JPH03146428A - 光学素子成形用型 - Google Patents
光学素子成形用型Info
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- JPH03146428A JPH03146428A JP28377689A JP28377689A JPH03146428A JP H03146428 A JPH03146428 A JP H03146428A JP 28377689 A JP28377689 A JP 28377689A JP 28377689 A JP28377689 A JP 28377689A JP H03146428 A JPH03146428 A JP H03146428A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、光学素子を成形するために用いる光学素子成
形用型に関する。
形用型に関する。
［従来の技術］
近年、レンズ、プリズム、フィルタ等の光学素子の製造
方法として、一対の成形用型間に光学素子のガラス素材
を挿入配置し、これを加圧するだけで所望の光学素子を
得る押圧成形が行なわれている。
方法として、一対の成形用型間に光学素子のガラス素材
を挿入配置し、これを加圧するだけで所望の光学素子を
得る押圧成形が行なわれている。
従来、かかる抑圧成形で用いる光学素子成形用型として
は、例えば特開昭６２−１３２７３４号公報に開示され
ているように、セラミックスからなる型基材に金属窒化
物を被覆したもの等が知られている。
は、例えば特開昭６２−１３２７３４号公報に開示され
ているように、セラミックスからなる型基材に金属窒化
物を被覆したもの等が知られている。
ここに、金属窒化物は、ガラスとの濡れ性が悪いために
、成形基礎面に金属窒化物膜を形成した光学素子成形用
型により加熱したガラス素材を成形しても、ガラス素材
と金属窒化物との離型力は小さく、ガラスの焼き付きを
生じない。ところが、金属窒化物は、セラミックスとの
濡れ性も悪く、セラミックスとの密着力の方がガラス素
材との離型力よりも弱い。したがって、上記光学素子成
形用型により成形を行なった場合、金属窒化物がセラミ
ックス型基材から剥離し、光学素子成形用型が使用不能
になるという問題があった。
、成形基礎面に金属窒化物膜を形成した光学素子成形用
型により加熱したガラス素材を成形しても、ガラス素材
と金属窒化物との離型力は小さく、ガラスの焼き付きを
生じない。ところが、金属窒化物は、セラミックスとの
濡れ性も悪く、セラミックスとの密着力の方がガラス素
材との離型力よりも弱い。したがって、上記光学素子成
形用型により成形を行なった場合、金属窒化物がセラミ
ックス型基材から剥離し、光学素子成形用型が使用不能
になるという問題があった。
そこで、従来、このような問題点を解決するために、型
基材と金属窒化物との間に、酸化され易い金属からなる
中間層を設けることが行なわれている。
基材と金属窒化物との間に、酸化され易い金属からなる
中間層を設けることが行なわれている。
［発明が解決しようとする課題］
しかし、上記中間層を設けた光学素子成形用型により４
００℃以上の高温下で成形を行なうと、セラミックス型
基材と中間層との界面において酸化または高温腐食が生
じ、密着力が著しく低下し、結果として金属窒化物膜が
型基材から剥離してしまった。
００℃以上の高温下で成形を行なうと、セラミックス型
基材と中間層との界面において酸化または高温腐食が生
じ、密着力が著しく低下し、結果として金属窒化物膜が
型基材から剥離してしまった。
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので
、セラミックスおよび金属窒化物の両者との密着力に優
れ、かつ高温における耐食性および耐酸化性に優れた中
間層を設けることにより、金属窒化物膜が型基材から剥
離することのない光学素子成形用型を提供することを目
的とする。
、セラミックスおよび金属窒化物の両者との密着力に優
れ、かつ高温における耐食性および耐酸化性に優れた中
間層を設けることにより、金属窒化物膜が型基材から剥
離することのない光学素子成形用型を提供することを目
的とする。
［課題を解決するための手段］
上記目的を達成するために、本発明は、セラミックスか
らなる型基材と金属窒化物からなる表面層との間に中間
層を設けてなる光学素子成形用型において、前記中間層
を、クロム（Ｃｒ）およびアルミニウム（Ａβ）を主成
分とし、かつニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）およびコバ
ルト（Ｇｏ）から選択した少なくとも一つの物質とイツ
トリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（
Ｈｆ）およびチタン（Ｔｉ）から選択した一つの物質と
からなる材料で形成したものである。
らなる型基材と金属窒化物からなる表面層との間に中間
層を設けてなる光学素子成形用型において、前記中間層
を、クロム（Ｃｒ）およびアルミニウム（Ａβ）を主成
分とし、かつニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）およびコバ
ルト（Ｇｏ）から選択した少なくとも一つの物質とイツ
トリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（
Ｈｆ）およびチタン（Ｔｉ）から選択した一つの物質と
からなる材料で形成したものである。
ここに、ＣｒとＡｌ２とは、はぼ同量の重量比で含有さ
れ、主成分を構成するものである。
れ、主成分を構成するものである。
［作 用］
上記構成の光学素子成形用型において、Ｎｉ。
Ｆｅ、Ｃｏおよびこれらの合金は、主に焼結体のバイン
ダーとして用いられ、セラミックスの表面を液相で覆う
ことが可能な金属であり、セラミックスとの濡れ性が良
好な金属である。また、Ｙ。
ダーとして用いられ、セラミックスの表面を液相で覆う
ことが可能な金属であり、セラミックスとの濡れ性が良
好な金属である。また、Ｙ。
Ｚｒ、ＨｆおよびＴｉは、活性金属と称され、窒化し易
い金属なので、金属窒化物と反応して窒化物を形成し、
密着力を向上させる。さらに、ＣｒとＡ２とを主成分と
することにより、高温下における耐食性および耐酸化性
に優れたものとなる。
い金属なので、金属窒化物と反応して窒化物を形成し、
密着力を向上させる。さらに、ＣｒとＡ２とを主成分と
することにより、高温下における耐食性および耐酸化性
に優れたものとなる。
したがって、上記中間層は、高温下においてもセラミッ
クスおよび金属窒化物との密着性に優れている。
クスおよび金属窒化物との密着性に優れている。
［実施例］
（第１実施例）
本実施例の光学素子成形用型は、図に示すようなもので
、型基材ｌは、セラミックスからなっており、所望の形
状に加工されている。そして、型基材１における光学的
要求の生じる成形基礎面ｌａは、鏡面加工が施されてお
り、その成形基礎面１ａには、スパッタリング法により
厚さ０． １μｍの中間層２が形成されている。中間層
２は、Ｃｒ５０重量％、Ａｌ２４６重量％、Ｎｉ３．５
重量％およびＹｏ、５重量％かうなる材料で形成されて
いる。また、中間層２の上には、厚さ０．５μｍのＣｒ
−Ｎ膜３が形成されている。
、型基材ｌは、セラミックスからなっており、所望の形
状に加工されている。そして、型基材１における光学的
要求の生じる成形基礎面ｌａは、鏡面加工が施されてお
り、その成形基礎面１ａには、スパッタリング法により
厚さ０． １μｍの中間層２が形成されている。中間層
２は、Ｃｒ５０重量％、Ａｌ２４６重量％、Ｎｉ３．５
重量％およびＹｏ、５重量％かうなる材料で形成されて
いる。また、中間層２の上には、厚さ０．５μｍのＣｒ
−Ｎ膜３が形成されている。
このような構成の光学素子成形用型を用いて、Ｎ２ガス
雰囲気中でＳ ｉ Ｏａ−Ｂ ｘ Ｏａ−Ｂ ａ Ｏ系
ガラスの連続２０００シヨツト成形を行ない、成形後の
光学素子成形用型の表面状態について観察したところ、
膜剥離は全くなかった。
雰囲気中でＳ ｉ Ｏａ−Ｂ ｘ Ｏａ−Ｂ ａ Ｏ系
ガラスの連続２０００シヨツト成形を行ない、成形後の
光学素子成形用型の表面状態について観察したところ、
膜剥離は全くなかった。
なお、比較のため、中間層を設けずに型基材にＣｒ−Ｎ
膜を直接形成した従来の光学素子成形用型について上記
と同様の成形を行ない、成形後の光学素子成形用型の表
面状態について観察したところ、微小な膜剥離を生じて
いた。
膜を直接形成した従来の光学素子成形用型について上記
と同様の成形を行ない、成形後の光学素子成形用型の表
面状態について観察したところ、微小な膜剥離を生じて
いた。
（第２実施例）
前記第１実施例の光学素子成形用型と異なる点は、中間
層２を形成する材料が、Ｙに代えてＨｆを含有する点で
ある。
層２を形成する材料が、Ｙに代えてＨｆを含有する点で
ある。
本実施例の光学素子成形用型を用いて、Ｎ２ガス雰囲気
中でＳ ｉ ０２−Ｂ ＊ ０ｓ−ＢａＯ系ガラスの連
続２０００シヨツト成形を行ない、成形後の光学素子成
形用型の表面状態について観察したところ、膜剥離は全
くなかった。
中でＳ ｉ ０２−Ｂ ＊ ０ｓ−ＢａＯ系ガラスの連
続２０００シヨツト成形を行ない、成形後の光学素子成
形用型の表面状態について観察したところ、膜剥離は全
くなかった。
［発明の効果］
以上のように、本発明の光学素子成形用型によれば、セ
ラミックス型基材と金属窒化物膜との間に特定の中間層
を設けたので、高温下においても型基材と金属窒化物膜
との密着力を大きくすることができ、従来の光学素子成
形用型に比較して高温使用条件下でも寿命が飛躍的に向
上し、光学素子成形時のコスト低減を図ることができる
。
ラミックス型基材と金属窒化物膜との間に特定の中間層
を設けたので、高温下においても型基材と金属窒化物膜
との密着力を大きくすることができ、従来の光学素子成
形用型に比較して高温使用条件下でも寿命が飛躍的に向
上し、光学素子成形時のコスト低減を図ることができる
。
図は本発明の光学素子成形用型の第１実施例を示す縦断
面図である。 １・・・型基材 ２・・・中間層 ３・＝Ｃｒ−Ｎ膜
面図である。 １・・・型基材 ２・・・中間層 ３・＝Ｃｒ−Ｎ膜
Claims (1)
- （１）セラミックスからなる型基材と金属窒化物からな
る表面層との間に中間層を設けてなる光学素子成形用型
において、前記中間層を、クロムおよびアルミニウムを
主成分とし、かつニッケル、鉄およびコバルトから選択
した少なくとも一つの物質とイットリウム、ジルコニウ
ム、ハフニウムおよびチタンから選択した一つの物質と
からなる材料で形成したことを特徴とする光学素子成形
用型。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28377689A JPH03146428A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 光学素子成形用型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28377689A JPH03146428A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 光学素子成形用型 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03146428A true JPH03146428A (ja) | 1991-06-21 |
Family
ID=17669977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28377689A Pending JPH03146428A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 光学素子成形用型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03146428A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5700307A (en) * | 1993-07-28 | 1997-12-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Die for press-molding optical elements |
| US5759221A (en) * | 1993-07-28 | 1998-06-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of press molding glass optical elements |
-
1989
- 1989-10-31 JP JP28377689A patent/JPH03146428A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5700307A (en) * | 1993-07-28 | 1997-12-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Die for press-molding optical elements |
| US5759221A (en) * | 1993-07-28 | 1998-06-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of press molding glass optical elements |
| US6009728A (en) * | 1993-07-28 | 2000-01-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Die for press-molding optical elements |
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