JPH04231462A - 陰極スパッタリング装置 - Google Patents
陰極スパッタリング装置Info
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- JPH04231462A JPH04231462A JP3156362A JP15636291A JPH04231462A JP H04231462 A JPH04231462 A JP H04231462A JP 3156362 A JP3156362 A JP 3156362A JP 15636291 A JP15636291 A JP 15636291A JP H04231462 A JPH04231462 A JP H04231462A
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- cathode sputtering
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- sputtering apparatus
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Links
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空コーティング技術
に用いられるような、ターゲットを備えた陰極スパッタ
リング装置に関する。この装置については、例えばＬｅ
ｙｂｏｌｄＡＧ社による刊行物１２−７１０．０１「Ｃ
ｏｐａｃｔ Ｄｉｓｋｓ Ｖａｋｕｕｍ−Ｂｅｓｃ
ｈｉｃｈｔｕｎｇｓｔｅｃｈｎｉｋ」を参照されたい。 しかし、本発明による装置の使用は、この刊行物に記載
された場合に制限されるものではない。
に用いられるような、ターゲットを備えた陰極スパッタ
リング装置に関する。この装置については、例えばＬｅ
ｙｂｏｌｄＡＧ社による刊行物１２−７１０．０１「Ｃ
ｏｐａｃｔ Ｄｉｓｋｓ Ｖａｋｕｕｍ−Ｂｅｓｃ
ｈｉｃｈｔｕｎｇｓｔｅｃｈｎｉｋ」を参照されたい。 しかし、本発明による装置の使用は、この刊行物に記載
された場合に制限されるものではない。
【０００２】
【従来の技術】ヨーロッパ特許第０２９１６９０号明細
書によれば、排気されたコーティング室内へほぼ平らな
ワークを走入させてそこから走出させるための、及びこ
のワークをコーティング源の範囲内へ供給してそこから
戻し案内するための装置が開示されている。ワーク表面
はこの装置によって処理される。
書によれば、排気されたコーティング室内へほぼ平らな
ワークを走入させてそこから走出させるための、及びこ
のワークをコーティング源の範囲内へ供給してそこから
戻し案内するための装置が開示されている。ワーク表面
はこの装置によって処理される。
【０００３】上記ヨーロッパ特許出願による装置の特徴
は、以下のことにある。即ち、１つ又は複数の蓋形状の
ワーク担体を備えたコーティング装置が、コーティング
室の範囲に配置されている。そして、上記ワーク担体に
より、ワークがコーティング室の開口部に隣合う位置へ
搬送される。この位置では、上記開口部が一方でワーク
担体によって、他方で昇降プレートによって閉鎖される
。また、昇降プレートは、コーティング室内部で回転可
能に支承されたターンテーブル上に保持かつ案内されて
いる。この場合、上記ワーク担体はコーティング装置に
支持された昇降シリンダによって、上記昇降プレートは
ベースプレートに固定された昇降装置によって、コーテ
ィング室の蓋における上記開口部へとそれぞれ押圧させ
られる。
は、以下のことにある。即ち、１つ又は複数の蓋形状の
ワーク担体を備えたコーティング装置が、コーティング
室の範囲に配置されている。そして、上記ワーク担体に
より、ワークがコーティング室の開口部に隣合う位置へ
搬送される。この位置では、上記開口部が一方でワーク
担体によって、他方で昇降プレートによって閉鎖される
。また、昇降プレートは、コーティング室内部で回転可
能に支承されたターンテーブル上に保持かつ案内されて
いる。この場合、上記ワーク担体はコーティング装置に
支持された昇降シリンダによって、上記昇降プレートは
ベースプレートに固定された昇降装置によって、コーテ
ィング室の蓋における上記開口部へとそれぞれ押圧させ
られる。
【０００４】しかし、上述した形式のコーティング装置
及び通常の陰極スパッタリング装置においては、ターゲ
ットが新しいものと交換されなければならない。従来、
ターゲットはねじ又は締付け片によって陰極室の部材に
固定されている。従って、ターゲットの交換は面倒であ
り、しかも、ターゲットの交換には時間及び費用がかか
る。また、ターゲットのこのような交換により、製造つ
まり基体のコーティングが長時間中断されねばならなく
なる。
及び通常の陰極スパッタリング装置においては、ターゲ
ットが新しいものと交換されなければならない。従来、
ターゲットはねじ又は締付け片によって陰極室の部材に
固定されている。従って、ターゲットの交換は面倒であ
り、しかも、ターゲットの交換には時間及び費用がかか
る。また、ターゲットのこのような交換により、製造つ
まり基体のコーティングが長時間中断されねばならなく
なる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上述
した先行技術における欠点を排除すると共に、ターゲッ
トの、容易かつ迅速な取付け及び取外しを可能にする迅
速クランプ装置を提供することにある。
した先行技術における欠点を排除すると共に、ターゲッ
トの、容易かつ迅速な取付け及び取外しを可能にする迅
速クランプ装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題は、本発明によ
ればはじめに述べた陰極スパッタリング装置において、
ターゲットを陰極スパッタリング装置の部材に容易に解
離可能に固定させるクランプ装置が設けられていること
によって解決されている。
ればはじめに述べた陰極スパッタリング装置において、
ターゲットを陰極スパッタリング装置の部材に容易に解
離可能に固定させるクランプ装置が設けられていること
によって解決されている。
【０００７】
【発明の効果】本発明の陰極スパッタリング装置の構成
によれば、ターゲットとターゲット保持装置、有利には
ターゲットベースプレートとから成るユニット（ターゲ
ットユニット）が設けられており、クランプ装置がこの
ターゲット保持装置に対して作用を及ぼしている。
によれば、ターゲットとターゲット保持装置、有利には
ターゲットベースプレートとから成るユニット（ターゲ
ットユニット）が設けられており、クランプ装置がこの
ターゲット保持装置に対して作用を及ぼしている。
【０００８】本発明の装置の有利な構成によれば、クラ
ンプ装置が少なくとも１つの、有利には３つ又はそれ以
上の転動体・傾斜面機構から構成されており、かつ少な
くとも１つの転動体に対する、有利には球体に対する少
なくとも１つの傾斜面の相対運動時に、締付けを行う押
圧力をターゲットユニットに対して及ぼす。
ンプ装置が少なくとも１つの、有利には３つ又はそれ以
上の転動体・傾斜面機構から構成されており、かつ少な
くとも１つの転動体に対する、有利には球体に対する少
なくとも１つの傾斜面の相対運動時に、締付けを行う押
圧力をターゲットユニットに対して及ぼす。
【０００９】この場合、クランプ装置からの押圧力が、
環状のターゲットユニットに対して半径方向に作用を及
ぼしていると、有利である。
環状のターゲットユニットに対して半径方向に作用を及
ぼしていると、有利である。
【００１０】さらに、本発明によれば、クランプ装置が
環状のターゲットユニットの内部に配置されており、上
記押圧力が、半径方向内側から外側へ向かってこのター
ゲットユニットに対して作用を及ぼしている。もしくは
、クランプ装置が環状のターゲットユニットの外周部に
配置されており、上記押圧力が、半径方向外側から内側
へ向かってこのターゲットユニットに対して作用を及ぼ
している。
環状のターゲットユニットの内部に配置されており、上
記押圧力が、半径方向内側から外側へ向かってこのター
ゲットユニットに対して作用を及ぼしている。もしくは
、クランプ装置が環状のターゲットユニットの外周部に
配置されており、上記押圧力が、半径方向外側から内側
へ向かってこのターゲットユニットに対して作用を及ぼ
している。
【００１１】また、有利には、クランプ装置がターゲッ
トベースプレートに対して作用を及ぼしている。
トベースプレートに対して作用を及ぼしている。
【００１２】本発明の装置の別な構成によれば、クラン
プ装置が回転可能な、有利には転動体のために複数の傾
斜面を備えた、クランプスリーブを有している。このク
ランプスリーブは、回転時に傾斜面によって、ターゲッ
トユニットに対して間接的又は直接に転動体を押圧する
。
プ装置が回転可能な、有利には転動体のために複数の傾
斜面を備えた、クランプスリーブを有している。このク
ランプスリーブは、回転時に傾斜面によって、ターゲッ
トユニットに対して間接的又は直接に転動体を押圧する
。
【００１３】そして特に、クランプスリーブが環状のタ
ーゲットユニットに対して中心に配置されており、上記
転動体・傾斜面機構が、半径方向外側へ向かう力によっ
てこのターゲットユニットを締付けて固定している。
ーゲットユニットに対して中心に配置されており、上記
転動体・傾斜面機構が、半径方向外側へ向かう力によっ
てこのターゲットユニットを締付けて固定している。
【００１４】また、本発明による装置は、以下の構成の
おかげで特に容易に操作される。即ち、クランプスリー
ブが係止体として形成されており、係止体が、ターゲッ
トユニットの軸線を中心として所定量だけ回転可能であ
り、かつ、この回転時に転動体、特に球体を半径方向外
側へ向かって押圧するようになっている。ターゲットユ
ニットは、このような押圧による締付けによって作業位
置に係止される。
おかげで特に容易に操作される。即ち、クランプスリー
ブが係止体として形成されており、係止体が、ターゲッ
トユニットの軸線を中心として所定量だけ回転可能であ
り、かつ、この回転時に転動体、特に球体を半径方向外
側へ向かって押圧するようになっている。ターゲットユ
ニットは、このような押圧による締付けによって作業位
置に係止される。
【００１５】さらに、本発明の装置は安価な構成を有し
ている。なぜなら、傾斜面が偏心的なフライス加工部と
してクランプスリーブの外周面の一部に形成されている
からである。
ている。なぜなら、傾斜面が偏心的なフライス加工部と
してクランプスリーブの外周面の一部に形成されている
からである。
【００１６】この場合、傾斜面に、クランプスリーブと
ターゲットユニットとの間で締付けられる少なくとも１
つの、有利には２つの球体が対応配置されている。
ターゲットユニットとの間で締付けられる少なくとも１
つの、有利には２つの球体が対応配置されている。
【００１７】本発明の装置のさらに別な構成によれば、
傾斜面に、スペーサによって離されてはいるがクランプ
スリーブとターゲットユニットとの間で締付けられる２
つの球体が対応配置されている。
傾斜面に、スペーサによって離されてはいるがクランプ
スリーブとターゲットユニットとの間で締付けられる２
つの球体が対応配置されている。
【００１８】また、ターゲットを迅速に交換するために
、クランプ装置が陰極室上部内に取付けられている。 この陰極室上部は、ターゲットの交換のために陰極室か
ら取外し可能に、特に陰極室から離れる方向で旋回可能
に、配置及び形成されており、陰極室上部の取外し状態
、特に外側への旋回状態、においてクランプ装置をゆる
めることにより、ターゲットユニットが容易に交換され
るようになっている。
、クランプ装置が陰極室上部内に取付けられている。 この陰極室上部は、ターゲットの交換のために陰極室か
ら取外し可能に、特に陰極室から離れる方向で旋回可能
に、配置及び形成されており、陰極室上部の取外し状態
、特に外側への旋回状態、においてクランプ装置をゆる
めることにより、ターゲットユニットが容易に交換され
るようになっている。
【００１９】本発明の装置のさらに有利な構成によれば
、ターゲットの交換のために陰極室から取外し可能に、
特に陰極室から離れる方向で旋回可能に、配置及び形成
された上記陰極室上部に、陰極ステーションの、２つの
部分から成るマスクのうちの中央マスク部分が取付けら
れている。この中央マスク部分は、陰極室上部と共に陰
極室から取外し可能、特に陰極室から離れる方向に旋回
可能、であり、それに対して、上記マスクの外側に位置
する環状の縁部部分は、作業位置に留まり続ける。
、ターゲットの交換のために陰極室から取外し可能に、
特に陰極室から離れる方向で旋回可能に、配置及び形成
された上記陰極室上部に、陰極ステーションの、２つの
部分から成るマスクのうちの中央マスク部分が取付けら
れている。この中央マスク部分は、陰極室上部と共に陰
極室から取外し可能、特に陰極室から離れる方向に旋回
可能、であり、それに対して、上記マスクの外側に位置
する環状の縁部部分は、作業位置に留まり続ける。
【００２０】さらに、本発明によれば、転動体特に球体
が、絶縁材料特にＡｌ２Ｏ３から形成されている。そし
て、転動体特に球体が、その締付け時にターゲットベー
スプレートの溝内へ押込まれる。
が、絶縁材料特にＡｌ２Ｏ３から形成されている。そし
て、転動体特に球体が、その締付け時にターゲットベー
スプレートの溝内へ押込まれる。
【００２１】また、ターゲットをより迅速に交換するた
めに、陰極室上部とターゲットユニットとが、自体公知
の、水を供給するためのカップリングの構成要素を有し
ており、このカップリングが、ターゲットユニットの取
外し時には閉鎖される。さらに、陰極室上部とターゲッ
トユニットとが、自体公知の、電流を供給するためのカ
ップリングの構成要素を有しており、このカップリング
が、ターゲットユニットの取外し時には電流の供給を遮
断する。
めに、陰極室上部とターゲットユニットとが、自体公知
の、水を供給するためのカップリングの構成要素を有し
ており、このカップリングが、ターゲットユニットの取
外し時には閉鎖される。さらに、陰極室上部とターゲッ
トユニットとが、自体公知の、電流を供給するためのカ
ップリングの構成要素を有しており、このカップリング
が、ターゲットユニットの取外し時には電流の供給を遮
断する。
【００２２】本発明の装置の選択的な構成によれば、ク
ランプ装置が、少なくとも１つの、有利には３つ又はそ
れ以上の転動体・傾斜面機構を備えてターゲットユニッ
トの外周部範囲で回転可能なリングとして構成されてい
る。
ランプ装置が、少なくとも１つの、有利には３つ又はそ
れ以上の転動体・傾斜面機構を備えてターゲットユニッ
トの外周部範囲で回転可能なリングとして構成されてい
る。
【００２３】
【実施例】次に図示の実施例につき本発明を説明する。
【００２４】図１による陰極室上部１９は、ターゲット
１とターゲットベースプレート２とから構成された環状
のターゲットユニットを被覆している。また、ターゲッ
ト１とターゲットベースプレート２とは複数のボルトに
よって結合されており、これらのボルトのうちで１つが
符号１４で示されている。さらに、ターゲット１とター
ゲットベースプレート２との間には水冷却室１５が形成
されている。
１とターゲットベースプレート２とから構成された環状
のターゲットユニットを被覆している。また、ターゲッ
ト１とターゲットベースプレート２とは複数のボルトに
よって結合されており、これらのボルトのうちで１つが
符号１４で示されている。さらに、ターゲット１とター
ゲットベースプレート２との間には水冷却室１５が形成
されている。
【００２５】その上、冷却水を供給するための迅速カッ
プリングが符号３によって、電流を供給するための迅速
カップリングが符号４によって、それぞれ示されている
。
プリングが符号３によって、電流を供給するための迅速
カップリングが符号４によって、それぞれ示されている
。
【００２６】さて、上記ターゲットユニットは陰極室の
陰極室上部１９と共に、陰極ステーションの残りの部材
から離れるように矢印５で示された方向に旋回できる。 ところで、冷却水の供給のための上記迅速カップリング
３と、電流の供給のための上記迅速カップリング４とは
、互いに約１８０°ずらされて陰極室上部１９に取付け
られている。
陰極室上部１９と共に、陰極ステーションの残りの部材
から離れるように矢印５で示された方向に旋回できる。 ところで、冷却水の供給のための上記迅速カップリング
３と、電流の供給のための上記迅速カップリング４とは
、互いに約１８０°ずらされて陰極室上部１９に取付け
られている。
【００２７】上記陰極室上部１９の下面には、陰極ステ
ーションの、２つの部分から成るマスクの中央のマスク
部分６が結合されているが、これについては図５をも参
照されたい。従って、陰極室上部１９が旋回すると、中
央のマスク部分６も矢印７（図５）の旋回方向で不動の
マスク部分８から離れるように運動する。しかし、図５
では、上記マスクが作業位置で示されている。既に先行
技術に関して述べたように、このマスクは、図示されて
いない基体へスパッタリング時にプラズマを集中させる
ために役立つ。
ーションの、２つの部分から成るマスクの中央のマスク
部分６が結合されているが、これについては図５をも参
照されたい。従って、陰極室上部１９が旋回すると、中
央のマスク部分６も矢印７（図５）の旋回方向で不動の
マスク部分８から離れるように運動する。しかし、図５
では、上記マスクが作業位置で示されている。既に先行
技術に関して述べたように、このマスクは、図示されて
いない基体へスパッタリング時にプラズマを集中させる
ために役立つ。
【００２８】また、クランプ装置全体が符号９によって
示されている。図２〜図４に示されたように、このクラ
ンプ装置９はクランプスリーブ１０から形成されており
、クランプスリーブ１０の外周部範囲にはフライス加工
部１１（図３）が設けられている。
示されている。図２〜図４に示されたように、このクラ
ンプ装置９はクランプスリーブ１０から形成されており
、クランプスリーブ１０の外周部範囲にはフライス加工
部１１（図３）が設けられている。
【００２９】図２には、図１による装置の中央範囲が拡
大されて示されている。また、図３には、図４による矢
印ＩＩＩの方向から見た、クランプスリーブ１０が示さ
れており、図４には、図３による線分ＩＶ−ＩＶに沿っ
た、クランプスリーブ１０の断面図が示されている。
大されて示されている。また、図３には、図４による矢
印ＩＩＩの方向から見た、クランプスリーブ１０が示さ
れており、図４には、図３による線分ＩＶ−ＩＶに沿っ
た、クランプスリーブ１０の断面図が示されている。
【００３０】図３からわかるように、クランプスリーブ
１０には全部で４つのフライス加工部１１が形成されて
いる。
１０には全部で４つのフライス加工部１１が形成されて
いる。
【００３１】さて、上記クランプスリーブ１０が、この
クランプスリーブ１０に対しては不動の陰極室上部１９
に対して約４５°回転すると、傾斜面として作用する上
記フライス加工部１１が、図２ではただ１つしか示され
ていないが全部で４つの球体１２を、半径方向外側へ向
かって矢印１３の方向に押出す。
クランプスリーブ１０に対しては不動の陰極室上部１９
に対して約４５°回転すると、傾斜面として作用する上
記フライス加工部１１が、図２ではただ１つしか示され
ていないが全部で４つの球体１２を、半径方向外側へ向
かって矢印１３の方向に押出す。
【００３２】さらに、上記球体１２は、図２ではただ１
つしか示されていないが全部で４つのスペーサ１６を、
やはり半径方向外側へ向かってシフトさせる。そして、
このスペーサ１６が４つの球体１７をやはり半径方向外
側へ向かって押出し、ターゲットベースプレート２の外
周面にフライス加工された溝１８内へ押込む。
つしか示されていないが全部で４つのスペーサ１６を、
やはり半径方向外側へ向かってシフトさせる。そして、
このスペーサ１６が４つの球体１７をやはり半径方向外
側へ向かって押出し、ターゲットベースプレート２の外
周面にフライス加工された溝１８内へ押込む。
【００３３】このように回転するので、上記クランプス
リーブ１０は係止体として作用している。ターゲットユ
ニットは、この係止体によって締付けられて作業位置に
係止させられ、かつセンタリングされる。
リーブ１０は係止体として作用している。ターゲットユ
ニットは、この係止体によって締付けられて作業位置に
係止させられ、かつセンタリングされる。
【００３４】次に、上記ターゲットユニットの交換作業
について述べることとする：まず、蓋としても作用して
全体的に符号１９によって示された陰極室上部１９が、
図１による第１の位置、つまりスパッタリング位置から
、水平な第２の位置、つまり保守整備位置へと、矢印５
の方向で約１８０°旋回させられる。従って、この第２
位置では、ターゲット１と、クランプスリーブ１０のキ
ノコ形の終端部２０と、その他すべての部材、つまり外
側へ向かって旋回可能な陰極ステーションの蓋（陰極室
上部１９）の下面に結合された部材とが、監視員に対し
て開放され、かつ容易に接近される。
について述べることとする：まず、蓋としても作用して
全体的に符号１９によって示された陰極室上部１９が、
図１による第１の位置、つまりスパッタリング位置から
、水平な第２の位置、つまり保守整備位置へと、矢印５
の方向で約１８０°旋回させられる。従って、この第２
位置では、ターゲット１と、クランプスリーブ１０のキ
ノコ形の終端部２０と、その他すべての部材、つまり外
側へ向かって旋回可能な陰極ステーションの蓋（陰極室
上部１９）の下面に結合された部材とが、監視員に対し
て開放され、かつ容易に接近される。
【００３５】次いで、固定ねじ２３がゆるめられた後に
、ピン付スパナ形の特別な工具が袋孔２１，２２に係合
する。クランプスリーブ１０はこのような工具によって
矢印２４の方向（図３）に約４５°回転させられる。
、ピン付スパナ形の特別な工具が袋孔２１，２２に係合
する。クランプスリーブ１０はこのような工具によって
矢印２４の方向（図３）に約４５°回転させられる。
【００３６】その結果、球体１２とスペーサ１６と球体
１７とが開放される。つまり、ターゲットユニットの締
付けが解除される。
１７とが開放される。つまり、ターゲットユニットの締
付けが解除される。
【００３７】その後、取出し装置の鋭いグリッパ機構が
、まずターゲットの縁部２７に対して半径方向に矢印２
５，２６の方向で押圧される。その結果、ターゲットユ
ニットは取出し装置によって掴まれ、軸方向上方へ向か
って陰極ステーションの蓋（陰極室上部１９）から取出
される。この際、冷却水のための迅速カップリング３は
冷却水の供給源と接続されておらず、かつ閉鎖されてい
る。また、電流のための迅速カップリング４も接続を遮
断されている。
、まずターゲットの縁部２７に対して半径方向に矢印２
５，２６の方向で押圧される。その結果、ターゲットユ
ニットは取出し装置によって掴まれ、軸方向上方へ向か
って陰極ステーションの蓋（陰極室上部１９）から取出
される。この際、冷却水のための迅速カップリング３は
冷却水の供給源と接続されておらず、かつ閉鎖されてい
る。また、電流のための迅速カップリング４も接続を遮
断されている。
【００３８】ところで、新しいターゲットユニットは以
上のような作業工程とはほぼ逆の作業工程で取付けられ
る：まず、新しいターゲットユニットが陰極室の蓋（陰
極室上部１９）内へ軸方向にはめ込まれる。次いで、冷
却水及び電流のための迅速カップリング３，４が、各供
給源に接続される。次に、係止スリーブとして役立つク
ランプスリーブ１０が、矢印２４とは逆方向に約４５°
回転させられる。その結果、上記４つの球体１２が傾斜
面（フライス加工部１１）によって矢印１３の方向に半
径方向外側へ向かって押出される。これにより、球体１
２とスペーサ１６と球体１７とは、上述したようにター
ゲットベースプレート２とクランプスリーブ１０との間
で締付けられる。この後、固定ねじ２３，２８が締込ま
れる。ところで、図３及び図４では、わかりやすくする
ために、これらの固定ねじ２３，２８のための孔も符号
２３，２８によって示されている。
上のような作業工程とはほぼ逆の作業工程で取付けられ
る：まず、新しいターゲットユニットが陰極室の蓋（陰
極室上部１９）内へ軸方向にはめ込まれる。次いで、冷
却水及び電流のための迅速カップリング３，４が、各供
給源に接続される。次に、係止スリーブとして役立つク
ランプスリーブ１０が、矢印２４とは逆方向に約４５°
回転させられる。その結果、上記４つの球体１２が傾斜
面（フライス加工部１１）によって矢印１３の方向に半
径方向外側へ向かって押出される。これにより、球体１
２とスペーサ１６と球体１７とは、上述したようにター
ゲットベースプレート２とクランプスリーブ１０との間
で締付けられる。この後、固定ねじ２３，２８が締込ま
れる。ところで、図３及び図４では、わかりやすくする
ために、これらの固定ねじ２３，２８のための孔も符号
２３，２８によって示されている。
【００３９】有利には、ターゲットユニットはハンドル
によってゆるめられたり締付けられたりしてもよい。
によってゆるめられたり締付けられたりしてもよい。
【００４０】さて、上記球体は剛性で絶縁性の材料から
製作されており、このような材料として特にＡｌ２Ｏ３
が選択されている。また、ターゲットユニットと陰極ス
パッタリング装置の蓋（陰極室上部）との間には、この
装置の機能上やむを得ず電圧差が生じてしまうので、絶
縁特性が必要なのである。
製作されており、このような材料として特にＡｌ２Ｏ３
が選択されている。また、ターゲットユニットと陰極ス
パッタリング装置の蓋（陰極室上部）との間には、この
装置の機能上やむを得ず電圧差が生じてしまうので、絶
縁特性が必要なのである。
【００４１】さらに、小さな陰極の場合には、上記スペ
ーサは設けられなくともよく、また、クランプスリーブ
とターゲットベースプレートとの間で締付けられる球体
は２つ又は１つだけでもよい。
ーサは設けられなくともよく、また、クランプスリーブ
とターゲットベースプレートとの間で締付けられる球体
は２つ又は１つだけでもよい。
【図１】本発明による装置の陰極室上部の断面図である
。
。
【図２】図１による陰極室上部のクランプスリーブの拡
大断面図である。
大断面図である。
【図３】図４による矢印ＩＩＩの方向から見た、クラン
プスリーブの平面図である。
プスリーブの平面図である。
【図４】図３による線分ＩＶ−ＩＶに沿った、クランプ
スリーブの断面図である。
スリーブの断面図である。
【図５】図１による陰極ステーションのマスクの断面図
である。
である。
１ ターゲット
２ ターゲットベースプレート
３，４ 迅速カップリング
５ 陰極室上部とターゲットユニットとの旋回方
向を示す矢印 ６ 中央のマスク部分 ７ 中央のマスク部分の旋回方向を示す矢印８
縁部のマスク部分 ９ クランプ装置 １０ クランプスリーブ １１ フライス加工部 １２ 球体 １３ 球体の押圧方向を示す矢印１４ ボ
ルト １５ 水冷却室 １６ スペーサ １７ 球体 １８ 溝 １９ 陰極室上部 ２０ 終端部 ２１，２２ 袋孔 ２３ 固定ねじ ２４ クランプスリーブの回転方向を示す矢印２
５，２６ 取出し装置の押圧方向を示す矢印２７
縁部 ２８ 固定ねじ
向を示す矢印 ６ 中央のマスク部分 ７ 中央のマスク部分の旋回方向を示す矢印８
縁部のマスク部分 ９ クランプ装置 １０ クランプスリーブ １１ フライス加工部 １２ 球体 １３ 球体の押圧方向を示す矢印１４ ボ
ルト １５ 水冷却室 １６ スペーサ １７ 球体 １８ 溝 １９ 陰極室上部 ２０ 終端部 ２１，２２ 袋孔 ２３ 固定ねじ ２４ クランプスリーブの回転方向を示す矢印２
５，２６ 取出し装置の押圧方向を示す矢印２７
縁部 ２８ 固定ねじ
Claims (20)
- 【請求項１】 ターゲットを備えた陰極スパッタリン
グ装置において、ターゲットを陰極スパッタリング装置
の部材に容易に解離可能に固定させるクランプ装置が設
けられていることを特徴とする陰極スパッタリング装置
。 - 【請求項２】 ターゲット（１）とターゲット保持装
置とから成るユニット（ターゲットユニット）が設けら
れており、クランプ装置（９）がこのターゲット保持装
置に対して作用を及ぼしている、請求項１記載の陰極ス
パッタリング装置。 - 【請求項３】 クランプ装置（９）が少なくとも１つ
の転動体・傾斜面機構から構成されており、かつ少なく
とも１つの転動体（１２）に対する少なくとも１つの傾
斜面（１１）の相対運動時に、締付けを行う押圧力をタ
ーゲットユニットに対して及ぼす、請求項１又は２記載
の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項４】 ターゲットユニットがほぼ環状に形成
されており、クランプ装置（９）からの押圧力が、この
形状に対して半径方向に作用を及ぼしている、請求項１
から３までのいずれか１項記載の陰極スパッタリング装
置。 - 【請求項５】 クランプ装置（９）が環状のターゲッ
トユニット（１，２）の内部に配置されており、上記押
圧力が、半径方向内側から外側へ向かってこのターゲッ
トユニット（１，２）に対して作用を及ぼしている、請
求項１から４までのいずれか１項記載の陰極スパッタリ
ング装置。 - 【請求項６】 クランプ装置が環状のターゲットユニ
ットの外周部に配置されており、上記押圧力が、半径方
向外側から内側へ向かってこのターゲットユニットに対
して作用を及ぼしている、請求項１から５までのいずれ
か１項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項７】 クランプ装置（９）がターゲットベー
スプレート（２）に対して作用を及ぼしている、請求項
１から６までのいずれか１項記載の陰極スパッタリング
装置。 - 【請求項８】 クランプ装置（９）が回転可能なクラ
ンプスリーブ（１０）を有しており、クランプスリーブ
（１０）が、回転時にその傾斜面（１１）によって、タ
ーゲットユニット（１，２）に対して間接的又は直接に
転動体（１２）を押圧する、請求項１から７までのいず
れか１項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項９】 クランプスリーブ（１０）が環状のタ
ーゲットユニット（１，２）に対して中心に配置されて
おり、上記転動体・傾斜面機構が、半径方向外側へ向か
う力によってこのターゲットユニット（１，２）を締付
けて固定している、請求項１から８までのいずれか１項
記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項１０】 クランプスリーブ（１０）が係止体
として形成されており、係止体がターゲットユニット（
１，２）の軸線を中心として所定量だけ回転可能であり
、かつ、この回転時に転動体（１２）を半径方向外側へ
向かって押圧するようになっており、ターゲットユニッ
ト（１，２）が締付けによって作業位置に係止される、
請求項１から９までのいずれか１項記載の陰極スパッタ
リング装置。 - 【請求項１１】 傾斜面（１１）が、偏心的なフライ
ス加工部としてクランプスリーブ（１０）の外周面の一
部に形成されている、請求項１から１０までのいずれか
１項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項１２】 傾斜面（１１）に、クランプスリー
ブ（１０）とターゲットユニット（１，２）との間で締
付けられる少なくとも１つの球体が対応配置されている
、請求項１から１１までのいずれか１項記載の陰極スパ
ッタリング装置。 - 【請求項１３】 傾斜面（１１）に、スペーサ（１６
）によって離されてはいるがクランプスリーブ（１０）
とターゲットユニット（１，２）との間で締付けられる
２つの球体（１２，１７）が対応配置されている、請求
項１から１２までのいずれか１項記載の陰極スパッタリ
ング装置。 - 【請求項１４】 クランプ装置（９）が陰極室上部（
１９）内に取付けられており、陰極室上部（１９）が、
ターゲット（１）の交換のために陰極室から取外し可能
に配置及び形成されており、陰極室上部（１９）の取外
し状態においてクランプ装置（９）をゆるめることによ
り、ターゲットユニット（１，２）が容易に交換される
ようになっている、請求項１から１３までのいずれか１
項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項１５】 ターゲット（１）の交換のために陰
極室から取外し可能に配置及び形成された上記陰極室上
部（１９）に、陰極ステーションの、２つの部分から成
るマスクのうちの中央マスク部分（６）が取付けられて
おり、この中央マスク部分（６）が、陰極室上部（１９
）と共に陰極室から取外し可能であり、それに対して、
上記マスクの外側に位置する環状の縁部部分（８）が、
作業位置に留まり続ける、請求項１から１４までのいず
れか１項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項１６】 転動体（１２，１７）が絶縁材料か
ら形成されている、請求項１から１５までのいずれか１
項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項１７】 転動体（１７）が、その締付け時に
ターゲットベースプレート（２）の溝（１８）内へ押込
まれる、請求項１から１６までのいずれか１項記載の陰
極スパッタリング装置。 - 【請求項１８】 陰極室上部（１９）とターゲットユ
ニット（１，２）とが、自体公知の、水を供給するため
のカップリング（３）の構成要素を有しており、このカ
ップリング（３）が、ターゲットユニット（１，２）の
取外し時には閉鎖される、請求項１から１７までのいず
れか１項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項１９】 陰極室上部（１９）とターゲットユ
ニット（１，２）とが自体公知の、電流を供給するため
のカップリング（４）の構成要素を有しており、このカ
ップリング（４）が、ターゲットユニット（１，２）の
取外し時には電流の供給を遮断する、請求項１から１８
までのいずれか１項記載の陰極スパッタリング装置。 - 【請求項２０】 クランプ装置が、少なくとも１つの
転動体・傾斜面機構を備えてターゲットユニットの外周
部範囲で回転可能なリングとして構成されている、請求
項１から１９までのいずれか１項記載の陰極スパッタリ
ング装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4020659A DE4020659C2 (de) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | Katodenzerstäubungsvorrichtung |
| DE4020659.9 | 1990-06-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04231462A true JPH04231462A (ja) | 1992-08-20 |
Family
ID=6409287
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3156362A Pending JPH04231462A (ja) | 1990-06-29 | 1991-06-27 | 陰極スパッタリング装置 |
| JP1995006372U Expired - Lifetime JP2602625Y2 (ja) | 1990-06-29 | 1995-06-26 | 陰極スパッタリング装置 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1995006372U Expired - Lifetime JP2602625Y2 (ja) | 1990-06-29 | 1995-06-26 | 陰極スパッタリング装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5112467A (ja) |
| EP (1) | EP0463227B1 (ja) |
| JP (2) | JPH04231462A (ja) |
| DE (2) | DE4020659C2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0578834A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-03-30 | Shibaura Eng Works Co Ltd | スパツタリング装置 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3066507B2 (ja) * | 1990-11-30 | 2000-07-17 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | 半導体処理装置 |
| DE4133564C2 (de) * | 1991-10-10 | 1999-11-18 | Leybold Ag | Vorrichtung zur lösbaren Befestigung eines Targets oder Targetgrundkörpers auf der Kathodenhalterung |
| DE4225531A1 (de) * | 1992-08-01 | 1994-02-03 | Leybold Ag | Targetwechselvorrichtung |
| US5286361A (en) * | 1992-10-19 | 1994-02-15 | Regents Of The University Of California | Magnetically attached sputter targets |
| US5482612A (en) * | 1992-10-27 | 1996-01-09 | Texas Instruments Incorporated | Methods and systems for shielding in sputtering chambers |
| JP3398452B2 (ja) * | 1994-01-19 | 2003-04-21 | 株式会社ソニー・ディスクテクノロジー | スパッタリング装置 |
| US5419029A (en) * | 1994-02-18 | 1995-05-30 | Applied Materials, Inc. | Temperature clamping method for anti-contamination and collimating devices for thin film processes |
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| JPH01255666A (ja) * | 1988-04-04 | 1989-10-12 | Tosoh Smd Inc | 迅速交換型の標的を有するスパッタ源及びアダプタリング |
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| US4169031A (en) * | 1978-01-13 | 1979-09-25 | Polyohm, Inc. | Magnetron sputter cathode assembly |
| US4515675A (en) * | 1983-07-06 | 1985-05-07 | Leybold-Heraeus Gmbh | Magnetron cathode for cathodic evaportion apparatus |
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-
1990
- 1990-06-29 DE DE4020659A patent/DE4020659C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-20 DE DE59008728T patent/DE59008728D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-20 EP EP90122149A patent/EP0463227B1/de not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-02-15 US US07/656,235 patent/US5112467A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-06-27 JP JP3156362A patent/JPH04231462A/ja active Pending
-
1995
- 1995-06-26 JP JP1995006372U patent/JP2602625Y2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
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|---|---|
| EP0463227B1 (de) | 1995-03-15 |
| EP0463227A1 (de) | 1992-01-02 |
| JP2602625Y2 (ja) | 2000-01-24 |
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| DE4020659C2 (de) | 1997-09-11 |
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