JPH04235980A - メタクリル酸グリシジルの精製方法 - Google Patents
メタクリル酸グリシジルの精製方法Info
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- JPH04235980A JPH04235980A JP7262791A JP7262791A JPH04235980A JP H04235980 A JPH04235980 A JP H04235980A JP 7262791 A JP7262791 A JP 7262791A JP 7262791 A JP7262791 A JP 7262791A JP H04235980 A JPH04235980 A JP H04235980A
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Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はメタクリル酸グリシジル
の精製方法に関するものである。メタクリル酸グリシジ
ルは、分子中に反応性の高い二重結合およびエポキシ基
を有しており、その重合体やビニル化合物との共重合体
が塗料類(特に粉体塗料)、繊維処理剤等に用いられる
重合化学上重要な化合物である。
の精製方法に関するものである。メタクリル酸グリシジ
ルは、分子中に反応性の高い二重結合およびエポキシ基
を有しており、その重合体やビニル化合物との共重合体
が塗料類(特に粉体塗料)、繊維処理剤等に用いられる
重合化学上重要な化合物である。
【0002】
【従来の技術】メタクリル酸グリシジルを製造する方法
としてはこれまで、以下に示す(1)から(5)の方法
が知られており、精製は、通常減圧蒸留によって行われ
ている。
としてはこれまで、以下に示す(1)から(5)の方法
が知られており、精製は、通常減圧蒸留によって行われ
ている。
【0003】(1)エピクロルヒドリンと、メタクリル
酸またはメタクリル酸のアルカリ金属塩との反応(例え
ば、特公昭48−4006号公報等)、(2)グリシド
ールと、メタクリル酸メチルとのエステル交換(例えば
、特公昭47−38421号公報等)、
酸またはメタクリル酸のアルカリ金属塩との反応(例え
ば、特公昭48−4006号公報等)、(2)グリシド
ールと、メタクリル酸メチルとのエステル交換(例えば
、特公昭47−38421号公報等)、
【0004】(
3)酢酸グリシジルとメタクリ酸メチルとのエステル交
換(例えば、特公昭57−863号公報等)、(4)グ
リセリン−α−モノクロルヒドリンのメタクリル酸エス
テルのエポキシ化(例えば、特開昭52−71412号
公報等)、(5)メタクリル酸アリルのエポキシ化(例
えば、特開昭61−183275号公報等)
3)酢酸グリシジルとメタクリ酸メチルとのエステル交
換(例えば、特公昭57−863号公報等)、(4)グ
リセリン−α−モノクロルヒドリンのメタクリル酸エス
テルのエポキシ化(例えば、特開昭52−71412号
公報等)、(5)メタクリル酸アリルのエポキシ化(例
えば、特開昭61−183275号公報等)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の従来技術によって得られる製品(メタクリル酸グリシ
ジル)は、通常、少量のグリシドールを不純物として含
有している(例えば、市販の代表的なメタクリル酸グリ
シジル中には約0.5%のグリシドールが存在している
)。
の従来技術によって得られる製品(メタクリル酸グリシ
ジル)は、通常、少量のグリシドールを不純物として含
有している(例えば、市販の代表的なメタクリル酸グリ
シジル中には約0.5%のグリシドールが存在している
)。
【0006】グリシドールが製品中に存在すると、メタ
クリル酸グリシジルをラジカル重合させる際に、グリシ
ドールが連鎖移動剤として作用し、その結果、重合度が
上がらなくなったり、また、一部のグリシドールが重合
せずモノマーのまま樹脂の中に残るため、塗膜の耐水性
の悪化や、ブリードの原因となる等、好ましくない。し
たがって、グリシドール含有量の少ないメタクリル酸グ
リシジルの開発が待たれていた。
クリル酸グリシジルをラジカル重合させる際に、グリシ
ドールが連鎖移動剤として作用し、その結果、重合度が
上がらなくなったり、また、一部のグリシドールが重合
せずモノマーのまま樹脂の中に残るため、塗膜の耐水性
の悪化や、ブリードの原因となる等、好ましくない。し
たがって、グリシドール含有量の少ないメタクリル酸グ
リシジルの開発が待たれていた。
【0007】検討の結果、グリシドールがメタクリル酸
グリシジル中に混在するのは、以下の2つが主な原因で
あることが分かった。 (A)反応後に残存するグリシドールが、精製(蒸留)
工程で分離除去できずに製品メタクリル酸グリシジル中
に混在する。
グリシジル中に混在するのは、以下の2つが主な原因で
あることが分かった。 (A)反応後に残存するグリシドールが、精製(蒸留)
工程で分離除去できずに製品メタクリル酸グリシジル中
に混在する。
【0008】(B)精製(蒸留)工程で、メタクリル酸
グリシジルと、グリシドール以外のヒドロキシ化合物(
特に、メタクリル酸グリシジルより高沸点なもの)との
エステル交換によってグリシドールが生成し、製品メタ
クリル酸グリシジル中に混在する([反応式]参照)。
グリシジルと、グリシドール以外のヒドロキシ化合物(
特に、メタクリル酸グリシジルより高沸点なもの)との
エステル交換によってグリシドールが生成し、製品メタ
クリル酸グリシジル中に混在する([反応式]参照)。
【0009】
【0010】但し、上記反応式中R−OHはグリシドー
ル以外のヒドロキシ化合物を示す。一方、本発明に関連
する従来技術として、特公昭48−4006号公報には
、「不飽和有機酸アルカリ塩とエピクロルヒドリンを有
機溶媒とともに塩基性触媒の存在で加熱反応させたのち
、反応混合物に水を添加混合し、抽出によって、水溶性
不純物を除去した後、有機溶媒層を蒸留することによっ
て不飽和有機酸グリシジルエステルを製造する」方法が
開示されている。
ル以外のヒドロキシ化合物を示す。一方、本発明に関連
する従来技術として、特公昭48−4006号公報には
、「不飽和有機酸アルカリ塩とエピクロルヒドリンを有
機溶媒とともに塩基性触媒の存在で加熱反応させたのち
、反応混合物に水を添加混合し、抽出によって、水溶性
不純物を除去した後、有機溶媒層を蒸留することによっ
て不飽和有機酸グリシジルエステルを製造する」方法が
開示されている。
【0011】該従来技術において、「反応混合物の水抽
出」は、精製(蒸留)に先立って、反応時に副生する大
量の食塩などのアルカリ金属塩化物を除去することが主
たる目的である。しかし、反応段階でグリシドールが存
在している場合には、グリシドールは水溶性なので、こ
の「反応混合物の水抽出」によって除去され得る(該従
来技術には、水抽出によってグリシドールが除去される
ことについて、何ら具体的に記されていない)。
出」は、精製(蒸留)に先立って、反応時に副生する大
量の食塩などのアルカリ金属塩化物を除去することが主
たる目的である。しかし、反応段階でグリシドールが存
在している場合には、グリシドールは水溶性なので、こ
の「反応混合物の水抽出」によって除去され得る(該従
来技術には、水抽出によってグリシドールが除去される
ことについて、何ら具体的に記されていない)。
【0012】このように、該従来技術の発明者が、気付
いているか否かは別として、反応混合物中のグリシドー
ルを除去する方法として、「反応混合物を水抽出」する
ことは、公知と判断される。この方法によれば、前記(
A)を原因とする、製品へのグリシドールの混入は防ぐ
ことが可能である。
いているか否かは別として、反応混合物中のグリシドー
ルを除去する方法として、「反応混合物を水抽出」する
ことは、公知と判断される。この方法によれば、前記(
A)を原因とする、製品へのグリシドールの混入は防ぐ
ことが可能である。
【0013】しかしながら、この方法では、前記(B)
の原因となるグリシドール以外のヒドロキシ化合物の除
去を行っていないために、「反応混合物の水抽出」の後
の「蒸留」操作が行われる際に、前記(B)を原因とす
る、「精製(蒸留)時に新たに発生するグリシドールの
製品への混入」を避けることができない。
の原因となるグリシドール以外のヒドロキシ化合物の除
去を行っていないために、「反応混合物の水抽出」の後
の「蒸留」操作が行われる際に、前記(B)を原因とす
る、「精製(蒸留)時に新たに発生するグリシドールの
製品への混入」を避けることができない。
【0014】
【課題を解決するための手段】このような状況に鑑み、
本発明者らは、鋭意検討した結果、メタクリル酸グリシ
ジルを主要な成分として含有する液からグリシドール以
外のヒドロキシ化合物を除去した後、残存するグリシド
ールを水抽出によって除去することによって初めて、グ
リシドール含有量の少ないメタクリル酸グリシジルが得
られることを見出だし、本発明を完成させた。
本発明者らは、鋭意検討した結果、メタクリル酸グリシ
ジルを主要な成分として含有する液からグリシドール以
外のヒドロキシ化合物を除去した後、残存するグリシド
ールを水抽出によって除去することによって初めて、グ
リシドール含有量の少ないメタクリル酸グリシジルが得
られることを見出だし、本発明を完成させた。
【0015】すなわち、本発明は、「メタクリル酸グリ
シジルを主要な成分として含有し、グリシドールを含有
するかまたは含有せず、グリシドール以外のヒドロキシ
化合物を含有する混合液から該グリシドール以外のヒド
ロキシ化合物を除去した後、グリシドールを水抽出によ
って除去することを特徴とするメタクリル酸グリシジル
の精製方法」である。
シジルを主要な成分として含有し、グリシドールを含有
するかまたは含有せず、グリシドール以外のヒドロキシ
化合物を含有する混合液から該グリシドール以外のヒド
ロキシ化合物を除去した後、グリシドールを水抽出によ
って除去することを特徴とするメタクリル酸グリシジル
の精製方法」である。
【0016】以下に本発明のメタクリル酸グリシジルの
精製方法について詳細に説明する。 <グリシドール以外のヒドロキシ化合物>
精製方法について詳細に説明する。 <グリシドール以外のヒドロキシ化合物>
【0017】
本発明で述べる「グリシドール以外のヒドロキシ化合物
」とは、前記(B)の原因となり得る化合物であり、メ
タクリル酸グリシジルのエポキシ基に、水やメタノール
などのアルコール、酢酸などのカルボン酸が開環付加し
た化合物(主に反応時に副生)や、原料に含まれる不純
物で水酸基を有する化合物、さらに、これらの化合物の
水酸基がメタクリル酸グリシジルのエポキシ基に開環付
加した化合物などがこれにあてはまる。
本発明で述べる「グリシドール以外のヒドロキシ化合物
」とは、前記(B)の原因となり得る化合物であり、メ
タクリル酸グリシジルのエポキシ基に、水やメタノール
などのアルコール、酢酸などのカルボン酸が開環付加し
た化合物(主に反応時に副生)や、原料に含まれる不純
物で水酸基を有する化合物、さらに、これらの化合物の
水酸基がメタクリル酸グリシジルのエポキシ基に開環付
加した化合物などがこれにあてはまる。
【0018】<メタクリル酸グリシジルを主要な成分と
して含有し、グリシドール以外のヒドロキシ化合物を含
有するメタクリル酸グリシジル>本発明の出発原料とな
る「メタクリル酸グリシジルを主要な成分として含有し
、グリシドール以外のヒドロキシ化合物を含有するメタ
クリル酸グリシジル」は、前記従来技術(1)から(6
)に記載の方法で容易に製造することができる。
して含有し、グリシドール以外のヒドロキシ化合物を含
有するメタクリル酸グリシジル>本発明の出発原料とな
る「メタクリル酸グリシジルを主要な成分として含有し
、グリシドール以外のヒドロキシ化合物を含有するメタ
クリル酸グリシジル」は、前記従来技術(1)から(6
)に記載の方法で容易に製造することができる。
【0019】反応液や、反応液からメタクリル酸メチル
や、反応溶媒などのメタクリル酸グリシジルよりも低沸
点の化合物を除去したものなどが、これにあてはまる。
や、反応溶媒などのメタクリル酸グリシジルよりも低沸
点の化合物を除去したものなどが、これにあてはまる。
【0020】<グリシドール以外のヒドロキシ化合物の
除去方法>これら「グリシドール以外のヒドロキシ化合
物」の除去方法としては、通常、減圧蒸留が行われ、前
記従来技術(1)から(6)に記載の方法や、公知の蒸
留方法が利用できる。
除去方法>これら「グリシドール以外のヒドロキシ化合
物」の除去方法としては、通常、減圧蒸留が行われ、前
記従来技術(1)から(6)に記載の方法や、公知の蒸
留方法が利用できる。
【0021】<グリシドール以外のヒドロキシ化合物を
除去したメタクリル酸グリシジル>このようにして「グ
リシドール以外のヒドロキシ化合物」を除去したメタク
リル酸グリシジル中には、前記(A)または(B)が原
因となって、少量のグリシドールが存在している。
除去したメタクリル酸グリシジル>このようにして「グ
リシドール以外のヒドロキシ化合物」を除去したメタク
リル酸グリシジル中には、前記(A)または(B)が原
因となって、少量のグリシドールが存在している。
【0022】すなわち、具体的には、成分として、メタ
クリル酸グリシジルおよび少量のグリシドールを含み、
前記(B)の原因となる「グリシドール以外のヒドロキ
シ化合物」を含まないものを言う。
クリル酸グリシジルおよび少量のグリシドールを含み、
前記(B)の原因となる「グリシドール以外のヒドロキ
シ化合物」を含まないものを言う。
【0023】また、未反応のメタクリル酸メチルや、ベ
ンゼンやトルエン等の前記従来技術(1)から(6)に
記載されている不活性な反応溶媒を含んでいても良い。 また、前述した、グリシドールを0.5%程度含有する
市販のメタクリル酸グリシジルも、これにあてはまる。
ンゼンやトルエン等の前記従来技術(1)から(6)に
記載されている不活性な反応溶媒を含んでいても良い。 また、前述した、グリシドールを0.5%程度含有する
市販のメタクリル酸グリシジルも、これにあてはまる。
【0024】<抽出条件>抽出は、メタクリル酸グリシ
ジル中のエポキシ基の加水分解を避けるため、通常、抽
出水の凝固点である0℃から80℃の温度範囲、好まし
くは、0℃から40℃の温度範囲で行なわれる。抽出に
使用される水の量に特に制約はない。
ジル中のエポキシ基の加水分解を避けるため、通常、抽
出水の凝固点である0℃から80℃の温度範囲、好まし
くは、0℃から40℃の温度範囲で行なわれる。抽出に
使用される水の量に特に制約はない。
【0025】但し、水の使用量が多過ぎると水層へのメ
タクリル酸グリシジルの溶解ロスが多くなり、また、少
な過ぎるとグリシドールの除去が不十分になるので、原
料中のグリシドール濃度や、抽出の形態(後述)に応じ
て最適化されるべきである。抽出プロセスの形態にも特
に制約はない。連続あるいはバッチ、単抽出、並流多回
抽出、交流多段抽出等公知の方法のいずれの形態でも良
い。
タクリル酸グリシジルの溶解ロスが多くなり、また、少
な過ぎるとグリシドールの除去が不十分になるので、原
料中のグリシドール濃度や、抽出の形態(後述)に応じ
て最適化されるべきである。抽出プロセスの形態にも特
に制約はない。連続あるいはバッチ、単抽出、並流多回
抽出、交流多段抽出等公知の方法のいずれの形態でも良
い。
【0026】<抽出後の処理>水によるグリシドール抽
出後のメタクリル酸グリシジル層には、抽出温度や、メ
タクリル酸メチルおよびまたは反応溶媒の有無によって
異なるが、少量の水が存在している。
出後のメタクリル酸グリシジル層には、抽出温度や、メ
タクリル酸メチルおよびまたは反応溶媒の有無によって
異なるが、少量の水が存在している。
【0027】この水が、長時間メタクリル酸グリシジル
と接触していると、加水分解や、エポキシ基への付加反
応を引き起こすので、水抽出後は、直ちに脱水する必要
がある。脱水方法としては、脱水剤による脱水、蒸留に
よる脱水(この場合、共沸蒸留が好ましく、共沸剤とし
ては、メタクリル酸メチルや、前述の不活性な反応溶媒
が好ましい)等公知の方法が用いられ、脱水後の水分は
、通常0.1%以下(対メタクリル酸グリシジル)とす
るのが良い。
と接触していると、加水分解や、エポキシ基への付加反
応を引き起こすので、水抽出後は、直ちに脱水する必要
がある。脱水方法としては、脱水剤による脱水、蒸留に
よる脱水(この場合、共沸蒸留が好ましく、共沸剤とし
ては、メタクリル酸メチルや、前述の不活性な反応溶媒
が好ましい)等公知の方法が用いられ、脱水後の水分は
、通常0.1%以下(対メタクリル酸グリシジル)とす
るのが良い。
【0028】また、この脱水処理後、不純物の除去や、
メタクリル酸メチルおよびまたは、前述の不活性反応溶
媒の除去のために、さらに精製(蒸留)等の精製操作を
行っても良い。この場合、前記(B)の原因となるアル
コールが存在しないので、該精製(蒸留)中にグリシド
ールが発生することがなく、その結果、精製メタクリル
酸グリシジルにグリシドールが混入することはない。な
お、メタクリル酸メチル、グリシドールおよびメタクリ
ル酸グリシジルの沸点はそれぞれ100℃、163℃、
189℃である。
メタクリル酸メチルおよびまたは、前述の不活性反応溶
媒の除去のために、さらに精製(蒸留)等の精製操作を
行っても良い。この場合、前記(B)の原因となるアル
コールが存在しないので、該精製(蒸留)中にグリシド
ールが発生することがなく、その結果、精製メタクリル
酸グリシジルにグリシドールが混入することはない。な
お、メタクリル酸メチル、グリシドールおよびメタクリ
ル酸グリシジルの沸点はそれぞれ100℃、163℃、
189℃である。
【0029】
【実施例】以下に、本発明の効果を参考例および実施例
を用いて具体的に説明するが、本発明はこれらの参考例
および実施例に制限されるものではない。
を用いて具体的に説明するが、本発明はこれらの参考例
および実施例に制限されるものではない。
【0030】
【参考例1】重合禁止剤であるヒドロキノンモノメチル
エーテルの存在下、酢酸カリウムを触媒として、グリシ
ドール(以下、GDと略す)と、メタクリル酸メチル(
以下、MMAと略す)とを反応させ、メタクリル酸グリ
シジル(以下、GMAと略す)を合成した。反応液中の
沈殿物を濾過し、表1の組成の反応液を得た。
エーテルの存在下、酢酸カリウムを触媒として、グリシ
ドール(以下、GDと略す)と、メタクリル酸メチル(
以下、MMAと略す)とを反応させ、メタクリル酸グリ
シジル(以下、GMAと略す)を合成した。反応液中の
沈殿物を濾過し、表1の組成の反応液を得た。
【0031】
【表1】
【0032】温度計、空気吹き込み用のキャピラリー管
を具備する10リットルのガラス製丸底フラスコに、該
反応液を7261.9g(内グリシドールを9.4g含
む)張り込み、減圧下のバッチ蒸留を行った。100か
ら30Torrの減圧下、メタクリル酸メチルを留出さ
せ、次いで、8から5Torrの減圧下でメタクリル酸
グリシジルを留出させた。
を具備する10リットルのガラス製丸底フラスコに、該
反応液を7261.9g(内グリシドールを9.4g含
む)張り込み、減圧下のバッチ蒸留を行った。100か
ら30Torrの減圧下、メタクリル酸メチルを留出さ
せ、次いで、8から5Torrの減圧下でメタクリル酸
グリシジルを留出させた。
【0033】メタクリル酸グリシジルの濃度が97%以
上の留分が1284.8g得られ、組成は表2の通りで
あった。
上の留分が1284.8g得られ、組成は表2の通りで
あった。
【0034】
【表2】
【0035】この留分中のグリシドール重量は20.2
g(1284.8×0.0157)であり、仕込み量の
9.3gよりも増加しており、明らかに、蒸留中に新た
にグリシドールが発生し、製品中に混入していることが
分かる。
g(1284.8×0.0157)であり、仕込み量の
9.3gよりも増加しており、明らかに、蒸留中に新た
にグリシドールが発生し、製品中に混入していることが
分かる。
【0036】
【実施例1】参考例1と同様にして、反応液を減圧下で
バッチ蒸留し、表3の組成の留分を得た。この留分50
.0gを、室温(20から25℃)下、分液ロートにて
、50.0gの水で3回抽出を行った。
バッチ蒸留し、表3の組成の留分を得た。この留分50
.0gを、室温(20から25℃)下、分液ロートにて
、50.0gの水で3回抽出を行った。
【0037】この時の、メタクリル酸グリシジル層の組
成および重量は表3の通りであった。また、抽出3回目
のメタクリル酸グリシジル層20.5gに脱水剤として
和光純薬(株)製「モレキュラーシーブス 4A
1/16」を13.0g加え、室温(20から25℃)
下で1日放置して脱水を行った。脱水後液の組成を表3
に示した。
成および重量は表3の通りであった。また、抽出3回目
のメタクリル酸グリシジル層20.5gに脱水剤として
和光純薬(株)製「モレキュラーシーブス 4A
1/16」を13.0g加え、室温(20から25℃)
下で1日放置して脱水を行った。脱水後液の組成を表3
に示した。
【0038】
【表3】
【0039】なお、表中の「不検出」とは、0.01%
以下(分析に用いたガスクロマトグラフィーの検出限界
)を意味する。メタクリル酸グリシジル層中のグリシド
ール濃度は、水抽出回数に応じて、1.94%から不検
出(0.01%以下)まで減少しており、効率良く除去
されていることが分かる。
以下(分析に用いたガスクロマトグラフィーの検出限界
)を意味する。メタクリル酸グリシジル層中のグリシド
ール濃度は、水抽出回数に応じて、1.94%から不検
出(0.01%以下)まで減少しており、効率良く除去
されていることが分かる。
【0040】また、抽出3回後のメタクリル酸グリシジ
ル層には、水が、2.18%含まれているが、公知の脱
水方法のひとつである脱水剤の使用により容易に脱水さ
れていることが分かる。
ル層には、水が、2.18%含まれているが、公知の脱
水方法のひとつである脱水剤の使用により容易に脱水さ
れていることが分かる。
【0041】
【実施例2】参考例1と同様にして、反応液を減圧下で
バッチ蒸留し、表4の組成の留分を得た。水抽出は、こ
の留分1587.3gを、780gの水で2回抽出を行
った(他の抽出条件条件は実施例1と同じ)。
バッチ蒸留し、表4の組成の留分を得た。水抽出は、こ
の留分1587.3gを、780gの水で2回抽出を行
った(他の抽出条件条件は実施例1と同じ)。
【0042】この時の、メタクリル酸グリシジル層の組
成および重量は表4の通りであった。また、抽出2回後
のメタクリル酸グリシジル層1473.0gに対して、
660.0gのモレキュラーシーブスを使用して脱水を
行い(他の脱水条件は実施例1と同じ)、最後にモレキ
ュラーシーブスを濾別した。濾過後の脱水後液の組成お
よび重量を表4に示した。
成および重量は表4の通りであった。また、抽出2回後
のメタクリル酸グリシジル層1473.0gに対して、
660.0gのモレキュラーシーブスを使用して脱水を
行い(他の脱水条件は実施例1と同じ)、最後にモレキ
ュラーシーブスを濾別した。濾過後の脱水後液の組成お
よび重量を表4に示した。
【0043】
【表4】
【0044】なお、表1から表4におけるその他の中に
本発明で述べる「グリシドール以外のヒドロキシ化合物
」が存在している。メタクリル酸グリシジル層中のグリ
シドール濃度は、水抽出回数に応じて、4.30%から
0.21%まで減少しており、効率良く除去されている
ことが分かる。
本発明で述べる「グリシドール以外のヒドロキシ化合物
」が存在している。メタクリル酸グリシジル層中のグリ
シドール濃度は、水抽出回数に応じて、4.30%から
0.21%まで減少しており、効率良く除去されている
ことが分かる。
【0045】また、抽出2回後のメタクリル酸グリシジ
ル層には、水が、2.02%含まれているが、脱水剤の
使用により容易に脱水されていることが分かる。また、
この時、グリシドール濃度も減少した。
ル層には、水が、2.02%含まれているが、脱水剤の
使用により容易に脱水されていることが分かる。また、
この時、グリシドール濃度も減少した。
【0046】
【発明の効果】本発明によれば、メタクリル酸グリシジ
ル中の好ましくない不純物であるグリシドールを水抽出
によって効率良く除去することができる。また、グリシ
ドール以外のヒドロキシ化合物を除去した後に、残存す
るグリシドールを水抽出によって除去するため、水抽出
後に、さらなる精製のための蒸留を行っても、メタクリ
ル酸グリシジルとグリシドール以外のヒドロキシ化合物
とのエステル交換によるグリシドールの新たな発生がな
いため、これを原因とするグリシドールの製品中への混
入がない。
ル中の好ましくない不純物であるグリシドールを水抽出
によって効率良く除去することができる。また、グリシ
ドール以外のヒドロキシ化合物を除去した後に、残存す
るグリシドールを水抽出によって除去するため、水抽出
後に、さらなる精製のための蒸留を行っても、メタクリ
ル酸グリシジルとグリシドール以外のヒドロキシ化合物
とのエステル交換によるグリシドールの新たな発生がな
いため、これを原因とするグリシドールの製品中への混
入がない。
【0047】また、本発明の水抽出後のメタクリル酸グ
リシジル層には、少量の水が含まれるが、脱水剤の利用
や、蒸留などの公知の方法で容易に脱水することができ
る。
リシジル層には、少量の水が含まれるが、脱水剤の利用
や、蒸留などの公知の方法で容易に脱水することができ
る。
Claims (1)
- 【請求項1】 メタクリル酸グリシジルを主要な成分
として含有し、グリシドールを含有するかまたは含有せ
ず、グリシドール以外のヒドロキシ化合物を含有する混
合液から該グリシドール以外のヒドロキシ化合物を除去
した後、グリシドールを水抽出によって除去することを
特徴とするメタクリル酸グリシジルの精製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3072627A JP3044694B2 (ja) | 1991-01-16 | 1991-01-16 | メタクリル酸グリシジルの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3072627A JP3044694B2 (ja) | 1991-01-16 | 1991-01-16 | メタクリル酸グリシジルの精製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04235980A true JPH04235980A (ja) | 1992-08-25 |
JP3044694B2 JP3044694B2 (ja) | 2000-05-22 |
Family
ID=13494815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3072627A Expired - Lifetime JP3044694B2 (ja) | 1991-01-16 | 1991-01-16 | メタクリル酸グリシジルの精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3044694B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009091313A (ja) * | 2007-10-10 | 2009-04-30 | Nippon Kasei Chem Co Ltd | エポキシ基末端(メタ)アクリレートの製造方法 |
JP2009137882A (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-25 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | グリシジル(メタ)アクリレートの製造法 |
JP2010275306A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-12-09 | Nippon Kasei Chem Co Ltd | エポキシ基末端(メタ)アクリレートの製造方法 |
JP2011046626A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Nippon Shokubai Co Ltd | グリシジルアクリレートの製造方法 |
JP2013177398A (ja) * | 2013-04-11 | 2013-09-09 | Nippon Kasei Chem Co Ltd | エポキシ基末端(メタ)アクリレートの製造方法 |
-
1991
- 1991-01-16 JP JP3072627A patent/JP3044694B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009091313A (ja) * | 2007-10-10 | 2009-04-30 | Nippon Kasei Chem Co Ltd | エポキシ基末端(メタ)アクリレートの製造方法 |
JP2009137882A (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-25 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | グリシジル(メタ)アクリレートの製造法 |
JP2010275306A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-12-09 | Nippon Kasei Chem Co Ltd | エポキシ基末端(メタ)アクリレートの製造方法 |
JP2011046626A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Nippon Shokubai Co Ltd | グリシジルアクリレートの製造方法 |
JP2013177398A (ja) * | 2013-04-11 | 2013-09-09 | Nippon Kasei Chem Co Ltd | エポキシ基末端(メタ)アクリレートの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3044694B2 (ja) | 2000-05-22 |
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