JPH03295823A - 光学素子成形用型 - Google Patents

光学素子成形用型

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JPH03295823A
JPH03295823A JP9855390A JP9855390A JPH03295823A JP H03295823 A JPH03295823 A JP H03295823A JP 9855390 A JP9855390 A JP 9855390A JP 9855390 A JP9855390 A JP 9855390A JP H03295823 A JPH03295823 A JP H03295823A
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JP
Japan
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mold
molding
die
weight
optical element
Prior art date
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Pending
Application number
JP9855390A
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English (en)
Inventor
Hajime Ichikawa
市川 一
Masahiro Katashiro
雅浩 片白
Yasuhiro Yoneda
靖弘 米田
Takeshi Kawamata
川俣 健
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
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Publication of JPH03295823A publication Critical patent/JPH03295823A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06Construction of plunger or mould
    • C03B11/08Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • C03B11/084Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
    • C03B11/086Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00Press-moulding glass
    • C03B2215/02Press-mould materials
    • C03B2215/08Coated press-mould dies
    • C03B2215/10Die base materials
    • C03B2215/11Metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00Press-moulding glass
    • C03B2215/02Press-mould materials
    • C03B2215/08Coated press-mould dies
    • C03B2215/14Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
    • C03B2215/20Oxide ceramics

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は1、熱間にてガラス素材をプレス成形すること
により光学素子を得る方法で使用される光学素子成形用
型に関する。
〔従来の技術〕
従来、光学素子成形用型としては、例えば特開昭62−
17029号公報に開示されるようなものが知られてい
る。この光学素子成形用型は、Si単結晶により型基材
を形成し、Siおよびpt系合金との接着性に優れた材
料を中間層として用い、最表層にPt系合金薄膜を形成
したものである。すなわち、この成形用型は、Si単結
晶の型基材とPt系合金薄膜との接着強度を高めること
により、成形用型の長寿命化を図ったものである。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来の光学素子成形用型のPt系合金薄膜は、ガラ
スとの反応性が比較的低く、化学的に安定な膜である。
しかし、pt系合金薄膜は、軟化したガラスと接触する
ことによって、変色や表面粗さの変化を生じたり、比較
的軟らかいために傷が発生したり、また微小ガラスの付
着、蓄積等が発生し易く、離型性が良くなかった。さら
に、合金i**の形成では、合金材料の成分比を成膜前
後でどれだけ同等にできるか、また同じ組成比の薄膜を
再現することができるかの問題があり、これを解決する
には、材料加工技術、成膜加工技術等について極めて高
度な技術を必要とした。
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので
、耐酸化性および耐蝕性に優れ、離型性が良好であり、
簡易な加工技術で製造することができる光学素子成形用
型を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、本発明は、Ni55〜80
重量%、Cr15〜35重量%およびy*oso、s〜
1重量%を含有させ、y、o、を分散混合させるととも
に、最表層にCr、 Aj!、 TiおよびYの各酸化
物を混合状態で存在させて、光学素子成形用型を構成し
た。
ここに、Niを55〜80重量%としたのは、Niが5
5重量%未満であると、靭性や曲げ等の機械的強度が低
下するとともに、硬度が低(なってしまうからであり、
一方80重量%を越えると、結晶中に他の成分が入りに
くくなるために硬度が低くなってしまうからである。
また、Crを15〜35重量%としたのは、Crが15
重量%未満であると、耐蝕性が低下し、結晶性が荒れる
とともに、機械的強度が低下してしまうからであり、一
方35重量%越えると、他の成分が入りに(くなって合
金化が困難になるからである。
さらに、Y t O*を0.5〜1重量%としたのは、
Y 富Osが0.5重量%未満であると、耐蝕性が低下
してしまうからであり、一方1重量%を越えると、硬度
が向上し過ぎて加工が困難になってしまうからである。
〔作 用〕
上記構成の本発明の光学素子成形用型においては、50
0℃以上の高温下でも結晶性が変化しない非常に安定な
Y□0.を結晶構造中に微細に分散させているので、結
晶構造の破壊がない、したがって、高温時における機械
的強度の低下を抑制することができる。
また、最表層には、Cr、Aj!、TiおよびYの各酸
化物が混合状態(混晶状態)で存在し、不動態層を形成
しているために、ガラス中に存在する酸素と共有せず、
あるいは酸素を通過させない。
このように、常に酸化安定した層によって、ガラスの焼
付きを防止することができる。
さらに、本発明の光学素子成形用型は、Ni基−Cr合
金により形成しているので、導電性を有しており、複維
かつ鋭利形状の放電加工が可能である。
〔実 施 例〕
本実施例の光学素子成形用型は、図に示すようなもので
、Niを68重量%、 Crを20重量%。
Y!03を0.6重量%、残部としてA1およびTiを
含有し、Y、0.を分散混合したNi基−Cr合金によ
り形成されている。そして、型基材1上の最表層2は、
Cr1es、Aj!gos、TiOxおよびY z O
sの混合層(混晶状a)により形成されている。また、
成形面3は、直接光学素子を成形し得る程度のRmax
= 0 、05μm以下に研磨仕上げされている。
このような構成の光学素子成形用型を製造するには、N
i6B重量%、Cr2O重量%、Y、0゜0.6重量%
、A!およびTiを残部とする各粉末を混合し、180
0℃、1500kg/cjの条件下でHIP (熱間静
水プレス)により焼結してブロックを形成した0次に、
このブロックの表面をダイヤモンドパウダーおよび5l
ot系研磨材を用いて研磨し、成形面3とした。その後
、このブロックを酸化雰囲気中にて2500″Cで加熱
し、表面を酸化させて、最表層2にCr1es、Aj4
gos。
T i O!およびY、0.の混合層を形成した。
上記本実施例の光学素子成形用型を用いて、SF系(S
iOz−PbO系)ガラスの光学素子を成形したところ
、5000シタツトの成形を行っても、得られた成形品
の品質に何らの変化もなく、30000ショット以上の
成形が可能であることを確認できた。
これに対して、従来の光学素子成形用型により同様の成
形を行ったところ、500ショット程度の成形で成形面
に変色やガラスの微小焼付きが生じ始め、約15000
シヨント程度で使用できなくなってしまった。また、型
基材に用いたSi単結晶は、硬度は高いものの、へき開
性を有しているので、成形用型としての耐久性を満足で
きる材料ではな(、破損等を生じ易かった。
(第2実施例) 本実施例の光学素子成形用型は、Niを60重量%、C
rを30重量%、y、o、を0.8重量%。
残部としてAj!およびTiを含有し、Y、0.を分散
混合したNi基−Cr合金により形成されている。
そして、第1実施例の成形用型と同様にして、最表層は
、CrtOs、Aj!gos、Ti0tおよびY2O3
の混合層により形成されており、成形面は、Rmax=
 0 、05μm以下の面粗度に研磨仕上げされている
この光学素子成形用型の製造は、第1実施例と同様にし
て行った。
本実施例の光学素子成形用型を用いて、温度条件が厳し
いLa系光学ガラスの成形を行ったところ、第1実施例
と同様にして、従来の成形用型に比して著しく型寿命が
長かった。また、本実施例の成形用型は、面粗度が良好
であり、特に平滑な面粗度が要求される光学素子の成形
に適している。
〔発明の効果〕
以上のように、本発明の光学素子成形用型によれば、耐
酸化性および耐蝕性に優れ、損傷し難く、離型性が良好
で、成形によるガラスの付着等がなく、型寿命が著しく
長いうえに、簡易な加工技術で製造することができる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の光学素子成形用型の第1実施例を示す要部
縦断面図である。 1・・・型基材 2・・・最表層 3・・・成形面

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Ni55〜80重量%、Cr15〜35重量%お
    よびY_2O_30.5〜1重量%を含有し、Y_2O
    _3が分散混合しているとともに、最表層にCr、Al
    、TiおよびYの各酸化物が混合状態で存在することを
    特徴とする光学素子成形用型。
JP9855390A 1990-04-13 1990-04-13 光学素子成形用型 Pending JPH03295823A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102344237A (zh) * 2011-08-09 2012-02-08 苏州卡波尔模具科技有限公司 一种高温合金玻璃模具
US20170137313A1 (en) * 2015-11-18 2017-05-18 Corning Incorporated Powder, process of making the powder, and articles made therefrom

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