JPH04228437A - 失透のないガラス品の製造方法 - Google Patents
失透のないガラス品の製造方法Info
- Publication number
- JPH04228437A JPH04228437A JP3112794A JP11279491A JPH04228437A JP H04228437 A JPH04228437 A JP H04228437A JP 3112794 A JP3112794 A JP 3112794A JP 11279491 A JP11279491 A JP 11279491A JP H04228437 A JPH04228437 A JP H04228437A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- temperature
- solidification
- devitrification
- free
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 203
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 57
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims abstract description 53
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims abstract description 53
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 claims abstract description 38
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 23
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 13
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 7
- 239000005283 halide glass Substances 0.000 claims description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000005365 phosphate glass Substances 0.000 claims description 5
- 239000005383 fluoride glass Substances 0.000 claims description 3
- 239000005385 borate glass Substances 0.000 claims description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PNAVTKKLLFZSLV-UHFFFAOYSA-N P(=O)(F)(F)F.[Sn] Chemical compound P(=O)(F)(F)F.[Sn] PNAVTKKLLFZSLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 claims 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 abstract description 30
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 abstract description 30
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 11
- 239000006219 crystal-free glass Substances 0.000 abstract description 6
- 238000007596 consolidation process Methods 0.000 description 11
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 10
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 5
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 4
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 4
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 4
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003303 reheating Methods 0.000 description 3
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminium flouride Chemical compound F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001290 LiPF6 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910019398 NaPF6 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021135 KPF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- YLTFFKMNPJHDPJ-UHFFFAOYSA-N O(F)F.[P].[Sn] Chemical compound O(F)F.[P].[Sn] YLTFFKMNPJHDPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021188 PF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001300078 Vitrea Species 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007507 annealing of glass Methods 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- JZKFIPKXQBZXMW-UHFFFAOYSA-L beryllium difluoride Chemical compound F[Be]F JZKFIPKXQBZXMW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001633 beryllium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- LVEULQCPJDDSLD-UHFFFAOYSA-L cadmium fluoride Chemical compound F[Cd]F LVEULQCPJDDSLD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 1
- FPHIOHCCQGUGKU-UHFFFAOYSA-L difluorolead Chemical compound F[Pb]F FPHIOHCCQGUGKU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000005303 fluorophosphate glass Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 150000002371 helium Chemical class 0.000 description 1
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N lead tin Chemical compound [Sn].[Pb] LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000006064 precursor glass Substances 0.000 description 1
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- ANOBYBYXJXCGBS-UHFFFAOYSA-L stannous fluoride Chemical compound F[Sn]F ANOBYBYXJXCGBS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1005—Forming solid beads
- C03B19/102—Forming solid beads by blowing a gas onto a stream of molten glass or onto particulate materials, e.g. pulverising
