JPH04228133A - 熱磁気記録方法 - Google Patents
熱磁気記録方法Info
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- JPH04228133A JPH04228133A JP12372891A JP12372891A JPH04228133A JP H04228133 A JPH04228133 A JP H04228133A JP 12372891 A JP12372891 A JP 12372891A JP 12372891 A JP12372891 A JP 12372891A JP H04228133 A JPH04228133 A JP H04228133A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高密度記録が可能な垂直
熱磁気記録方式に用いられる記録担体、および該記録担
体に情報の書き込みを行なう記録方式に関するものであ
る。
熱磁気記録方式に用いられる記録担体、および該記録担
体に情報の書き込みを行なう記録方式に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】垂直熱磁気記録方式とはガラス、セラミ
ックス、プラスチックス等の非磁気体からなる基材上に
金属磁性体からなる垂直磁化可能な記録担体層を形成せ
しめ、該記録担体層表面にレ−ザーからの光を照射して
照射部分をキュリー点近傍、もしくは補償点近傍に加熱
し、この部分を含む該記録坦体層領域にバイアス磁界を
かけることによってこの部分の磁化を他の部分とは逆の
方向に配向せしめることにより熱磁気的に情報の書き込
みを行ない、該情報の読み出しには別の直線偏光したレ
ーザー光線を該記録担体層表面にあて、該表面からの反
射光を検光子を介して光学的に検出することによる。
ックス、プラスチックス等の非磁気体からなる基材上に
金属磁性体からなる垂直磁化可能な記録担体層を形成せ
しめ、該記録担体層表面にレ−ザーからの光を照射して
照射部分をキュリー点近傍、もしくは補償点近傍に加熱
し、この部分を含む該記録坦体層領域にバイアス磁界を
かけることによってこの部分の磁化を他の部分とは逆の
方向に配向せしめることにより熱磁気的に情報の書き込
みを行ない、該情報の読み出しには別の直線偏光したレ
ーザー光線を該記録担体層表面にあて、該表面からの反
射光を検光子を介して光学的に検出することによる。
【0003】従来からこの種の記録担体に用いられる磁
性体としては鉄、コバルト、クロム、マンガン、ガドリ
ニウム、テルビウム、ビスマス等の金属の二種以上の合
金、あるいは酸化鉄、希土類鉄ガーネット等の金属酸化
物がある。
性体としては鉄、コバルト、クロム、マンガン、ガドリ
ニウム、テルビウム、ビスマス等の金属の二種以上の合
金、あるいは酸化鉄、希土類鉄ガーネット等の金属酸化
物がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしこれら金属磁性
体の単層からなる記録担体にあっては次に述べるような
欠点がある。 1.キュリー点近傍による書き込みの揚合、レ一ザーを
小型なものにして書き込みパワーを下げたり書き込み速
度(Bit Rate)を大とすると記録担体層は高温
に加熱しにくいから記録担体として低いキュリー点を有
する材料を用いなければならない。しかし低キュリ一点
の材料にあっては常温においても配向された磁化に乱れ
が起り易いため、読み出される信号が小さいものとなる
。また読み出し時に記録担体層表面に照射する光量を大
きくすれば照射面の温度が著るしく上昇して情報が消失
してしまうおそれがあり、光量はある程度制限する必要
があるがSN比は該光量の平方根に比例する。以上二つ
の理由によってSN比が劣化する。 2.補償点近傍による書き込みの場合、高保磁力を得る
ための書き込み温度範囲、記録担体の組成範囲が非常に
狭く、記録担体を作製する際に組成についてのマージン
が大きくとれず厳密さを要求され手間がかゝり、また温
度特性が悪くなる。更には記録された情報が外部磁揚の
影響を受け易く、記録密度も低下する。
体の単層からなる記録担体にあっては次に述べるような
欠点がある。 1.キュリー点近傍による書き込みの揚合、レ一ザーを
小型なものにして書き込みパワーを下げたり書き込み速
度(Bit Rate)を大とすると記録担体層は高温
に加熱しにくいから記録担体として低いキュリー点を有
する材料を用いなければならない。しかし低キュリ一点
の材料にあっては常温においても配向された磁化に乱れ
が起り易いため、読み出される信号が小さいものとなる
。また読み出し時に記録担体層表面に照射する光量を大
きくすれば照射面の温度が著るしく上昇して情報が消失
してしまうおそれがあり、光量はある程度制限する必要
があるがSN比は該光量の平方根に比例する。以上二つ
の理由によってSN比が劣化する。 2.補償点近傍による書き込みの場合、高保磁力を得る
ための書き込み温度範囲、記録担体の組成範囲が非常に
狭く、記録担体を作製する際に組成についてのマージン
が大きくとれず厳密さを要求され手間がかゝり、また温
度特性が悪くなる。更には記録された情報が外部磁揚の
影響を受け易く、記録密度も低下する。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は上記従来の欠点
を改良して書き込みパワーを下げてもSN比が劣化ぜず
、かつ広い温度範囲、組成範囲にわたって高保磁力が得
られ外部磁場に対しても記録された情報が安定であるよ
うな記録担体を提供することを目的とし、しかして本発
明は一面に垂直磁化可能な低キュリ一点を有する合金か
ら成る高保磁力層が形成され、他面には高キュリー点を
有する合金から成る低保磁力層が形成され、該高保磁力
層と該低保磁力層とは交換結合されていることを骨子と
するものである。
を改良して書き込みパワーを下げてもSN比が劣化ぜず
、かつ広い温度範囲、組成範囲にわたって高保磁力が得
られ外部磁場に対しても記録された情報が安定であるよ
うな記録担体を提供することを目的とし、しかして本発
明は一面に垂直磁化可能な低キュリ一点を有する合金か
ら成る高保磁力層が形成され、他面には高キュリー点を
有する合金から成る低保磁力層が形成され、該高保磁力
層と該低保磁力層とは交換結合されていることを骨子と
するものである。
【0006】
【実施例】本発明を以下に詳細に説明する。
【0007】図1は本発明にかかる記録担体の一実施例
を示すものであり、記録体10において1は基材であり
、2は垂直磁化可能な低キュリー点を有する高保磁力層
であり、3は高キュリ一点を有する低保磁力層であり、
4は透明保護層である。
を示すものであり、記録体10において1は基材であり
、2は垂直磁化可能な低キュリー点を有する高保磁力層
であり、3は高キュリ一点を有する低保磁力層であり、
4は透明保護層である。
【0008】基材1としては前記したようにガラス、セ
ラミックス、プラスチックス等の非磁性体が材料として
用いられる。
ラミックス、プラスチックス等の非磁性体が材料として
用いられる。
【0009】高保磁力層2および低保磁力層3としては
クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル等の遷移金
属、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロジウム等のラ
ンタニド金属、アンチモン、ビスマス等のアンチモン族
金属の二種以上の合金であって垂直磁化可能な材料が用
いられ、常温雰囲気内の使用では高保磁力層2としては
望ましくはキュリー点が 200℃以下50℃以上、更
に望ましくは 150℃以下 100℃以上のもの、低
保磁力層3としては望ましくはキュリー点が 200℃
以上のものを用いる。更に上記合金は高密度に情報を記
録し、かつ該情報の読み出し時のSN比を大きくするた
めに非晶質であるか、もしくは単結晶であるか、あるい
は多結晶であれば微結晶質であることが望ましい。高保
磁力層2に望ましい合金としてはTb−Fe非晶質合金
、Dy−Fe非晶質合金等が例示され、低保磁力層3に
望ましい合金としてはGd−Fe非晶質合金、Gd−C
o非晶質合金、Gd−Fe−Co非晶質合金等が例示さ
れる。
クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル等の遷移金
属、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロジウム等のラ
ンタニド金属、アンチモン、ビスマス等のアンチモン族
金属の二種以上の合金であって垂直磁化可能な材料が用
いられ、常温雰囲気内の使用では高保磁力層2としては
望ましくはキュリー点が 200℃以下50℃以上、更
に望ましくは 150℃以下 100℃以上のもの、低
保磁力層3としては望ましくはキュリー点が 200℃
以上のものを用いる。更に上記合金は高密度に情報を記
録し、かつ該情報の読み出し時のSN比を大きくするた
めに非晶質であるか、もしくは単結晶であるか、あるい
は多結晶であれば微結晶質であることが望ましい。高保
磁力層2に望ましい合金としてはTb−Fe非晶質合金
、Dy−Fe非晶質合金等が例示され、低保磁力層3に
望ましい合金としてはGd−Fe非晶質合金、Gd−C
o非晶質合金、Gd−Fe−Co非晶質合金等が例示さ
れる。
【0010】基材1上に高保磁力層2および低保磁力層
3を形成するには蒸着法、スパッタリング法等の一般的
な方法が用いられる。
3を形成するには蒸着法、スパッタリング法等の一般的
な方法が用いられる。
【0011】透明保護層4としては酸化珪素、酸化錫、
ガラス等の耐熱性透明非磁性体が材料として用いられる
。
ガラス等の耐熱性透明非磁性体が材料として用いられる
。
【0012】本発明の記録担体が適用された上記記録体
10においては高保磁力層2の厚みは 100Å程度以
上、低保磁力層3の厚みは 100〜500Å程度とす
る。そして高保磁力層2と低保磁力層3とを交換結合せ
しめ、且つ、低保磁力層で得られる磁気光学効果が充分
であるためには、低保磁力層の磁壁幅δWと低保磁力層
の光の透過厚1/α(αは光の吸収係数)を考慮して低
保磁力層の材料を選択する。
10においては高保磁力層2の厚みは 100Å程度以
上、低保磁力層3の厚みは 100〜500Å程度とす
る。そして高保磁力層2と低保磁力層3とを交換結合せ
しめ、且つ、低保磁力層で得られる磁気光学効果が充分
であるためには、低保磁力層の磁壁幅δWと低保磁力層
の光の透過厚1/α(αは光の吸収係数)を考慮して低
保磁力層の材料を選択する。
【0013】透明保護層4の厚みは一般的に 500〜
5000Å程度とする。
5000Å程度とする。
【0014】上記実施例以外に高保磁力層2と低保磁力
層3とは明確な二層に分ける必要はなく、高保磁力層2
から低保磁力層3にわたって違続的に組成を変化させて
もよい。また基材1が透明な場合には高保磁力層2を上
層に低保磁力層3を下層に位置せしめてもよい。
層3とは明確な二層に分ける必要はなく、高保磁力層2
から低保磁力層3にわたって違続的に組成を変化させて
もよい。また基材1が透明な場合には高保磁力層2を上
層に低保磁力層3を下層に位置せしめてもよい。
【0015】本発明の記録担体に情報の書き込みを行な
うには如何なる熱磁気的手段をもとられ得るが以下に説
明する手段が最っとも望ましい。
うには如何なる熱磁気的手段をもとられ得るが以下に説
明する手段が最っとも望ましい。
【0016】図2において例えば気体レ一ザー、半導体
レーザー等から出力 1〜 100mWで近赤外ないし
は可視領域の波長の光を発振せしめ、該光は対物レンズ
5を通して記録体10表面にスポットを結像し、高保磁
力層2を局部的に高保磁力層2のキュリ一点近傍に加熱
する。 該加熱点を含む領域に磁界発生コイル6によって50〜
150Oe程度のバイアス磁界をかければ加熱点の高保
磁力層2は該バイアス磁界および/または周辺の磁化か
らの漏れ磁界によって他の部分とは反対方向に磁化され
る。 かくして上記スポットを除去すれば高保磁力層2には情
報が書き込まれる。高保磁力層2と低保磁力層3とは交
換結合せられているから高保磁力層2に書き込まれた情
報は同時に低保磁力層3にも書込まれる。
レーザー等から出力 1〜 100mWで近赤外ないし
は可視領域の波長の光を発振せしめ、該光は対物レンズ
5を通して記録体10表面にスポットを結像し、高保磁
力層2を局部的に高保磁力層2のキュリ一点近傍に加熱
する。 該加熱点を含む領域に磁界発生コイル6によって50〜
150Oe程度のバイアス磁界をかければ加熱点の高保
磁力層2は該バイアス磁界および/または周辺の磁化か
らの漏れ磁界によって他の部分とは反対方向に磁化され
る。 かくして上記スポットを除去すれば高保磁力層2には情
報が書き込まれる。高保磁力層2と低保磁力層3とは交
換結合せられているから高保磁力層2に書き込まれた情
報は同時に低保磁力層3にも書込まれる。
【0017】図3において例えば別のレーザーから直線
偏光した光をハーフミラー7を介し、対物レンズ5を通
して記録体10表面にスポットとして結像せしめ、その
反射光は対物レンズ5を通しハーフミラー7を介して検
光子8を通してフォトダイオード9で検出する。該光は
情報が転写されている低保磁力層3の情報転写位置にお
いてカー効果によって偏光面が回転するのを検出するこ
とになる。
偏光した光をハーフミラー7を介し、対物レンズ5を通
して記録体10表面にスポットとして結像せしめ、その
反射光は対物レンズ5を通しハーフミラー7を介して検
光子8を通してフォトダイオード9で検出する。該光は
情報が転写されている低保磁力層3の情報転写位置にお
いてカー効果によって偏光面が回転するのを検出するこ
とになる。
【0018】更に低保磁力層3にもレ一ザースポットに
よって局部的に補償点近傍に加熱し、高保磁力層2とと
もに低保磁力層3に情報の書き込みを行なってもよい。 低保磁力層3に書き込まれた情報は低保磁力層3と交換
結合している高保磁力層2に保持される。情報読み出し
時には該情報は高保磁力層2からの交換力によって保持
された低保磁力層3から読み出される。
よって局部的に補償点近傍に加熱し、高保磁力層2とと
もに低保磁力層3に情報の書き込みを行なってもよい。 低保磁力層3に書き込まれた情報は低保磁力層3と交換
結合している高保磁力層2に保持される。情報読み出し
時には該情報は高保磁力層2からの交換力によって保持
された低保磁力層3から読み出される。
【0019】以下に本発明を更に具体的に説明するため
の実施例について述べる。
の実施例について述べる。
【0020】実施例
次の記録体10を構成する。
基材1……1mm厚ガラス板
高保磁力層2……Tb−Fe非晶質合金、膜厚 500
Å、保磁力Hc≒10KOe、キュリー点 120〜
130℃、低保磁力層3……Gd−Fe非晶質合金、膜
厚 300Å、保磁力Hc< 0.5KOe、カー回転
力θk≒36′(6328 Å) 、キュリ−点 21
0〜 220℃ 透明保護層4……酸化珪素 上記高保磁力層2および低保磁力層3は蒸着によって形
成される。
Å、保磁力Hc≒10KOe、キュリー点 120〜
130℃、低保磁力層3……Gd−Fe非晶質合金、膜
厚 300Å、保磁力Hc< 0.5KOe、カー回転
力θk≒36′(6328 Å) 、キュリ−点 21
0〜 220℃ 透明保護層4……酸化珪素 上記高保磁力層2および低保磁力層3は蒸着によって形
成される。
【0021】上記構成の記録体10には出力 5mWH
e−Ne気体レ一ザーを使用してバイアス磁界 100
Oeにて情報書き込みを行なう。図4に示すように光照
射時間 1μ秒で2μm径の Bit記録、 0.5μ
秒で 1μm径の Bit記録が行われる。図5に示す
ように記録体10に記録された情報は 1KOeの外部
磁界のもとでは約 120℃まで安定であった。
e−Ne気体レ一ザーを使用してバイアス磁界 100
Oeにて情報書き込みを行なう。図4に示すように光照
射時間 1μ秒で2μm径の Bit記録、 0.5μ
秒で 1μm径の Bit記録が行われる。図5に示す
ように記録体10に記録された情報は 1KOeの外部
磁界のもとでは約 120℃まで安定であった。
【0022】上記構成の記録体10における低保磁力層
3の反転磁Heを測定したところ、約 5KOeとなり
低保磁力層3単層膜の保磁力 0.5KOe以下に比し
て一桁ほど保磁力が増大している。
3の反転磁Heを測定したところ、約 5KOeとなり
低保磁力層3単層膜の保磁力 0.5KOe以下に比し
て一桁ほど保磁力が増大している。
【0023】比較例
上記構成の記録体10の高保磁力層2と低保磁力層3と
の間に 100Åの酸化珪素層を介在させた記録体を作
成した。該記録体においては酸化珪素層の介在により高
保磁力層2と低保磁力層3とは静磁結合している。該記
録体について実施例と同様な記録を行なったが、室温に
おいて25Oeの外部磁界のもとで既に不安定であった
。
の間に 100Åの酸化珪素層を介在させた記録体を作
成した。該記録体においては酸化珪素層の介在により高
保磁力層2と低保磁力層3とは静磁結合している。該記
録体について実施例と同様な記録を行なったが、室温に
おいて25Oeの外部磁界のもとで既に不安定であった
。
【0024】
【発明の効果】本発明の記録担体はかくして次のような
利点を有するものである。 1.低キュリー点を有する高保磁力層の存在により小さ
な書き込みパワーが適用出来る。更に書き込み速度(B
it Rate)が速くなる。また低保磁力層との交換
結合によって低保磁力層の実効保磁力を増大せしめるこ
とにより、外部磁界および温度変化に対して書き込まれ
た情報が安定であり、かつ記録担体の組成についてのマ
ージンが大きくとれる。更に垂直磁化であることにより
光ディスク程度までの高密度の記録が可能である。 2.上記高保磁力層と交換結合している高キュリ一点を
有する低保磁力層の存在により、情報読み出しが低保磁
力層において行われ、読み出し時のSN比は良好なもの
が得られる。
利点を有するものである。 1.低キュリー点を有する高保磁力層の存在により小さ
な書き込みパワーが適用出来る。更に書き込み速度(B
it Rate)が速くなる。また低保磁力層との交換
結合によって低保磁力層の実効保磁力を増大せしめるこ
とにより、外部磁界および温度変化に対して書き込まれ
た情報が安定であり、かつ記録担体の組成についてのマ
ージンが大きくとれる。更に垂直磁化であることにより
光ディスク程度までの高密度の記録が可能である。 2.上記高保磁力層と交換結合している高キュリ一点を
有する低保磁力層の存在により、情報読み出しが低保磁
力層において行われ、読み出し時のSN比は良好なもの
が得られる。
【図1】本発明の熱磁気記録担体を用いた記録体の一実
施例の部分側断面図。
施例の部分側断面図。
【図2】情報書き込みの際の一実施例の概略図。
【図3】情報読み出しの際の一実施例の概略図。
【図4】実施例における光照射時間と記録された Bi
t径との関係を示し、縦軸に Bit径(μm)、横軸
に光照射時間(sec) をとる。
t径との関係を示し、縦軸に Bit径(μm)、横軸
に光照射時間(sec) をとる。
【図5】情報が消去される消去外部磁場と温度との関係
を示し、縦軸に消去外部磁場(KOe)、横軸に温度(
℃)をとる。
を示し、縦軸に消去外部磁場(KOe)、横軸に温度(
℃)をとる。
2 高保磁力層
3 低保磁力層
図4及び図5のグラフにおいて黒丸はGd−Fe層、白
抜き丸はTb−Fe層を示す。
抜き丸はTb−Fe層を示す。
Claims (2)
- 【請求項1】 集束したレーザー光によってキュリー
点近傍に第1の層を加熱して情報の書き込みを行ない、
集束したレーザー光を第2の層に照射することによって
情報の読み出しを行なうようにした前記第1の層と第2
の層とを基板上に設けてなる熱磁気記録担体であって、
前記第1の層はランタニド−遷移金属より構成される低
キュリー点で且つ高保磁力を有し、前記第2の層はラン
タニド−遷移金属より構成され高キュリー点で且つ低保
磁力を有し、前記第1の層と第2の層とは交換結合され
ていて、前記第1の層と第2の層とで構成される記録層
の上に保護層を設けたことを特徴とする熱磁気記録担体
。 - 【請求項2】 特許請求の範囲請求項1に記載される
熱磁気記録担体に、集束したレーザー光によってキュリ
ー点近傍に前記第1の層を加熱して情報の書き込みを行
ない、集束したレーザー光を前記第2の層に照射するこ
とによって情報の読み出しを行なう事を特徴とする熱磁
気記録再生方式。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12372891A JPH04228133A (ja) | 1991-05-28 | 1991-05-28 | 熱磁気記録方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12372891A JPH04228133A (ja) | 1991-05-28 | 1991-05-28 | 熱磁気記録方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55154291A Division JPS5778652A (en) | 1980-11-01 | 1980-11-01 | Thermal magnetic recording carrier and thermal magnetic recording system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04228133A true JPH04228133A (ja) | 1992-08-18 |
Family
ID=14867889
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12372891A Pending JPH04228133A (ja) | 1991-05-28 | 1991-05-28 | 熱磁気記録方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04228133A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112530465A (zh) * | 2019-09-19 | 2021-03-19 | 株式会社东芝 | 磁盘装置以及写处理方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55154291A (en) * | 1979-05-14 | 1980-12-01 | Tokyo Tatsuno Kk | Oil feeder |
JPS56153546A (en) * | 1980-04-28 | 1981-11-27 | Ricoh Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1991
- 1991-05-28 JP JP12372891A patent/JPH04228133A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55154291A (en) * | 1979-05-14 | 1980-12-01 | Tokyo Tatsuno Kk | Oil feeder |
JPS56153546A (en) * | 1980-04-28 | 1981-11-27 | Ricoh Co Ltd | Magnetic recording medium |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112530465A (zh) * | 2019-09-19 | 2021-03-19 | 株式会社东芝 | 磁盘装置以及写处理方法 |
CN112530465B (zh) * | 2019-09-19 | 2022-05-31 | 株式会社东芝 | 磁盘装置以及写处理方法 |
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