JPH04225982A - 新規なフルオラン化合物の製造方法 - Google Patents
新規なフルオラン化合物の製造方法Info
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- JPH04225982A JPH04225982A JP3104485A JP10448591A JPH04225982A JP H04225982 A JPH04225982 A JP H04225982A JP 3104485 A JP3104485 A JP 3104485A JP 10448591 A JP10448591 A JP 10448591A JP H04225982 A JPH04225982 A JP H04225982A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B11/00—Diaryl- or thriarylmethane dyes
- C09B11/04—Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
- C09B11/10—Amino derivatives of triarylmethanes
- C09B11/24—Phthaleins containing amino groups ; Phthalanes; Fluoranes; Phthalides; Rhodamine dyes; Phthaleins having heterocyclic aryl rings; Lactone or lactame forms of triarylmethane dyes
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、感熱記録紙や感圧記録
紙等の発色性記録材料における発色性染料として有用で
ある新規なフルオラン化合物の製造方法に関する。
紙等の発色性記録材料における発色性染料として有用で
ある新規なフルオラン化合物の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば、特開昭62−16175
0号公報に記載されているように、感熱記録紙や感圧記
録紙等の記録材料として、発色性染料である種々のフル
オラン化合物が用いられており、また、種々のフルオラ
ン化合物が提案されている。例えば、上記公報には、3
−N−n−プロピルメチル(又はエチル)アミノ−6−
メチル−7−フェニルアミノフルオランが提案されてい
る。これらフルオラン化合物は、o−(4−N−n−プ
ロピルメチルアミノ(又はエチル)−2−ヒドロキシベ
ンゾイル)安息香酸と4−エトキシ−2−メチルジフェ
ニルアミンとの反応によつて得られる。
0号公報に記載されているように、感熱記録紙や感圧記
録紙等の記録材料として、発色性染料である種々のフル
オラン化合物が用いられており、また、種々のフルオラ
ン化合物が提案されている。例えば、上記公報には、3
−N−n−プロピルメチル(又はエチル)アミノ−6−
メチル−7−フェニルアミノフルオランが提案されてい
る。これらフルオラン化合物は、o−(4−N−n−プ
ロピルメチルアミノ(又はエチル)−2−ヒドロキシベ
ンゾイル)安息香酸と4−エトキシ−2−メチルジフェ
ニルアミンとの反応によつて得られる。
【0003】しかし、従来、知られているフルオラン化
合物は、このように、殆どが分子中に単一のフルオラン
構造を有するものである。
合物は、このように、殆どが分子中に単一のフルオラン
構造を有するものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、感熱記録材
料として有用である分子中に二つのフルオラン構造を有
する新規なフルオラン化合物の製造方法を提供すること
を目的とする。
料として有用である分子中に二つのフルオラン構造を有
する新規なフルオラン化合物の製造方法を提供すること
を目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明による新規なフル
オラン化合物の製造方法は、一般式(II)
オラン化合物の製造方法は、一般式(II)
【0006
】
】
【化2】
【0007】(式中、R1及びR2は、それぞれ独立に
炭素数1〜9のアルキル基又は炭素数3〜6のシクロア
ルキル基を示す。)で表わされる芳香族ジケトジカルボ
ン酸と一般式(III)
炭素数1〜9のアルキル基又は炭素数3〜6のシクロア