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/60—Silica-free oxide glasses
- C03B2201/70—Silica-free oxide glasses containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/80—Non-oxide glasses or glass-type compositions
- C03B2201/82—Fluoride glasses, e.g. ZBLAN glass
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S65/00—Glass manufacturing
- Y10S65/15—Nonoxygen containing chalogenides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はガラスの製造に関し、よ
り詳細には、溶融体から冷却した際の失透または結晶化
に対して安定ではないガラスからガラス品を製造する方
法に関する。
り詳細には、溶融体から冷却した際の失透または結晶化
に対して安定ではないガラスからガラス品を製造する方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】ガラスは、溶融体からの冷却の際および
/または高温への暴露の際に失透する傾向が広範囲に亘
ることが知られている。失透に対する安定性を最大にす
るように配合された従来のガラスからガラス製品を製造
する場合においてさえ、製造中のガラスの失透を確実に
防止するため、溶融および成形工程の設定に関して注意
が必要である。
/または高温への暴露の際に失透する傾向が広範囲に亘
ることが知られている。失透に対する安定性を最大にす
るように配合された従来のガラスからガラス製品を製造
する場合においてさえ、製造中のガラスの失透を確実に
防止するため、溶融および成形工程の設定に関して注意
が必要である。
【0003】失透のプロセスは、温度に依存する速度で
起ることが知られている。通常、従来のガラスではガラ
ス転移温度より低い温度において結晶は急激には形成さ
れず、液相線温度を越える温度においては結晶は全く形
成されない。液相線温度とは、結晶のないガラス溶融体
がいつまでも維持され得る最低温度を言う。
起ることが知られている。通常、従来のガラスではガラ
ス転移温度より低い温度において結晶は急激には形成さ
れず、液相線温度を越える温度においては結晶は全く形
成されない。液相線温度とは、結晶のないガラス溶融体
がいつまでも維持され得る最低温度を言う。
【0004】液相線温度より低くかつガラス転移温度よ
り高い温度範囲内において、結晶化の速度はガラスの温
度、ガラスの化学的組成およびガラス中の結晶核の有無
に応じて広範囲に変化する。極めてゆっくりと結晶化す
るガラス組成もあれば、急激に結晶化して結晶のない製
品を形成するのが困難なガラス組成もある。
り高い温度範囲内において、結晶化の速度はガラスの温
度、ガラスの化学的組成およびガラス中の結晶核の有無
に応じて広範囲に変化する。極めてゆっくりと結晶化す
るガラス組成もあれば、急激に結晶化して結晶のない製
品を形成するのが困難なガラス組成もある。
【0005】どのガラス組成に対してもその急激な結晶
化が起る温度範囲は容易に決定でき、ガラス形成工程は
、前記温度範囲におけるガラスの滞留時間を最少にする
ように設定される。この結晶化温度範囲にある時間滞留
することは常に許容されなければならないが、ガラスを
その結晶化温度範囲を通過して急激に冷却して結晶の形
成を大部分あるいは全く回避するようにガラス形成を行
うことが可能である。
化が起る温度範囲は容易に決定でき、ガラス形成工程は
、前記温度範囲におけるガラスの滞留時間を最少にする
ように設定される。この結晶化温度範囲にある時間滞留
することは常に許容されなければならないが、ガラスを
その結晶化温度範囲を通過して急激に冷却して結晶の形
成を大部分あるいは全く回避するようにガラス形成を行
うことが可能である。
【0006】安定ガラスを形成できる多くの組成物が知
られている。安定ガラスの最も広く使用される類は、S
iO2 が主要に成分をなすケイ酸ガラスである。しか
しながら、リン酸塩、ホウ酸塩、ハライドまたはオキシ
ハライド組成を基本にした系においても比較的安定なガ
ラスフォーミュレーションが開発されている。
られている。安定ガラスの最も広く使用される類は、S
iO2 が主要に成分をなすケイ酸ガラスである。しか
しながら、リン酸塩、ホウ酸塩、ハライドまたはオキシ
ハライド組成を基本にした系においても比較的安定なガ
ラスフォーミュレーションが開発されている。
【0007】これらの系において高安定性を得るべく配
合されたガラスは従来の工程によって結晶のない製品へ
と形成できる。ほとんどの場合、それらはまた再加熱し
て使用でき、あるいは失透せずに軟化させて再造形でき
る。ほとんどの安定ガラス形成系において、ガラスは粉
末として与えられてもよく、液相線温度より低い温度ま
で加熱することによって完全にアモルファスである(す
なわち結晶質混存物または表面失透が実質的にない単一
ガラス品に焼結され得る。溶融シリカおよびドープト溶
融シリカ(doped fused silica)は
このようにして処理できるガラスの例である。
合されたガラスは従来の工程によって結晶のない製品へ
と形成できる。ほとんどの場合、それらはまた再加熱し
て使用でき、あるいは失透せずに軟化させて再造形でき
る。ほとんどの安定ガラス形成系において、ガラスは粉
末として与えられてもよく、液相線温度より低い温度ま
で加熱することによって完全にアモルファスである(す
なわち結晶質混存物または表面失透が実質的にない単一
ガラス品に焼結され得る。溶融シリカおよびドープト溶
融シリカ(doped fused silica)は
このようにして処理できるガラスの例である。
【0008】出発ガラス粉末の表面積が大きいため、後
者のタイプの焼結処理には高度の安定性が必要である。 多くのガラスにおいて、結晶化はまず材料の表面で主に
始まる。従って、大きい表面積は公知のほとんどの組成
系において迅速な結晶化を促進すると考えられる。
者のタイプの焼結処理には高度の安定性が必要である。 多くのガラスにおいて、結晶化はまず材料の表面で主に
始まる。従って、大きい表面積は公知のほとんどの組成
系において迅速な結晶化を促進すると考えられる。
【0009】米国特許第4,501,602 号は、ド
ープトシリカ組成の粉末またはスート(soot)を形
成し、このスートを高温で火炎焼結して透明または乳濁
(相分離または結晶化)ガラスを形成する工程を含む高
シリカガラスの製造方法を記載している。
ープトシリカ組成の粉末またはスート(soot)を形
成し、このスートを高温で火炎焼結して透明または乳濁
(相分離または結晶化)ガラスを形成する工程を含む高
シリカガラスの製造方法を記載している。
【0010】米国特許第4,718,929 号は、高
温焼結によって同じようにアモルファス(非晶質)また
は多結晶質金属ハライド製品を形成し得る蒸着粉末から
BeF2 に基づくハライドガラスを形成する方法を記
載する。
温焼結によって同じようにアモルファス(非晶質)また
は多結晶質金属ハライド製品を形成し得る蒸着粉末から
BeF2 に基づくハライドガラスを形成する方法を記
載する。
【0011】米国特許第4,537,864 号は、好
ましい組成範囲において厚さが約1cmまでの透明な非
晶質製品に鋳造することによって成形できる程の安定性
を有するCd−Li−Al−Pbフッ化物系のハライド
ガラスを開示する。米国特許第4,323,654号は
鋳造によって成形できる程の安定性を有するアルカリリ
ン酸ガラスを開示し、米国特許第4,362,819
号は、プレフォームへと鋳造できモールディングによっ
て再造形できる光学用途用アルカリフルオロアルミノリ
ン酸ガラスを開示している。
ましい組成範囲において厚さが約1cmまでの透明な非
晶質製品に鋳造することによって成形できる程の安定性
を有するCd−Li−Al−Pbフッ化物系のハライド
ガラスを開示する。米国特許第4,323,654号は
鋳造によって成形できる程の安定性を有するアルカリリ
ン酸ガラスを開示し、米国特許第4,362,819
号は、プレフォームへと鋳造できモールディングによっ
て再造形できる光学用途用アルカリフルオロアルミノリ
ン酸ガラスを開示している。
【0012】上記特許に示されるように、下限のガラス
形成安定性を有する種々の組成系で比較的安定なガラス
が開発されてきたが、高ガラス安定性を得るための要求
条件によって課される組成への拘束は、使用できる組成
の範囲を制限する。上述した組成範囲内ですら、優れた
光学的、電気的、化学的または物理的特性を有するが安
定性が最適値より小さい組成は、失透せずにセンチメー
ター程度あるいはそれより大きい厚みを有する製品に形
成することの困難性ゆえに実用性がない。従って、薄い
断面のガラス品への形成は急冷によって行い得るが、厚
い製品を形成するのに使用できない多くの潜在的に有用
なホウ酸ガラス、リン酸ガラス、ハライドガラスまたは
ケイ酸ガラスが知られている。
形成安定性を有する種々の組成系で比較的安定なガラス
が開発されてきたが、高ガラス安定性を得るための要求
条件によって課される組成への拘束は、使用できる組成
の範囲を制限する。上述した組成範囲内ですら、優れた
光学的、電気的、化学的または物理的特性を有するが安
定性が最適値より小さい組成は、失透せずにセンチメー
ター程度あるいはそれより大きい厚みを有する製品に形
成することの困難性ゆえに実用性がない。従って、薄い
断面のガラス品への形成は急冷によって行い得るが、厚
い製品を形成するのに使用できない多くの潜在的に有用
なホウ酸ガラス、リン酸ガラス、ハライドガラスまたは
ケイ酸ガラスが知られている。
【0013】
【発明の目的】以上に鑑みて、本発明の目的は、液相線
温度より低い温度で失透する傾向があるにもかかわらず
、十分なバルクすなわち厚みの製品を作るのに使用でき
る、不安定ガラスからガラス品を作る方法を提供するこ
とである。
温度より低い温度で失透する傾向があるにもかかわらず
、十分なバルクすなわち厚みの製品を作るのに使用でき
る、不安定ガラスからガラス品を作る方法を提供するこ
とである。
【0014】本発明のもう1つの目的は、結晶のないガ
ラス粉末の再加熱を用いた、失透に対して小さい安定性
もしくは下限の安定性を有するガラスから結晶のないガ
ラス製品を形成するガラス形成方法を提供することであ
る。
ラス粉末の再加熱を用いた、失透に対して小さい安定性
もしくは下限の安定性を有するガラスから結晶のないガ
ラス製品を形成するガラス形成方法を提供することであ
る。
【0015】
【発明の構成】本発明は、実質的に結晶のないガラス製
品を製造し得る、かなり不安定なガラスからガラス品を
形成する方法を提供する。この方法は、ガラス結晶化を
回避するために、急冷に依存しており、センチメーター
レベル以上の厚みを有する比較的大きな透明ガラス品の
製造を可能にする。ガラス組成および安定性のレベルに
応じて、ガラスの品質は、多くの光学用途に必要な品質
条件を上まわるようにすることができ、あるいは失透が
なく中程度のレベルの光散乱(この特性がガラスの性能
にとって重要ではない場合)を示すガラスを提供するこ
とができる。
品を製造し得る、かなり不安定なガラスからガラス品を
形成する方法を提供する。この方法は、ガラス結晶化を
回避するために、急冷に依存しており、センチメーター
レベル以上の厚みを有する比較的大きな透明ガラス品の
製造を可能にする。ガラス組成および安定性のレベルに
応じて、ガラスの品質は、多くの光学用途に必要な品質
条件を上まわるようにすることができ、あるいは失透が
なく中程度のレベルの光散乱(この特性がガラスの性能
にとって重要ではない場合)を示すガラスを提供するこ
とができる。
【0016】本発明の方法は、選択されたガラスの結晶
のない溶融体を形成する最初の工程を含む。通常、この
ガラスは不安定ガラスである。不安定ガラスとは、粒状
(すなわち1mm以下の粒子)において、周囲圧力下に
おいて液相線より低い温度で加熱した際に単一ガラス材
料へと焼結する前に結晶化するガラスをいう。
のない溶融体を形成する最初の工程を含む。通常、この
ガラスは不安定ガラスである。不安定ガラスとは、粒状
(すなわち1mm以下の粒子)において、周囲圧力下に
おいて液相線より低い温度で加熱した際に単一ガラス材
料へと焼結する前に結晶化するガラスをいう。
【0017】このようにして得られた結晶のないガラス
溶融体は次に急冷されて凝固された完全アモルファスガ
ラスフィードストック材料を形成する。完全アモルファ
スとは、フィードストックが実質的に結晶質混在物また
は表面材料を含まないことを意味する。急冷工程中、溶
融体は、通常、少なくとも1つの断面寸法がミリメータ
ー以下のサイズであるフィードストックへと形成される
。これは急冷ガラステープ、リボン、またはより好まし
くはガラススート(glass soot)から成る粒
状フィードストック材料あるいは最も好ましくは小さい
ガラスビーズまたはグラニュールの形態とすることがで
きる。
溶融体は次に急冷されて凝固された完全アモルファスガ
ラスフィードストック材料を形成する。完全アモルファ
スとは、フィードストックが実質的に結晶質混在物また
は表面材料を含まないことを意味する。急冷工程中、溶
融体は、通常、少なくとも1つの断面寸法がミリメータ
ー以下のサイズであるフィードストックへと形成される
。これは急冷ガラステープ、リボン、またはより好まし
くはガラススート(glass soot)から成る粒
状フィードストック材料あるいは最も好ましくは小さい
ガラスビーズまたはグラニュールの形態とすることがで
きる。
【0018】このようにして得られたガラスフィードス
トック材料は次に、ガラス転移温度(Tg)以上であり
かつガラスのピーク結晶化温度(Txtal)未満の固
化温度範囲まで加熱される。公知のプラクティスに従っ
て粉末ガラスのサンプルについて示差走査熱量法により
決定されるピーク結晶化温度は、ガラスを制御された速
度でガラス転移温度および軟化温度範囲を通過して加熱
した際にガラスの急速な結晶化を伴う広い発熱ピークと
して示される。最も好ましくは、この工程で選択される
固化温度範囲は、急冷工程中に形成される結晶核上に結
晶が成長するのを防止するため、空隙のないガラス製品
を与える要件に適合させるべく、結晶化温度からできる
限り離される。
トック材料は次に、ガラス転移温度(Tg)以上であり
かつガラスのピーク結晶化温度(Txtal)未満の固
化温度範囲まで加熱される。公知のプラクティスに従っ
て粉末ガラスのサンプルについて示差走査熱量法により
決定されるピーク結晶化温度は、ガラスを制御された速
度でガラス転移温度および軟化温度範囲を通過して加熱
した際にガラスの急速な結晶化を伴う広い発熱ピークと
して示される。最も好ましくは、この工程で選択される
固化温度範囲は、急冷工程中に形成される結晶核上に結
晶が成長するのを防止するため、空隙のないガラス製品
を与える要件に適合させるべく、結晶化温度からできる
限り離される。
【0019】ガラスフィードストックを固化のための温
度範囲に維持しながら少なくともある固化時間に亘って
固化圧力をガラスに加える。この固化圧力は、固化期間
中にフィードストックの失透または結晶化を開始させる
のに十分な時間より少ない時間内に稠密で空隙のないガ
ラス品へとフィードストックを固化するのに少なくとも
十分である大きさでなければならない。一般的に、より
大きいガラス粘度を示すより低い固化温度はより大きい
固化圧力および/またはより長い固化時間を必要とし、
その逆も言える。
度範囲に維持しながら少なくともある固化時間に亘って
固化圧力をガラスに加える。この固化圧力は、固化期間
中にフィードストックの失透または結晶化を開始させる
のに十分な時間より少ない時間内に稠密で空隙のないガ
ラス品へとフィードストックを固化するのに少なくとも
十分である大きさでなければならない。一般的に、より
大きいガラス粘度を示すより低い固化温度はより大きい
固化圧力および/またはより長い固化時間を必要とし、
その逆も言える。
【0020】固化されるガラスの組成に応じて、固化工
程中にガラスを取り囲む雰囲気を制御することが望まし
い。不活性ガスまたは真空が有用な場合もあり、表面結
晶化を低減するために反応性雰囲気が好ましい場合もあ
る。固化雰囲気の制御は公知の方法で容易に行い得る。
程中にガラスを取り囲む雰囲気を制御することが望まし
い。不活性ガスまたは真空が有用な場合もあり、表面結
晶化を低減するために反応性雰囲気が好ましい場合もあ
る。固化雰囲気の制御は公知の方法で容易に行い得る。
【0021】最後に、固化された空隙のないガラス品が
、冷却中における結晶化の開始を防止するのに十分な速
度で固化温度から冷却される。失透は時間と温度に依存
する平衡プロセスであり、また失透は結晶化温度より十
分低い温度においてさえ不安定ガラス中においてかなり
の速度で進行するので、固化ガラスの少なくともガラス
アニール温度までの急激な冷却は十分有用である。
、冷却中における結晶化の開始を防止するのに十分な速
度で固化温度から冷却される。失透は時間と温度に依存
する平衡プロセスであり、また失透は結晶化温度より十
分低い温度においてさえ不安定ガラス中においてかなり
の速度で進行するので、固化ガラスの少なくともガラス
アニール温度までの急激な冷却は十分有用である。
【0022】上述した方法は、大変小さい安定性を示す
ガラス(すなわちガラスが高範囲な結晶化を伴わずにど
んなサイズのガラス品へも直接鋳造できない状態)にお
いてさえセンチメートルレベル以上の断面寸法を有する
ガラス品を製造するのに有効であることがわかった。も
ちろんこの方法は、いくらかより安定性の大きいガラス
組成からガラス品を形成するのにも利用でき、失透の発
生または結晶質混在物を伴わずに上記ガラスから製造で
きるガラス品の寸法を増大させることができるという利
点を有する。
ガラス(すなわちガラスが高範囲な結晶化を伴わずにど
んなサイズのガラス品へも直接鋳造できない状態)にお
いてさえセンチメートルレベル以上の断面寸法を有する
ガラス品を製造するのに有効であることがわかった。も
ちろんこの方法は、いくらかより安定性の大きいガラス
組成からガラス品を形成するのにも利用でき、失透の発
生または結晶質混在物を伴わずに上記ガラスから製造で
きるガラス品の寸法を増大させることができるという利
点を有する。
【0023】前述したように、本発明は、失透を伴わず
に大きな製品に鋳造するには不安定過ぎるが有用な光学
的または他の物性を有するガラスを処理できるという効
果を奏する。例として、2cm以上の断面寸法およびそ
の断面厚をゆうに超える直径を有する大きい赤外線透過
レンズブランクを必要とする高度光学用途が開発された
。 そのようなレンズは、従来は不安定ガラスからはけして
製造できるものではなかった。
に大きな製品に鋳造するには不安定過ぎるが有用な光学
的または他の物性を有するガラスを処理できるという効
果を奏する。例として、2cm以上の断面寸法およびそ
の断面厚をゆうに超える直径を有する大きい赤外線透過
レンズブランクを必要とする高度光学用途が開発された
。 そのようなレンズは、従来は不安定ガラスからはけして
製造できるものではなかった。
【0024】本発明に従って有利に処理され、望ましい
小さい赤外線吸収特性と良好な耐久性を有するガラスの
1つの類はCd−Al−Pb−FガラスおよびCd−L
i−Al−Pb−Fガラスである。これらのガラスは米
国特許第4,537,864 号に記載されており、他
の種々の赤外線透過ハライドガラスより優れた安定性を
示すが、過度の失透を伴わずに数ミリメーターを超える
厚さに鋳造することはできなかった。
小さい赤外線吸収特性と良好な耐久性を有するガラスの
1つの類はCd−Al−Pb−FガラスおよびCd−L
i−Al−Pb−Fガラスである。これらのガラスは米
国特許第4,537,864 号に記載されており、他
の種々の赤外線透過ハライドガラスより優れた安定性を
示すが、過度の失透を伴わずに数ミリメーターを超える
厚さに鋳造することはできなかった。
【0025】本発明に従って有利に処理できる他のガラ
ス組成には、重金属フッ化物ガラス、米国特許第4,3
23,654 号のアルカリ−Ta2 O3 −B2
O3 −P2 O3ガラスのようなアルカリリン酸ガラ
ス、米国特許第4,362,819 号のR2 O−A
l2 O3 −P2 O3 −Fガラス(R2 Oはア
ルカリ金属酸化物)などのフルオロアルミノリン酸ガラ
ス、および米国特許第4,314,031 号のSn−
P−O−Fガラスのような錫−フォスフォラス−オキシ
フルオライドガラスがある。もちろん、液相線において
小さい粘度(最も好ましくは約50ポアズ以下)を有し
、従来の鋳造、モールディングまたは焼結工程にとって
不十分な安定性を示す他のガラスも本発明に従って有利
に処理することができる。
ス組成には、重金属フッ化物ガラス、米国特許第4,3
23,654 号のアルカリ−Ta2 O3 −B2
O3 −P2 O3ガラスのようなアルカリリン酸ガラ
ス、米国特許第4,362,819 号のR2 O−A
l2 O3 −P2 O3 −Fガラス(R2 Oはア
ルカリ金属酸化物)などのフルオロアルミノリン酸ガラ
ス、および米国特許第4,314,031 号のSn−
P−O−Fガラスのような錫−フォスフォラス−オキシ
フルオライドガラスがある。もちろん、液相線において
小さい粘度(最も好ましくは約50ポアズ以下)を有し
、従来の鋳造、モールディングまたは焼結工程にとって
不十分な安定性を示す他のガラスも本発明に従って有利
に処理することができる。
【0026】形成されるべく選択されたガラスの結晶の
ない溶融体を与えるために利用されるバッチ取りおよび
溶融工程は公知である。溶融は、出発材料の均質溶融を
確実にするため、ガラスと十分な相容性のある溶融装置
を用いてバッチごとかあるいは連続して行われる。溶融
体を均質で結晶のないものとするために、ガラスの液相
線より十分高い溶融温度が通常使用される。
ない溶融体を与えるために利用されるバッチ取りおよび
溶融工程は公知である。溶融は、出発材料の均質溶融を
確実にするため、ガラスと十分な相容性のある溶融装置
を用いてバッチごとかあるいは連続して行われる。溶融
体を均質で結晶のないものとするために、ガラスの液相
線より十分高い溶融温度が通常使用される。
【0027】十分な溶融が達成されると、実際的失透ま
たは初期失透を回避するのに十分な程迅速なガラス冷却
速度を与える工程によってガラスが形成される。しかし
ながら、巻きリボンまたは薄いシートへの急冷が主に使
用されるが、好ましいプラクティスは急冷された小さい
ガラス粒子へガラスを形成することである。
たは初期失透を回避するのに十分な程迅速なガラス冷却
速度を与える工程によってガラスが形成される。しかし
ながら、巻きリボンまたは薄いシートへの急冷が主に使
用されるが、好ましいプラクティスは急冷された小さい
ガラス粒子へガラスを形成することである。
【0028】ガラス中の結晶化プロセスにおける時間お
よび温度依存性が図1に示されている。図1は、ガラス
結晶化のための境界条件を示す時間と温度のグラフであ
り、典型的ガラスの製造中にたどる2つの代表的冷却プ
ロフィールが示されている。冷却曲線Aにおいて、時間
と共に温度が下がる速度は十分にゆっくりであり、ガラ
スは結晶が容易に形成される領域に十分な時間とどまる
。この冷却工程による製品は少なくともある程度の表面
結晶化度またはバルク結晶化度を示すと考えられる。
よび温度依存性が図1に示されている。図1は、ガラス
結晶化のための境界条件を示す時間と温度のグラフであ
り、典型的ガラスの製造中にたどる2つの代表的冷却プ
ロフィールが示されている。冷却曲線Aにおいて、時間
と共に温度が下がる速度は十分にゆっくりであり、ガラ
スは結晶が容易に形成される領域に十分な時間とどまる
。この冷却工程による製品は少なくともある程度の表面
結晶化度またはバルク結晶化度を示すと考えられる。
【0029】冷却曲線Bにおいて、ガラスの冷却速度は
十分に迅速であり、ガラスの結晶形成領域には最少限の
時間しかとどまらない。この様式で冷却されたガラス材
料は表面結晶化またはバルク結晶化が実質的にないと考
えられる。
十分に迅速であり、ガラスの結晶形成領域には最少限の
時間しかとどまらない。この様式で冷却されたガラス材
料は表面結晶化またはバルク結晶化が実質的にないと考
えられる。
【0030】公知のように、蒸着工程によって形成でき
るガラスに対して、ミクロン以下のサイズの粒状ガラス
スートから成るアモルファスガラスフィードストックが
蒸気相から直接製造できる。しかしながら、溶融によっ
て最も都合好く製造されるガラスに対して、実質的にあ
らゆる組成から成る不安定ガラスに対してより適用性の
ある粒状ガラスフィードストックの好ましい製造方法は
、溶融体から直接ガラスを粒状化処理(spherul
ize)するか微粉砕する方法である。
るガラスに対して、ミクロン以下のサイズの粒状ガラス
スートから成るアモルファスガラスフィードストックが
蒸気相から直接製造できる。しかしながら、溶融によっ
て最も都合好く製造されるガラスに対して、実質的にあ
らゆる組成から成る不安定ガラスに対してより適用性の
ある粒状ガラスフィードストックの好ましい製造方法は
、溶融体から直接ガラスを粒状化処理(spherul
ize)するか微粉砕する方法である。
【0031】溶融体の急速冷却によって小粒子形成を行
う特に好ましい技術は、溶融体を溶融ガラスの小さい流
れに形成し、この溶融ガラスの流れをその流れに向けて
の圧縮ガスのジェットによって急冷および分散すること
を含む。使用されるガスは使用するガラス組成に依存し
、酸化、還元、中性または反応性媒体を構成し得る。
う特に好ましい技術は、溶融体を溶融ガラスの小さい流
れに形成し、この溶融ガラスの流れをその流れに向けて
の圧縮ガスのジェットによって急冷および分散すること
を含む。使用されるガスは使用するガラス組成に依存し
、酸化、還元、中性または反応性媒体を構成し得る。
【0032】この工程の生成物は、通常、1mm未満、
より一般的には約1〜500 μmの範囲内の直径を有
する球状ガラスビーズから成る凝固ガラスフィードスト
ックである。この凝固ガラスは結晶質混在物および表面
失透がなく、このガラスのガラス転移温度より高い温度
まで再加熱した際に比較的ゆっくりと結晶化する。
より一般的には約1〜500 μmの範囲内の直径を有
する球状ガラスビーズから成る凝固ガラスフィードスト
ックである。この凝固ガラスは結晶質混在物および表面
失透がなく、このガラスのガラス転移温度より高い温度
まで再加熱した際に比較的ゆっくりと結晶化する。
【0033】前記フィードストックは実質的に結晶を含
まないが、再加熱に際して結晶質相の形成を回避するた
めに注意深い固化処理が必要である。上述した不安定ガ
ラスにおけるガラス転移温度Tg とガラス結晶化温度
Txtalの差は120 ℃を超えることがほとんどな
く、40℃程度である。さらに、前述したように、不安
定ガラスにおける結晶化は、ガラスが加熱状態において
所望の長時間維持されるガラスの結晶化温度より十分低
い温度で開始することがある。従って、固化工程の時間
および温度についての制御は極めて重要である。
まないが、再加熱に際して結晶質相の形成を回避するた
めに注意深い固化処理が必要である。上述した不安定ガ
ラスにおけるガラス転移温度Tg とガラス結晶化温度
Txtalの差は120 ℃を超えることがほとんどな
く、40℃程度である。さらに、前述したように、不安
定ガラスにおける結晶化は、ガラスが加熱状態において
所望の長時間維持されるガラスの結晶化温度より十分低
い温度で開始することがある。従って、固化工程の時間
および温度についての制御は極めて重要である。
【0034】ガラスフィードストックを空隙のない大き
な均質ガラスに変換するために利用される固化工程には
ガラスに十分な圧力を加えることが必要である。しかし
ながら、圧力を加える手段がどのようなものであるかは
重要ではなく、選択される手段は、従来のホットプレス
工程、ホットアイソスタティックプレス(HIP)工程
、またはこれらのガラスの低温処理に必要な高粘度にお
けるガラスの流れを促進する他の工程とすることができ
る。
な均質ガラスに変換するために利用される固化工程には
ガラスに十分な圧力を加えることが必要である。しかし
ながら、圧力を加える手段がどのようなものであるかは
重要ではなく、選択される手段は、従来のホットプレス
工程、ホットアイソスタティックプレス(HIP)工程
、またはこれらのガラスの低温処理に必要な高粘度にお
けるガラスの流れを促進する他の工程とすることができ
る。
【0035】圧力を加えない焼結は、これらの不安定ガ
ラスの固化に適した方法ではない。これらのガラスにお
いて、失透は、これらのガラスの軟化および流れを生じ
させるのに有効な液相線より下の温度(sub−liq
uidus temperatures)において焼結
より急速に起こる。また、液相線より上の固化温度にお
いて、失透を防止するのに十分な程急速な塊状品の冷却
は達成できない。
ラスの固化に適した方法ではない。これらのガラスにお
いて、失透は、これらのガラスの軟化および流れを生じ
させるのに有効な液相線より下の温度(sub−liq
uidus temperatures)において焼結
より急速に起こる。また、液相線より上の固化温度にお
いて、失透を防止するのに十分な程急速な塊状品の冷却
は達成できない。
【0036】ホットプレスまたはHIP処理によって得
られる圧力が極めて高い場合でさえ、圧力を加えている
間のガラス加熱が不十分であれば実質的なガラス不均質
性を有した固化製品ができてしまう。この不均質性はお
そらく先駆体ガラスフィードストックの不完全溶融粒子
間のいわゆる残留縫合(remnantsutures
)によるものであると考えられる。従って、選択された
固化温度は再加熱および冷却中の結晶化を回避するのに
十分な程低く、かつ完全溶融を達成してガラスも均質と
なるのに十分な程高くなければならない。また、選択さ
れた固化温度における滞留時間は均質製品を得るのに必
要な程度を超えて長くてはならない。
られる圧力が極めて高い場合でさえ、圧力を加えている
間のガラス加熱が不十分であれば実質的なガラス不均質
性を有した固化製品ができてしまう。この不均質性はお
そらく先駆体ガラスフィードストックの不完全溶融粒子
間のいわゆる残留縫合(remnantsutures
)によるものであると考えられる。従って、選択された
固化温度は再加熱および冷却中の結晶化を回避するのに
十分な程低く、かつ完全溶融を達成してガラスも均質と
なるのに十分な程高くなければならない。また、選択さ
れた固化温度における滞留時間は均質製品を得るのに必
要な程度を超えて長くてはならない。
【0037】
【実施例】本発明を以下の実施例に基づいてさらに詳細
に説明する。
に説明する。
【0038】実施例1
Cd−Li−Al−Pbオキシフルオライド系のガラス
を選択した。このガラスは近似重量%で約17.13
%のAlF3 、50.04 %のPbF2 、1.0
7%のLiF、1.58%のKF、4.08%のYF2
、7.89%のCdO、15.50 %のCdF2
および2.72%のLaF2 の組成を有し、これらの
割合でフッ化物および酸化物からバッチ形成した。
を選択した。このガラスは近似重量%で約17.13
%のAlF3 、50.04 %のPbF2 、1.0
7%のLiF、1.58%のKF、4.08%のYF2
、7.89%のCdO、15.50 %のCdF2
および2.72%のLaF2 の組成を有し、これらの
割合でフッ化物および酸化物からバッチ形成した。
【0039】このようにして与えられたバッチを、10
00℃で窒素下においてグローブボックスに収容された
プラチナるちぼ内で溶融し、その温度に15分間保持し
、次に撹拌し、そして予備加熱したプラチナ漏斗に注い
だ。
00℃で窒素下においてグローブボックスに収容された
プラチナるちぼ内で溶融し、その温度に15分間保持し
、次に撹拌し、そして予備加熱したプラチナ漏斗に注い
だ。
【0040】漏斗内のガラスを約1000℃(すなわち
700 ℃)のガラス液相線温度より十分高い温度)に
維持した。この温度にある間に、ガラスを漏斗から搬出
し薄い液状流れとし、ヘリウムガスのジェットをこの漏
斗の下で上記ガラスの流に対して直角に当てた。15p
sigの圧力で供給されるこのヘリウムジェットは溶融
ガラス流れを分散させて細かい小滴にし、この小滴を前
述した条件下で急激に急冷し固体ガラスビーズにした。
700 ℃)のガラス液相線温度より十分高い温度)に
維持した。この温度にある間に、ガラスを漏斗から搬出
し薄い液状流れとし、ヘリウムガスのジェットをこの漏
斗の下で上記ガラスの流に対して直角に当てた。15p
sigの圧力で供給されるこのヘリウムジェットは溶融
ガラス流れを分散させて細かい小滴にし、この小滴を前
述した条件下で急激に急冷し固体ガラスビーズにした。
【0041】このプロセスにより製造されたガラスビー
ズの光学顕微鏡写真(64倍)が図2に示されている。 グローブボックス中に存在する破壊屑(debris)
からのフィードストックへの異物混入がいくらか見られ
るが、これらのビーズは失透がなかった。これらのビー
ズは約35〜360 μmの範囲の直径を有し、そのほ
とんどは150 μmより大きい直径を有していた。
ズの光学顕微鏡写真(64倍)が図2に示されている。 グローブボックス中に存在する破壊屑(debris)
からのフィードストックへの異物混入がいくらか見られ
るが、これらのビーズは失透がなかった。これらのビー
ズは約35〜360 μmの範囲の直径を有し、そのほ
とんどは150 μmより大きい直径を有していた。
【0042】このようにして製造されたガラスビーズを
ホットプレス工程における固化フィードストックとして
使用するため、第2のグローブボックスに移した。ガラ
スの転移温度(Tg 、約310 ℃)からガラスの結
晶化温度(Txtal、約350 ℃)までの範囲の温
度において複数個の固化実験を行った。使用した固化圧
力は約70psiであり、そしてピーク固化温度におけ
る滞留時間は約0.5 〜16分間とした。
ホットプレス工程における固化フィードストックとして
使用するため、第2のグローブボックスに移した。ガラ
スの転移温度(Tg 、約310 ℃)からガラスの結
晶化温度(Txtal、約350 ℃)までの範囲の温
度において複数個の固化実験を行った。使用した固化圧
力は約70psiであり、そしてピーク固化温度におけ
る滞留時間は約0.5 〜16分間とした。
【0043】このガラスに関する固化実験の結果を表1
に示す表1には、使用したピーク固化温度、ピーク固化
温度におけるガラスの滞留時間、および観測結果が示さ
れている。そこには、達成された固化の程度および観測
されたガラス失透(もしあれば)の報告が示されている
。
に示す表1には、使用したピーク固化温度、ピーク固化
温度におけるガラスの滞留時間、および観測結果が示さ
れている。そこには、達成された固化の程度および観測
されたガラス失透(もしあれば)の報告が示されている
。
【0044】
【表1】
固化実験の結果 固化温度(℃)
滞留時間(分) 観 測 結
果 1 31
0 ℃ 0.5
ビーズに若干変形あり
2 310 ℃
4.0 固化せず
3 3
20 ℃ 0.5
固化不良
4 320 ℃
1.0 まずまずの固
化 5
320 ℃ 2.0
固化不良
6 320 ℃
4.0 完全
固化
7 320 ℃
8.0 中央に若干の失透あり
8 320 ℃
16.0 相
当な失透あり、破損 9
330 ℃ 0.5
固化せず、若干溶融
10 330 ℃
4.0 固化、中
央に若干の失透あり 11
340 ℃ 4.0
固化、部分的に失透
12 350 ℃
4.0 固化、相当な失透あ
り 表1に示されたデータから明ら
かなように、失透のない完全固化サンプルが得られる温
度および時間の範囲が存在する。最良の固化は実験サン
プル5および6において得られ、それはガラスのガラス
転移温度より10℃高くかつその結晶化温度より30℃
低い温度において達成された。
固化実験の結果 固化温度(℃)
滞留時間(分) 観 測 結
果 1 31
0 ℃ 0.5
ビーズに若干変形あり
2 310 ℃
4.0 固化せず
3 3
20 ℃ 0.5
固化不良
4 320 ℃
1.0 まずまずの固
化 5
320 ℃ 2.0
固化不良
6 320 ℃
4.0 完全
固化
7 320 ℃
8.0 中央に若干の失透あり
8 320 ℃
16.0 相
当な失透あり、破損 9
330 ℃ 0.5
固化せず、若干溶融
10 330 ℃
4.0 固化、中
央に若干の失透あり 11
340 ℃ 4.0
固化、部分的に失透
12 350 ℃
4.0 固化、相当な失透あ
り 表1に示されたデータから明ら
かなように、失透のない完全固化サンプルが得られる温
度および時間の範囲が存在する。最良の固化は実験サン
プル5および6において得られ、それはガラスのガラス
転移温度より10℃高くかつその結晶化温度より30℃
低い温度において達成された。
【0045】ガラス転移温度で行われた実験ではガラス
の良好な固化が達成されず、そのガラスは固化不良また
はフィードバック材料の最初のビーズ構造による相当な
不均質性を示した。一方、結晶化温度に近い温度で行わ
れた実験、あるいは過剰な時間で行われた実験では、も
れなく失透化した製品が形成された。使用された固化温
度が結晶化温度に近づくにつれて、失透を伴わずに固化
を達成することが大変困難になることに留意されたい。
の良好な固化が達成されず、そのガラスは固化不良また
はフィードバック材料の最初のビーズ構造による相当な
不均質性を示した。一方、結晶化温度に近い温度で行わ
れた実験、あるいは過剰な時間で行われた実験では、も
れなく失透化した製品が形成された。使用された固化温
度が結晶化温度に近づくにつれて、失透を伴わずに固化
を達成することが大変困難になることに留意されたい。
【0046】上述の手順に従って製造した完全固化ガラ
ス品の破面の走査電子顕微鏡写真を図3に示す。ここで
白線は10μmの寸法を表わす。この写真においてグロ
ーブボックスの破壊屑が固化材料中に見られるが、それ
にもかかわらず、このガラス品は均質アモルファスガラ
スに特徴的な平滑または貝殻状破面を示している。ビー
ズフィードストックからの残留縫合または固化工程によ
る失透は見られない。
ス品の破面の走査電子顕微鏡写真を図3に示す。ここで
白線は10μmの寸法を表わす。この写真においてグロ
ーブボックスの破壊屑が固化材料中に見られるが、それ
にもかかわらず、このガラス品は均質アモルファスガラ
スに特徴的な平滑または貝殻状破面を示している。ビー
ズフィードストックからの残留縫合または固化工程によ
る失透は見られない。
【0047】実施例2
アルカリフルオロアルミノリン酸ガラスのためのバッチ
を配合した。このバッチは、Al(PO3 )3 、K
PF6 、LiPF6 およびNaPF6 を配合して
約30モル%のAl(PO3 )3 、23.3モル%
のKPF6 、23.3モル%のLiPF6 および2
3.3モル%のNaPF6 のバッチ組成を得た。この
バッチを回転混合し、次に約1000℃で10分間フタ
をしないプラチナるつぼにて溶融した。
を配合した。このバッチは、Al(PO3 )3 、K
PF6 、LiPF6 およびNaPF6 を配合して
約30モル%のAl(PO3 )3 、23.3モル%
のKPF6 、23.3モル%のLiPF6 および2
3.3モル%のNaPF6 のバッチ組成を得た。この
バッチを回転混合し、次に約1000℃で10分間フタ
をしないプラチナるつぼにて溶融した。
【0048】このようにして得られた溶融体を次に約7
00 ℃に保持された予備加熱されたプラチナ漏斗に注
いだ。この漏斗の出口のFに圧縮ヘリウムガスの流れを
設け、この流れでは、ヘリウムガスのジェットが漏斗か
ら出てくる溶融体を小さいガラスビーズに分散させるの
に十分な速度を有していた。これらのビーズをステンレ
ススチール容器に受けて検査したところ、完全にアモル
ファスであって表面失透がないことがわかった。このビ
ーズフィードストックを形成するガラスの転移温度は約
326 ℃であった。
00 ℃に保持された予備加熱されたプラチナ漏斗に注
いだ。この漏斗の出口のFに圧縮ヘリウムガスの流れを
設け、この流れでは、ヘリウムガスのジェットが漏斗か
ら出てくる溶融体を小さいガラスビーズに分散させるの
に十分な速度を有していた。これらのビーズをステンレ
ススチール容器に受けて検査したところ、完全にアモル
ファスであって表面失透がないことがわかった。このビ
ーズフィードストックを形成するガラスの転移温度は約
326 ℃であった。
【0049】得られたガラスビーズフィードストックを
、窒素固化雰囲気を有するグローブボックス内の誘導加
熱ホットプレスで固化した。そこでは、ピーク固化温度
が350 ℃、375 ℃および395 ℃である3つ
の異なった固化スケジュールを使用した。固化圧力はど
れも70psi であり、ピーク固化温度に達した後1
分間この圧力で保持した。
、窒素固化雰囲気を有するグローブボックス内の誘導加
熱ホットプレスで固化した。そこでは、ピーク固化温度
が350 ℃、375 ℃および395 ℃である3つ
の異なった固化スケジュールを使用した。固化圧力はど
れも70psi であり、ピーク固化温度に達した後1
分間この圧力で保持した。
【0050】ピーク固化温度が350 ℃および375
℃では70psi 圧力でビーズの固化が達成されな
かった。しかし395 ℃のピーク固化温度では完全固
化が達成された。固化ガラスの電子顕微鏡写真によれば
、ガラスビーズフィードストックの良好な溶融が示され
ていると共に、ごくわずかなビーズ境界が見られるが、
失透はなかった。
℃では70psi 圧力でビーズの固化が達成されな
かった。しかし395 ℃のピーク固化温度では完全固
化が達成された。固化ガラスの電子顕微鏡写真によれば
、ガラスビーズフィードストックの良好な溶融が示され
ていると共に、ごくわずかなビーズ境界が見られるが、
失透はなかった。
【0051】実施例3
低温溶融鉛−錫オキシフルオライドガラスのためのバッ
チを配合した。そのバッチは約4.0 モル%のPbF
2 、52モル%のSnF2 および44.0モル%の
PO2.5 の組成を有していた。このバッチを完全に
混合し、次にフタをしないビトレアス炭素るつぼにおい
て約440 ℃で約20分間溶融した。
チを配合した。そのバッチは約4.0 モル%のPbF
2 、52モル%のSnF2 および44.0モル%の
PO2.5 の組成を有していた。このバッチを完全に
混合し、次にフタをしないビトレアス炭素るつぼにおい
て約440 ℃で約20分間溶融した。
【0052】溶融が完了した後、溶融体を実施例2のよ
うにして予備加熱したプラチナ漏斗に注いだ。ここで漏
斗の予備加熱温度は実施例2とは異なり、約400 ℃
とした。この漏斗から出たガラス流れには、このガラス
流れを小さいガラスビーズに分散するのに十分な速度を
有する圧縮窒素流れが横切るようにした。このビーズを
形成するガラスの転移温度は約150 ℃であった。
うにして予備加熱したプラチナ漏斗に注いだ。ここで漏
斗の予備加熱温度は実施例2とは異なり、約400 ℃
とした。この漏斗から出たガラス流れには、このガラス
流れを小さいガラスビーズに分散するのに十分な速度を
有する圧縮窒素流れが横切るようにした。このビーズを
形成するガラスの転移温度は約150 ℃であった。
【0053】このようにして得られたガラスビーズフィ
ードストックを実施例2で使用した誘導加熱ホットプレ
スでホットプレスした。ここでもホットプレスは窒素下
で行い、使用したピーク固化圧力は70psi であっ
た。
ードストックを実施例2で使用した誘導加熱ホットプレ
スでホットプレスした。ここでもホットプレスは窒素下
で行い、使用したピーク固化圧力は70psi であっ
た。
【0054】150 ℃のピーク固化温度で約1分間前
記ビーズをホットプレスすると、わずかな残留あわはあ
るが失透および残留ビーズ境界がない透明で良好に固化
したガラス体が得られた。
記ビーズをホットプレスすると、わずかな残留あわはあ
るが失透および残留ビーズ境界がない透明で良好に固化
したガラス体が得られた。
【0055】より多量のガラスビーズを用いて上記固化
温度および固化圧力で2分間保持するようにして上記手
順をくり返すと、失透および残留ビーズ縫合の実質的に
ない約1cm厚の固化ガラスが得られた。
温度および固化圧力で2分間保持するようにして上記手
順をくり返すと、失透および残留ビーズ縫合の実質的に
ない約1cm厚の固化ガラスが得られた。
【0056】上述した従来のホットプレスが所望のレベ
ルの固化圧力を達成するのに簡単で便利な方法であるが
、一軸ホットプレス以外の工程も得られる結果を改善す
るのに使用できる。例えば、ガラスフィードストックを
一軸ホットプレスによってまず空隙のない中間体材料に
固化し、次に残留する残留ガスあわを除去するためにH
IP工程に供することができる。ピーク固化温度の好ま
しい範囲はガラス転移温度と結晶化温度の間の温度範囲
の大きさに大きく依存するが、一般的にはガラス転移温
度より上約10〜100 ℃の範囲の温度が好ましい。
ルの固化圧力を達成するのに簡単で便利な方法であるが
、一軸ホットプレス以外の工程も得られる結果を改善す
るのに使用できる。例えば、ガラスフィードストックを
一軸ホットプレスによってまず空隙のない中間体材料に
固化し、次に残留する残留ガスあわを除去するためにH
IP工程に供することができる。ピーク固化温度の好ま
しい範囲はガラス転移温度と結晶化温度の間の温度範囲
の大きさに大きく依存するが、一般的にはガラス転移温
度より上約10〜100 ℃の範囲の温度が好ましい。
【0057】本発明の方法に用いるガラスはフッ化物ガ
ラス、ハライドガラスまたはフルオロリン酸ガラスに限
定されるものではなく、適切な冷却工程によって完全に
ビトレアスなガラスフィードストックへと形成できるな
らば広範囲の不安定ガラスのいずれでもかまわない。
ラス、ハライドガラスまたはフルオロリン酸ガラスに限
定されるものではなく、適切な冷却工程によって完全に
ビトレアスなガラスフィードストックへと形成できるな
らば広範囲の不安定ガラスのいずれでもかまわない。
【0058】上記実施例は、大きい表面積のガラス粒子
(最も好ましくは実施例に示されたガラスビーズフィー
ドストック)の固化によって極めて小さい安定性を有す
るガラス系においてさえ表面失透またはバルク失透がな
い均質ガラス製品を形成できることを示している。結晶
のないガラスフィードストックが製造できるならば比較
的低温および高粘度における高圧力固化が、低安定性ま
たは下限安定性を有するガラス系において高品質ガラス
製品が得られるガラス組成の範囲を拡大できる。
(最も好ましくは実施例に示されたガラスビーズフィー
ドストック)の固化によって極めて小さい安定性を有す
るガラス系においてさえ表面失透またはバルク失透がな
い均質ガラス製品を形成できることを示している。結晶
のないガラスフィードストックが製造できるならば比較
的低温および高粘度における高圧力固化が、低安定性ま
たは下限安定性を有するガラス系において高品質ガラス
製品が得られるガラス組成の範囲を拡大できる。
【0059】上記特定の手順および特定の材料は例示で
あって、本発明がそれらに限定されるものではない。本
発明の精神および範囲内において種々の変更およびバリ
エーションが可能であることは言うまでもない。
あって、本発明がそれらに限定されるものではない。本
発明の精神および範囲内において種々の変更およびバリ
エーションが可能であることは言うまでもない。
【図1】無機ガラスにおける結晶化プロセスの理論的な
時間と温度の関係を示すグラフ
時間と温度の関係を示すグラフ
【図2】本発明に有用なアモルファスガラスフィードス
トックの粒子構造の光学顕微鏡写真
トックの粒子構造の光学顕微鏡写真
Claims (11)
- 【請求項1】 不安定ガラスから失透のないガラス品
を製造する方法であって、 (a) 前記不安定ガラスの結晶のない溶融体を形成し
、(b) 該溶融体を急冷して、少なくとも1つの寸法
においてミリメーターサイズ以下の断面を有する、実質
的に結晶のない凝固ガラスフィードストック材料を形成
し、(c) 該ガラスフィードストックを、ガラス転移
温度以上でありかつガラスの結晶化温度未満の固化温度
まで加熱し、(d) 前記ガラスフィードストックに、
少なくとも前記固化温度の間、該ガラスフィードストッ
クの失透を開始させるのに十分な時間未満の時間内に該
ガラスフィードストックを空隙のないガラス品へと固化
するのに少なくとも十分な固化圧力を加え、 (e) 失透開始前に前記空隙のないガラス品を冷却す
る各工程から成ることを特徴とする方法。 - 【請求項2】 前記ガラスが約50ポアズ以下の液相
線温度における溶融粘度を有するハライドガラス、リン
酸ガラス、ホウ酸ガラスまたはオキシフルオライドガラ
スであることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 前記凝固ガラスフィードストック材料
が粒状ガラスであることを特徴とする請求項1記載の方
法。 - 【請求項4】 前記工程(b) が、ガラス溶融体を
ガラス流れに形成し、そのガラス流れをガスの流れで分
散させる工程を含むことを特徴とする請求項1記載の方
法。 - 【請求項5】 前記凝固ガラスフィードストックが1
mm未満の直径を有するガラスビーズから実質的に成る
ことを特徴とする請求項4記載の方法。 - 【請求項6】 前記ガラスビーズが約1〜500 μ
mの範囲の直径を有することを特徴とする請求項4記載
の方法。 - 【請求項7】 前記固化温度がガラス転移温度より1
0〜100 ℃高い範囲にあることを特徴とする請求項
1記載の方法。 - 【請求項8】 前記固化を不活性雰囲気または反応性
雰囲気下で行うことを特徴とする請求項6記載の方法。 - 【請求項9】 前記固化を窒素下で行うことを特徴と
する請求項7記載の方法。 - 【請求項10】 前記固化を真空下で行うことを特徴
とする請求項7記載の方法。 - 【請求項11】 前記ガラスが、重金属フッ化物ガラ
ス、Cd−Al−Pb−Fガラス、Cd−Li−Al−
Pb−Fガラス、アルカリリン酸ガラスおよび錫フォス
フォラスオキシフルオライドガラスから成る群より選択
される組成を有することを特徴とする請求項1記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US526236 | 1990-05-21 | ||
US07/526,236 US5108477A (en) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | Method for making a glass article |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04228437A true JPH04228437A (ja) | 1992-08-18 |
JP3190698B2 JP3190698B2 (ja) | 2001-07-23 |
Family
ID=24096490
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11279491A Expired - Fee Related JP3190698B2 (ja) | 1990-05-21 | 1991-05-17 | 失透のないガラス品の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5108477A (ja) |
JP (1) | JP3190698B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2807752B2 (ja) | 1993-05-17 | 1998-10-08 | ティーディーケイ株式会社 | 結晶化ガラス材 |
FR2714046B1 (fr) * | 1993-12-16 | 1996-03-08 | France Telecom | Matériaux vitrocéramiques notamment pour lasers et amplificateurs optiques dopés en terres rares et procédé de fabrication de tels matériaux. |
US5674616A (en) * | 1995-02-06 | 1997-10-07 | Conversion Technologies International, Inc. | Glass beads having improved fracture toughness |
JPH10203841A (ja) * | 1997-01-22 | 1998-08-04 | Hoya Corp | ガラスプリフォーム及びガラスファイバの製造方法 |
JP4515255B2 (ja) * | 2001-08-02 | 2010-07-28 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Al2O3−Y2O3−ZrO2材料 |
WO2003011786A1 (en) * | 2001-08-02 | 2003-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Glass-ceramics |
JP5148807B2 (ja) * | 2001-08-02 | 2013-02-20 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Al2O3−希土類酸化物−ZrO2/HfO2材料およびその製造方法ならびに使用方法 |
US7625509B2 (en) * | 2001-08-02 | 2009-12-01 | 3M Innovative Properties Company | Method of making ceramic articles |
RU2004101640A (ru) | 2001-08-02 | 2005-06-10 | 3М Инновейтив Пропертиз Компани (US) | Способ изготовления изделий из стекла и стеклокерамические изделия, полученные таким способом |
CN100441654C (zh) * | 2001-08-02 | 2008-12-10 | 3M创新有限公司 | 磨粒及其制造和使用方法 |
US6800574B2 (en) * | 2001-10-24 | 2004-10-05 | 3M Innovative Properties Company | Glass beads and uses thereof |
US7143609B2 (en) * | 2002-10-29 | 2006-12-05 | Corning Incorporated | Low-temperature fabrication of glass optical components |
US7598188B2 (en) * | 2005-12-30 | 2009-10-06 | 3M Innovative Properties Company | Ceramic materials and methods of making and using the same |
FR2968298B1 (fr) * | 2010-12-06 | 2015-11-13 | Centre Nat Rech Scient | Procede d'obtention d'un materiau vitreux et optiquement transparent dans l'infrarouge, et dispositif optique comprenant un tel materiau. |
KR101719425B1 (ko) * | 2015-08-26 | 2017-03-23 | 김흥기 | 핫픽스를 이용한 장식액자 및 이의 제조방법 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4239521A (en) * | 1975-03-19 | 1980-12-16 | Corning Glass Works | Spontaneously-formed alpha-quartz glass-ceramics |
US4362819A (en) * | 1980-02-26 | 1982-12-07 | Corning Glass Works | Moldable fluoroaluminophosphate glasses |
US4314031A (en) * | 1980-06-17 | 1982-02-02 | Corning Glass Works | Tin-phosphorus oxyfluoride glasses |
US4323654A (en) * | 1981-03-26 | 1982-04-06 | Corning Glass Works | Moldable glass compositions |
US4501602A (en) * | 1982-09-15 | 1985-02-26 | Corning Glass Works | Process for making sintered glasses and ceramics |
US4537864A (en) * | 1983-08-31 | 1985-08-27 | Corning Glass Works | Metal fluoride glasses in the CdF2 -PbF2 -AlF3 -(LiF) system |
US4718929A (en) * | 1983-10-21 | 1988-01-12 | Corning Glass Works | Vapor phase method for making metal halide glasses |
JPH0623415B2 (ja) * | 1985-09-25 | 1994-03-30 | 株式会社リケン | 非晶質合金成形体の製造方法 |
US4789389A (en) * | 1987-05-20 | 1988-12-06 | Corning Glass Works | Method for producing ultra-high purity, optical quality, glass articles |
US4885019A (en) * | 1988-01-28 | 1989-12-05 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Process for making bulk heavy metal fluoride glasses |
-
1990
- 1990-05-21 US US07/526,236 patent/US5108477A/en not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-05-17 JP JP11279491A patent/JP3190698B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5108477A (en) | 1992-04-28 |
JP3190698B2 (ja) | 2001-07-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH04228437A (ja) | 失透のないガラス品の製造方法 | |
US7309670B2 (en) | Optical glass; press-molding preform and method of manufacturing same; and optical element and method of manufacturing same | |
JP5008639B2 (ja) | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームとその製造方法および光学素子とその製造方法 | |
US3597252A (en) | Method for producing glass compositions | |
US3954431A (en) | Optical glass and its production | |
WO2006068940A2 (en) | Method of making alkali metal silica glass, feedstock, and glass article formed therefrom | |
JP2006137662A (ja) | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームとその製造方法および光学素子とその製造方法 | |
US4708942A (en) | Chalcogenide glass | |
US3445252A (en) | Alpha- and beta-cristobalite glassceramic articles and methods | |
US3462252A (en) | Method of forming a glass body of devitrifiable glass and devitrifying the same | |
US3279931A (en) | Glass-ceramic body and method of making it | |
EP0258456B1 (en) | Process for manufacturing glass | |
JP2004155639A (ja) | 光学ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子およびその製造方法 | |
US3268315A (en) | Method of forming a devitrified glass seal with tungsten or molybdenum | |
US5486495A (en) | Germanate glass ceramic | |
DE3925486A1 (de) | Erdalkalialuminoborat-glaskeramik | |
JP2000095541A (ja) | 低溶融温度複合ソルダ―ガラス、同用添加物及び同使用方法 | |
US3007804A (en) | Ceramic material | |
US4872894A (en) | Method for rapid preparation of halide glasses | |
JPH0575703B2 (ja) | ||
JP7250434B6 (ja) | 光学ガラス、光学素子、光学機器、光学ガラスの製造方法および光学素子の製造方法 | |
US3985532A (en) | Spontaneously-formed celsian glass-ceramics | |
JP7375630B2 (ja) | ガラス材の製造方法 | |
US3694179A (en) | Method for producing phosphate optical glasses | |
Vogel | Structure and crystallization behavior of glasses |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20010410 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |