JPH04243922A - 光学素子成形用型 - Google Patents
光学素子成形用型Info
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- JPH04243922A JPH04243922A JP2796091A JP2796091A JPH04243922A JP H04243922 A JPH04243922 A JP H04243922A JP 2796091 A JP2796091 A JP 2796091A JP 2796091 A JP2796091 A JP 2796091A JP H04243922 A JPH04243922 A JP H04243922A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/10—Die base materials
- C03B2215/11—Metals
-
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/20—Oxide ceramics
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光学素子成形用型に関
する。
する。
【0002】
【従来の技術】従来、光学素子成形用型として、特開昭
62−17029号公報に開示されているように、Si
単結晶により型基材を形成するとともに、Si単結晶お
よび白金系合金膜との密着性に優れた材料を中間層とし
て最表層に白金系合金膜を形成したものが知られている
。この光学素子成形用型は、Si単結晶型基材と白金系
合金膜との密着強度を高めることにより、光学素子成形
用型の長寿命化を図ろうとしたものである。
62−17029号公報に開示されているように、Si
単結晶により型基材を形成するとともに、Si単結晶お
よび白金系合金膜との密着性に優れた材料を中間層とし
て最表層に白金系合金膜を形成したものが知られている
。この光学素子成形用型は、Si単結晶型基材と白金系
合金膜との密着強度を高めることにより、光学素子成形
用型の長寿命化を図ろうとしたものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の光学素
子成形用型の白金系合金膜は、窒化物,炭化物,硼化物
等の高融点化合物に比べて、高温における耐酸化性およ
び耐蝕性が低く、微小ガラスの付着・蓄積や変色を発生
しやすかった。
子成形用型の白金系合金膜は、窒化物,炭化物,硼化物
等の高融点化合物に比べて、高温における耐酸化性およ
び耐蝕性が低く、微小ガラスの付着・蓄積や変色を発生
しやすかった。
【0004】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、高温において、耐酸化性(耐化学反応性
)に優れており、微小ガラスの付着が全くなく,変色も
ない離型性の良好な光学素子成形用型を提供することを
目的とする。
されたもので、高温において、耐酸化性(耐化学反応性
)に優れており、微小ガラスの付着が全くなく,変色も
ない離型性の良好な光学素子成形用型を提供することを
目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、Mo,W,Cr若しくはTaの各多結晶
またはMo単結晶のうちのいずれか一つにより型基材を
形成するとともに、型基材の最表層にその金属成分の酸
化物を形成して光学素子成形用型を構成した。
に、本発明は、Mo,W,Cr若しくはTaの各多結晶
またはMo単結晶のうちのいずれか一つにより型基材を
形成するとともに、型基材の最表層にその金属成分の酸
化物を形成して光学素子成形用型を構成した。
【0006】
【作用】上記構成の光学素子成形用型において、それぞ
れの融点は、Moが2620℃,Wが3370℃,Cr
が1903℃,Taが3030℃と高融点であり、全て
揮発しにくい材料である。また、各金属とも、MoがM
oO,WがWO,CrがCr2 O3 ,TaがTa2
O5 と酸化安定な酸化物を形成しやすく、その酸化
物を最表層に不動態として形成するため、ガラスと接触
する面においては、ガラスからの酸素を取り込まないた
め、共有反応を起こさず、ガラスとの焼き付きが全く発
生しない。特に、Mo単結晶の場合は、結晶粒界が存在
しないため、脆性が極めて良好となる利点も有している
。一方、型基材の上に薄膜を形成してその薄膜で離型性
を向上させるわけではないので、膜剥離の心配が全くな
く、剥離面から焼き付いて成形品にクレータ等が発生す
ることもない。
れの融点は、Moが2620℃,Wが3370℃,Cr
が1903℃,Taが3030℃と高融点であり、全て
揮発しにくい材料である。また、各金属とも、MoがM
oO,WがWO,CrがCr2 O3 ,TaがTa2
O5 と酸化安定な酸化物を形成しやすく、その酸化
物を最表層に不動態として形成するため、ガラスと接触
する面においては、ガラスからの酸素を取り込まないた
め、共有反応を起こさず、ガラスとの焼き付きが全く発
生しない。特に、Mo単結晶の場合は、結晶粒界が存在
しないため、脆性が極めて良好となる利点も有している
。一方、型基材の上に薄膜を形成してその薄膜で離型性
を向上させるわけではないので、膜剥離の心配が全くな
く、剥離面から焼き付いて成形品にクレータ等が発生す
ることもない。
【0007】
【実施例1】高純度のMoを使用し、Moの融点以上の
2800℃程度にMoを加熱し、N2 ガスまたはAr
ガス雰囲気中で融液成長法または溶液成長法により、図
2に示すようなMo単結晶体1を製造した。そして、図
1に示すように、このMo単結晶体1を旋削して、成形
面2を除いた外形を整形した後、成形面2にダイヤモン
ドパウダの粒径を順次変えて研磨した。次に、これを酸
素濃度が0.1%で600℃の炉中で2時間酸化熱処理
を行い、表層にMo酸化物層を形成したMo単結晶型3
を得た。成形面2の表面粗度はRmax=0.05μm
であった。
2800℃程度にMoを加熱し、N2 ガスまたはAr
ガス雰囲気中で融液成長法または溶液成長法により、図
2に示すようなMo単結晶体1を製造した。そして、図
1に示すように、このMo単結晶体1を旋削して、成形
面2を除いた外形を整形した後、成形面2にダイヤモン
ドパウダの粒径を順次変えて研磨した。次に、これを酸
素濃度が0.1%で600℃の炉中で2時間酸化熱処理
を行い、表層にMo酸化物層を形成したMo単結晶型3
を得た。成形面2の表面粗度はRmax=0.05μm
であった。
【0008】上記本実施例の光学素子成形用型を用いて
、1420℃で溶解したSF系光学ガラスを成形した。 5000ショットの連続成形を行っても、成形品の品質
や成形面2には何ら欠陥はなかった。これに対し、前記
従来の光学素子成形用型を用いて同様の成形を行ったと
ころ、500ショット程度で成形面に微小ガラスの焼き
付きや膜剥離が発生し、1000ショット程度で使用不
能になってしまった。
、1420℃で溶解したSF系光学ガラスを成形した。 5000ショットの連続成形を行っても、成形品の品質
や成形面2には何ら欠陥はなかった。これに対し、前記
従来の光学素子成形用型を用いて同様の成形を行ったと
ころ、500ショット程度で成形面に微小ガラスの焼き
付きや膜剥離が発生し、1000ショット程度で使用不
能になってしまった。
【0009】
【実施例2】通常の焼結により得たW多結晶の焼結体を
所定形状にした後、#600〜#1200程度の粒度の
SiC砥粒により荒削りし、さらに#3000のダイヤ
モンドペーストにより研磨した。次に、これを酸素濃度
が0.2%で700℃の炉中で3時間酸化熱処理を行い
、表層にW酸化物層を形成したW多結晶型を得た。成形
面の表面粗度はRmax=0.07μmであった。
所定形状にした後、#600〜#1200程度の粒度の
SiC砥粒により荒削りし、さらに#3000のダイヤ
モンドペーストにより研磨した。次に、これを酸素濃度
が0.2%で700℃の炉中で3時間酸化熱処理を行い
、表層にW酸化物層を形成したW多結晶型を得た。成形
面の表面粗度はRmax=0.07μmであった。
【0010】上記本実施例の光学素子成形用型を用いて
、1430℃で溶解したSF系光学ガラスを成形した。 7000ショットの連続成形を行っても、成形品の品質
や成形面には何ら欠陥はなかった。
、1430℃で溶解したSF系光学ガラスを成形した。 7000ショットの連続成形を行っても、成形品の品質
や成形面には何ら欠陥はなかった。
【0011】
【実施例3】通常の焼結により得たCr多結晶の焼結体
を所定形状にした後、#400〜#800程度の粒度の
SiC砥粒により荒削りし、さらに#3000のダイヤ
モンドペーストにより研磨した。次に、これを酸素濃度
が0.15%で700℃の炉中で3時間酸化処理を行い
、表層にCr酸化物層を形成したCr多結晶型を得た。 成形面の表面粗度はRmax=0.06μmであった。
を所定形状にした後、#400〜#800程度の粒度の
SiC砥粒により荒削りし、さらに#3000のダイヤ
モンドペーストにより研磨した。次に、これを酸素濃度
が0.15%で700℃の炉中で3時間酸化処理を行い
、表層にCr酸化物層を形成したCr多結晶型を得た。 成形面の表面粗度はRmax=0.06μmであった。
【0012】上記本実施例の光学素子成形用型を用いて
、1510℃で溶解したF系光学ガラスを成形した。 6000ショットの連続成形を行っても、成形品の品質
や成形面には何ら欠陥はなかった。
、1510℃で溶解したF系光学ガラスを成形した。 6000ショットの連続成形を行っても、成形品の品質
や成形面には何ら欠陥はなかった。
【0013】
【実施例4】通常の焼結により得たTa多結晶の焼結体
を所定形状にした後、#400〜#800程度の粒度の
SiC砥粒により荒削りし、さらに#3000のダイヤ
モンドペーストにより研磨した。次に、これを酸素濃度
が0.2%で600℃の炉中で2時間酸化熱処理を行い
、表層にTa酸化物層を形成したTa多結晶型を得た。 成形面の表面粗度はRmax=0.07μmであった。
を所定形状にした後、#400〜#800程度の粒度の
SiC砥粒により荒削りし、さらに#3000のダイヤ
モンドペーストにより研磨した。次に、これを酸素濃度
が0.2%で600℃の炉中で2時間酸化熱処理を行い
、表層にTa酸化物層を形成したTa多結晶型を得た。 成形面の表面粗度はRmax=0.07μmであった。
【0014】上記本実施例の光学素子成形用型を用いて
、1560℃で溶解したBK系光学ガラスを成形した。 5000ショットの連続成形を行っても、成形品の品質
や成形面には何ら欠陥はなかった。
、1560℃で溶解したBK系光学ガラスを成形した。 5000ショットの連続成形を行っても、成形品の品質
や成形面には何ら欠陥はなかった。
【0015】なお、上記各実施例における酸化熱処理の
条件はそれに限定されるものではなく、酸素濃度は0.
1〜1%の範囲で、処理時間は2〜5時間の範囲であれ
ば良好な結果が得られる。
条件はそれに限定されるものではなく、酸素濃度は0.
1〜1%の範囲で、処理時間は2〜5時間の範囲であれ
ば良好な結果が得られる。
【0016】
【発明の効果】以上のように、本発明の光学素子成形用
型によれば、高温における耐酸化性(耐化学反応性)に
優れているため、微小ガラスの付着がなく、非常に離型
性が良好で型寿命が長くなる。
型によれば、高温における耐酸化性(耐化学反応性)に
優れているため、微小ガラスの付着がなく、非常に離型
性が良好で型寿命が長くなる。
【図1】本発明の実施例1のMo単結晶型を示す正面図
である。
である。
【図2】本発明の実施例1で製造したMo単結晶体の正
面図である。
面図である。
1 Mo単結晶体
2 成形面
3 Mo単結晶型
Claims (1)
- 【請求項1】 Mo,W,Cr若しくはTaの各多結
晶またはMo単結晶のうちのいずれか一つにより型基材
を形成するとともに、型基材の最表層にその金属成分の
酸化物を形成したことを特徴とする光学素子成形用型。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2796091A JPH04243922A (ja) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | 光学素子成形用型 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2796091A JPH04243922A (ja) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | 光学素子成形用型 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04243922A true JPH04243922A (ja) | 1992-09-01 |
Family
ID=12235458
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2796091A Withdrawn JPH04243922A (ja) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | 光学素子成形用型 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04243922A (ja) |
-
1991
- 1991-01-28 JP JP2796091A patent/JPH04243922A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |