JPH04246416A - 芳香族ポリカーボネートの製造方法 - Google Patents

芳香族ポリカーボネートの製造方法

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JPH04246416A
JPH04246416A JP2914891A JP2914891A JPH04246416A JP H04246416 A JPH04246416 A JP H04246416A JP 2914891 A JP2914891 A JP 2914891A JP 2914891 A JP2914891 A JP 2914891A JP H04246416 A JPH04246416 A JP H04246416A
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JP
Japan
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bis
hydroxyphenyl
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phosgene
dihydric phenol
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JP2914891A
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English (en)
Inventor
Toshimasa Tokuda
俊正 徳田
Masanori Monri
昌則 門利
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Chemicals Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、芳香族ポリカーボネー
トの製造方法に関する。更に詳しくはカメラ、ビデオ・
テープ・レコーダー、レーザー・ビーム・プリンター、
複写機等の光学機器、メガネ等のレンズ、光ディスク等
の情報ディスク、自動車のヘッドランプ等の基材として
有用な分光透過性及び色相の改善された芳香族ポリカー
ボネートの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン(通称ビスフェノールA)にホスゲン
やジフェニルカーボネートを反応させて得られるビスフ
ェノールAポリカーボネートは透明性、耐熱性、機械的
特性等に優れているがゆえに、エンジニアリングプラス
チックとして多くの分野に幅広く用いられている。特に
、近年では、その透明性を生かして情報ディスク、レン
ズ等の分野への利用が展開されている。
【0003】更に近年、従来のビスフェノールAポリカ
ーボネートよりも更に高屈折率又は低複屈折率の材料が
求められ、このため例えばハイドロキノン、4,4′−
ビフェノール、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル
)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エ
タン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−
フェニルエタン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニルプロパン、2,2−ビス(3−メ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビ
ス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(4−
ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(3−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)オキシド、ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)ケトン等を用いたポリカーボネートが要求される
に至った。しかしながら、かかるポリカーボネートはそ
の製造時に着色し易く、実用レベルの色相、光線透過率
のものは得られなかった。
【0004】従来より、ビスフェノールAポリカーボネ
ートの色相、透明性を改善するために幾つかの方法が知
られている。即ち (1)ビスフェノールAのアルカリ
水溶液をホスゲンと反応させる際に、アルカリ水溶液中
にハイドロサルファイトのような還元剤を少量添加して
、アルカリ水溶液中におけるビスフェノールAの着色を
防止する方法、 (2)溶融成形時における高温での着
色を防止するために、得られたポリマーに亜リン酸エス
テル系の安定剤を少量加える方法(特公昭36−359
6号公報、同38−16240号公報、同39−291
93号公報、同51−44552号公報)、 (3)次
亜リン酸の存在下でホスゲン化を行う方法(特開昭48
−56786号公報)等が知られている。
【0005】しかしながら、上記ビスフェノールA以外
のポリカーボネートには (1)の方法は殆ど効果がな
く、 (2)の方法は、既にその製造時に着色したポリ
カーボネートには効果がない。また、 (3)の方法で
用いる次亜リン酸は潮解性で取扱い難く、また100℃
以上で分解して有毒なホスフィンを放出する重大な欠点
がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高屈折率又
は低複屈折率等の光学的特性に優れ、色相及び透明性に
優れたビスフェノールA以外のポリカーボネートの製造
方法を提供することを目的とする。
【0007】本発明者等は、着色の原因を種々検討した
結果、ポリマーの着色が反応終了後の有機相の着色に関
係しており、且つモノマー水溶液が着色し易いものほど
有機相も着色することを見出した。即ち、有機相の着色
防止にはモノマー水溶液の段階で着色防止の手段を徹底
することが重要であることを見出した。驚くべきことに
、二価フェノールとホスゲンとを亜リン酸又は亜リン酸
エステルの存在下に反応させることによって、重合時の
有機相の着色を防止でき、且つ得られたポリマーも実用
レベルの色相及び光線透過率を有していることを見出し
、この知見に基づいて本発明を完成した。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン以外の二価フェノ
ールとホスゲンを有機溶剤の存在下に界面重縮合して芳
香族ポリカーボネートを製造するに当り、二価フェノー
ルのアルカリ水溶液に亜リン酸及び亜リン酸エステルよ
りなる群から選ばれた少くとも一種のリン化合物を二価
フェノールの重量に基き0.01〜0.5%添加してホ
スゲン化することを特徴とする芳香族ポリカーボネート
の製造方法である。
【0009】本発明で用いる二価フェノールとしては、
ビスフェノールA以外の二価フェノール、例えば、ハイ
ドロキノン、4,4′−ビフェノール、1,1−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)−1−フェニルエタン、2,2−ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、1,1−ビス(3,5−ジメチル−4−
ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)ブタン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフ
ィド、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ス
ルフィド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)オキシド、
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ケトン等があげられ、
これらのハロゲン化物であってもよい。また、これらは
単独又は二種以上を混合して用いてもよい。特に1,1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタ
ン及び、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパンがこのましい。
【0010】二価フェノールとホスゲンとの反応は、通
常酸結合剤を用い、これに二価フェノールを溶解し、溶
媒の存在下にホスゲンを吹込むことによって行う。酸結
合剤としては、例えばピリジン、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が用いられる。 溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼン等
のハロゲン化炭化水素が用いられるが、溶存酸素は脱気
して用いるのが好ましい。
【0011】本発明にあっては、このホスゲン化反応を
特に亜リン酸及び/又は亜リン酸エステルの存在下行う
。亜リン酸エステルとしては、炭素数1〜20のアルキ
ルエステル、炭素数6〜10アリールエステル又はこれ
らの部分エステルが好ましく、アリール基には炭素数1
〜20のアルキル基が置換していてもよい。具体的には
例えばモノ、ジ又はトリメチルホスファイト、モノ、ジ
又はトリエチルホスファイト、モノ、ジ又はトリフェニ
ルホスファイト、モノ、ジ又はトリクレジルホスファイ
ト、ノニルフェニルホスファイト、ビス又はトリス(4
−ノニルフェニル)ホスファイト、(2,4−ジノルフ
ェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジノニルフェ
ニル)ホスファイト及びこれらの混合物等が用いられる
。また、ハイドロサルファイトのごとき還元剤を予め添
加しておいても差し支えない。
【0012】亜リン酸及び/又は亜リン酸エステルの添
加時期は、ホスゲン吹込み前が好ましく、ホスゲン吹込
み中、吹込み後又は重合後では顕著な効果は見られない
。亜リン酸及び/又は亜リン酸エステルの添加量は、用
いた二価フェノールの重量に基ずき0.01〜0.5重
量%である。0.01重量%に達しない量では、充分な
着色防止効果が得られ難く、0.5重量%より多くして
も、最早着色防止効果は飽和し、あまりに多くするとポ
リマーが劣化するようになる。
【0013】また、反応促進のために例えば第三級アミ
ン、第四級アンモニウム塩等の触媒を用いるのが好まし
く、分子量調節剤として例えばフェノール、p−ter
t−ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフ
ェノール、クミルフェノール等の単官能フェノール化合
物を用いるのが好ましい。
【0014】ホスゲン化反応及び次いで行うに次いで行
う重縮合反応は、通常0〜50℃、好ましくは5〜40
℃の範囲の温度で行われる。反応時間10分〜5時間、
好ましくは30分〜2時間である。また反応中はPHを
10以上に保持することが好ましい。
【0015】
【実施例】以下に実施例をあげて、本発明を更に詳しく
説明する。実施例中の部は重量部を意味し、%は重量%
を意味する。
【0016】
【実施例1】48.5%のNaOH水溶液2624部を
水22800部に溶解し、窒素ガスを通じて脱気した後
、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェ
ニルエタン3417.5部を溶解し、ハイドロサルファ
イト6.8部及びトリフェニルホスファイト3.4部を
加え、塩化メチレン16000部の存在下19〜21℃
の温度でホスゲン1400部を約1時間を要して吹込み
反応させた。ホスゲン吹込み終了後、内温を28〜33
℃に昇温し、p−tert−ブチルフェノール123.
8部及び48.5%のNaOH水溶液194.4部を加
え、攪拌して乳化させた後、トリエチルアミン8.2部
を加えて約1時間攪拌を続けて反応を完結した。
【0017】反応終了後有機相を分離し、塩化メチレン
で希釈して水洗後、塩酸にて中和し、更に充分洗浄した
後有機相を分離した。有機相のポリマー濃度を7%に調
整した後、ハーゼン色数法(JIS  K−6901)
にてAPHAを測定した値は10〜15であった。塩化
メチレンを蒸発しながら粉砕してパウダーを得た。この
パウダーを乾燥後、イルガノックス1076を0.05
%、ステアリン酸モノグリセリドを0.2%加えて、2
50〜260℃で溶融押出してペレット化した後、厚さ
3mmの試験片に射出成形した。この試験片の波長40
0nmの光線の分光透過率は83.3%であった。また
、色差計[スガ試験機(株)製]によりJIS  K−
7105,Z−8722に準拠して測定した試験片のb
値は5.1であった。
【0018】
【比較例1】トリフェニルホスファイトを加えない以外
は実施例1と同様にしてポリマーを得た。実施例1と同
様に評価したところAPHAは30であった。このパウ
ダーにイルガノックス1076を0.05%、ステアリ
ン酸モノグリセリドを0.2%、トリフェニルホスファ
イトを0.1%加えて、実施例1と同様に成形して評価
したところ分光透過率は78.7%、b値は6.7であ
った。
【0019】
【実施例2】48.5%のNaOH水溶液1990部を
水9110部に溶解し、窒素ガスを通じて脱気した後、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニ
ルエタン559部、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ス
ルフィド982.5部、ビス(3−メチル−4−ヒドロ
キシフェニル)スルフィド395部を溶解し、ハイドロ
サルファイト3.9部及びトリフェニルホスファイト1
.95部を加えて、塩化メチレン17070部の存在下
15〜20℃の温度でホスゲン1034部を約1時間を
要して吹込み反応させた。ホスゲン吹込み終了後、内温
を28〜33℃に昇温し、p−tert−ブチルフェノ
ール48部及び48.5%のNaOH水溶液330部を
加え攪拌して乳化させた後、トリエチルアミン2部を加
えて約1時間攪拌を続けて反応を完結した。
【0020】反応終了後、有機相を分離し、塩化メチレ
ンで希釈して水洗後、塩酸にて中和し、更に充分洗浄し
た後有機相を分離した。実施例1と同様にしてAPHA
を測定したところ20であった。
【0021】
【比較例2】トリフェニルホスファイトを加えない以外
は実施例2と同様にしてポリマーを得た。実施例2と同
様に評価したところAPHAは50であった。
【0022】
【実施例3】48.5%のNaOH水溶液1730部を
水14500部に溶解し、窒素ガスを通じて脱気した後
、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン1886.5部を溶解し、亜リン酸1
.9部、p−tert−ブチルフェノール5.25部、
トリエチルアミン48.5部を加えて塩化メチレン15
500部の存在下18〜21℃の温度でホスゲン110
7.5部を約1時間を要して吹込み反応させた。ホスゲ
ン吹込み中は48.5%のNaOH水溶液1341.5
部を滴下してPHを調節した。ホスゲン吹込み終了後、
内温を28〜33℃に昇温し、攪拌して乳化した後トリ
エチルアミン39部を追加して約1時間攪拌を続けて反
応を完結した。反応終了後の有機相を実施例1と同様に
処理して評価したところAPHAは50であった。
【0023】
【比較例3】亜リン酸の代わりにハイドロサルファイト
を用いる以外は実施例3と同様にしてポリマーを得た。 実施例3と同様に評価したところAPHAは60であっ
た。
【0024】
【発明の効果】本発明の方法によって製造した芳香族ポ
リカーボネートは、有機溶媒溶液として着色が少く、得
られたポリマーの色相も良好で、且つ分光透過率に優れ
ているのでカメラ、ビデオ・テープ・レコーダー、レー
ザー・ビーム・プリンター、メガネ等のレンズ、光ディ
スク等の情報ディスク、自動車のヘッドランプレンズ等
の基材として用いることができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
    ル)プロパン以外の二価フェノールとホスゲンを有機溶
    剤の存在下に界面重縮合して芳香族ポリカーボネートを
    製造するに当り、二価フェノールのアルカリ水溶液に亜
    リン酸及び亜リン酸エステルよりなる群から選ばれた少
    くとも一種のリン化合物を二価フェノールの重量に基き
    0.01〜0.5%添加してホスゲン化することを特徴
    とする芳香族ポリカーボネートの製造方法。
JP2914891A 1991-01-31 1991-01-31 芳香族ポリカーボネートの製造方法 Pending JPH04246416A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002114841A (ja) * 2000-10-06 2002-04-16 Mitsui Chemicals Inc 光学部品
JP2002114842A (ja) * 2000-10-06 2002-04-16 Mitsui Chemicals Inc ポリカーボネート樹脂、及びそれを含んで構成される光学部品
JP2003525760A (ja) * 2000-03-06 2003-09-02 エシロール アンテルナショナル コムパニージェネラル ドプテイク 眼鏡レンズの表面の作製方法、作製方法の実施に用いられる機械設備及び作製方法により得られた眼鏡レンズ

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JP2002114841A (ja) * 2000-10-06 2002-04-16 Mitsui Chemicals Inc 光学部品
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