ルキル基を示す。)で表わされる芳香族ジケトジカルボ
ン酸と一般式(III)
【0008】
【化3】
【0009】(式中、R3は水素又はアニリノ基を示し
、R4は水素又は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R
5は低級アルキル基を示す。)で表わされる4−アルコ
キシジフェニルアミン誘導体とを反応させることによつ
て、一般式(I)
、R4は水素又は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R
5は低級アルキル基を示す。)で表わされる4−アルコ
キシジフェニルアミン誘導体とを反応させることによつ
て、一般式(I)
【0010】
【化1】
【0011】(式中、R1、R2、R3及びR4は、前
記と同じである。)で表わされるフルオラン化合物を得
るものである。前記一般式(II)で表わされる芳香族
ジケトジカルボン酸は、新規な化合物であつて、一般式
(IV)
記と同じである。)で表わされるフルオラン化合物を得
るものである。前記一般式(II)で表わされる芳香族
ジケトジカルボン酸は、新規な化合物であつて、一般式
(IV)
【0012】
【化4】
【0013】(式中、R1及びR2は前記と同じである
。)で表わされるm−アミノフェノール誘導体と無水ピ
ロメリット酸(二無水物)を反応させることによつて得
ることができる。上記一般式(IV)で表わされるm−
アミノフェノール誘導体と無水ピロメリット酸(二無水
物)との反応は、通常、無水ピロメリット酸とこれに対
してほぼ2倍モル量のm−アミノフエノール誘導体とを
トルエン、キシレン、メシチレン、メチルイソブチルケ
トン、アセトン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジフェニル
エーテル、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等の有機溶剤中、攪拌することによつて行なわ
れる。
。)で表わされるm−アミノフェノール誘導体と無水ピ
ロメリット酸(二無水物)を反応させることによつて得
ることができる。上記一般式(IV)で表わされるm−
アミノフェノール誘導体と無水ピロメリット酸(二無水
物)との反応は、通常、無水ピロメリット酸とこれに対
してほぼ2倍モル量のm−アミノフエノール誘導体とを
トルエン、キシレン、メシチレン、メチルイソブチルケ
トン、アセトン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジフェニル
エーテル、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等の有機溶剤中、攪拌することによつて行なわ
れる。
【0014】反応には、必要に応じて、無水塩化亜鉛、
四塩化チタン、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素等の
ようなルイス酸や、硫酸、リン酸等の鉱酸を触媒として
用いてもよい。このような触媒は、通常、無水ピロメリ
ット酸1モルに対して1〜10モル、好ましくは2〜8
モルの範囲で用いられる。反応は、通常、常圧又は加圧
下に温度30〜160℃、好ましくは40〜120℃で
4〜24時間、好ましくは8〜20時間にわたつて行な
われる。反応温度は、特に好ましくは還流温度である。
四塩化チタン、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素等の
ようなルイス酸や、硫酸、リン酸等の鉱酸を触媒として
用いてもよい。このような触媒は、通常、無水ピロメリ
ット酸1モルに対して1〜10モル、好ましくは2〜8
モルの範囲で用いられる。反応は、通常、常圧又は加圧
下に温度30〜160℃、好ましくは40〜120℃で
4〜24時間、好ましくは8〜20時間にわたつて行な
われる。反応温度は、特に好ましくは還流温度である。
【0015】反応終了後、溶剤を減圧下に留去し、得ら
れた固体を濾過し、洗浄すれば、上記芳香族ジケトジカ
ルボン酸を得ることができる。例えば、上記m−アミノ
フェノール誘導体として、既に知られている化合物であ
るm−N,N−ジエチルアミノフェノールを用いて、無
水ピロメリット酸(二無水物)と反応させることによつ
て、2,5−ビス(4’−N,N−ジエチルアミノ)−
2’−ヒドロキシベンゾイル)テレフタル酸を得ること
ができる。
れた固体を濾過し、洗浄すれば、上記芳香族ジケトジカ
ルボン酸を得ることができる。例えば、上記m−アミノ
フェノール誘導体として、既に知られている化合物であ
るm−N,N−ジエチルアミノフェノールを用いて、無
水ピロメリット酸(二無水物)と反応させることによつ
て、2,5−ビス(4’−N,N−ジエチルアミノ)−
2’−ヒドロキシベンゾイル)テレフタル酸を得ること
ができる。
【0016】前記一般式(I)において、R1及びR2
は、それぞれ独立に、例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、オクチル基等のアルキル基又はシ
クロヘキシル基等のシクロアルキル基を示すが、特に、
メチル基、エチル基、ブチル基等の低級アルキル基やシ
クロヘキシル基が好ましい。R3は水素又はアニリノ基
を示す。また、R4は、それぞれ独立に水素又は炭素数
1〜4のアルキル基を示し、好ましくは水素又はメチル
基を示す。
は、それぞれ独立に、例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、オクチル基等のアルキル基又はシ
クロヘキシル基等のシクロアルキル基を示すが、特に、
メチル基、エチル基、ブチル基等の低級アルキル基やシ
クロヘキシル基が好ましい。R3は水素又はアニリノ基
を示す。また、R4は、それぞれ独立に水素又は炭素数
1〜4のアルキル基を示し、好ましくは水素又はメチル
基を示す。
【0017】次に、前記一般式(I)で表わされるフル
オラン化合物の製造方法について説明する。前記一般式
(II)で表わされる芳香族ジケトジカルボン酸と前記
一般式(III)で表わされる4−アルコキシジフェニ
ルアミン誘導体との反応は、芳香族ジケトジカルボン酸
とこれに対してほぼ2倍モル量の4−アルコキシジフェ
ニルアミン誘導体とを不活性気体雰囲気下に濃硫酸の存
在下に攪拌することによつて行なわれる。
オラン化合物の製造方法について説明する。前記一般式
(II)で表わされる芳香族ジケトジカルボン酸と前記
一般式(III)で表わされる4−アルコキシジフェニ
ルアミン誘導体との反応は、芳香族ジケトジカルボン酸
とこれに対してほぼ2倍モル量の4−アルコキシジフェ
ニルアミン誘導体とを不活性気体雰囲気下に濃硫酸の存
在下に攪拌することによつて行なわれる。
【0018】前記一般式(III)で表わされる4−ア
ルコキシジフェニルアミン誘導体は、目的とするフルオ
ラン化合物に応じて、例えば、4−メトキシジフェニル
アミン、4−メトキシ−2−メチルジフェニルアミン、
4−メトキシ−4’−アニリノジフェニルアミン、4−
メトキシ−2−メチル−4’−アニリノジフェニルアミ
ン等が用いられる。
ルコキシジフェニルアミン誘導体は、目的とするフルオ
ラン化合物に応じて、例えば、4−メトキシジフェニル
アミン、4−メトキシ−2−メチルジフェニルアミン、
4−メトキシ−4’−アニリノジフェニルアミン、4−
メトキシ−2−メチル−4’−アニリノジフェニルアミ
ン等が用いられる。
【0019】反応は、通常、30〜100℃、好ましく
は40〜100℃の温度で5〜20時間行なわれる。ま
た、必要に応じて、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、アセトニトリル等
の有機溶剤の存在下に四塩化チタン、三フッ化ホウ素、
塩化亜鉛等の触媒を用いて、反応を行なうこともできる
。このような触媒は、通常、前記芳香族ジケトジカルボ
ン酸1モルに対して1〜20モル、好ましくは2〜10
モルの範囲で用いられる。
は40〜100℃の温度で5〜20時間行なわれる。ま
た、必要に応じて、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、アセトニトリル等
の有機溶剤の存在下に四塩化チタン、三フッ化ホウ素、
塩化亜鉛等の触媒を用いて、反応を行なうこともできる
。このような触媒は、通常、前記芳香族ジケトジカルボ
ン酸1モルに対して1〜20モル、好ましくは2〜10
モルの範囲で用いられる。
【0020】反応終了後、得られた反応混合物を氷水に
投入し、濾過し、固形物にアルカリを加えて中和し、ト
ルエンで洗浄すれば、本発明によるフルオラン化合物を
得ることができる。本発明によるフルオラン化合物は、
分子内に二つの不斉炭素原子を有するので、四つの立体
異性体からなる。これら立体異性体は、相互に光学対掌
体である第一の一対と第二の一対の二組からなり、第一
の一対のなかの一つの化合物と第二の一対のなかの一つ
の化合物は、相互にジアステレオマーである。よく知ら
