JPH04255874A - ラスタ出力スキャナ強度制御の手段及び方法 - Google Patents
ラスタ出力スキャナ強度制御の手段及び方法Info
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- JPH04255874A JPH04255874A JP3204434A JP20443491A JPH04255874A JP H04255874 A JPH04255874 A JP H04255874A JP 3204434 A JP3204434 A JP 3204434A JP 20443491 A JP20443491 A JP 20443491A JP H04255874 A JPH04255874 A JP H04255874A
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-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/40—Picture signal circuits
- H04N1/407—Control or modification of tonal gradation or of extreme levels, e.g. background level
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- Control Or Security For Electrophotography (AREA)
- Accessory Devices And Overall Control Thereof (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】本発明は、ラスタ出力スキャナ(ROS)
電子写真式プリンター、さらに特定すれば、プロセス制
御エレクトロニクス系統の変更によって書込みビーム強
度の変化を修正して出力するROSに関するものである
。
電子写真式プリンター、さらに特定すれば、プロセス制
御エレクトロニクス系統の変更によって書込みビーム強
度の変化を修正して出力するROSに関するものである
。
【0002】従来技術によるラスタ出力スキャナ(RO
S)を用いるプリンタも、普通、多面体の回転軸と平行
な平坦な反射面すなわちカット面を有する回転多面体を
使用している。一本のビーム(又は、マルチプルダイオ
ードを用いているときは、複数のビーム)を、ヘリウム
・ネオンレーザ又はダイオードレーザのような光源から
放射する。光は、多面体前の調整光学系を通って、入力
電気信号に従って変調され、回転多面体のカット面表面
に至る。ビームは反射され、多面体後の調整レンズ系を
通り、感光性画像面の全処理幅にわたって走る。このよ
うな既知のROSシステムでは、多面体前の調整光学系
は、それぞれの多面体カット面に当る光のビームがカッ
ト面の一部だけを照射するカット面アンダー照射型設計
か、光のビームがそれぞれのカット面の全面と隣接カッ
ト面の一部を照射するカット面オーバー照射型設計のい
ずれかを取入れている。この二つの設計を比較すると、
オーバー型設計では、画像面上に所定の大きさのスポッ
トを生ずるのに必要なカット面の寸法を大幅に小さくす
ることができ、同じ直径の多面体にずっと多くのカット
面を備えることが可能になる。これは、ひいては、走査
系を比較的低速で作動させることを可能にし、低出力の
(従って、安価な)多面体モータ駆動装置が使えること
になる。この利点があっても、これまで、総出力効率が
低いことと多面体カット面の照射が不均一なことの二つ
のマイナス要因の方が大きかった。効率が低くても(通
常10〜15%)よいためには、高出力レーザダイオー
ドが必要となる。不均一性の問題は、走査ビームが、レ
ーザ源から離れるにつれ、回転多面体の一つ以上のカッ
ト面を照射するように拡がるために、スポットがガウス
分布の形となることからくる。拡がったビームは、固有
のビーム強度変化特性を有しており、走査の両端で照射
強度が低くなる形(一般に「フラウン(frown)
」という)を示す。スポットが画像面を横切って走査す
るよう多面体が回転すると、媒体に向けて反射される光
の強度も対応して変化し、画像の品質が若干低下する。
S)を用いるプリンタも、普通、多面体の回転軸と平行
な平坦な反射面すなわちカット面を有する回転多面体を
使用している。一本のビーム(又は、マルチプルダイオ
ードを用いているときは、複数のビーム)を、ヘリウム
・ネオンレーザ又はダイオードレーザのような光源から
放射する。光は、多面体前の調整光学系を通って、入力
電気信号に従って変調され、回転多面体のカット面表面
に至る。ビームは反射され、多面体後の調整レンズ系を
通り、感光性画像面の全処理幅にわたって走る。このよ
うな既知のROSシステムでは、多面体前の調整光学系
は、それぞれの多面体カット面に当る光のビームがカッ
ト面の一部だけを照射するカット面アンダー照射型設計
か、光のビームがそれぞれのカット面の全面と隣接カッ
ト面の一部を照射するカット面オーバー照射型設計のい
ずれかを取入れている。この二つの設計を比較すると、
オーバー型設計では、画像面上に所定の大きさのスポッ
トを生ずるのに必要なカット面の寸法を大幅に小さくす
ることができ、同じ直径の多面体にずっと多くのカット
面を備えることが可能になる。これは、ひいては、走査
系を比較的低速で作動させることを可能にし、低出力の
(従って、安価な)多面体モータ駆動装置が使えること
になる。この利点があっても、これまで、総出力効率が
低いことと多面体カット面の照射が不均一なことの二つ
のマイナス要因の方が大きかった。効率が低くても(通
常10〜15%)よいためには、高出力レーザダイオー
ドが必要となる。不均一性の問題は、走査ビームが、レ
ーザ源から離れるにつれ、回転多面体の一つ以上のカッ
ト面を照射するように拡がるために、スポットがガウス
分布の形となることからくる。拡がったビームは、固有
のビーム強度変化特性を有しており、走査の両端で照射
強度が低くなる形(一般に「フラウン(frown)
」という)を示す。スポットが画像面を横切って走査す
るよう多面体が回転すると、媒体に向けて反射される光
の強度も対応して変化し、画像の品質が若干低下する。
【0003】本発明によれば、ROMに複数のスマイル
修正を記憶しておく。周期的にテストモードを発動して
、濃度の異なる複数の番号付けした帯状部分から成るテ
ストパターンプリントを作成する。それぞれの番号付け
した帯状部分は、ROMに記憶した修正曲線の一つと関
連付けしてある。操作者あるいはサービスエンジニアは
、テストパターンプリント上の最適濃度レベルを有する
とみられる番号付けした帯状部分を肉眼で判定する。 操作者あるいはサービスエンジニアは、次に、テストパ
ターンの判定した番号の帯状部分に対応する修正信号曲
線を選定する。選定した帯状部分が前回に選定した帯状
部分と異なるならば、新しい修正信号をレーザに送って
、その出力ビーム強度を新しいレベルに変更する。さら
に詳述すれば、本発明は、入力ビデオ画像信号に対応し
て変調した高強度の出力放射ビームを発生するレーザ源
、前記ビームで感光体を走査して前記感光体を露光し、
その上に静電潜像を生成する手段、前記露光した潜像を
現像し、前記現像した画像を出力媒体上に転写する手段
に加えて、複数のビーム強度修正信号に係わるデータを
記憶するメモリ手段で、それぞれの記憶信号が異なる強
度変化特性のビームで感光体を露光させるもの、及び、
前記レーザ源に周期的にテストパターンビデオ信号を与
えて、テストパターン出力プリントを形成させる手段で
あって、前記テストパターンテスト信号が複数の別々の
区画部分を有し、それぞれの区画部分は前記ビーム強度
修正信号のうちの一つに対応する強度変化特性をもって
露光されるものとの組合わせから成る、ラスタ出力スキ
ャナに係わるものである。
修正を記憶しておく。周期的にテストモードを発動して
、濃度の異なる複数の番号付けした帯状部分から成るテ
ストパターンプリントを作成する。それぞれの番号付け
した帯状部分は、ROMに記憶した修正曲線の一つと関
連付けしてある。操作者あるいはサービスエンジニアは
、テストパターンプリント上の最適濃度レベルを有する
とみられる番号付けした帯状部分を肉眼で判定する。 操作者あるいはサービスエンジニアは、次に、テストパ
ターンの判定した番号の帯状部分に対応する修正信号曲
線を選定する。選定した帯状部分が前回に選定した帯状
部分と異なるならば、新しい修正信号をレーザに送って
、その出力ビーム強度を新しいレベルに変更する。さら
に詳述すれば、本発明は、入力ビデオ画像信号に対応し
て変調した高強度の出力放射ビームを発生するレーザ源
、前記ビームで感光体を走査して前記感光体を露光し、
その上に静電潜像を生成する手段、前記露光した潜像を
現像し、前記現像した画像を出力媒体上に転写する手段
に加えて、複数のビーム強度修正信号に係わるデータを
記憶するメモリ手段で、それぞれの記憶信号が異なる強
度変化特性のビームで感光体を露光させるもの、及び、
