JPH04243922A - 光学素子成形用型 - Google Patents

光学素子成形用型

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Publication number
JPH04243922A
JPH04243922A JP2796091A JP2796091A JPH04243922A JP H04243922 A JPH04243922 A JP H04243922A JP 2796091 A JP2796091 A JP 2796091A JP 2796091 A JP2796091 A JP 2796091A JP H04243922 A JPH04243922 A JP H04243922A
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JP
Japan
Prior art keywords
mold
molding
single crystal
oxide
oxidation
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2796091A
Other languages
English (en)
Inventor
Hajime Ichikawa
市 川  一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP2796091A priority Critical patent/JPH04243922A/ja
Publication of JPH04243922A publication Critical patent/JPH04243922A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06Construction of plunger or mould
    • C03B11/08Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • C03B11/084Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
    • C03B11/086Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00Press-moulding glass
    • C03B2215/02Press-mould materials
    • C03B2215/08Coated press-mould dies
    • C03B2215/10Die base materials
    • C03B2215/11Metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00Press-moulding glass
    • C03B2215/02Press-mould materials
    • C03B2215/08Coated press-mould dies
    • C03B2215/14Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
    • C03B2215/20Oxide ceramics

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光学素子成形用型に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、光学素子成形用型として、特開昭
62−17029号公報に開示されているように、Si
単結晶により型基材を形成するとともに、Si単結晶お
よび白金系合金膜との密着性に優れた材料を中間層とし
て最表層に白金系合金膜を形成したものが知られている
。この光学素子成形用型は、Si単結晶型基材と白金系
合金膜との密着強度を高めることにより、光学素子成形
用型の長寿命化を図ろうとしたものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の光学素
子成形用型の白金系合金膜は、窒化物,炭化物,硼化物
等の高融点化合物に比べて、高温における耐酸化性およ
び耐蝕性が低く、微小ガラスの付着・蓄積や変色を発生
しやすかった。
【0004】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、高温において、耐酸化性(耐化学反応性
)に優れており、微小ガラスの付着が全くなく,変色も
ない離型性の良好な光学素子成形用型を提供することを
目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、Mo,W,Cr若しくはTaの各多結晶
またはMo単結晶のうちのいずれか一つにより型基材を
形成するとともに、型基材の最表層にその金属成分の酸
化物を形成して光学素子成形用型を構成した。
【0006】
【作用】上記構成の光学素子成形用型において、それぞ
れの融点は、Moが2620℃,Wが3370℃,Cr
が1903℃,Taが3030℃と高融点であり、全て
揮発しにくい材料である。また、各金属とも、MoがM
oO,WがWO,CrがCr2 O3 ,TaがTa2
 O5 と酸化安定な酸化物を形成しやすく、その酸化
物を最表層に不動態として形成するため、ガラスと接触
する面においては、ガラスからの酸素を取り込まないた
め、共有反応を起こさず、ガラスとの焼き付きが全く発
生しない。特に、Mo単結晶の場合は、結晶粒界が存在
しないため、脆性が極めて良好となる利点も有している
。一方、型基材の上に薄膜を形成してその薄膜で離型性
を向上させるわけではないので、膜剥離の心配が全くな
く、剥離面から焼き付いて成形品にクレータ等が発生す
ることもない。
【0007】
【実施例1】高純度のMoを使用し、Moの融点以上の
2800℃程度にMoを加熱し、N2 ガスまたはAr
ガス雰囲気中で融液成長法または溶液成長法により、図
2に示すようなMo単結晶体1を製造した。そして、図
1に示すように、このMo単結晶体1を旋削して、成形
面2を除いた外形を整形した後、成形面2にダイヤモン
ドパウダの粒径を順次変えて研磨した。次に、これを酸
素濃度が0.1%で600℃の炉中で2時間酸化熱処理
を行い、表層にMo酸化物層を形成したMo単結晶型3
を得た。成形面2の表面粗度はRmax=0.05μm
であった。
【0008】上記本実施例の光学素子成形用型を用いて
、1420℃で溶解したSF系光学ガラスを成形した。 5000ショットの連続成形を行っても、成形品の品質
や成形面2には何ら欠陥はなかった。これに対し、前記
従来の光学素子成形用型を用いて同様の成形を行ったと
ころ、500ショット程度で成形面に微小ガラスの焼き
付きや膜剥離が発生し、1000ショット程度で使用不
能になってしまった。
【0009】
【実施例2】通常の焼結により得たW多結晶の焼結体を
所定形状にした後、#600〜#1200程度の粒度の
SiC砥粒により荒削りし、さらに#3000のダイヤ
モンドペーストにより研磨した。次に、これを酸素濃度
が0.2%で700℃の炉中で3時間酸化熱処理を行い
、表層にW酸化物層を形成したW多結晶型を得た。成形
面の表面粗度はRmax=0.07μmであった。
【0010】上記本実施例の光学素子成形用型を用いて
、1430℃で溶解したSF系光学ガラスを成形した。 7000ショットの連続成形を行っても、成形品の品質
や成形面には何ら欠陥はなかった。
【0011】
【実施例3】通常の焼結により得たCr多結晶の焼結体
を所定形状にした後、#400〜#800程度の粒度の
SiC砥粒により荒削りし、さらに#3000のダイヤ
モンドペーストにより研磨した。次に、これを酸素濃度
が0.15%で700℃の炉中で3時間酸化処理を行い
、表層にCr酸化物層を形成したCr多結晶型を得た。 成形面の表面粗度はRmax=0.06μmであった。
【0012】上記本実施例の光学素子成形用型を用いて
、1510℃で溶解したF系光学ガラスを成形した。 6000ショットの連続成形を行っても、成形品の品質
や成形面には何ら欠陥はなかった。
【0013】
【実施例4】通常の焼結により得たTa多結晶の焼結体
を所定形状にした後、#400〜#800程度の粒度の
SiC砥粒により荒削りし、さらに#3000のダイヤ
モンドペーストにより研磨した。次に、これを酸素濃度
が0.2%で600℃の炉中で2時間酸化熱処理を行い
、表層にTa酸化物層を形成したTa多結晶型を得た。 成形面の表面粗度はRmax=0.07μmであった。
【0014】上記本実施例の光学素子成形用型を用いて
、1560℃で溶解したBK系光学ガラスを成形した。 5000ショットの連続成形を行っても、成形品の品質
や成形面には何ら欠陥はなかった。
【0015】なお、上記各実施例における酸化熱処理の
条件はそれに限定されるものではなく、酸素濃度は0.
1〜1%の範囲で、処理時間は2〜5時間の範囲であれ
ば良好な結果が得られる。
【0016】
【発明の効果】以上のように、本発明の光学素子成形用
型によれば、高温における耐酸化性(耐化学反応性)に
優れているため、微小ガラスの付着がなく、非常に離型
性が良好で型寿命が長くなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1のMo単結晶型を示す正面図
である。
【図2】本発明の実施例1で製造したMo単結晶体の正
面図である。
【符号の説明】
1  Mo単結晶体 2  成形面 3  Mo単結晶型

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  Mo,W,Cr若しくはTaの各多結
    晶またはMo単結晶のうちのいずれか一つにより型基材
    を形成するとともに、型基材の最表層にその金属成分の
    酸化物を形成したことを特徴とする光学素子成形用型。
JP2796091A 1991-01-28 1991-01-28 光学素子成形用型 Withdrawn JPH04243922A (ja)

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JP2796091A JPH04243922A (ja) 1991-01-28 1991-01-28 光学素子成形用型

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JPH04243922A true JPH04243922A (ja) 1992-09-01

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