JPH04254582A - 蒸着物の観測装置 - Google Patents
蒸着物の観測装置Info
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- JPH04254582A JPH04254582A JP1544691A JP1544691A JPH04254582A JP H04254582 A JPH04254582 A JP H04254582A JP 1544691 A JP1544691 A JP 1544691A JP 1544691 A JP1544691 A JP 1544691A JP H04254582 A JPH04254582 A JP H04254582A
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- 239000000463 material Substances 0.000 title abstract description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 36
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 102100025490 Slit homolog 1 protein Human genes 0.000 description 2
- 101710123186 Slit homolog 1 protein Proteins 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000001883 metal evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空中で蒸着させた金
属等の蒸着物の観測装置に関する。
属等の蒸着物の観測装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は、現在一般的に用いられている蒸
着物の観測装置を示す。
着物の観測装置を示す。
【０００３】図中の１は、真空容器の外壁である。この
外壁１の外側の所定の位置には観測窓２が設けられてい
る。また、前記外壁１の外側には、回転導入端子３が設
けられている。この回転導入端子３の一端は外壁１の内
側まで達しており、その端部に前記観測窓２の遮蔽を行
う遮蔽板４が設けられている。
外壁１の外側の所定の位置には観測窓２が設けられてい
る。また、前記外壁１の外側には、回転導入端子３が設
けられている。この回転導入端子３の一端は外壁１の内
側まで達しており、その端部に前記観測窓２の遮蔽を行
う遮蔽板４が設けられている。
【０００４】こうした構成の観測装置において、作業者
は回転導入端子３を回して遮蔽板４を開閉する。そして
、遮蔽板４を開いて観測窓２から金属溶融面を観測し、
液面高さを調整する。更に、溶融金属の表面を観測した
後、ふたたび遮蔽板４を閉じ、金属蒸気から観測窓２の
蒸着を防止する。
は回転導入端子３を回して遮蔽板４を開閉する。そして
、遮蔽板４を開いて観測窓２から金属溶融面を観測し、
液面高さを調整する。更に、溶融金属の表面を観測した
後、ふたたび遮蔽板４を閉じ、金属蒸気から観測窓２の
蒸着を防止する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術によれば、下記に述べる問題点を有する。
術によれば、下記に述べる問題点を有する。
【０００６】即ち、観測窓２の真空容器内面と遮蔽板４
との間隔があり、長時間の試験で金属蒸気が観測窓内面
に蒸着してゆき、金属の溶融面観測が不可能となる。そ
のため、真空容器をリ−クし観測窓２の内面の蒸着金属
を取り除く必要があった。また、図４の方法の他、反射
鏡の使用で間接的に観測窓から観測する方法もあるが、
結果的には鏡に金属が蒸着して長時間の観測は不可能で
あった。
との間隔があり、長時間の試験で金属蒸気が観測窓内面
に蒸着してゆき、金属の溶融面観測が不可能となる。そ
のため、真空容器をリ−クし観測窓２の内面の蒸着金属
を取り除く必要があった。また、図４の方法の他、反射
鏡の使用で間接的に観測窓から観測する方法もあるが、
結果的には鏡に金属が蒸着して長時間の観測は不可能で
あった。
【０００７】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
、光と蒸気の速度差を利用することにより、金属蒸気が
観測窓へ蒸着するのを防止できる蒸着物の観測装置を提
供することを目的とする。
、光と蒸気の速度差を利用することにより、金属蒸気が
観測窓へ蒸着するのを防止できる蒸着物の観測装置を提
供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、真空中で金属
等を蒸発させる真空装置に用いられる蒸着物の観測装置
において、真空装置の観測窓側に配置され、複数の第１
スリットを有する高速回転可能な第１円盤と、真空装置
の蒸着源側に前記第１円盤と一定距離をもって平行に配
置され、前記第１スリットに対応した複数の第２スリッ
トを有し、かつ前記第１円盤と同速，同方向に回転可能
な第２円盤とを具備し、前記第２スリットの長さが第１
スリットの長さよりも大きく、かつ第１・第２スリット
が夫々円対称に配置されていることを特徴とする蒸着物
の観測装置である。
等を蒸発させる真空装置に用いられる蒸着物の観測装置
において、真空装置の観測窓側に配置され、複数の第１
スリットを有する高速回転可能な第１円盤と、真空装置
の蒸着源側に前記第１円盤と一定距離をもって平行に配
置され、前記第１スリットに対応した複数の第２スリッ
トを有し、かつ前記第１円盤と同速，同方向に回転可能
な第２円盤とを具備し、前記第２スリットの長さが第１
スリットの長さよりも大きく、かつ第１・第２スリット
が夫々円対称に配置されていることを特徴とする蒸着物
の観測装置である。
【０００９】
【作用】本発明において、蒸着源側から１枚目の第２円
盤のスリット（第２スリット）を通過した金属蒸気が２
枚目の第１円盤のスリット（第１スリット）に達するま
でに、第１スリットはすでに先へ回転しているため、金
属蒸気はそこで遮断され、観測窓まで届かない。
盤のスリット（第２スリット）を通過した金属蒸気が２
枚目の第１円盤のスリット（第１スリット）に達するま
でに、第１スリットはすでに先へ回転しているため、金
属蒸気はそこで遮断され、観測窓まで届かない。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例に係る蒸着物の観測
装置について図１〜図３を参照して説明する。ここで、
図１（Ａ）は同観測装置の原理的な説明図、図１（Ｂ）
は観測装置の円盤の平面図、図２は観測装置の略斜視図
、図３は図２の平面図である。
装置について図１〜図３を参照して説明する。ここで、
図１（Ａ）は同観測装置の原理的な説明図、図１（Ｂ）
は観測装置の円盤の平面図、図２は観測装置の略斜視図
、図３は図２の平面図である。
【００１１】図中の１１は、真空装置である。この真空
装置１１の外側には、観測窓１２が取り付けられている
。この観測窓１２から溶融面Ｓを結ぶ延長上の前記真空
容器１１の内側に、本発明に係る観測装置１３が配置さ
れている。この観測装置１３は、筐体１４と、この筐体
１４に取付けられた開閉カバ−１５と、筐体１４の内部
に一定の距離おいて配置された高速回転が可能な第１・
第２円盤１６，１７等から構成されている。前記開閉カ
バ−１４は前記観測窓１２から溶融面Ｓを観測できるよ
うにするもので、観測時は、図に示すように開いている
。
装置１１の外側には、観測窓１２が取り付けられている
。この観測窓１２から溶融面Ｓを結ぶ延長上の前記真空
容器１１の内側に、本発明に係る観測装置１３が配置さ
れている。この観測装置１３は、筐体１４と、この筐体
１４に取付けられた開閉カバ−１５と、筐体１４の内部
に一定の距離おいて配置された高速回転が可能な第１・
第２円盤１６，１７等から構成されている。前記開閉カ
バ−１４は前記観測窓１２から溶融面Ｓを観測できるよ
うにするもので、観測時は、図に示すように開いている
。
【００１２】前記第１円盤１６及び第２円盤１７は夫々
シャフト１８に取付けられ、前記第１円盤１６が観測窓
側で、第２円盤１７が蒸着源側に位置する。前記第１円
盤１７には、例えば図１（Ｂ）のように４ケの第１スリ
ット１７ａが円対称に設けられている。一方、前記第２
円盤１７には、第１円盤１６の第１スリット１６ａの長
さよりも長い長さを有する４ケの第２スリット１７ａ（
但し、両スリットの幅は同じ）が設けられている。ここ
で、前記第２円盤１７は、第１の円盤１６と同速でかつ
同方向に回転する。なお、図中の１９はシャフト１８の
一端に取付けられて前記円盤１６，１７を回転させるモ
−タ、２０は筐体１４内に取付けられた金属蒸気侵入防
止材である。こうした構成の観測装置において、真空容
器内の金属蒸発時の観測は次のように行う。 （１） 観測装置の開閉カバ−１５を開き、筐体１３内
の第１・第２円盤１６，１７をシャフト１８の一端に取
付けられたモ−タ１９で回転させる。 （２） 上記開閉カバ−１５を通過した金属蒸気２１は
、第２円盤１７に当たる。 （３） 金属蒸気２１は第２円盤１７である程度遮断さ
れるが、第２円盤１７の第２スリット１７ａ を通過し
た金属蒸気２１は、第１円盤１６の第１スリット１６ａ
へ向かう。
シャフト１８に取付けられ、前記第１円盤１６が観測窓
側で、第２円盤１７が蒸着源側に位置する。前記第１円
盤１７には、例えば図１（Ｂ）のように４ケの第１スリ
ット１７ａが円対称に設けられている。一方、前記第２
円盤１７には、第１円盤１６の第１スリット１６ａの長
さよりも長い長さを有する４ケの第２スリット１７ａ（
但し、両スリットの幅は同じ）が設けられている。ここ
で、前記第２円盤１７は、第１の円盤１６と同速でかつ
同方向に回転する。なお、図中の１９はシャフト１８の
一端に取付けられて前記円盤１６，１７を回転させるモ
−タ、２０は筐体１４内に取付けられた金属蒸気侵入防
止材である。こうした構成の観測装置において、真空容
器内の金属蒸発時の観測は次のように行う。 （１） 観測装置の開閉カバ−１５を開き、筐体１３内
の第１・第２円盤１６，１７をシャフト１８の一端に取
付けられたモ−タ１９で回転させる。 （２） 上記開閉カバ−１５を通過した金属蒸気２１は
、第２円盤１７に当たる。 （３） 金属蒸気２１は第２円盤１７である程度遮断さ
れるが、第２円盤１７の第２スリット１７ａ を通過し
た金属蒸気２１は、第１円盤１６の第１スリット１６ａ
へ向かう。
【００１３】（４） しかし、第１円盤１６，第２円盤
１７は共に同一の位置関係に設定してあり、第２スリッ
ト１７ａを通過した金属蒸気２１が第１円盤に達した時
すでに第１スリット１６ａは先に回転しているため、金
属蒸気２１は第１円盤表面に蒸着する。 （５） 以上の経過で、金属蒸気２１は２枚の円盤１６
，１７に同一位置に明けた夫々のスリット１６ａ，１７
ａを同一の回転することで観測窓１２への蒸着を妨げら
れる。
１７は共に同一の位置関係に設定してあり、第２スリッ
ト１７ａを通過した金属蒸気２１が第１円盤に達した時
すでに第１スリット１６ａは先に回転しているため、金
属蒸気２１は第１円盤表面に蒸着する。 （５） 以上の経過で、金属蒸気２１は２枚の円盤１６
，１７に同一位置に明けた夫々のスリット１６ａ，１７
ａを同一の回転することで観測窓１２への蒸着を妨げら
れる。
【００１４】このように、本実施例に係る観測装置は、
真空容器１１の観測窓側に配置された４ケの第１スリッ
ト１６ａを有する高速回転可能な第１円盤１６と、真空
容器１２の蒸着源側に前記第１の円盤１６と一定距離を
もって平行に配置され、前記第１スリット１６ａに対応
した複数の第２スリット１７ａを有し、かつ前記第１円
盤１６と同速，同方向に回転可能な第２円盤１７とを具
備し、前記第２スリット１７ａの長さが第１スリット１
６ａの長さよりも大きく、かつ両スリット１６ａ，１７
ａが夫々円対称に配置されているため、金属蒸気２１が
観測窓１２に蒸着することを防ぐ事ができる。以下に、
金属蒸気装置における金属蒸気の観測窓蒸着防止効果に
ついて、具体的に説明する。
真空容器１１の観測窓側に配置された４ケの第１スリッ
ト１６ａを有する高速回転可能な第１円盤１６と、真空
容器１２の蒸着源側に前記第１の円盤１６と一定距離を
もって平行に配置され、前記第１スリット１６ａに対応
した複数の第２スリット１７ａを有し、かつ前記第１円
盤１６と同速，同方向に回転可能な第２円盤１７とを具
備し、前記第２スリット１７ａの長さが第１スリット１
６ａの長さよりも大きく、かつ両スリット１６ａ，１７
ａが夫々円対称に配置されているため、金属蒸気２１が
観測窓１２に蒸着することを防ぐ事ができる。以下に、
金属蒸気装置における金属蒸気の観測窓蒸着防止効果に
ついて、具体的に説明する。
【００１５】まず、図１で金属蒸気２１の速度ｖ＝１５
００ｍ／ｓｅｃ 、金属溶融面Ｓの長さ１００ｍｍ、溶
融面Ｓから第２スリット１７ａまでの距離Ｌ＝２０００
ｍｍ、第２スリット１７ａの長さＮ１ ＝７ｍｍ、第２
円盤１７から第１円盤１６までの距離Ｌ１ ＝１００ｍ
ｍ 、第１スリット１７ａの長さＮ２ ＝２．３ ｍｍ
、第１円盤１６から観測窓１２までの距離Ｌ２ ＝５０
ｍｍとすると、以下の計算から観測窓１２に金属蒸気２
１が蒸着しないための円盤の回転数が求まる。
００ｍ／ｓｅｃ 、金属溶融面Ｓの長さ１００ｍｍ、溶
融面Ｓから第２スリット１７ａまでの距離Ｌ＝２０００
ｍｍ、第２スリット１７ａの長さＮ１ ＝７ｍｍ、第２
円盤１７から第１円盤１６までの距離Ｌ１ ＝１００ｍ
ｍ 、第１スリット１７ａの長さＮ２ ＝２．３ ｍｍ
、第１円盤１６から観測窓１２までの距離Ｌ２ ＝５０
ｍｍとすると、以下の計算から観測窓１２に金属蒸気２
１が蒸着しないための円盤の回転数が求まる。
【００１６】第２スリット１７ａを通過した金属蒸気２
１が第１スリット１６ａに達するまでの時間（ｔ）は、
ｔ＝Ｌ１ ／ｖ＝１００ ／１５００×１０３ ＝０．
００００６７である。金属蒸気２１が第１スリット１６
ａを通過しない条件の速度（ｖ１）は、ｖ１ ＝２．３
／０．００００６６７＝３４４８２．７ｍｍ ／ｓｅ
ｃ である。
１が第１スリット１６ａに達するまでの時間（ｔ）は、
ｔ＝Ｌ１ ／ｖ＝１００ ／１５００×１０３ ＝０．
００００６７である。金属蒸気２１が第１スリット１６
ａを通過しない条件の速度（ｖ１）は、ｖ１ ＝２．３
／０．００００６６７＝３４４８２．７ｍｍ ／ｓｅ
ｃ である。
【００１７】第１スリット１６ａの最小半径（Ｒ）をＲ
＝５５ｍｍと仮定すると、ｖ１ ＝２πＲ・ｎとなり、
円盤の回転数ｎはｎ＝ｖ１ ・／２πＲ＝３４４８２．
７ ／２ ×３．１４×５５＝約９９．８（ＲＰＳ）、
９９．８×６０＝５９８８ＲＰＭとなり、円盤を約５９
９０ＲＰＭで回転させれば観測窓１２の蒸着を防止でき
る。なお、前記第１円盤１６の直径Ｄをφ１５０ 、ス
リット１６ａの長さ（Ｌ３ ）を１０ｍｍ、スリット１
６ａの一端から第１円盤１６ａの周端までの距離（Ｌ４
）を１０ｍｍとした。このように、本装置の使用によ
り、蒸着装置等の金属蒸気を伴う試験装置で長時間の真
空容器内部の観測が可能となる。また、観測窓１２の蒸
着進行に伴った半盲運転の状態が解決する。
＝５５ｍｍと仮定すると、ｖ１ ＝２πＲ・ｎとなり、
円盤の回転数ｎはｎ＝ｖ１ ・／２πＲ＝３４４８２．
７ ／２ ×３．１４×５５＝約９９．８（ＲＰＳ）、
９９．８×６０＝５９８８ＲＰＭとなり、円盤を約５９
９０ＲＰＭで回転させれば観測窓１２の蒸着を防止でき
る。なお、前記第１円盤１６の直径Ｄをφ１５０ 、ス
リット１６ａの長さ（Ｌ３ ）を１０ｍｍ、スリット１
６ａの一端から第１円盤１６ａの周端までの距離（Ｌ４
）を１０ｍｍとした。このように、本装置の使用によ
り、蒸着装置等の金属蒸気を伴う試験装置で長時間の真
空容器内部の観測が可能となる。また、観測窓１２の蒸
着進行に伴った半盲運転の状態が解決する。
【００１８】
【発明の効果】以上詳述した如く本発明によれば、光と
蒸気の速度差を利用することにより、蒸着源側の第２円
盤の第２スリットを通過した金属蒸気を観測窓側の第１
円盤で遮断し、もって金属蒸気が観測窓へ蒸着するのを
防止でき、真空装置内部を長時間に亘って観測可能な蒸
着物の観測装置を提供できる。
蒸気の速度差を利用することにより、蒸着源側の第２円
盤の第２スリットを通過した金属蒸気を観測窓側の第１
円盤で遮断し、もって金属蒸気が観測窓へ蒸着するのを
防止でき、真空装置内部を長時間に亘って観測可能な蒸
着物の観測装置を提供できる。
【図１】本発明の一実施例に係る蒸着物の観測装置の原
理説明図。
理説明図。
【図２】図１の観測装置の概略斜視図。
【図３】図２の平面図。
【図４】従来の蒸着物の観測装置の説明図。
１１…真空装置、１２…観測窓、１３…観測装置、１４
…筐体、１５…開閉カバ−、１６…第１円盤、１６ａ…
第１スリット、１７…第２円盤、１７ａ…第２スリット
、１８…シャフト、１９…モ−タ、２１…金属蒸気。
…筐体、１５…開閉カバ−、１６…第１円盤、１６ａ…
第１スリット、１７…第２円盤、１７ａ…第２スリット
、１８…シャフト、１９…モ−タ、２１…金属蒸気。
Claims (1)
- 【請求項１】 真空中で金属等を蒸発させる真空装置
に用いられる蒸着物の観測装置において、真空装置の観
測窓側に配置され、複数の第１スリットを有する高速回
転可能な第１円盤と、真空装置の蒸着源側に前記第１円
盤と一定距離をもって平行に配置され、前記第１スリッ
トに対応した複数の第２スリットを有し、かつ前記第１
円盤と同速，同方向に回転可能な第２円盤とを具備し、
前記第２スリットの長さが第１スリットの長さよりも大
きく、かつ第１・第２スリットが夫々円対称に配置され
ていることを特徴とする蒸着物の観測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1544691A JPH04254582A (ja) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | 蒸着物の観測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1544691A JPH04254582A (ja) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | 蒸着物の観測装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04254582A true JPH04254582A (ja) | 1992-09-09 |
Family
ID=11889037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1544691A Withdrawn JPH04254582A (ja) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | 蒸着物の観測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04254582A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113042757A (zh) * | 2021-04-27 | 2021-06-29 | 天津清研智束科技有限公司 | 一种防蒸镀的增材制造装置 |
-
1991
- 1991-02-06 JP JP1544691A patent/JPH04254582A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113042757A (zh) * | 2021-04-27 | 2021-06-29 | 天津清研智束科技有限公司 | 一种防蒸镀的增材制造装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |