JP3063461B2 - オルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
オルガノポリシロキサンの製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、塗料、成形材料、医療
用材料、各種コーティング材料分野などで有機樹脂の改
質剤等として好適に用いられる新規なオルガノポリシロ
キサンの製造方法に関する。
用材料、各種コーティング材料分野などで有機樹脂の改
質剤等として好適に用いられる新規なオルガノポリシロ
キサンの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、有機官能基を含有するオルガノポリシロキサンは、
塗料、成形材料、医療用材料、各種コーティング材料等
の分野で樹脂改質剤として広く利用され、有機樹脂に耐
熱性、耐候性、離型性、成形加工性、耐熱衝撃性等の特
性を付与するものである。
り、有機官能基を含有するオルガノポリシロキサンは、
塗料、成形材料、医療用材料、各種コーティング材料等
の分野で樹脂改質剤として広く利用され、有機樹脂に耐
熱性、耐候性、離型性、成形加工性、耐熱衝撃性等の特
性を付与するものである。
【０００３】このような有機官能基を含有するオルガノ
ポリシロキサンとしては、従来、ジメチルポリシロキサ
ンの両末端にアルコール性水酸基を含有する化合物（特
公昭５４−８７１８号公報）、ジメチルポリシロキサン
の両末端に官能基を有する化合物（特開昭５８−２１７
５１５号、同５９−１２３５０２号公報）、側鎖に官能
基を有するメチルポリシロキサン（特公昭６１−１８９
６８号、同６１−２８８８０号公報）、側鎖及び両末端
にアルコール性水酸基を含有するメチルフェニルポリシ
ロキサンが提案されている。また最近では１分子中に
（メタ）アクリル基、エポキシ基、アルコール性水酸基
等の異種の官能基を含有するオルガノポリシロキサン
（特開平２−２９４９６２号、同２９４９６３号公報）
も提案されている。
ポリシロキサンとしては、従来、ジメチルポリシロキサ
ンの両末端にアルコール性水酸基を含有する化合物（特
公昭５４−８７１８号公報）、ジメチルポリシロキサン
の両末端に官能基を有する化合物（特開昭５８−２１７
５１５号、同５９−１２３５０２号公報）、側鎖に官能
基を有するメチルポリシロキサン（特公昭６１−１８９
６８号、同６１−２８８８０号公報）、側鎖及び両末端
にアルコール性水酸基を含有するメチルフェニルポリシ
ロキサンが提案されている。また最近では１分子中に
（メタ）アクリル基、エポキシ基、アルコール性水酸基
等の異種の官能基を含有するオルガノポリシロキサン
（特開平２−２９４９６２号、同２９４９６３号公報）
も提案されている。
【０００４】しかし、これまでに、（メタ）アクリル基
とカルボキシル基の双方の官能基を含有するオルガノポ
リシロキサンは知られていない。
とカルボキシル基の双方の官能基を含有するオルガノポ
リシロキサンは知られていない。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、樹
脂改質剤等として更に有効に使用される有機オルガノポ
リシロキサンにつき鋭意検討を行った結果、下記平均組
成式（２）で示されるオルガノハイドロジェンポリシロ
キサンのＳｉＨ基にアクリル酸、メタクリル酸、ウンデ
シレン酸から選ばれる不飽和化合物をｃモル付加するこ
とにより、下記平均組成式（１）で示されるオルガノポ
リシロキサンが得られることを見い出した。
脂改質剤等として更に有効に使用される有機オルガノポ
リシロキサンにつき鋭意検討を行った結果、下記平均組
成式（２）で示されるオルガノハイドロジェンポリシロ
キサンのＳｉＨ基にアクリル酸、メタクリル酸、ウンデ
シレン酸から選ばれる不飽和化合物をｃモル付加するこ
とにより、下記平均組成式（１）で示されるオルガノポ
リシロキサンが得られることを見い出した。
【０００６】
【化４】 （但し、Ｘはアクリロキシプロピル基又はメタクリロキ
シプロピル基、Ｙはカルボキシエチル基、カルボキシプ
ロピル基及びカルボキシデシル基より選ばれる有機基、
Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を示
す。ａ、ｂ、ｃは整数で、０≦ａ≦１００、１≦ｂ≦２
０、１≦ｃ≦２０である。）
シプロピル基、Ｙはカルボキシエチル基、カルボキシプ
ロピル基及びカルボキシデシル基より選ばれる有機基、
Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を示
す。ａ、ｂ、ｃは整数で、０≦ａ≦１００、１≦ｂ≦２
０、１≦ｃ≦２０である。）
【０００７】またこの場合、平均組成式（２）のオルガ
ノハイドロジェンポリシロキサンへのアクリル酸、メタ
クリル酸、ウンデシレン酸から選ばれる不飽和化合物の
付加の時に脱水素反応を防ぐため、これら不飽和化合物
のカルボキシル基の活性水素をアルキル基又はシリル基
に置換した不飽和化合物を付加し、その後加水分解又は
脱シリル化することにより、平均組成式（１）で示され
る１分子中に（メタ）アクリル基及びカルボキシル基の
双方を含むオルガノポリシロキサンがより有利に得られ
ることを見い出した。
ノハイドロジェンポリシロキサンへのアクリル酸、メタ
クリル酸、ウンデシレン酸から選ばれる不飽和化合物の
付加の時に脱水素反応を防ぐため、これら不飽和化合物
のカルボキシル基の活性水素をアルキル基又はシリル基
に置換した不飽和化合物を付加し、その後加水分解又は
脱シリル化することにより、平均組成式（１）で示され
る１分子中に（メタ）アクリル基及びカルボキシル基の
双方を含むオルガノポリシロキサンがより有利に得られ
ることを見い出した。
【０００８】更に、上記平均組成式（１）のオルガノポ
リシロキサンは、下記平均組成式（３）で示されるポリ
シロキサンと平均組成式（４）で示される化合物を平衡
化する方法、また、平均組成式（３）のポリシロキサン
と平均組成式（５）の化合物とを加水分解、平衡化する
方法によっても得られることを見い出した。
リシロキサンは、下記平均組成式（３）で示されるポリ
シロキサンと平均組成式（４）で示される化合物を平衡
化する方法、また、平均組成式（３）のポリシロキサン
と平均組成式（５）の化合物とを加水分解、平衡化する
方法によっても得られることを見い出した。
【０００９】
【化５】 （但し、Ｘ、Ｙ、Ｒ１、ａ、ｃは上記と同様の意味を示
し、Ｒ２はメチル基又はエチル基を示し、ｄは整数で３
≦ｄ≦１０である。）
し、Ｒ２はメチル基又はエチル基を示し、ｄは整数で３
≦ｄ≦１０である。）
【００１０】そして、平均組成式（１）のオルガノポリ
シロキサンは、１分子中に（メタ）アクリル基及びカル
ボキシル基双方の官能基を有するため、有機樹脂、例え
ばエポキシ樹脂、アクリル樹脂等との相溶性が高く、こ
れらの樹脂に耐熱性、耐候性、成形加工性、密着性、潤
滑性、水溶性等の特性を付与することができ、異種の架
橋点の利用による強度向上、各種有機樹脂とのグラフト
化による改質が計られることを知見した。特に、このオ
ルガノポリシロキサンは２種類の官能基を有しているた
め、その反応性の差を利用して、架橋方法を分けて使用
したり、重合と架橋を分けて使用できるので、樹脂改質
剤として優れた特性を有すること、またカルボキシル基
を含有することにより、優れた潤滑性、離型性、水溶性
等を付与することができること、特にアミン中和により
アニオン型の水溶性樹脂を形成する上で有効であること
を知見した。また、アクリル基又はメタクリル基を単独
で或いは他の重合性単量体とラジカル共重合させること
により、今まで合成することが困難であった官能基含有
シロキサングラフトアクリル系ポリマーが得られること
を知見した。更に、このオルガノポリシロキサンにジフ
ェニルシロキサン単位やメチルフェニルシロキサン単位
を含有させることにより、有機樹脂との相溶性が著しく
向上することを見い出し、本発明をなすに至った。
シロキサンは、１分子中に（メタ）アクリル基及びカル
ボキシル基双方の官能基を有するため、有機樹脂、例え
ばエポキシ樹脂、アクリル樹脂等との相溶性が高く、こ
れらの樹脂に耐熱性、耐候性、成形加工性、密着性、潤
滑性、水溶性等の特性を付与することができ、異種の架
橋点の利用による強度向上、各種有機樹脂とのグラフト
化による改質が計られることを知見した。特に、このオ
ルガノポリシロキサンは２種類の官能基を有しているた
め、その反応性の差を利用して、架橋方法を分けて使用
したり、重合と架橋を分けて使用できるので、樹脂改質
剤として優れた特性を有すること、またカルボキシル基
を含有することにより、優れた潤滑性、離型性、水溶性
等を付与することができること、特にアミン中和により
アニオン型の水溶性樹脂を形成する上で有効であること
を知見した。また、アクリル基又はメタクリル基を単独
で或いは他の重合性単量体とラジカル共重合させること
により、今まで合成することが困難であった官能基含有
シロキサングラフトアクリル系ポリマーが得られること
を知見した。更に、このオルガノポリシロキサンにジフ
ェニルシロキサン単位やメチルフェニルシロキサン単位
を含有させることにより、有機樹脂との相溶性が著しく
向上することを見い出し、本発明をなすに至った。
【００１１】以下、本発明につき更に詳述すると、本発
明の製造方法により得られるオルガノポリシロキサン
は、下記平均組成式（１）で示されるものである。
明の製造方法により得られるオルガノポリシロキサン
は、下記平均組成式（１）で示されるものである。
【００１２】
【化６】 （但し、Ｘはアクリロキシプロピル基又はメタクリロキ
シプロピル基、Ｙはカルボキシエチル基、カルボキシプ
ロピル基及びカルボキシデシル基より選ばれる有機基、
Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を示
す。ａ、ｂ、ｃは整数で、０≦ａ≦１００、１≦ｂ≦２
０、１≦ｃ≦２０である。）
シプロピル基、Ｙはカルボキシエチル基、カルボキシプ
ロピル基及びカルボキシデシル基より選ばれる有機基、
Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を示
す。ａ、ｂ、ｃは整数で、０≦ａ≦１００、１≦ｂ≦２
０、１≦ｃ≦２０である。）
【００１３】ここで、Ｘは２−アクリロキシプロピル
基、３−アクリロキシプロピル基、２−メタクリロキシ
プロピル基、３−メタクリロキシプロピル基であり、Ｒ
１は、上記したように、メチル基、エチル基、プロピル
基等の炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基である
が、特に工業的にはメチル基とフェニル基が好ましい。
これらは併用することが望ましく、例えばジフェニルシ
ロキサン単位やメチルフェニルシロキサン単位をジメチ
ルシロキサン単位を主鎖とするシロキサンに導入するこ
とにより、有機樹脂との反応性や相溶性をより向上させ
ることができる。この場合、フェニル基の導入量はＲ１
中５〜５０モル％であることが好ましく、これより多い
とかえって有機樹脂との相溶性が低下する場合がある。
また、ａ、ｂ、ｃは上記した範囲であり、シロキサンの
長さがあまり長くなる（ａ、ｂ、ｃが上記上限値を超え
る）と、粘度が高くなり過ぎて取り扱い性が悪くなる
上、有機樹脂との相溶性も低下するので好ましくない。
基、３−アクリロキシプロピル基、２−メタクリロキシ
プロピル基、３−メタクリロキシプロピル基であり、Ｒ
１は、上記したように、メチル基、エチル基、プロピル
基等の炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基である
が、特に工業的にはメチル基とフェニル基が好ましい。
これらは併用することが望ましく、例えばジフェニルシ
ロキサン単位やメチルフェニルシロキサン単位をジメチ
ルシロキサン単位を主鎖とするシロキサンに導入するこ
とにより、有機樹脂との反応性や相溶性をより向上させ
ることができる。この場合、フェニル基の導入量はＲ１
中５〜５０モル％であることが好ましく、これより多い
とかえって有機樹脂との相溶性が低下する場合がある。
また、ａ、ｂ、ｃは上記した範囲であり、シロキサンの
長さがあまり長くなる（ａ、ｂ、ｃが上記上限値を超え
る）と、粘度が高くなり過ぎて取り扱い性が悪くなる
上、有機樹脂との相溶性も低下するので好ましくない。
【００１４】上記（１）のオルガノポリシロキサンは、
下記平均組成式（２）で示されるオルガノハイドロジェ
ンポリシロキサンとアクリル酸、メタクリル酸、ウンデ
シレン酸から選ばれる不飽和化合物とのヒドロシリル化
反応により容易に高収率で製造することができる。
下記平均組成式（２）で示されるオルガノハイドロジェ
ンポリシロキサンとアクリル酸、メタクリル酸、ウンデ
シレン酸から選ばれる不飽和化合物とのヒドロシリル化
反応により容易に高収率で製造することができる。
【００１５】
【化７】
【００１６】この式（２）のオルガノハイドロジェンポ
リシロキサンは、テトラメチルシクロテトラシロキサン
又はテトラアルキルジシロキサン、官能基Ｘ含有ジアル
コキシシランやその加水分解物及び各種環状ポリシロキ
サンやジシロキサン等を硫酸やスルフォン酸類で平衡化
反応することにより容易に調製することができ、具体的
には以下のものが例示されるが、勿論これに限定される
ものではない。なお、下記式において、Ｍｅはメチル
基、Ｐｈはフェニル基、Ｘ’は３−アクリロキシプロピ
ル基又は３−メタクリロキシプロピル基を示す（以下同
様）。
リシロキサンは、テトラメチルシクロテトラシロキサン
又はテトラアルキルジシロキサン、官能基Ｘ含有ジアル
コキシシランやその加水分解物及び各種環状ポリシロキ
サンやジシロキサン等を硫酸やスルフォン酸類で平衡化
反応することにより容易に調製することができ、具体的
には以下のものが例示されるが、勿論これに限定される
ものではない。なお、下記式において、Ｍｅはメチル
基、Ｐｈはフェニル基、Ｘ’は３−アクリロキシプロピ
ル基又は３−メタクリロキシプロピル基を示す（以下同
様）。
【００１７】
【化８】
【００１８】
【化９】
【００１９】上記ヒドロシリル化反応は、白金触媒の存
在下で行うことが好ましい。この場合、白金触媒は公知
のヒドロシリル化反応に用いられるいずれのものでも使
用できるが、工業的には塩化白金酸が好ましい。白金触
媒の添加量は触媒量であり、通常オルガノハイドロジェ
ンポリシロキサンの２〜４００ｐｐｍ程度である。
在下で行うことが好ましい。この場合、白金触媒は公知
のヒドロシリル化反応に用いられるいずれのものでも使
用できるが、工業的には塩化白金酸が好ましい。白金触
媒の添加量は触媒量であり、通常オルガノハイドロジェ
ンポリシロキサンの２〜４００ｐｐｍ程度である。
【００２０】上記ヒドロシリル化反応の条件は適宜選定
されるが、６０〜１２０℃の温度で２〜８時間反応させ
るという条件を採用することができる。
されるが、６０〜１２０℃の温度で２〜８時間反応させ
るという条件を採用することができる。
【００２１】なお、反応は、系の粘度や反応温度を調節
する上で、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系
炭化水素溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪
族系炭化水素溶媒の存在下で行うことができる。
する上で、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系
炭化水素溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪
族系炭化水素溶媒の存在下で行うことができる。
【００２２】また、上記ヒドロシリル化反応を行う際
は、ヒドロシリル化反応時に起り得る脱水素反応を防ぐ
ため、上記式（２）の化合物と反応させる不飽和化合物
（アクリル酸、メタクリル酸、ウンデシレン酸）のカル
ボキシル基の活性水素をアルキル基又はシリル基に置換
した不飽和化合物を付加する方法か効果的である。具体
的には、アクリル酸、メタクリル酸、ウンデシレン酸の
メチルエステル、エチルェステル、ブチルェステル及び
ヘキサメチルジシラザン等のシリル化剤でシリル化され
たものを用いることが好ましく、これらの不飽和化合物
を用いた場合は、付加終了後、加水分解、脱シリル化を
行い、保護基をはずすことにより、式（１）の化合物が
同様に得られる。
は、ヒドロシリル化反応時に起り得る脱水素反応を防ぐ
ため、上記式（２）の化合物と反応させる不飽和化合物
（アクリル酸、メタクリル酸、ウンデシレン酸）のカル
ボキシル基の活性水素をアルキル基又はシリル基に置換
した不飽和化合物を付加する方法か効果的である。具体
的には、アクリル酸、メタクリル酸、ウンデシレン酸の
メチルエステル、エチルェステル、ブチルェステル及び
ヘキサメチルジシラザン等のシリル化剤でシリル化され
たものを用いることが好ましく、これらの不飽和化合物
を用いた場合は、付加終了後、加水分解、脱シリル化を
行い、保護基をはずすことにより、式（１）の化合物が
同様に得られる。
【００２３】上記式（１）の化合物は、下記平均組成式
（３）で示される化合物を式（４）の化合物と平衡化、
或いは式（５）の化合物と加水分解，平衡化することに
よっても製造することができる。
（３）で示される化合物を式（４）の化合物と平衡化、
或いは式（５）の化合物と加水分解，平衡化することに
よっても製造することができる。
【００２４】
【化１０】 （但し、Ｘ、Ｙ、Ｒ１、ａ、ｃは上記と同様の意味を示
し、Ｒ２はメチル基又はエチル基を示し、ｄは整数で３
≦ｄ≦１０である。）
し、Ｒ２はメチル基又はエチル基を示し、ｄは整数で３
≦ｄ≦１０である。）
【００２５】即ち、式（３）で示されるカルボキシル基
含有ポリシロキサンと式（４）の化合物を好ましくは
酸、特に濃硫酸或いはトリフルオロメタンスルフォン酸
の存在下に平衡化反応するか、式（５）の化合物及び水
を好ましくは酸、特に濃硫酸或いはトリフルオロメタン
スルフォン酸の存在下で平衡化する。なお、この式
（３）のカルボキシル基含有ポリシロキサンは、ハイド
ロジェンポリシロキサンにアクリル酸、メタクリル酸、
ウンデシレン酸又はそのエステルやシリル化したものを
付加し、必要により後処理することにより得ることがで
きる。または、下記式の化合物とジシロキサン及び環状
ポリシロキサン等を硫酸やスルフォン酸等で平衡化反応
後、酸性下で加熱することによりシアノ基をカルボキシ
ル基に変換することにより得ることができる。
含有ポリシロキサンと式（４）の化合物を好ましくは
酸、特に濃硫酸或いはトリフルオロメタンスルフォン酸
の存在下に平衡化反応するか、式（５）の化合物及び水
を好ましくは酸、特に濃硫酸或いはトリフルオロメタン
スルフォン酸の存在下で平衡化する。なお、この式
（３）のカルボキシル基含有ポリシロキサンは、ハイド
ロジェンポリシロキサンにアクリル酸、メタクリル酸、
ウンデシレン酸又はそのエステルやシリル化したものを
付加し、必要により後処理することにより得ることがで
きる。または、下記式の化合物とジシロキサン及び環状
ポリシロキサン等を硫酸やスルフォン酸等で平衡化反応
後、酸性下で加熱することによりシアノ基をカルボキシ
ル基に変換することにより得ることができる。
【００２６】
【化１１】 （Ｒ１、Ｒ２は上記と同様の意味を示す。）
【００２７】この式（３）のカルボキシル基含有ポリシ
ロキサンとしては、具体的には以下のものが例示される
が、勿論これに限定されるものではない。
ロキサンとしては、具体的には以下のものが例示される
が、勿論これに限定されるものではない。
【００２８】
【化１２】
【００２９】上記化合物を平衡化する際の触媒として
は、濃硫酸或いはトリフルオロメタンスルフォン酸が好
適に用いられ、これら触媒を原料全体の０．５〜２０重
量％添加することにより平衡化が生起する。この場合、
必要に応じ加熱してもよいが、加熱する場合は約６０〜
８０℃の温度で２〜２０時間で平衡化が完了する。な
お、触媒（酸）添加量が０．５％より少ないと平衡反応
が著しく遅く、２０％を越えると（メタ）アクリル基が
分解する場合がある。
は、濃硫酸或いはトリフルオロメタンスルフォン酸が好
適に用いられ、これら触媒を原料全体の０．５〜２０重
量％添加することにより平衡化が生起する。この場合、
必要に応じ加熱してもよいが、加熱する場合は約６０〜
８０℃の温度で２〜２０時間で平衡化が完了する。な
お、触媒（酸）添加量が０．５％より少ないと平衡反応
が著しく遅く、２０％を越えると（メタ）アクリル基が
分解する場合がある。
【００３０】上記平衡化した後は、常法に従い、水洗す
るなどして式（１）の化合物を回収することができる。
るなどして式（１）の化合物を回収することができる。
【００３１】本発明の製造方法によって得られるオルガ
ノポリシロキサンは、塗料、成形材料、医療用材料、各
種コーティング材料分野などで有機樹脂の改質剤等とし
て使用される。
ノポリシロキサンは、塗料、成形材料、医療用材料、各
種コーティング材料分野などで有機樹脂の改質剤等とし
て使用される。
【００３２】
【発明の効果】本発明の製造方法によって得られる１分
子中に（メタ）アクリル基、カルボキシル基双方を含有
するオルガノポリシロキサンは有機樹脂との相溶性が高
く、（メタ）アクリル基を他のラジカル重合性単量体と
共重合することにより、樹脂中に導入すると共に、カル
ボキシル基により、潤滑性、離型性、水溶性等の特性を
付与することができ、本発明の製造方法によれば、かか
るオルガノポリシロキサンを容易に高収率で合成でき
る。
子中に（メタ）アクリル基、カルボキシル基双方を含有
するオルガノポリシロキサンは有機樹脂との相溶性が高
く、（メタ）アクリル基を他のラジカル重合性単量体と
共重合することにより、樹脂中に導入すると共に、カル
ボキシル基により、潤滑性、離型性、水溶性等の特性を
付与することができ、本発明の製造方法によれば、かか
るオルガノポリシロキサンを容易に高収率で合成でき
る。
【００３３】
【実施例】以下、実施例を示して本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。
するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。
【００３４】〔実施例１〕 フラスコにトルエン４０ｇ、ＣＨ２＝ＣＨＣ８Ｈ１６Ｃ
ＯＯＳｉＭｅ３７６．８ｇ、塩化白金酸の２％エタノー
ル溶液０．１ｇを仕込み、８０℃で下記平均組成式で示
されるハイドロジェンポリシロキサン８５．８ｇを２時
間で滴下し、滴下終了後、８０℃で２時間熟成した。赤
外分光光度計でＳｉ−Ｈの吸収（２１６０ｃｍ−１）が
消失していることを確認した後、反応混合物を室温まで
冷却した。次に、０．０５規定の塩酸３．３ｇを滴下
し、室温で２時間撹拌した。水洗後、トルエンを減圧留
去し、濾過することにより対応する付加生成物１３２．
５ｇを単離した。この生成物は下記に示す物性から下記
平均組成式であることを確認した。なお、収率は９４％
であった。
ＯＯＳｉＭｅ３７６．８ｇ、塩化白金酸の２％エタノー
ル溶液０．１ｇを仕込み、８０℃で下記平均組成式で示
されるハイドロジェンポリシロキサン８５．８ｇを２時
間で滴下し、滴下終了後、８０℃で２時間熟成した。赤
外分光光度計でＳｉ−Ｈの吸収（２１６０ｃｍ−１）が
消失していることを確認した後、反応混合物を室温まで
冷却した。次に、０．０５規定の塩酸３．３ｇを滴下
し、室温で２時間撹拌した。水洗後、トルエンを減圧留
去し、濾過することにより対応する付加生成物１３２．
５ｇを単離した。この生成物は下記に示す物性から下記
平均組成式であることを確認した。なお、収率は９４％
であった。
【００３５】
【化１３】ハイドロジェンポリシロキサン 生成物 粘度：１３５ｃｓ（２５℃） 元素分析値： 実測値 Ｃ：５０．１％， Ｈ：９．２％ 計算値 Ｃ：５０．９％， Ｈ：９．３％１ Ｈ−ＮＭＲ．（アセトン２．０ｐｐｍ基準）： ０．０７ ５３Ｈ ０．５０ ９Ｈ １．２１ ５１Ｈ １．８９ ４Ｈ ２．３０ ６Ｈ ４．００ ３Ｈ ５．４１ １．３Ｈ ６．００ １．３Ｈ 赤外吸収スペクトル：図１
【００３６】〔実施例２〕 ＣＨ２＝ＣＨＣ８Ｈ１６ＣＯＯＨ３６．８ｇ、塩化白金
酸の２％エタノール溶液０．１ｇを仕込み、８０℃で下
記平均組成式で示されるハイドロジェンポリシロキサン
８３．８ｇを２時間で滴下し、滴下終了後８０℃で２時
間熟成した。赤外分光光度計でＳｉ−Ｈの吸収（２１６
０ｃｍ−１）が消失してることを確認した後、室温まで
冷却した。濾過することにより対応する付加生成物１１
４．６ｇを単離した。この生成物は下記に示す物性から
下記平均組成式であることを確認した。なお、収率は９
５％であった。
酸の２％エタノール溶液０．１ｇを仕込み、８０℃で下
記平均組成式で示されるハイドロジェンポリシロキサン
８３．８ｇを２時間で滴下し、滴下終了後８０℃で２時
間熟成した。赤外分光光度計でＳｉ−Ｈの吸収（２１６
０ｃｍ−１）が消失してることを確認した後、室温まで
冷却した。濾過することにより対応する付加生成物１１
４．６ｇを単離した。この生成物は下記に示す物性から
下記平均組成式であることを確認した。なお、収率は９
５％であった。
【００３７】
【化１４】ハイドロジェンポリシロキサン 生成物 粘度：７２ｃｓ（２５℃） 元素分析値： 実測値 Ｃ：４８．９％， Ｈ：８．２％ 計算値 Ｃ：４７．８％， Ｈ：９．１％１ Ｈ−ＮＭＲ．（アセトン２．０ｐｐｍ基準）： ０．０９ ５７Ｈ ０．５２ ６Ｈ １．２５ ３４Ｈ ２．０４ ３Ｈ ２．４０ ４Ｈ ４．１５ ２Ｈ ５．６２ １Ｈ ６．１５ １Ｈ 赤外吸収スペクトル：図２
【００３８】〔実施例３〕 フラスコにＣＨ２＝ＣＨＣ８Ｈ１６ＣＯＯＨ２７．６
ｇ、塩化白金酸の２％エタノール溶液０．１ｇを仕込
み、８０℃で下記平均組成式で示されるハイドロジェン
ポリシロキサン１０９．６ｇを２時間で滴下し、滴下終
了後８０℃で２時間熟成した。赤外分光光度計でＳｉ−
Ｈの吸収（２１６０ｃｍ−１）が消失してることを確認
した後、室温まで冷却した。
ｇ、塩化白金酸の２％エタノール溶液０．１ｇを仕込
み、８０℃で下記平均組成式で示されるハイドロジェン
ポリシロキサン１０９．６ｇを２時間で滴下し、滴下終
了後８０℃で２時間熟成した。赤外分光光度計でＳｉ−
Ｈの吸収（２１６０ｃｍ−１）が消失してることを確認
した後、室温まで冷却した。
【００３９】
【化１５】ハイドロジェンポリシロキサン
【００４０】
【化１６】 を投入し、撹拌後、トリフルオロメタンスルフォン酸
０．２ｇをゆっくり入れた。その後室温で３時間熟成し
た。
０．２ｇをゆっくり入れた。その後室温で３時間熟成し
た。
【００４１】水０．１ｇを入れ、１時間撹拌後、炭酸水
素ナトリウム３．０ｇ、無水硫酸ナトリウム３．０ｇを
投入した。３時間撹拌後、濾過して、対応する生成物１
３９．２ｇを単離した。この生成物は下記に示す物性か
ら下記平均組成式であることを確認した。なお、収率は
９５％であった。
素ナトリウム３．０ｇ、無水硫酸ナトリウム３．０ｇを
投入した。３時間撹拌後、濾過して、対応する生成物１
３９．２ｇを単離した。この生成物は下記に示す物性か
ら下記平均組成式であることを確認した。なお、収率は
９５％であった。
【００４２】
【化１７】生成物 粘度：２７７ｃｓ（２５℃） 元素分析値： 実測値 Ｃ：４１．５％， Ｈ：８．４％ 計算値 Ｃ：４１．０％， Ｈ：８．７％１ Ｈ−ＮＭＲ．（アセトン２．０ｐｐｍ基準）： ０．０８ １８０Ｈ ０．５４ ８Ｈ １．２７ ５０Ｈ １．９１ ３Ｈ ２．４０ ６Ｈ ４．１２ ２Ｈ ５．６０ １Ｈ ６．１２ １Ｈ 赤外吸収スペクトル：図３
【図１】実施例１の生成物の赤外吸収スペクトルであ
る。
る。
【図２】実施例２の生成物の赤外吸収スペクトルであ
る。
る。
【図３】実施例３の生成物の赤外吸収スペクトルであ
る。
る。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−25369（ＪＰ，Ａ) 特許2773547（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08G 77/20,77/10,77/38
Claims (3)
- 【請求項１】 平均組成式（１） 【化１】 （但し、Ｘはアクリロキシプロピル基又はメタクリロキ
シプロピル基、Ｙはカルボキシエチル基、カルボキシプ
ロピル基及びカルボキシデシル基より選ばれる有機基、
Ｒ1は炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を示
す。ａ、ｂ、ｃは整数で、０≦ａ≦１００、１≦ｂ≦２
０、１≦ｃ≦２０である。）で示されるオルガノポリシ
ロキサンを製造するに当り、平均組成式（２） 【化２】 （但し、Ｘ、Ｒ1、ａ、ｂ、ｃは上記のものと同様の意
味を示す。）で示されるオルガノハイドロジェンポリシ
ロキサンのＳｉＨにアクリル酸、メタクリル酸及びウン
デシレン酸から選ばれる不飽和化合物の１種以上をｃモ
ル付加することを特徴とする上記平均組成式（１）で示
されるオルガノポリシロキサンの製造方法。 - 【請求項２】 平均組成式（１） 【化１８】 （但し、Ｘはアクリロキシプロピル基又はメタクリロキ
シプロピル基、Ｙはカルボキシエチル基、カルボキシプ
ロピル基及びカルボキシデシル基より選ばれる有機基、
Ｒ1は炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を示
す。ａ、ｂ、ｃは整数で、０≦ａ≦１００、１≦ｂ≦２
０、１≦ｃ≦２０である。）で示されるオルガノポリシ
ロキサンを製造するに当り、平均組成式（２） 【化１９】 （但し、Ｘ、Ｒ1、ａ、ｂ、ｃは上記のものと同様の意
味を示す。）で示されるオルガノハイドロジェンポリシ
ロキサンのＳｉＨにアクリル酸、メタクリル酸又はウン
デシレン酸のカルボキシル基の活性水素がアルキル基又
はシリル基に置換された不飽和化合物の１種以上をｃモ
ル付加し、その後、加水分解又は脱シリル化することを
特徴とする上記平均組成式（１）で示されるオルガノポ
リシロキサンの製造方法。 - 【請求項３】 平均組成式（１） 【化２０】 （但し、Ｘはアクリロキシプロピル基又はメタクリロキ
シプロピル基、Ｙはカルボキシエチル基、カルボキシプ
ロピル基及びカルボキシデシル基より選ばれる有機基、
Ｒ1は炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を示
す。ａ、ｂ、ｃは整数で、０≦ａ≦１００、１≦ｂ≦２
０、１≦ｃ≦２０である。）で示されるオルガノポリシ
ロキサンを製造するに当り、下記平均組成式（３）及び
（４）、又は（３）及び（５） 【化３】 （但し、Ｘ、Ｙ、Ｒ1、ａ、ｃは上記のものと同様の意
味を示す。Ｒ2はメチル基又はエチル基を示す。ｄは整
数で３≦ｄ≦１０である。）で示される化合物を平衡
化、又は水を加えて加水分解と平衡化を行うことを特徴
とする上記平均組成式（１）で示されるオルガノポリシ
ロキサンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5147110A JP3063461B2 (ja) | 1993-05-26 | 1993-05-26 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5147110A JP3063461B2 (ja) | 1993-05-26 | 1993-05-26 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06329802A JPH06329802A (ja) | 1994-11-29 |
| JP3063461B2 true JP3063461B2 (ja) | 2000-07-12 |
Family
ID=15422752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5147110A Expired - Fee Related JP3063461B2 (ja) | 1993-05-26 | 1993-05-26 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3063461B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5742638B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-07-01 | 日立化成株式会社 | イオン性ポリマー |
-
1993
- 1993-05-26 JP JP5147110A patent/JP3063461B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06329802A (ja) | 1994-11-29 |
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