れているように、相互に光学異性体でないジアステレオ
マーは、旋光性の絶対値は勿論、融点、溶解度等を含む
すべての物理的性質が異なる。このように、本発明によ
るフルオラン化合物は、ジアステレオマーを含む立体異
性体の混合物として得られるが、単一の立体異性体又は
その混合物を意味するものとする。尚、本発明によるフ
ルオラン化合物を感熱記録材料として用いるには、混合
物であることは何ら支障ではない。
投入し、濾過し、固形物にアルカリを加えて中和し、ト
ルエンで洗浄すれば、本発明によるフルオラン化合物を
得ることができる。本発明によるフルオラン化合物は、
分子内に二つの不斉炭素原子を有するので、四つの立体
異性体からなる。これら立体異性体は、相互に光学対掌
体である第一の一対と第二の一対の二組からなり、第一
の一対のなかの一つの化合物と第二の一対のなかの一つ
の化合物は、相互にジアステレオマーである。よく知ら
れているように、相互に光学異性体でないジアステレオ
マーは、旋光性の絶対値は勿論、融点、溶解度等を含む
すべての物理的性質が異なる。このように、本発明によ
るフルオラン化合物は、ジアステレオマーを含む立体異
性体の混合物として得られるが、単一の立体異性体又は
その混合物を意味するものとする。尚、本発明によるフ
ルオラン化合物を感熱記録材料として用いるには、混合
物であることは何ら支障ではない。
【0021】
【発明の効果】本発明によれば、分子内に対称的に二組
のフルオラン構造を有するフルオランを化合物を得るこ
とができ、かかるフルオラン化合物は、新規な感熱記録
材料として有用である。
のフルオラン構造を有するフルオランを化合物を得るこ
とができ、かかるフルオラン化合物は、新規な感熱記録
材料として有用である。
【0022】
【実施例】以下に実施例及び前記芳香族ジケトジカルボ
ン酸の製造を示す参考例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるも
のではない。参考例1 m−N,N−ジエチルアミノフェノール18gと無水ピ
ロメリット酸(二無水物)12gをトルエン350gに
加え、攪拌下に18時間、加熱還流した。この後、得ら
れた反応混合物を冷却し、ロータリー・エバポレータに
てトルエンを留去し、乾固した。
ン酸の製造を示す参考例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるも
のではない。参考例1 m−N,N−ジエチルアミノフェノール18gと無水ピ
ロメリット酸(二無水物)12gをトルエン350gに
加え、攪拌下に18時間、加熱還流した。この後、得ら
れた反応混合物を冷却し、ロータリー・エバポレータに
てトルエンを留去し、乾固した。
【0023】得られた乾固物をジエチルエーテル100
mlに加えて、スラリーとし、洗浄した後、濾過して、
固体26.2gを得た。この固体を洗浄メタノールが無
色になるまで、スラリー洗浄を繰返して、2,5−ビス
(4’−N,N−ジエチルアミノ)−2’−ヒドロキシ
ベンゾイル)テレフタル酸2.3g(収率7.7%)を
薄茶色結晶として得た。HLC純度は99%以上であつ
た。 融点 307℃(分解) 質量分析 分子量 549 プロトン核磁気共鳴スペクトルを図1に示す。帰属は以
下のとおりである。
mlに加えて、スラリーとし、洗浄した後、濾過して、
固体26.2gを得た。この固体を洗浄メタノールが無
色になるまで、スラリー洗浄を繰返して、2,5−ビス
(4’−N,N−ジエチルアミノ)−2’−ヒドロキシ
ベンゾイル)テレフタル酸2.3g(収率7.7%)を
薄茶色結晶として得た。HLC純度は99%以上であつ
た。 融点 307℃(分解) 質量分析 分子量 549 プロトン核磁気共鳴スペクトルを図1に示す。帰属は以
下のとおりである。
【0024】
【化5】
【0025】赤外線吸収スペクトル(cm−1)340
0: OH 2300−3600: OH (COOH)1710:
C=O (COOH) 1630: C=O 実施例1 2,5−ビス(4’−N,N−ジエチルアミノ)−2’
−ヒドロキシベンゾイル)テレフタル酸0.58gと4
−メトキシ−2−メチルジフェニルアミン0.45gを
97%硫酸20ml中に加え、窒素雰囲気下、室温で1
0時間攪拌した。この後、得られた反応混合物を氷水中
に加え、析出物を濾過し、これに水酸化ナトリウム水溶
液を加え、室温で30分間攪拌した。次いで、固形物を
濾過し、トルエンにリスラリーし、濾過、乾燥させて、
前記一般式(I)において、R1及びR2が共にエチル
基であり、R3が水素であり、R4がメチル基であるフ
ルオラン化合物を得た。
0: OH 2300−3600: OH (COOH)1710:
C=O (COOH) 1630: C=O 実施例1 2,5−ビス(4’−N,N−ジエチルアミノ)−2’
−ヒドロキシベンゾイル)テレフタル酸0.58gと4
−メトキシ−2−メチルジフェニルアミン0.45gを
97%硫酸20ml中に加え、窒素雰囲気下、室温で1
0時間攪拌した。この後、得られた反応混合物を氷水中
に加え、析出物を濾過し、これに水酸化ナトリウム水溶
液を加え、室温で30分間攪拌した。次いで、固形物を
濾過し、トルエンにリスラリーし、濾過、乾燥させて、
前記一般式(I)において、R1及びR2が共にエチル
基であり、R3が水素であり、R4がメチル基であるフ
ルオラン化合物を得た。
【0026】質量分析による分子量は874であつた。
上記フルオラン化合物0.5mgを酢酸4mlに溶解し
、UVスペクトル分析を行なつた。その結果、図2に示
すように、461nm及び580nmに吸収を有する。 また、プロトン核磁気共鳴スペクトルを図3に示す。帰
属は以下のとおりである。
、UVスペクトル分析を行なつた。その結果、図2に示
すように、461nm及び580nmに吸収を有する。 また、プロトン核磁気共鳴スペクトルを図3に示す。帰
属は以下のとおりである。
【0027】
【化6】
【0028】実施例2
2,5−ビス(4’−N,N−ジエチルアミノ)−2’
−ヒドロキシベンゾイル)テレフタル酸0.58gと4
−メトキシジフェニルアミン0.44gを97%硫酸2
0ml中に加え、窒素雰囲気下に室温で10時間、攪拌
した。次いで、得られた反応混合物を氷水中に加え、析
出物を濾過し、これに水酸化ナトリウム水溶液を加え、
室温で30分間攪拌した。この後、固形物を濾過し、ト
ルエンにリスラリーし、濾過、乾燥させて、前記一般式
(I)において、R1及びR2が共にエチル基であり、
R3が水素であり、R4が水素であるフルオラン化合物
を得た。
−ヒドロキシベンゾイル)テレフタル酸0.58gと4
−メトキシジフェニルアミン0.44gを97%硫酸2
0ml中に加え、窒素雰囲気下に室温で10時間、攪拌
した。次いで、得られた反応混合物を氷水中に加え、析
出物を濾過し、これに水酸化ナトリウム水溶液を加え、
室温で30分間攪拌した。この後、固形物を濾過し、ト
ルエンにリスラリーし、濾過、乾燥させて、前記一般式
(I)において、R1及びR2が共にエチル基であり、
R3が水素であり、R4が水素であるフルオラン化合物
を得た。
【0029】質量分析による分子量は846であつた。
上記フルオラン化合物0.5mgを酢酸4mlに溶解し
、UVスペクトル分析を行なつた。その結果、図4に示
すように、448nm及び603nmに吸収を有する。
、UVスペクトル分析を行なつた。その結果、図4に示
すように、448nm及び603nmに吸収を有する。
【図1】は、本発明によるフルオラン化合物の製造に際
して原料物質として用いる2,5−ビス(4’−N,N
−ジエチルアミノ)−2’−ヒドロキシベンゾイル)テ
レフタル酸のプロトン核磁気共鳴スペクトルを示す。
して原料物質として用いる2,5−ビス(4’−N,N
−ジエチルアミノ)−2’−ヒドロキシベンゾイル)テ
レフタル酸のプロトン核磁気共鳴スペクトルを示す。
【図2】は、一般式(I)において、R1及びR2が共
にエチル基であり、R3が水素であり、R4がメチル基
であるフルオラン化合物の紫外線吸収スペクトルを示し
、
にエチル基であり、R3が水素であり、R4がメチル基
であるフルオラン化合物の紫外線吸収スペクトルを示し
、
【図3】は、そのプロトン核磁気共鳴スペクトルを示
す。
す。
【図4】は、一般式(I)において、R1及びR2が共
にエチル基であり、R3及びR4が共に水素であるフル
オラン化合物の紫外線吸収スペクトルを示す。
にエチル基であり、R3及びR4が共に水素であるフル
オラン化合物の紫外線吸収スペクトルを示す。
Claims (5)
- 【請求項1】一般式(II) 【化2】 (式中、R1及びR2は、それぞれ独立に炭素数1〜9
のアルキル基又は炭素数3〜6のシクロアルキル基を示
す。)で表わされる芳香族ジケトジカルボン酸と一般式
(III) 【化3】 (式中、R3は水素又はアニリノ基を示し、R4は水素
又は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R5は低級アル
キル基を示す。)で表わされる4−アルコキシジフェニ
ルアミン誘導体とを反応させることを特徴とする一般式
(I)【化1】 (式中、R1、R2、R3及びR4は、前記と同じであ
る。)で表わされるフルオラン化合物の製造方法。 - 【請求項2】R1及びR2が共にエチル基であり、R3
が水素であり、R4が水素であることを特徴とする請求
項1記載のフルオラン化合物の製造方法。 - 【請求項3】R1及びR2が共にエチル基であり、R3
が水素であり、R4がメチル基であることを特徴とする
請求項1記載のフルオラン化合物の製造方法。 - 【請求項4】R1及びR2が共にエチル基であり、R3
がアニリノ基であり、R4が水素であることを特徴とす
る請求項1記載のフルオラン化合物の製造方法。 - 【請求項5】R1及びR2が共にエチル基であり、R3
がアニリノ基であり、R4がメチル基であることを特徴
とする請求項1記載のフルオラン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3104485A JP3030473B2 (ja) | 1990-05-11 | 1991-05-09 | 新規なフルオラン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2-121784 | 1990-05-11 | ||
JP12178490 | 1990-05-11 | ||
JP2-150344 | 1990-06-08 | ||
JP15034490 | 1990-06-08 | ||
JP3104485A JP3030473B2 (ja) | 1990-05-11 | 1991-05-09 | 新規なフルオラン化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04225982A true JPH04225982A (ja) | 1992-08-14 |
JP3030473B2 JP3030473B2 (ja) | 2000-04-10 |
Family
ID=27310238
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3104485A Expired - Fee Related JP3030473B2 (ja) | 1990-05-11 | 1991-05-09 | 新規なフルオラン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3030473B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104823106A (zh) * | 2012-12-28 | 2015-08-05 | 第一毛织株式会社 | 用于硬掩膜组合物的单体、含有所述单体的硬掩膜组合物及使用所述硬掩膜组合物的图案形成方法 |
-
1991
- 1991-05-09 JP JP3104485A patent/JP3030473B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104823106A (zh) * | 2012-12-28 | 2015-08-05 | 第一毛织株式会社 | 用于硬掩膜组合物的单体、含有所述单体的硬掩膜组合物及使用所述硬掩膜组合物的图案形成方法 |
US20150301446A1 (en) * | 2012-12-28 | 2015-10-22 | Cheil Industries Inc. | Monomer for hardmask composition, hardmask composition including said monomer, and method for forming pattern using said hardmask composition |
US9671688B2 (en) * | 2012-12-28 | 2017-06-06 | Cheil Industries, Inc. | Monomer for hardmask composition, hardmask composition including said monomer, and method for forming pattern using said hardmask composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3030473B2 (ja) | 2000-04-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |