JPH04246419A - オルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
オルガノポリシロキサンの製造方法Info
- Publication number
- JPH04246419A JPH04246419A JP3031495A JP3149591A JPH04246419A JP H04246419 A JPH04246419 A JP H04246419A JP 3031495 A JP3031495 A JP 3031495A JP 3149591 A JP3149591 A JP 3149591A JP H04246419 A JPH04246419 A JP H04246419A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organopolysiloxane
- group
- silicon
- groups
- molecule
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims abstract description 53
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 20
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 21
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 abstract description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 11
- 239000003607 modifier Substances 0.000 abstract description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- -1 3-chloropropyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000005133 29Si NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012676 equilibrium polymerization Methods 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 2
- NYMPGSQKHIOWIO-UHFFFAOYSA-N hydroxy(diphenyl)silicon Chemical class C=1C=CC=CC=1[Si](O)C1=CC=CC=C1 NYMPGSQKHIOWIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- VSIKJPJINIDELZ-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6,8,8-octakis-phenyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound O1[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si]1(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VSIKJPJINIDELZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCYDUTCMKSROID-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexakis-phenyl-1,3,5,2,4,6-trioxatrisilinane Chemical compound O1[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si]1(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VCYDUTCMKSROID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000004071 biological effect Effects 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002352 surface water Substances 0.000 description 1
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000003799 water insoluble solvent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/045—Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
およびケイ素原子結合水素原子を各々1個以上有するオ
ルガノポリシロキサンの製造方法に関する。
サンは、有機樹脂モノマーと共重合したりまた有機樹脂
と混練することにより、得られる有機樹脂が優れた耐候
性、表面撥水性、潤滑性、生体適合性、ガス透過性等を
有するため、有機樹脂の改質剤として有用である。
基を有するオルガノポリシロキサンが知られており、例
えば、アミノ変性オルガノポリシロキサン,エポキシ変
性オルガノポリシロキサン,メタクリロキシ変性オルガ
ノポリシロキサン,カルビノール変性オルガノポリシロ
キサン,カルボン酸変性オルガノポリシロキサン等が例
示される。上記の有機官能基を有するオルガノポリシロ
キサンは、一般に、白金系触媒の存在下で、ケイ素原子
結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンと有機官
能基を有する脂肪族不飽和炭化水素とをヒドロシリル化
反応することにより製造される。この製造方法で使用す
るケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキ
サンは、通常、メチルポリシロキサンが主骨格であった
。
基を有するオルガノポリシロキサンは、メチル基を有す
るオルガノポリシロキサンに比較して有機樹脂に対する
親和性が良好であり、有機樹脂とフェニル基を有するオ
ルガノポリシロキサンを混練すると、得られた有機樹脂
は優れた耐放射線性、耐熱性、不燃性、低温可とう性等
を有した。
させるための有機樹脂の改質剤として、フェニル基およ
び有機官能基を有するオルガノポリシロキサンが望まれ
ていた。しかし、フェニル基および有機官能基を有する
オルガノポリシロキサンを製造するために、その原料で
ある、1分子中にフェニル基およびケイ素原子結合水素
原子を有するオルガノポリシロキサンを製造することは
非常に困難であった。これは、1分子中にフェニル基お
よびケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロ
キサンを酸性触媒の存在下で平衡重合反応により製造す
る場合、ケイ素−フェニル基結合が切断されまた、塩基
性触媒の存在下で平衡重合反応により製造する場合、ケ
イ素−水素結合が切断されるからである。
号および特願平2−336315号において、分子鎖両
末端または分子鎖片末端にケイ素原子結合水素原子を有
するジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合
体およびその製造方法について提案した。
特願平2−336315号により提案した製造方法は、
分子鎖両末端または分子鎖片末端にケイ素原子結合水素
原子を有するジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサ
ン共重合体を高収率で、かつ、狭い範囲の分子量分布で
製造することができるという特徴を有する反面、高価で
取り扱いが困難な有機リチウム化合物を使用し、重合反
応のコントロールが難しく、分子鎖側鎖にケイ素原子結
合水素原子を有するオルガノポリシロキサンを製造する
ことはできず、さらにケイ素原子結合水素原子の含有率
が高いオルガノポリシロキサンを製造することはできな
いという欠点があった。
点を解決すべく鋭意研究した結果、本発明に到達した。 すなわち、本発明の目的は、1分子中にフェニル基およ
びケイ素原子結合水素原子を各々1個以上有するオルガ
ノポリシロキサンの製造方法を提供することにある。
目的は、塩酸水溶液中で、1分子中にフェニル基および
アルコキシ基を各々1個以上有する分子量100,00
0以下であるオルガノポリシロキサンと1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサンを反応させることにより達
成でされる。以下、本発明の製造方法について詳細に説
明する。
基およびアルコキシ基を各々1個以上有する分子量10
0,000以下であるオルガノポリシロキサンを使用す
る。これは、分子量が100,000を越えるオルガノ
ポリシロキサンを使用すると、該オルガノポリシロキサ
ンの有機溶剤に対する溶解性が低下し、また、ケイ素原
子結合アルコキシ基の反応性が低下し、さらには反応の
転化率が著しく低下するからである。また、オルガノポ
リシロキサン中のアルコキシ基はメトキシ基,エトキシ
基,プロポキシ基,ヘキシロキシ基等であるが、経済性
および反応性からアルコキシ基はメトキシ基であること
が好ましい。上記のオルガノポリシロキサンは、周知の
方法により製造できる。例えば、ジメトキシシランとト
リメトキシシランとの混合物を加水分解することにより
、次式で表されるオルガノポリシロキサンを製造できる
(特公昭32−7546号公報参照)。
546号公報に開示される製造方法において、ジメトキ
シシランおよびトリメトキシシランとの混合物と反応さ
せる水の量を調節することによって、得られるオルガノ
ポリシロキサンの分子量を調節することができる。
ロテトラシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキ
サンあるいはフェニルメチルシクロオリゴシロキサンと
それら以外の各種ジオルガノシクロオリゴシロキサンを
塩基性触媒下での共重合反応する製造方法において、分
子鎖末端封鎖剤としてジフェニルジアルコキシシランを
用いることにより、分子鎖両末端をアルコキシ基で封鎖
したオルガノポリシロキサンを製造できる。
シロキサン中の、フェニル基およびアルコキシ基以外の
ケイ素原子に結合する有機基は、塩酸酸性条件下で化学
反応を起こさない有機基であれば別に特定されない。こ
の有機基は、具体的には、メチル基,エチル基,プロピ
ル基,ブチル基等のアルキル基;3−クロロプロピル基
,4−クロロブチル基,3−フルオロプロピル基,3,
3−ジフルオロプロピル基,3,3,3−トリフルオロ
プロピル基等のハロアルキル基;シクロペンチル基,シ
クロヘキシル基,シクロヘプチル基等のシクロアルキル
基等であり、経済性からメチル基であることが好ましい
。
1分子中にフェニル基およびアルコキシ基を各々1個以
上有する分子量100,000以下であるオルガノポリ
シロキサンと1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ンを反応させることにより、1分子中にフェニル基およ
びケイ素原子結合アルコキシ基を各々1個以上有するオ
ルガノポリシロキサンを製造することができる。この反
応は次の化学反応式で示される。
とオルガノポリシロキサンとの相溶性を向上させるため
に、アルコール溶媒を使用することが好ましい。使用で
きるアルコールはエチルアルコール,イソプロピルアル
コール,t−ブチルアルコール等であり、特にイソプロ
ピルアルコールであることが好ましい。
1,3,3−テトラメチルジシロキサンのモル数は、特
に制限されず、1分子中にアルコキシ基およびケイ素原
子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンを製造
する場合には、原料のオルガノポリシロキサン中のアル
コキシ基に対して、1,1,3,3−テトラメチルジシ
ロキサンを当量以下で使用すればよくまた、オルガノポ
リシロキサン中のアルコキシ基をすべてジメチルシロキ
シ基で置換する場合には、化学量論量よりも過剰に使用
すればよい。この際、1,1,3,3−テトラメチルジ
シロキサンを過剰に使用すればするほど反応の転化率は
向上するが、経済的な観点から5倍当量以下が好ましい
。
濃度は、高いほど反応速度が大きくなるが、あまり高す
ぎるとケイ素−フェニル基結合の解裂やシロキサン鎖の
再配列が起こるので塩酸水溶液の濃度は1重量%〜36
重量%の範囲が好ましく、特に好ましくは5重量%〜1
5重量%の範囲である。
いほど反応速度が大きくなるため好ましいが、あまり高
すぎると前述した副反応が起こるため、反応温度は10
〜50℃の範囲であり、好ましくは20〜40℃の範囲
である。また、反応時間は、長いほど上記反応の転化率
が向上するため好ましいが、あまり長すぎると前述した
副反応が起こるため、反応時間は30分〜6時間の範囲
であり、好ましくは1〜3時間の範囲である。上記の塩
酸水溶液の濃度、反応温度、反応時間はそれぞれ独立に
作用するのではなく相互に関係しあっているので、最良
の結果を得るためには、一つの条件が高い(あるいは長
い)場合には、他の二つの条件は低く(あるいは短く)
する必要がある。
、反応混合物から定期的にサンプリングを行い、有機層
を分離した後、中和、水洗、乾燥、低沸点物の除去を行
った後、核磁気共鳴吸収により、Si−H結合のシグナ
ルの生成とアルコキシ基のシグナルの減少を追跡するこ
とにより確認できる。反応が終了したならば、直ちに有
機層を分離するが、分離を容易にするために、トルエン
やヘキサン等のオルガノポリシロキサンを溶解し、非水
溶性である溶剤を添加してもよい。次に、有機層の残留
塩化水素を炭酸水素ナトリウム等の中和剤で中和し、水
層のpHが中性になるまで水洗し、硫酸ナトリウム、モ
レキュラーシーブス等の脱水剤で乾燥した後、溶剤およ
び低沸点物を加熱減圧留去して目的のオルガノポリシロ
キサンを得る。有機層の分離の際、トルエンを添加した
場合には、脱水剤で乾燥せず、共沸脱水により脱水と留
去を同時に行ってもよい。
ニル基およびケイ素原子結合水素原子を各々1個以上有
するオルガノポリシロキサンを製造することができ、ま
たケイ素原子結合水素原子の含有率が高いオルガノポリ
シロキサンを製造できる。このようにして製造された、
1分子中にフェニル基およびケイ素原子結合水素原子を
各々1個以上有するオルガノポリシロキサンは、白金系
触媒の存在下に種々の有機官能基を有する脂肪族炭化水
素とヒドシリル化反応することにより、ケイ素原子結合
フェニル基を有する有機変性オルガノポリシロキサンを
製造することができる。
発明はこれらに限定されない。実施例中、Phはフェニ
ル基を示す。
ロピルアルコール320ミリリットル、濃塩酸160ミ
リリットル、水240ミリリットルを投入し、さらに1
,1,3,3−テトラメチルジシロキサン51.8グラ
ム(386.8ミリモル)を投入した。これに、平均式
:
36ミリモル)のイソプロピルアルコール(80ミリリ
ットル)溶液を滴下し、33〜35℃で2時間攪拌した
。反応混合物にヘキサンを加えて、有機層を分離し、炭
酸水素ナトリウムを加えて残留塩化水素を中和した後、
水層のpHが中性になるまで水洗を行った。有機層に硫
酸ナトリウムを加えて乾燥した後、溶媒及び低沸点物を
減圧下加熱留去し無色透明のポリマーを得た。このポリ
マーは核磁気共鳴吸収(以下、NMRと略記する。)、
赤外分光分析(以下、IRと略記する。)、ゲルパーミ
エーションクロマトグラフィー(以下、GPCと略記す
る。)およびヨードメトリーによるケイ素原子結合水素
原子含有量の測定値から以下の平均式で示されるオルガ
ノポリシロキサンであることが判明した。
フェニル基結合の解裂は全く起こっていないことが判明
した。
ロピルアルコール160ミリリットル、濃塩酸80ミリ
リットル、水160ミリリットルを投入し、さらに1,
1,3,3−テトラメチルジシロキサン6.7グラム(
50.0ミリモル)を投入した。これに、平均式:
4】 で示されるオルガノポリシロキサン40グラム(10.
0ミリモル)のイソプロピルアルコール(40ミリリッ
トル)溶液を滴下し、26〜35℃で2時間攪拌した。 実施例1と同様の後処理を行い、無色透明のポリマーを
得た。このポリマーはNMR、IR、GPCおよびヨー
ドメトリーによるケイ素原子結合水素原子の含有量の測
定値から以下の平均式で示されるオルガノポリシロキサ
ンであることが判明した。
フェニル基結合の解裂は全く起こっていないことが判明
した。
ロピルアルコール640ミリリットル、濃塩酸160ミ
リリットル、水640ミリリットルを投入し、さらに1
,1,3,3−テトラメチルジシロキサン259.4グ
ラム(1935.5ミリモル)を投入した。これに、平
均式:
キシ基含有量は774.2ミリ当量である。)のイソプ
ロピルアルコール(160ミリリットル)溶液を滴下し
、27℃で2時間攪拌した。実施例1と同様の後処理を
行い、無色透明のポリマーを得た。このポリマーはNM
R、IR、GPCおよびヨードメトリーによるケイ素原
子結合水素原子の含有量の測定値から以下の平均式で示
されるオルガノポリシロキサンであることが判明した。
ル基およびケイ素原子結合水素原子を各々1個以上有す
るオルガノポリシロキサンを容易に製造できるという特
徴を有する。
Claims (1)
- 【請求項1】 塩酸水溶液中で、1分子中にフェニル
基およびアルコキシ基を各々1個以上有する分子量10
0,000以下のオルガノポリシロキサンと1,1,3
,3−テトラメチルジシロキサンを反応させることを特
徴とする、1分子中にフェニル基およびケイ素原子結合
水素原子を各々1個以上有するオルガノポリシロキサン
の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3031495A JP2538426B2 (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
US07/826,344 US5169909A (en) | 1991-01-31 | 1992-01-27 | Method for the preparation of organopolysiloxane |
CA002060143A CA2060143C (en) | 1991-01-31 | 1992-01-28 | Method for the preparation of organopolysiloxane |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3031495A JP2538426B2 (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04246419A true JPH04246419A (ja) | 1992-09-02 |
JP2538426B2 JP2538426B2 (ja) | 1996-09-25 |
Family
ID=12332830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3031495A Expired - Lifetime JP2538426B2 (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5169909A (ja) |
JP (1) | JP2538426B2 (ja) |
CA (1) | CA2060143C (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0616812A (ja) * | 1992-04-29 | 1994-01-25 | General Electric Co <Ge> | 三官能性の水素化シロキサン流体 |
JPH08295783A (ja) * | 1995-04-26 | 1996-11-12 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
JPH08325381A (ja) * | 1995-05-31 | 1996-12-10 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
US6169156B1 (en) * | 1998-02-25 | 2001-01-02 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Branched siloxane-silalkylene copolymer |
JPH10292047A (ja) * | 1997-04-21 | 1998-11-04 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | シロキサン化合物の製造方法 |
US20030096090A1 (en) * | 2001-10-22 | 2003-05-22 | Boisvert Ronald Paul | Etch-stop resins |
US7645422B2 (en) * | 2003-04-11 | 2010-01-12 | Therm-O-Disc, Incorporated | Vapor sensor and materials therefor |
US7211637B2 (en) * | 2004-06-03 | 2007-05-01 | Therm-O-Disc, Incorporated | Sterically hindered reagents for use in single component siloxane cure systems |
US7708947B2 (en) * | 2005-11-01 | 2010-05-04 | Therm-O-Disc, Incorporated | Methods of minimizing temperature cross-sensitivity in vapor sensors and compositions therefor |
US8012420B2 (en) | 2006-07-18 | 2011-09-06 | Therm-O-Disc, Incorporated | Robust low resistance vapor sensor materials |
US20080025876A1 (en) * | 2006-07-26 | 2008-01-31 | Ramamurthy Praveen C | Vapor sensor materials having polymer-grafted conductive particles |
US8691390B2 (en) * | 2007-11-20 | 2014-04-08 | Therm-O-Disc, Incorporated | Single-use flammable vapor sensor films |
JP5585448B2 (ja) * | 2008-07-31 | 2014-09-10 | 株式会社カネカ | 皮膚貼付用粘着シート |
CN110382101B (zh) | 2016-12-02 | 2022-10-25 | 株式会社资生堂 | 用于生产定制的外用制剂的系统、方法和设备 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS638421A (ja) * | 1986-06-28 | 1988-01-14 | ダウ・コ−ニング・リミテッド | シロキサン樹脂およびそれを製造する方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2821518A (en) * | 1954-05-25 | 1958-01-28 | Westinghouse Electric Corp | Process of preparing an organopolysiloxane modified polyester resin, the product thereof, and electrical conductor coated therewith |
US3155634A (en) * | 1959-12-08 | 1964-11-03 | Union Carbide Corp | Fluoro-organic acid catalyzed condensation of siloxanols |
JPS6414177A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-18 | Ngk Spark Plug Co | Silicon carbide whisker-reinforced sialon composite material |
-
1991
- 1991-01-31 JP JP3031495A patent/JP2538426B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-01-27 US US07/826,344 patent/US5169909A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-28 CA CA002060143A patent/CA2060143C/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS638421A (ja) * | 1986-06-28 | 1988-01-14 | ダウ・コ−ニング・リミテッド | シロキサン樹脂およびそれを製造する方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2060143A1 (en) | 1992-08-01 |
JP2538426B2 (ja) | 1996-09-25 |
CA2060143C (en) | 1998-08-18 |
US5169909A (en) | 1992-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100574573B1 (ko) | 카보실록산 덴드리머 | |
JP2538426B2 (ja) | オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
CA2061107C (en) | Organopentasiloxane and method for its preparation | |
JPH07224075A (ja) | 純粋なフェニルプロピルアルキルシロキサン | |
EP0431409B1 (en) | A nonaqueous method for making silicone polymers | |
US7576169B2 (en) | Facile synthesis of polyhedral silsesquioxane anions and use thereof | |
EP0639576B1 (en) | Organopolysiloxanes having a silanol group and process of making them | |
JP3015139B2 (ja) | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 | |
JP3015145B2 (ja) | オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
JP3756576B2 (ja) | ヒドロキシフェニル基含有ポリオルガノシロキサン | |
KR101570512B1 (ko) | 플루오로카보작용 실세스퀴옥산의 합성 | |
JPH0632902A (ja) | 分子鎖末端に水酸基を有する直鎖状オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
JP2761931B2 (ja) | オルガノポリシロキサン及びその製造方法 | |
US5532399A (en) | Process for the preparation or organosilicon compounds carrying sulfur-containing organic radicals | |
US5693735A (en) | Trimethylsiloxy group-containing polysiloxane and a process for producing the same | |
Guibergia-Pierron et al. | Heterofunctional condensation of alkoxysilanes and silanols—I. Synthesis of definite polysiloxane networks | |
US6147243A (en) | Method for preparing organosilicon compounds | |
JP3015153B2 (ja) | フェニル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
JP2538426C (ja) | ||
JP2000212283A5 (ja) | ||
JPH0717981A (ja) | 有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
US5238988A (en) | Rapid cure room temperature vulcanizable organosiloxane compositions | |
JP3063461B2 (ja) | オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
RU2259377C1 (ru) | Способ получения олигоорганосилоксанов | |
KR100507886B1 (ko) | 분지상실록산-실알킬렌공중합체 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090708 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100708 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100708 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110708 Year of fee payment: 15 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110708 Year of fee payment: 15 |