子顕微鏡写真にスケールをあてて、ランダムに選択した粒子100個について、シリカ粒子の最も長い辺aとシリカ粒子の最も短い辺bとを測定し、この値(a1、a2、a3からa100およびb1、b2、b3からb100)を用いてそれぞれの粒子の長径/短径比(a1/b1、a2/b2、a3/b3からa100/b100)を算出し、最大値側および最小値側の5点の値を除いた90点の算術平均値である。
製造時に使用するカリウムイオンの供給源となる化合物としては、その種類は特に限定されるものではないが、水酸化カリウム、ハロゲン化カリウム、硝酸カリウム、硫酸カリウムおよび塩化カリウムからなる水溶性カリウム化合物が好ましく、ハロゲン化カリウムとしてはフッ化カリウムが好ましく使用できる。なかでも水酸化カリウムまたはフッ化カリウムが特に好ましく使用できる。カリウムイオンの供給源となる化合物の種類はコロイダルシリカの用途に応じて任意選定できる。
シリカ粒子形成時に添加するカリウムイオンの量は、活性珪酸のシリカ量とカリウムイオンの存在量がシリカ/カリウムのモル比で30〜100の範囲であることが好ましい。この範囲よりカリウムイオンが多くても増量効果はなく、この範囲よりカリウムイオンが少ないと球状のシリカ粒子が生成しやすくなる。シリカ粒子成長時には、シリカ粒子形成時に添加したカリウムイオンが残存しているので、カリウムイオンを添加してよいし、添加しなくてもよい。カリウムイオンを添加する場合、カリウムイオンの量はシリカ粒子形成時よりも少なくすることができ、シリカ/カリウムイオンのモル比で50〜200であることが好ましい。シリカ粒子成長時のカリウムイオンの量が少なくなるとシリカ粒子の形状が球状に近くなる。また、カリウムイオンは限外濾過による濃縮工程で、水とともに排出されて減量する。従って、最終的に得られるコロイダルシリカのカリウムイオン量は、数十ppm〜数千ppmである。
なお、本発明におけるシリカ/カリウムイオンのモル比とは、活性珪酸水溶液のシリカ濃度より求めたSiO2のモル数と、活性珪酸水溶液に添加するカリウムイオンのモル数とから算出したものである。
ただし、水溶性カリウム化合物のハロゲンや硝酸根などのアニオン種の存在は廃水処理などで二次的な弊害を発生することもある。そのような場合を配慮するとカリウムイオンとともにアニオン種を除去した製品も必要となる。限外濾過を有効に活用してカリウムイオンとアニオン種の量を極力減らす方法も本発明の製造方法のひとつとして範疇に含まれる。
本発明における非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカとは、卵形、落花生型、繭形、棒状、屈曲した棒状など様々な形状を有し且つその形状が個々に異なるシリカ粒子を含有するコロイダルシリカである。具体的には、図1〜6に示されるような形状のシリカ粒子を含有するコロイダルシリカである。このシリカ粒子の長径/短径比は1.2〜10の範囲にある。このシリカ粒子は、非球状のシリカ粒子が大半を占めており、一部には球状のシリカ粒子も存在する。図1〜6に示したシリカ粒子は一例であって、製造条件によってその形状は様々となるが、本発明のコロイダルシリカでは、真球状でないシリカ粒子が大半を占めている。
本発明のコロイダルシリカの製造方法は、水ガラス法の活性珪酸水溶液をシリカ源とし、粒子形成工程においてカリウムイオンとアルカリ剤とを使用することを特徴とする。粒子成長工程では、活性珪酸水溶液とアルカリ剤とカリウムイオンとを添加するか、または活性珪酸水溶液とアルカリ剤とを添加することを特徴とする。アルカリ剤としては、水酸化ナトリウムのような水酸化アルカリ金属、水酸化第4アンモニウム等を用いることができる。水酸化第4アンモニウムとしては、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化トリメチル−2−ヒドロキシエチルアンモニウム(別名、水酸化コリン)等が挙げられる。アルカリ剤として水酸化カリウムを使用すれば、他のカリウムイオンの供給源となる化合物を加える必要はなくなる。
まず、原料として用いる珪酸アルカリ水溶液としては、通常、水ガラス(水ガラス1号〜4号等)と呼ばれる珪酸ナトリウム水溶液が好適に用いられる。このような珪酸ナトリウム水溶液は比較的安価であり、容易に手に入れることができる。また、Naイオンを嫌う半導体用途では、珪酸ナトリウム水溶液の代わりに珪酸カリウム水溶液を原料として用いることが好ましい。固体状のメタ珪酸アルカリを水に溶かして珪酸アルカリ水溶液を調製する方法もある。メタ珪酸アルカリは晶析工程を経て製造されるため、不純物の少ないものがある。珪酸アルカリ水溶液は、必要に応じて水で希釈して使用する。
本発明で使用するカチオン交換樹脂は、公知のものを適宜選択して使用することができ、とくに制限されない。珪酸アルカリ水溶液とカチオン交換樹脂との接触工程は、例えば、珪酸アルカリ水溶液をシリカ濃度3〜10重量%に水希釈し、次いでH型強酸性カチオン交換樹脂に接触させて脱アルカリし、必要に応じてOH型強塩基性アニオン交換樹脂に接触させて脱アニオンすることによって行うことができる。この工程により、活性珪酸水溶液が調製される。接触条件の詳細は、従来から既に様々な提案があり、本発明ではそれら公知のいかなる条件も採用することができる。
次いで、カリウムイオンの存在下でのシリカ粒子の形成を行う。この粒子形成工程では、カリウムイオンの供給源となる化合物の添加を行う以外は常法の操作が行われる。例えば、pHが8以上となるようにカリウムイオンとアルカリ剤を添加し、60〜240℃に加熱することでシリカ粒子を形成するができる。
次いで、上記で形成されたシリカ粒子を種ゾルとするビルドアップの方法を用いた粒子成長を行う。この粒子成長工程では、pHが8以上の種ゾルを60〜240℃に加熱し、pHを8〜11に維持しながら、活性珪酸水溶液とカリウムイオンの供給源となる化合物とアルカリ剤とを添加するか、あるいは活性珪酸水溶液とアルカリ剤とを添加してシリカ粒子を成長させる。このようにして、シリカの粒子を成長させて平均短径が好ましくは5〜20nm、より好ましくは5〜10nmの粒子とすることができる。平均短径が10nmを超えると、粒子形状が徐々に球形に近くなる。
上記粒子形成工程及び粒子成長の工程を経て得られたコロイダルシリカは、必要に応じて、コロイダルシリカの濃縮を行うことができる。シリカの濃縮は、水分の蒸発濃縮でもよいが、エネルギー的には限外濾過の方が有利である。
限外濾過によりシリカを濃縮するときに使用される限外濾過膜について説明する。限外濾過膜が適用される分離は、1nmから数ミクロンの粒子を対象とするが、溶解した高分子物質をも対象とするため、ナノメータ域では濾過精度を分画分子量で表現している。本発明では、分画分子量15,000以下の限外濾過膜を好適に使用することができる。この範囲の膜を使用すると1nm以上の粒子は分離することができる。更に好ましくは分画分子量3,000〜15,000の限外濾過膜を使用する。3,000未満の膜では濾過抵抗が大きすぎて処理時間が長くなり不経済であり、15,000を超えると、精製度が低くなる。膜の材質は、ポリスルホン、ポリアクリルニトリル、焼結金属、セラミック、カーボンなどあり、いずれも使用できる。耐熱性や濾過速度などの点からポリスルホン製の膜が使用しやすい。膜の形状は、スパイラル型、チューブラー型、中空糸型などあり、いずれも使用できる。中空糸型膜がコンパクトで使用しやすい。また、限外濾過工程が、カリウムイオンの洗い出し除去をかねている場合、必要に応じて、目標シリカ濃度に達した後も純水を加えるなどして、更に洗い出し除去を行って、カリウムイオンの除去率を高める作業を行うこともできる。この工程でシリカの濃度が10〜50重量%となるように濃縮するのが好ましく、20〜50重量%となるように濃縮するのが更に好ましい。
また、本発明では、必要に応じて、粒子成長工程後または限外濾過工程後に得られたコロイダルシリカをイオン交換樹脂により精製してもよい。例えば、コロイダルシリカをH型強酸性カチオン交換樹脂に接触させて粒子成長工程で使用したアルカリ剤を除去したり、コロイダルシリカをOH型強塩基性アニオン交換樹脂に接触させて脱アニオンすることで、一層の高純度化を図ることができる。
ただし、R.K.Iler著”THE CHEMISTRY OF SILICA”(A Wiley-Interscience Publication, 337-338)に記載されているように、ナトリウムをアルカリ剤にして粒子成長させた後でナトリウムを除去するのは難しい。イオン交換を行っても、液相のナトリウムは除去できるが、シリカ粒子表面またはシリカ粒子内部に固定化されたナトリウムは除去できない。市販の脱アルカリした酸性コロイダルシリカが少量のナトリウムを含有するのは、このためである。本発明におけるカリウムも、コロイダルシリカの液相に存在するだけでなく、シリカ粒子表面またはシリカ粒子内部に固定化されて存在する。よって、本発明のコロイダルシリカをH型強酸性カチオン交換樹脂に接触させて粒子成長工程で使用したカリウムやナトリウムの除去操作を行っても、コロイダルシリカは少量のカリウムを含有する。
以上のようにして、カリウムイオンの存在下で活性珪酸を原料としてコロイダルシリカを製造することにより、カリウムイオンを含有し且つ透過型電子顕微鏡観察による長径/短径比が1.2〜10である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカを得ることができる。このようにして得られたコロイダルシリカは、カルシウム塩、マグネシウム塩、アルミニウム塩等の珪素以外の金属化合物を含有しないので、印刷紙用のインク吸収性フィラー、塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、触媒用バインダー、電子材料用研磨材等に有用である。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。実施例及び参考例での測定は以下の装置を使用した。
(1)TEM観察:(株)日立製作所、透過型電子顕微鏡H−7500型を使用した。
(2)金属元素分析:(株)堀場製作所、ICP発光分析計、ULTIMA2を使用した。
参考例1〕
(活性珪酸水溶液の調製)
脱イオン水13kgに3号珪酸ソーダ(SiO2:28.8重量%、Na2O:9.7重量%、H2O:61.5重量%)2.1kgを加えて均一に混合しシリカ濃度4.0重量%の希釈珪酸ソーダを作製した。この希釈珪酸ソーダを予め塩酸によって再生したH型強酸性カチオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライト(登録商標)IR120B)4,000mlのカラムに通して脱アルカリし、シリカ濃度3.5重量%でpH2.9の活性珪酸水溶液15kgを得た。
(種ゾルの作製)
次いで、得られた活性珪酸水溶液にカリウムイオンの供給源となる化合物を添加した後、アルカリ剤を加えてアルカリ性にして加熱し、シリカ粒子を形成させた。すなわち、得られた活性珪酸水溶液の一部5,000gに、攪拌下、フッ化カリウム水溶液をシリカ/カリウムイオンのモル比が40となるように添加した後、5重量%水酸化ナトリウム水溶液を加えてpH8とし、加熱して100℃に1時間保持した後、放冷した。得られたコロイダルシリカ(種ゾル)は、水の蒸発で減量しており、シリカ濃度は約4重量%であった。また、カリウムイオン濃度は約0.065重量%であった。得られたコロイダルシリカは、透過型電子顕微鏡(TEM)観察による平均短径が5〜6nmであり、長径/短径比が1.5〜6の範囲にあり、長径/短径比の平均値が4である非球状の異形シリカ粒子群を含有するものであることを確認した。TEM写真を図1に示した。
(シリカ粒子の成長)
上記種ゾルの作製で得られたコロイダルシリカを再度加熱して100℃とし、ビルドアップの方法をとり、10,000gの活性珪酸水溶液を2時間かけて添加した。活性珪酸水溶液の添加中、5重量%水酸化ナトリウム水溶液を同時添加しpH9〜10を維持した。同時添加終了後、100℃に1時間保持して熟成を行った後、放冷した。得られたコロイダルシリカは25℃でのpHが10.4であり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察よる平均短径が約10nmであり、長径/短径比が2〜10の範囲にあり、長径/短径比の平均値が6である非球状の異形シリカ粒子群を含有するものであることを確認した。また、シリカ/カリウムイオンのモル比は120と算出された。TEM写真を図2に示した。
〔実施例
(種ゾルの作製)
参考例1の種ゾルの作製においてシリカ/カリウムイオンのモル比を80に変更した以外は同じ操作でコロイダルシリカを合成した。得られたコロイダルシリカ(種ゾル)は、水の蒸発で減量しており、シリカ濃度は約4重量%であった。また、カリウムイオン濃度は約0.033重量%であった。得られたコロイダルシリカは、透過型電子顕微鏡(TEM)観察による平均短径が5〜6nmであり、長径/短径比が1.5〜4の範囲にあり、長径/短径比の平均値が3である非球状の異形シリカ粒子群を含有するものであることを確認した。TEM写真を図3に示した。
(シリカ粒子の成長)
上記種ゾルの作製により得られたコロイダルシリカを参考1のシリカ粒子の成長と同じ操作で粒子成長を行った。得られたコロイダルシリカは25℃でのpHが10.3であり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察よる平均短径が約10nmであり、長径/短径比が2〜4の範囲にあり、長径/短径比の平均値が2である非球状の異形シリカ粒子群を含有するものであることを確認した。TEM写真を図4に示した。
(コロイダルシリカの濃縮)
次いで、得られたコロイダルシリカを分画分子量6,000の中空糸型限外濾過膜(旭化成(株)製マイクローザ(登録商標)UFモジュールSIP−1013)を用いてポンプ循環送液による加圧濾過を行い、シリカ濃度が20重量%以上となるまで濃縮した。得られたコロイダルシリカの性状を表1に示した。カリウムイオン濃度は約0.041重量%であったので、酸化物換算してK2O濃度で0.05重量%と記載した。また、シリカ/カリウムイオンのモル比は330と算出された。
Figure 0005431120
〔実施例
(種ゾルの作製)
参考例1と同じ方法で15kgの活性珪酸水溶液を作製した。この活性珪酸水溶液の一部5,000gに、攪拌下、水酸化カリウム水溶液をシリカ/カリウムイオンのモル比が30となるように添加してpH8とし、加熱して100℃に1時間保持した後、放冷した。得られたコロイダルシリカ(種ゾル)は、水の蒸発で減量しており、シリカ濃度は約4重量%であった。また、カリウムイオン濃度は約0.087重量%であった。得られたコロイダルシリカは、透過型電子顕微鏡(TEM)観察による平均短径が5〜6nmであり、長径/短径比が1.5〜5の範囲であり、長径/短径比の平均値が3である非球状の異形シリカ粒子群を含有するものであることを確認した。また、いずれのコロイダルシリカも、シリカ粒子のであった。TEM写真を図5に示した。
(シリカ粒子の成長)
上記種ゾルの作製で得られたコロイダルシリカを再度加熱して100℃とし、ビルドアップの方法をとり、10,000gの活性珪酸水溶液を2時間かけて添加した。活性珪酸水溶液の添加中、水酸化カリウム水溶液を同時添加しpH9〜10を維持した。同時添加終了後、100℃に1時間保持して熟成を行った後、放冷した。得られたコロイダルシリカは、水の蒸発で減量しており、シリカ濃度は約4重量%であり、また、25℃でのpHが9.9であり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察よる平均短径が約10nmであり、長径/短径比が2〜6の範囲であり、長径/短径比の平均値が4である非球状の異形シリカ粒子群を含有するものであることを確認した。また、カリウムイオン濃度は約0.058重量%であったので、シリカ/カリウムイオンのモル比は45と算出された。TEM写真を図6に示した。
〔比較例1〕
カリウムイオンの供給源となる化合物を添加しない以外は参考例1の種ゾルの作製と同じ方法でコロイダルシリカを作製した。得られたコロイダルシリカは、透過型電子顕微鏡(TEM)観察による平均粒子径7nmの球状シリカ粒子よりなるコロイダルシリカであった。
続いて、得られたコロイダルシリカを再度加熱して100℃とし、ビルドアップの方法をとり、10,000gの活性珪酸水溶液を2時間かけて添加した。活性珪酸水溶液の添加中、pHが9.5〜10.5の範囲になるように5重量%水酸化ナトリウム水溶液を同時添加した。このシリカ粒子成長工程においてもカリウムイオンの供給源となる化合物は添加しなかった。同時添加終了後、100℃に1時間保持して熟成を行った後、放冷した。続いて、分画分子量6,000の中空糸型限外濾過膜(旭化成(株)製マイクローザ(登録商標)UFモジュールSIP−1013)を用いてポンプ循環送液による加圧濾過を行い、シリカ濃度が20重量%となるまで濃縮した。得られたコロイダルシリカのpHは9.85であった。
透過型電子顕微鏡(TEM)によりシリカ粒子を観察したところ、平均粒子径15nmの球状シリカ粒子よりなるコロイダルシリカであることを確認した。TEM写真を図7に示した。
〔比較例2〕
3号珪酸ソーダを脱イオン水で希釈して得た希釈珪酸ソーダ(SiO2:5重量%)をイオン交換樹脂で脱アルカリして活性珪酸水溶液(pH2.9、SiO2:3重量%)175.4kgを調製した。脱イオン水12.13kgに、先に調製した活性珪酸水溶液6.07kgと濃度20重量%のKOH水溶液0.44kgとを混合し、続いて83℃に昇温し、30分間熟成してコロイダルシリカ(A)を調製した。このコロイダルシリカ(A)のシリカ/カリウムイオンのモル比は1.93と算出された。次いで、このコロイダルシリカに、先に調製した活性珪酸水溶液169.3kgを17時間かけて添加した。添加終了後、1時間熟成を行った後、放冷した。続いて、分画分子量6,000の中空糸型限外濾過膜(旭化成(株)製マイクローザ(登録商標)UFモジュールSIP−1013)を用いてポンプ循環送液による加圧濾過を行い、シリカ濃度が30重量%となるまで濃縮した。得られたコロイダルシリカのpHは10であった。
透過型電子顕微鏡(TEM)によりシリカ粒子を観察したところ、平均粒子径10nmの球状シリカ粒子よりなるコロイダルシリカであることを確認した。TEM写真を図8に示した。このように、コロイダルシリカ(A)を種ゾルとして粒子成長を行っても非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカを得ることはできなかった。

Claims (2)

  1. カリウムイオンを含有し、透過型電子顕微鏡観察による長径/短径比が1.2〜10の範囲にあり且つ長径/短径比の平均値が2〜5である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカの製造方法であって、
    以下の工程
    (a)珪酸アルカリ水溶液をカチオン交換樹脂に接触させて活性珪酸水溶液を調製する工程、
    (b)この活性珪酸水溶液にカリウムイオンの供給源となる化合物を、シリカ/カリウムのモル比が30〜100になるように添加し、pH8以上のアルカリ性にした後、加熱してシリカ粒子を形成させる工程、及び
    (c)続いて加熱下に、pH9〜11のアルカリ性を維持しながら、活性珪酸水溶液とアルカリ剤とカリウムイオンの供給源となる化合物とを添加するか、または活性珪酸水溶液とアルカリ剤を添加し、シリカ/カリウムのモル比が50〜200でシリカ粒子を成長させて、シリカ粒子の平均短径を5〜10nmとする工程
    を有することを特徴とするコロイダルシリカの製造方法。
  2. (c)工程の後、(d)シリカを濃縮する工程
    を更に有することを特徴とする請求項に記載のコロイダルシリカの製造方法。
JP2009254692A 2009-11-06 2009-11-06 コロイダルシリカの製造方法 Active JP5431120B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009254692A JP5431120B2 (ja) 2009-11-06 2009-11-06 コロイダルシリカの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009254692A JP5431120B2 (ja) 2009-11-06 2009-11-06 コロイダルシリカの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011098859A JP2011098859A (ja) 2011-05-19
JP5431120B2 true JP5431120B2 (ja) 2014-03-05

Family

ID=44190369

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009254692A Active JP5431120B2 (ja) 2009-11-06 2009-11-06 コロイダルシリカの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5431120B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102390837A (zh) * 2011-08-03 2012-03-28 南通海迅天恒纳米科技有限公司 一种非球形纳米级硅溶胶的制备方法
JP6207345B2 (ja) * 2013-10-30 2017-10-04 日揮触媒化成株式会社 シリカ粒子の製造方法
US11814295B2 (en) 2018-02-26 2023-11-14 Nissan Chemical Corporation Method for producing silica sol having elongated particle shape
US11897774B2 (en) 2018-02-26 2024-02-13 Nissan Chemical Corporation Method for producing silica sol having elongated particle shape
JP2022091234A (ja) * 2020-12-09 2022-06-21 日揮触媒化成株式会社 異形シリカ系微粒子分散液およびその製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58110416A (ja) * 1981-12-18 1983-07-01 Asahi Denka Kogyo Kk シリカゾルの製造方法
JP2508713B2 (ja) * 1987-05-15 1996-06-19 日産化学工業株式会社 高純度大粒子径シリカゾルの製造法
JP3804009B2 (ja) * 2001-10-01 2006-08-02 触媒化成工業株式会社 研磨用シリカ粒子分散液、その製造方法および研磨材
JP4911961B2 (ja) * 2005-12-06 2012-04-04 日揮触媒化成株式会社 異方形状シリカゾルの製造方法
JP2009224771A (ja) * 2008-02-18 2009-10-01 Jsr Corp 化学機械研磨用水系分散体およびその製造方法、ならびに化学機械研磨方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011098859A (ja) 2011-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3753192B2 (ja) シリカプロパノールゾルの製造法
JPH042606A (ja) 高純度の水性シリカゾルの製造方法
JP5431120B2 (ja) コロイダルシリカの製造方法
JP5398963B2 (ja) 低ナトリウムで非球状のコロイダルシリカ
JP2005060217A (ja) シリカゾル及びその製造方法
JP4222582B2 (ja) 高純度シリカゾルの製造方法
JP2001048520A (ja) 細長い形状のシリカゾル及びその製造方法
JP3584485B2 (ja) シリカゾルの製造方法
JPH06199515A (ja) 酸性シリカゾルの製造方法
JP5405024B2 (ja) エチレンジアミンが固定化されたシリカ粒子よりなるコロイダルシリカ
JP3993993B2 (ja) シリカゾルおよびシリカ系複合酸化物ゾルの製造方法
JP5377135B2 (ja) コロイダルシリカの製造方法
JP3758391B2 (ja) 高純度シリカ水性ゾル及びその製造方法
JP5318705B2 (ja) コロイダルシリカおよびその製造方法
JPS63285112A (ja) 高純度大粒子径シリカゾルの製造法
JP7401030B1 (ja) 層状ケイ酸塩の製造方法、及びシリカナノシートの製造等におけるその応用
JP2009184858A (ja) ヒドラジンが固定化されたシリカ粒子よりなるコロイダルシリカ
JP5341613B2 (ja) コロイダルシリカおよびその製造方法
JP5086828B2 (ja) ピペリジンが固定化されたシリカ粒子よりなるコロイダルシリカ
JP5457070B2 (ja) コロイダルシリカおよびその製造方法
JP5405025B2 (ja) アルギニンが固定化されたシリカ粒子よりなるコロイダルシリカ
JP5905767B2 (ja) 中性コロイダルシリカ分散液の分散安定化方法及び分散安定性に優れた中性コロイダルシリカ分散液
JP5377134B2 (ja) コロイダルシリカの製造方法
JP5081653B2 (ja) ε−カプロラクタムが固定化されたシリカ粒子よりなるコロイダルシリカ
JP5405023B2 (ja) イミダゾールが固定化されたシリカ粒子よりなるコロイダルシリカ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120619

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130807

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130820

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131018

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131126

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131204

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5431120

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250