前記レーザ源に周期的にテストパターンビデオ信号を与
えて、テストパターン出力プリントを形成させる手段で
あって、前記テストパターンテスト信号が複数の別々の
区画部分を有し、それぞれの区画部分は前記ビーム強度
修正信号のうちの一つに対応する強度変化特性をもって
露光されるものとの組合わせから成る、ラスタ出力スキ
ャナに係わるものである。
【0004】図1は、オーバー照射型多面体カット面設
計により作動中の既知のROS走査システムの概略立面
図である。
計により作動中の既知のROS走査システムの概略立面
図である。
【0005】図2は、図1の感光体の表面を横切る走査
線に沿って走査ビームの照射レベルをプロットして、複
数のフラウン修正曲線を示す図である。
線に沿って走査ビームの照射レベルをプロットして、複
数のフラウン修正曲線を示す図である。
【0006】図3は、テストパターンの生成を発動する
制御回路とビーム強度修正回路を含む電子的サブシステ
ム(ESS)の概略図である。
制御回路とビーム強度修正回路を含む電子的サブシステ
ム(ESS)の概略図である。
【0007】図4は、複数のビーム強度修正曲線に対応
する異なる濃度の複数の帯状部分を有するテストパター
ン出力プリントを示す図である。
する異なる濃度の複数の帯状部分を有するテストパター
ン出力プリントを示す図である。
【0008】図1を参照すると、オーバー照射型多面体
カット面設計の既知のROSシステム10を示してある
。図示のように、望ましい実施例ではレーザダイオード
12などである光源12を、コヒーレントな高強度放射
の光源として用いる。ダイオードは、自己変調型で、光
の変調出力ビームは、ESS13の画像処理機構から送
られるバイナリデータ画像信号の有する情報に合致して
いる。画像信号は、メモリディスク、ラスタ入力スキャ
ナ(RIS)などから発してもよい。また、ESSは、
クロッキング信号と、レーザの光出力レベルを制御する
ビーム強度信号をも発生する。光源レーザ12の変調出
力ビームを、二つのレンズ型ビーム拡張系14、16に
よって拡張し、その後、拡張された光のビーム18は、
開口プレート20で形成した線状の開口部すなわちスリ
ット20’を通過する。ビーム18は、多面体前のレン
ズ系22を通過する。レンズ系22は、ビーム18を収
束してエネルギー分布を調整したビーム24とし、これ
を回転多面体スキャナ32の鏡面状のカット面30で反
射する。
カット面設計の既知のROSシステム10を示してある
。図示のように、望ましい実施例ではレーザダイオード
12などである光源12を、コヒーレントな高強度放射
の光源として用いる。ダイオードは、自己変調型で、光
の変調出力ビームは、ESS13の画像処理機構から送
られるバイナリデータ画像信号の有する情報に合致して
いる。画像信号は、メモリディスク、ラスタ入力スキャ
ナ(RIS)などから発してもよい。また、ESSは、
クロッキング信号と、レーザの光出力レベルを制御する
ビーム強度信号をも発生する。光源レーザ12の変調出
力ビームを、二つのレンズ型ビーム拡張系14、16に
よって拡張し、その後、拡張された光のビーム18は、
開口プレート20で形成した線状の開口部すなわちスリ
ット20’を通過する。ビーム18は、多面体前のレン
ズ系22を通過する。レンズ系22は、ビーム18を収
束してエネルギー分布を調整したビーム24とし、これ
を回転多面体スキャナ32の鏡面状のカット面30で反
射する。
【0009】多面体32が矢印の方向に回転すると、光
のビーム36は照射されたおのおののカット面で反射さ
れて、多面体の後の一連のレンズ系(図示しないが、既
知のもの)を通過し,こうして帯電感光体38の全幅に
わたってビーム36で像を描く(走査する)。ここには
その一部のみを図示する。ビーム36が感光体の表面に
入射する強度がもし修正されなければ、走査の両端にお
いてラスタスポット強度が低くなる(フラウン誤差)。 図2にプロットAとして示すこの誤差は、この例でいえ
ば、走査ビームの照射レベルで約10%の変調を生ずる
。このフラウン誤差は、既知のように、フラウン曲線の
逆のスマイル修正信号をESS13内で生成させ、この
信号を光源12に送ってレーザの出力強度を変化させて
、走査の始めと終りの部分で照射レベルを必要なだけ上
げ、中央部の照射レベルを下げることによって修正でき
る(図2のプロットB参照)。誤差と修正を合せた結果
、感光体表面における走査ビームの照射レベルは均一に
なる。それから、既知の技術によって感光体上の潜像を
現像し、出力媒体上に転写する。
のビーム36は照射されたおのおののカット面で反射さ
れて、多面体の後の一連のレンズ系(図示しないが、既
知のもの)を通過し,こうして帯電感光体38の全幅に
わたってビーム36で像を描く(走査する)。ここには
その一部のみを図示する。ビーム36が感光体の表面に
入射する強度がもし修正されなければ、走査の両端にお
いてラスタスポット強度が低くなる(フラウン誤差)。 図2にプロットAとして示すこの誤差は、この例でいえ
ば、走査ビームの照射レベルで約10%の変調を生ずる
。このフラウン誤差は、既知のように、フラウン曲線の
逆のスマイル修正信号をESS13内で生成させ、この
信号を光源12に送ってレーザの出力強度を変化させて
、走査の始めと終りの部分で照射レベルを必要なだけ上
げ、中央部の照射レベルを下げることによって修正でき
る(図2のプロットB参照)。誤差と修正を合せた結果
、感光体表面における走査ビームの照射レベルは均一に
なる。それから、既知の技術によって感光体上の潜像を
現像し、出力媒体上に転写する。
【0010】スマイル修正信号が少なくとも最初の段階
ではフラウンを修正するのに満足できるものであったと
しても、この修正は、時間が経っても画像面上での走査
ビームの強度を均一に維持するのには十分ではない。こ
れは、上記の背景説明の部分で述べた他の要因、特にゼ
ログラフィ処理システムにおける帯電と現像の変動によ
って、この均一性が損なわれ始めるからである。本発明
によれば、多数の、番号識別可能な一群のビーム強度修
正信号で、各信号が対応するフラウン条件に対し明確な
スマイル修正を行うものをESSに組込んで、ESSを
図1の実施例に関して記述した既知のものから変更する
。複数の水平な帯状部分から成るテストパターン出力プ
リントを生成するための回路を追加する。それぞれの帯
状部分をビーム強度修正信号の一つに対応するビーム強
度で走査して、感光体を露光する。従って、それぞれの
ビームがその長さ方向にわたって、独特の強度変化パタ
ーンを有することになる。それから、操作者あるいはサ
ービスエンジニアは、どの帯状部分が所望の最適濃度レ
ベルを与えるとみられるかを判定し、新しい修正曲線を
「ダイヤルイン」する。図3は、図1の回路の変更点を
示すもので、ESS13’は、画像処理部(IPS)4
0、テストパターン生成回路42及びビーム強度制御回
路44を有する。テストパターン回路42は、テストパ
ターンを電子的に記憶し、これを感光体38上に画像化
し、現像して出力媒体上に転写すると図4に示すように
プリント52上に水平な帯状部分5として現れる。それ
ぞれの帯状部分は、画像の一部として形成される番号で
判別できる。この例では、10本の水平な帯状部分を選
び、最初に最適であった修正曲線(帯状部分5)並びに
二つの極端な修正例1と10示す。以下に述べるように
、帯状部分の選び方を変えてもよい。
ではフラウンを修正するのに満足できるものであったと
しても、この修正は、時間が経っても画像面上での走査
ビームの強度を均一に維持するのには十分ではない。こ
れは、上記の背景説明の部分で述べた他の要因、特にゼ
ログラフィ処理システムにおける帯電と現像の変動によ
って、この均一性が損なわれ始めるからである。本発明
によれば、多数の、番号識別可能な一群のビーム強度修
正信号で、各信号が対応するフラウン条件に対し明確な
スマイル修正を行うものをESSに組込んで、ESSを
図1の実施例に関して記述した既知のものから変更する
。複数の水平な帯状部分から成るテストパターン出力プ
リントを生成するための回路を追加する。それぞれの帯
状部分をビーム強度修正信号の一つに対応するビーム強
度で走査して、感光体を露光する。従って、それぞれの
ビームがその長さ方向にわたって、独特の強度変化パタ
ーンを有することになる。それから、操作者あるいはサ
ービスエンジニアは、どの帯状部分が所望の最適濃度レ
ベルを与えるとみられるかを判定し、新しい修正曲線を
「ダイヤルイン」する。図3は、図1の回路の変更点を
示すもので、ESS13’は、画像処理部(IPS)4
0、テストパターン生成回路42及びビーム強度制御回
路44を有する。テストパターン回路42は、テストパ
ターンを電子的に記憶し、これを感光体38上に画像化
し、現像して出力媒体上に転写すると図4に示すように
プリント52上に水平な帯状部分5として現れる。それ
ぞれの帯状部分は、画像の一部として形成される番号で
判別できる。この例では、10本の水平な帯状部分を選
び、最初に最適であった修正曲線(帯状部分5)並びに
二つの極端な修正例1と10示す。以下に述べるように
、帯状部分の選び方を変えてもよい。
【0011】さて、システムが暫く作動してから、操作
者あるいはサービスエンジニアが出力コピー品質にある
程度の低下を認めたとすると、動作をテストモードとし
て修正動作を開始させる。本発明のさらに別の特長とし
て、プリンタは、装置の制御機構46を介してプリンタ
から回路42、44を作動させられるように変更してあ
る。操作者あるいはサービスエンジニアは、適当なテス
トパターン信号を生成して、これをテストパターン生成
回路42に送る。回路42の出力は先にロードしたテス
トパターン情報のデータビットの流れであり、これをイ
ンタフェースボード45を経てレーザ駆動回路12Aに
送る。レーザ12Bからの変調出力ビームが感光体38
の表面を初期ビーム強度レベルで走査して画像を生成す
るので、これを処理し出力プリントパターン50を形成
する(図4)。操作者あるいはサービスエンジニアは、
プリントを検査して、最適濃度を示しているとみられる
帯状部分を選定する。恐らく、中央の帯状部分5はもは
や最適ではなく、選定される番号はこれと異なるもので
あろう。ついで、制御パネルで、その特定の番号の帯状
部分と関係付けされている強度信号を選定する。例えば
、いま、帯状部分6(図示せず)が最適とみられたとす
れば、この帯状部分に対応する修正曲線を作動させるべ
きであることを示している。制御機構46から回路44
に信号を送って、それまでのビーム強度制御回路を作動
停止し、テストパターン比較との関係付けで決定した修
正曲線で置換える。システムは、それから、さらに修正
する必要があることが明らかになるまで、この修正ビー
ム強度信号を採用して作動する。
者あるいはサービスエンジニアが出力コピー品質にある
程度の低下を認めたとすると、動作をテストモードとし
て修正動作を開始させる。本発明のさらに別の特長とし
て、プリンタは、装置の制御機構46を介してプリンタ
から回路42、44を作動させられるように変更してあ
る。操作者あるいはサービスエンジニアは、適当なテス
トパターン信号を生成して、これをテストパターン生成
回路42に送る。回路42の出力は先にロードしたテス
トパターン情報のデータビットの流れであり、これをイ
ンタフェースボード45を経てレーザ駆動回路12Aに
送る。レーザ12Bからの変調出力ビームが感光体38
の表面を初期ビーム強度レベルで走査して画像を生成す
るので、これを処理し出力プリントパターン50を形成
する(図4)。操作者あるいはサービスエンジニアは、
プリントを検査して、最適濃度を示しているとみられる
帯状部分を選定する。恐らく、中央の帯状部分5はもは
や最適ではなく、選定される番号はこれと異なるもので
あろう。ついで、制御パネルで、その特定の番号の帯状
部分と関係付けされている強度信号を選定する。例えば
、いま、帯状部分6(図示せず)が最適とみられたとす
れば、この帯状部分に対応する修正曲線を作動させるべ
きであることを示している。制御機構46から回路44
に信号を送って、それまでのビーム強度制御回路を作動
停止し、テストパターン比較との関係付けで決定した修
正曲線で置換える。システムは、それから、さらに修正
する必要があることが明らかになるまで、この修正ビー
ム強度信号を採用して作動する。
【0012】望ましい実施例においては、ビーム強度制
御回路44は、リードオンリメモリ(ROM)で、複数
のスマイル修正曲線を記憶、保持している。スマイル修
正はROSシステムの最初のセットアップのときに生成
、記憶させる。図2を参照すると、プロットA、Bは、
それぞれ感光体38の実際の走査線に沿ったフラウンと
スマイルの強度レベルを表すものである。この例では、
走査線は13.65インチ(343mm)の長さにわた
り、32バイトに分割してある。各バイトは、非連続の
電圧変化(0〜10Vの範囲で十分と分かっている)を
示す。全体としての電圧変化を、フィルタに通して滑ら
かな出力電圧とする。スマイル修正曲線Bを表すアナロ
グ出力電圧は、すなわち、ディジタル化してROM回路
44に記憶した修正曲線のうちの一つである。プロット
C、Dで表すその他の複数の修正曲線も、同様の方法で
生成、記憶する。プロットCは線の左側(走査の開始側
)での極端な照射強度低下の修正を、プロットDは線の
右側(走査の終端側)での極端な低下の修正を示すもの
である。プロットAに類する幾つものフラウンの型を計
算することができ、特定のフラウンの逆の状態にある対
応するスマイル修正を算出し、プロットし、スマイル修
正信号として回路44に記憶することもできる。修正曲
線の数は、回路44のROMの容量で制約されるが、数
千の数にはなる。しかし、たいていのシステムでは実際
的な理由から、ずっと少ない数、例えば10でよいであ
ろう。選定したビーム出力レベルを表す回路44の出力
をアナログ信号に変換し、平滑化し、レーザ駆動回路1
2Aに送る。所望の数の修正電圧をROMに記憶したら
、テストパターンプリント生成回路42を、それぞれの
帯状部分が記憶修正信号のうちの一つと相関した強度レ
ベルで形成された複数の水平な帯状部分を有するテスト
プリントを生成するように、プログラムすることができ
る。選定した10個の修正信号に対応した強度において
ROSシステムによって感光体上に10本の帯状部分を
逐次露光する画像データ情報を包含したデータビットの
流れである出力を生成するように、回路42を調整する
。図2、4を参照すると、このようにして、プリント5
2の帯状部分5を、修正曲線Bで与えられるビーム強度
レベルで露光し、帯状部分1をプロットCで、帯状部分
10をプロットDで露光する。その他の帯状部分(図示
せず)は、プロットCとDの中間の修正曲線を表すよう
に選定する。
御回路44は、リードオンリメモリ(ROM)で、複数
のスマイル修正曲線を記憶、保持している。スマイル修
正はROSシステムの最初のセットアップのときに生成
、記憶させる。図2を参照すると、プロットA、Bは、
それぞれ感光体38の実際の走査線に沿ったフラウンと
スマイルの強度レベルを表すものである。この例では、
走査線は13.65インチ(343mm)の長さにわた
り、32バイトに分割してある。各バイトは、非連続の
電圧変化(0〜10Vの範囲で十分と分かっている)を
示す。全体としての電圧変化を、フィルタに通して滑ら
かな出力電圧とする。スマイル修正曲線Bを表すアナロ
グ出力電圧は、すなわち、ディジタル化してROM回路
44に記憶した修正曲線のうちの一つである。プロット
C、Dで表すその他の複数の修正曲線も、同様の方法で
生成、記憶する。プロットCは線の左側(走査の開始側
)での極端な照射強度低下の修正を、プロットDは線の
右側(走査の終端側)での極端な低下の修正を示すもの
である。プロットAに類する幾つものフラウンの型を計
算することができ、特定のフラウンの逆の状態にある対
応するスマイル修正を算出し、プロットし、スマイル修
正信号として回路44に記憶することもできる。修正曲
線の数は、回路44のROMの容量で制約されるが、数
千の数にはなる。しかし、たいていのシステムでは実際
的な理由から、ずっと少ない数、例えば10でよいであ
ろう。選定したビーム出力レベルを表す回路44の出力
をアナログ信号に変換し、平滑化し、レーザ駆動回路1
2Aに送る。所望の数の修正電圧をROMに記憶したら
、テストパターンプリント生成回路42を、それぞれの
帯状部分が記憶修正信号のうちの一つと相関した強度レ
ベルで形成された複数の水平な帯状部分を有するテスト
プリントを生成するように、プログラムすることができ
る。選定した10個の修正信号に対応した強度において
ROSシステムによって感光体上に10本の帯状部分を
逐次露光する画像データ情報を包含したデータビットの
流れである出力を生成するように、回路42を調整する
。図2、4を参照すると、このようにして、プリント5
2の帯状部分5を、修正曲線Bで与えられるビーム強度
レベルで露光し、帯状部分1をプロットCで、帯状部分
10をプロットDで露光する。その他の帯状部分(図示
せず)は、プロットCとDの中間の修正曲線を表すよう
に選定する。
【0013】処理方向への多面体の回転と感光体38の
移動のために、走査の開始(SOS)と終了を検出する
タイミング・クロック回路は、既知のように従来のIO
T制御ソフトウェアで制御する。
移動のために、走査の開始(SOS)と終了を検出する
タイミング・クロック回路は、既知のように従来のIO
T制御ソフトウェアで制御する。
【図1】 オーバー照射型多面体カット面設計により
作動中の既知のROS走システムの概略立面図である。
作動中の既知のROS走システムの概略立面図である。
【図2】 図1の感光体の表面を横切る走査線に沿っ
て走査ビームの照射レベルをプロットして、複数のフラ
ウン修正曲線を示す図である。
て走査ビームの照射レベルをプロットして、複数のフラ
ウン修正曲線を示す図である。
【図3】 テストパターンの生成を発動する制御回路
とビーム強度修正回路を含む電子的サブシステム(ES
S)の概略図である。
とビーム強度修正回路を含む電子的サブシステム(ES
S)の概略図である。
【図4】 複数のビーム強度修正曲線に対応する異な
る濃度の複数の帯状部分を有するテストパターン出力プ
リントを示す図である。
る濃度の複数の帯状部分を有するテストパターン出力プ
リントを示す図である。
10 ROSシステム、12 光源、12A レ
ーザ駆動回路、12B レーザ、13,13’ E
SS、14,16 ビーム拡張系、18 ビーム、
20開口プレート、22 レンズ系、24 ビーム
、30 カット面、32 回転多面体スキャナ、3
6 ビーム、38 帯電感光体、40 IPS、
42 テストパターン生成回路、44 ビーム強度
制御回路、45 インタフェースボード、46制御機
構、50 プリントパターン、52 プリント
ーザ駆動回路、12B レーザ、13,13’ E
SS、14,16 ビーム拡張系、18 ビーム、
20開口プレート、22 レンズ系、24 ビーム
、30 カット面、32 回転多面体スキャナ、3
6 ビーム、38 帯電感光体、40 IPS、
42 テストパターン生成回路、44 ビーム強度
制御回路、45 インタフェースボード、46制御機
構、50 プリントパターン、52 プリント
Claims (2)
- 【請求項1】 ラスタ出力スキャナにおける、入力ビ
デオ画像信号に対応して変調した高強度の出力放射ビー
ムを発生するレーザ源、前記ビームで感光体を走査して
前記感光体を露光し、その上に静電潜像を生成する手段
、前記露光した潜像を現像し、前記現像した画像を出力
媒体上に転写する手段の組合わせにおいて下記の組合わ
せを含むもの:複数のビーム強度修正信号に係わるデー
タを記憶するメモリ手段で、それぞれの記憶信号が異な
る強度変化特性のビームで感光体を露光させるもの、及
び、前記レーザ源に周期的にテストパターンビデオ信号
を与えて、テストパターン出力プリントを形成させる手
段であって、前記テストパターンテスト信号が複数の別
々の区画部分を有し、それぞれの区画部分は前記ビーム
強度修正信号のうちの一つに対応する強度変化特性をも
って露光されるもの。 - 【請求項2】 前記テストパターン出力プリントが濃
度の異なる複数の水平な帯状部分から成り、それぞれの
帯状部分は走査につれて前記ビーム修正信号のうちの一
つに関係付けされたものに合致して変化するビーム強度
を持つ走査ビームによって生成されるものであり、前記
帯状部分のうち一つは全般に均一な濃度を有する請求項
1記載のラスタ出力スキャナ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US569681 | 1990-08-20 | ||
US07/569,681 US5165074A (en) | 1990-08-20 | 1990-08-20 | Means and method for controlling raster output scanner intensity |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04255874A true JPH04255874A (ja) | 1992-09-10 |
Family
ID=24276415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3204434A Pending JPH04255874A (ja) | 1990-08-20 | 1991-08-14 | ラスタ出力スキャナ強度制御の手段及び方法 |
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Country | Link |
---|---|
US (1) | US5165074A (ja) |
JP (1) | JPH04255874A (ja) |
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1990
- 1990-08-20 US US07/569,681 patent/US5165074A/en not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-08-14 JP JP3204434A patent/JPH04255874A/ja active Pending
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Legal Events
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