JPH04225957A - シクロヘキセノンオキシムエーテル、およびそれを含有する除草剤 - Google Patents

シクロヘキセノンオキシムエーテル、およびそれを含有する除草剤

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JPH04225957A
JPH04225957A JP3101241A JP10124191A JPH04225957A JP H04225957 A JPH04225957 A JP H04225957A JP 3101241 A JP3101241 A JP 3101241A JP 10124191 A JP10124191 A JP 10124191A JP H04225957 A JPH04225957 A JP H04225957A
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ノルベルト、ゲツ
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アルブレヒト、ハロイス
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トーマス、キュッケンヘーナー
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ブルーノ、ヴュルツァー
Helmut Dr Walter
ヘルムート、ヴァルター
Karl-Otto Westphalen
カール−オットー、ヴェストファレン
Matthias Gerber
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規の除草活性を有する
次式Iのシクロヘキセノンオキシムエーテル、並びにそ
の農業上使用できるC1−C10−カルボン酸および無
機酸との塩およびエステルに係るものであり、
【000
2】
【化2】 ただし、式中の置換基は以下の意味を有している:R1
がC1−C6−アルキル基;A  がC2−C6−アル
キレンまたはC3−C6−アルケニレンであり、ここで
これらの基は1個乃至3個のC1−C3−アルキル基、
ハロゲン原子を有することができ;Z  が3個の窒素
原子および1個の酸素原子または硫黄原子からなる群か
ら選ばれる1個乃至3個のヘテロ原子を有する5員のヘ
テロ芳香族環、1個乃至4個の窒素原子を有する6員の
ヘテロ芳香族環;X  が−NRaRbアミノ基であり
、ここにおいてRaが水素、C1−C4−アルキル基、
C3−C6−アルケニル基またはC3−C6−アルキニ
ル基であり、およびRbが水素、C1−C4−アルキル
基、C3−C6−アルケニル基、C3−C6−アルキニ
ル基、C1−C6−アシル基またはベンゾイル基であり
、ここで芳香族環はなお1個乃至3個の以下の置換基、
即ちニトロ、シアノ、ハロゲン、C1−C4−アルキル
、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオ
およびC1−C4−ハロゲンアルキルを有することがで
き、またはニトロ、シアノ、ハロゲン、C1−C4−ア
ルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキ
ルチオ、C1−C4−ハロゲンアルキル、C1−C4−
ハロゲンアルコキシ、カルボキシル、C1−C4−アル
コキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、フェニ
ルであり、ここで芳香族基はなお1個乃至3個の以下の
置換基、即ちニトロ、シアノ、ハロゲン、C1−C4−
アルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アル
キルチオ、C1−C4−ハロゲン  アルキル、C1−
C4−ハロゲンアルキルオキシ、カルボキシル、C1−
C4−アルコキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ルを有することができ;n  は0乃至3またはZがハ
ロゲン置換ピリジル基を意味している時には1乃至4;
R2がC1−C4−アルコキシ−C1−C6−アルキル
基またはC1−C4−アルキルチオ−C1−C6−アル
キル基;C3−C7−シクロアルキル基またはC5−C
7−シクロアルケニル基であり、ここでこれらの基がな
おC1−C4−アルキル、C1−C4−アルコキシ、C
1−C4−アルキルチオ、C1−C4−ハロゲンアルキ
ル、ヒドロキシおよびハロゲンからなる群から選ばれる
1個乃至3個の基を有することができ;酸素および硫黄
から選ばれる1個または2個のヘテロ原子を含む5員の
飽和複素環基であり、ここでなおこの複素環基はC1−
C4−アルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4
−アルキルチオおよびC1−C4−ハロゲンアルキルか
ら選ばれる1個乃至3個の基を有することができ;酸素
および硫黄から選ばれる1個または2個のヘテロ原子を
含む6員環または7員環の飽和または1個または2個の
不飽和結合を含む複素環基であり、ここでこの複素環基
がなおヒドロキシ、ハロゲン、C1−C4−アルキル、
C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオお
よびC1−C4−ハロゲンアルキルからなる群から選ば
れる1個乃至3個の基を有することができ;2個の窒素
原子および1個の酸素原子または硫黄原子からなる群か
ら選ばれる1個乃至3個のヘテロ原子を含む5員のヘテ
ロ芳香族環基であり、ここでこの環基がなおハロゲン、
シアノ、C1−C4−アルキル、C1−C4−アルコキ
シ、C1−C4−アルキルチオ、C1−C4−ハロゲン
アルキル、C2−C6−アルケニル、C2−C6−アル
ケニルオキシ、C2−C6−ハロゲンアルケニルおよび
C1−C4−アルコキシ−C1−C4−アルキルからな
る群から選ばれる1個乃至3個の基を有することができ
;フェニル基またはピリジル基であり、この基がなおハ
ロゲン、ニトロ、シアノ、C1−C4−アルキル、C1
−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオ、C1
−C4−ハロゲンアルキル、C3−C6−アルケニルオ
キシ、C3−C6−アルキニルオキシ、C1−C4−ア
ルコキシ−C1−C4−アルキルおよびRaとRbが上
述の意味を有している−NRaRb基からなる群から選
ばれる1個乃至3個の基を有することができる。
【0003】このほかに、本発明は式(I)のシクロヘ
キセノンオキシムエーテルの製造方法およびその中間体
、並びにその農薬としての使用法に係るものである。
【0004】本発明のシクロヘキセノンIは明らかに酸
性であり、即ちアルカリ化合物またはアルカリ土類化合
物との塩生成による簡単な反応生成物またはエノールエ
ステルを生成することができる。
【0005】式Iの化合物は多くの互変異性体として表
現されることができ、これらのすべては特許請求範囲に
含まれている。
【0006】
【従来の技術】文献には一般式I′のシクロヘキセノン
が、除草剤として記載されており
【0007】
【化3】 ここにおいては特に、 −  DがベンジルおよびEが2−エチルチオプロピル
(米国特許第4440566号); −  Dがベンジル、ブテニル−2およびEが置換5員
ヘテロ芳香族環基(欧州特許公開公報第238021号
、欧州特許公開公報第125094号);−  Dがベ
ンジル、ブテニル−2およびEが置換フェニル(欧州特
許公開公報第80301号);−  Dがブテニル−2
およびEが2個までの酸素原子、硫黄原子を有し、2個
までの二重結合を有する5員乃至7員の複素環基(欧州
特許公開公報第218233号)を意味している。
【0008】
【発明の目的】しかしながら、少量の使用量で高い選択
性を示す、即ち栽培植物を害することなしに望ましくな
い植物を除草する化合物が求められており、本発明はこ
れを達成することを目的としている。
【0009】
【発明の構成】この使命に対応して、式Iの新規シクロ
ヘキセノンオキシムエーテルが見出されたものであり、
これは望ましくない草類に対して優れた除草効果を示し
ている。同化合物は、広葉栽培植物並びにコメ等の禾本
科植物の数種類には障害を与えない。
【0010】式Iのシクロヘキセノンは、既知方法によ
り式IIの既知誘導体(欧州特許公開公報第80301
号、欧州特許公開公報第125094号、欧州特許公開
公報第142741号、米国特許第4249937号、
欧州特許公開公報第137174号および欧州特許公開
公報第177913号)および式IIIの対応するヒド
ロキシルアミン[フーベンバイル(Houben−We
yl),10/1  S.1181頁以下]から製造す
ることができる(欧州特許公開公報第169521号)
【0011】
【化4】 この反応は、溶剤中の不均質相における反応で約80℃
以下の温度で十分に、塩基の存在においてヒドロキシル
アミンIIIをアンモニウム塩の形で使用して、実施さ
れる。
【0012】適当な塩基としては、例えば炭酸塩、炭酸
水素塩、酢酸塩、アルカリ金属またはアルカリ土類金属
のアルコラートまたはオキシド、特に水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム
が使われる。このほかに、有機塩基例えばピリジンまた
は三級アミンも使用することができる。塩基は、例えば
アンモニウム化合物当りで、0.5乃至2モル−当量の
量で加えられる。
【0013】溶剤としては、例えばジメチルスルホキシ
ド;アルコール例えばメタノール、エタノールおよびイ
ソプロパノール;芳香族炭化水素例えばベンゾールおよ
びトルオール;塩素化炭化水素例えばクロロホルムおよ
びジクロルエタン;脂肪族炭化水素例えばヘキサンおよ
びシクロヘキサン;エステル例えば酢酸エチルエステル
およびエーテル例えばジエチルエーテル、ジオキサンお
よびテトラヒドロフラン等が好適である。特に好適には
、メタノール中において炭酸水素ナトリウムを塩基とし
て反応を実施する。
【0014】反応は数時間後に完了する。目的化合物は
、例えば混合物の濃縮後に残渣を塩化メチレン/水中に
分散し、溶剤を減圧下に留去して単離することができる
【0015】しかしまたこの反応に対して、遊離のヒド
ロキシルアミンを例えば水溶液の形で直接使用すること
もできる;化合物IIに対する使用溶剤によっては、単
相または二相の反応混合物を得る。
【0016】このような変法に対する適当な溶剤として
は、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール
およびシクロヘキサノール等のアルコール類、脂肪族お
よび芳香族、必要によっては塩素化炭化水素例えばヘキ
サン、シクロヘキサン、塩化メチレン、トルオールおよ
びジクロルエタン;エステル例えば酢酸エチルエステル
;ニトリル例えばアセトニトリルおよび環状エーテル例
えばジオキサンおよびテトラヒドロフラン等がある。
【0017】化合物Iのアルカリ金属塩は、3−ヒドロ
キシ化合物を、水溶液中またはメタノール、エタノール
、アセトンおよびトルオール等の有機溶剤中で水酸化ナ
トリウムまたは水酸化カリウムあるいはナトリウムアル
コラートまたはカリウムアルコラートと反応させること
により得られることができる。
【0018】他の金属塩、例えばマンガン塩、銅塩、亜
鉛塩、鉄塩、カルシウム塩、マグネシウム塩およびバリ
ウム塩は、常法によりナトリウム塩から製造することが
でき、同様にアンモニウム塩およびホスホニウム塩は、
アンモニア、ホスホニウム−,スルホニウム−またはス
ルホオキソニウムヒドロキシドによって製造することが
できる。
【0019】型式IIの化合物は、例えば式IVの対応
するシクロヘキサン−1,3−ジオンにおいて
【002
0】
【化5】 Yが水素またはメトキシカルボニルを意味している化合
物から、既知方法[テトラヘドロンレター(Tetra
hedron  Lett.),2491(1975)
]により製造することができる。
【0021】また式IIの化合物を得るのに、式IVの
化合物を酸クロリドと塩基の存在において反応し、続い
て一定のイミダゾール誘導体またはピリジン誘導体を作
用させて転移させることによりエノールエステルの中間
段階を経て、生成させることができる(日本特許公開公
報第79/063052号)。
【0022】
【化6】 式IVの化合物を得るには、既知の前駆物質から出発し
て一連の既知工程を経て目的物を生成させる。
【0023】ヒドロキシルアミンIIIにおいてAが未
置換のブテニル−3を意味している場合には、その合成
を次の反応式に従って実施する:
【0024】
【化7】 ここでY=置換される出発原料基、例えば塩素、臭素お
よびヨウ素またはCH3SO2−O−基。
【0025】アルキル化剤VIIIは、既知の方法によ
り製造される[参照、″シクロプロピル複素環カルビノ
ールの転移反応(Umlagerung  vonCy
clopropylhetarylcarbinole
n)″:複素環化学誌(J.Heterocycl.C
hem.)14,525(1976),日本特許公開公
報第55051004号、日本特許公開公報第5504
7601号;フーベンバイル:有機化学方法論(Hou
ben−Weyl:Methoden  derOrg
anischen  Chemie),巻4/3,42
4頁以下;複素環″金属化合物と1,w−ジブロムアル
カンのカップリング反応(Kupplungmetal
lierter  Heterocyclen  mi
t  1,w−Dibromalkanen)″:ドイ
ツ特許公開公報第2821409号およびフェミッシェ
ベリヒテ(Chem.Ber.)114,3667およ
び3674(1981)]。
【0026】望ましくは、アルキル化剤VIIIは既知
の方法によりカルビノールVIIから[[素環ヨード化
物、臭化物と1,w−アルカノールのパラジウム触媒存
在下でのカップリング(Kupplung  von 
 Hetaryliodiden,−bromiden
  mit  1,w−Alkanolen  inG
egenwart  von  Palladiumk
atalysatoren):テトラヘドロン(Tet
rahedron)35,329(1979);ケムレ
ター(Chem  Lett.),423(1977)
;フーベンバイル:有機化学方法論(Houben−W
eyl:Methoden  der  Organi
schen  Chemie),巻13/98,964
頁以下)得られることができる[参照。フーベンバイル
:有機化学方法論(Houben−Weyl:Meth
oden  der  Organischen  C
hemie),巻5/3,862頁以下および899頁
以下および同書,巻5/4,361頁以下]。好適には
、アルキル化剤を環状ヒドロキシイミドVとカップリン
グさせて、ここで得られる保護基を持ったヒドロキシル
アミン誘導体VIを例えば2−アミノエタノールで遊離
のヒドロキシルアミンIIIに解離させる。
【0027】環状ヒドロキシイミドVにおいては、Dが
例えばC2−C3−アルキレン、C2−アルケニレンま
たは3個の2重結合および必要ならば1個の窒素原子を
有する5員環または6員環、例えばフェニレン、ピリジ
ニレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレンまたはシ
クロヘキセニレンとなる。例えば以下の物質が考えられ
る:
【0028】
【化8】 化合物VIIIのヒドロキシイミドVとの反応は、合目
的に塩基の存在において実施される。原則的には、ヒド
ロキシイミドVのイミド基を攻撃することなしに脱プロ
トン化する状態にあるすべての塩基が適している。これ
らは、特にいわゆる非求核的塩基である。例えば無機塩
基としては、アルカリ金属炭酸塩およびアルカリ土類炭
酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩およびアルカリ土類金属
炭酸水素塩、有機塩基としては脂肪族、脂環族および芳
香族三級アミンが、適している。これらの塩基の混合物
も、また使用することができる。
【0029】個々の化合物としては例えば以下の塩基が
挙げられる:炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグ
ネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、これらの金
属の炭酸水素塩、トリメチルアミン、トリエチルアミン
、トリブチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、N
,N−ジメチルアニリン、4−N,N−ジメチルアミノ
ピリジン、ジアザビシクロオクタン、ジアザビシクロウ
ンデカン、N−メチルピペリジン、1,4−ジメチルピ
ペラジン、ピリジン、キノリン、ビピリジン、フェナン
トロリン等である。特に価値ある塩基は、炭酸ナトリウ
ムおよび炭酸カリウムである。
【0030】塩基は、一般的にヒドロキシイミド当りで
、5倍当量までの量で加えられる。より高い過剰量も可
能であるが、しかし増量の特徴はない。僅少量の塩基の
使用も、同様に可能である。しかしながら、ヒドロキシ
イミドV当りで1乃至3、特に1乃至2当量の塩基量が
好適に加えられる。
【0031】求核塩基、例えばアルカリ金属水酸化物お
よびアルカリ土類水酸化物、特に水酸化ナトリウムおよ
び水酸化カリウムの使用が、同様に可能である。この場
合には、イミド基のカルボニル官能基上ヒドロキシルイ
オンの求核的攻撃を避けるために、塩基をヒドロキシイ
ミドV当り当量で加えることが特徴的となる。
【0032】合目的には、出発化合物VIIIを、反応
条件下で不活性である溶剤中でヒドロキシイミドVと反
応させる。好適な溶剤は、例えば極性非プロトン性溶剤
例えばジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、
ジメチルスルホキシド、スルホランおよび環状尿素等で
ある。溶剤量は、一般的に臨界的ではない。
【0033】出発化合物VIIIのヒドロキシイミドV
との反応は、また相転移触媒の使用の下に実施されるこ
とができる。この場合において、水と2相を生成する溶
剤、特に塩素化炭化水素が加えられる。相転移触媒とし
ては、通常このような目的に使用される四級アンモニウ
ム塩およびホスホニウム塩、ポリエチレングリコール、
ポリエチレングリコールエーテルおよびクラウンエーテ
ル等が、例えばデームローおよび共同研究者(Dehm
low  et  al.)の相転移触媒(Phase
  Transfer  Catalysis)37−
45頁および86−93頁、フェミー出版社(Verl
ag  Chemie),ワインハイム(Weinhe
im)1980年に記載されているように、好適である
。相転移触媒は、合目的に反応混合物の容量当りで1乃
至10容量%、好適には3乃至5容量%の量で、加えら
れる。
【0034】出発化合物VIIIのヒドロキシイミドV
との反応は、一般的に0℃および140℃の間の温度範
囲、好適には20℃および100℃の間、さらに特に好
適には40℃および80℃の間の温度範囲において実施
される。この場合においては、ヒドロキシイミドVを塩
基と一緒に溶剤中に入れ、この溶液に出発原料VIII
を添加することが、合目的な進め方となる。この場合に
、ヒドロキシイミドを低温、例えば0°乃至50℃で加
え、反応混合物をこの添加後にはじめて本来の反応温度
まで昇温させることが好適であると示されていることが
できる。
【0035】反応完結後に、冷却された反応混合物が合
目的に水で処理されて、生成したヒドロキシルアミン誘
導体VIが結晶性固体または油状物として分離される。 この方法で得られたヒドロキシルアミン誘導体は、希望
する場合には、再結晶または抽出によってさらに精製さ
れることができる。
【0036】ヒドロキシルアミン誘導体VIは、中間工
程を経るかまたは直ちに遊離アミノ基を有するヒドロキ
シルアミン誘導体IIIに変換されることができる。こ
の変換は既知の方法により実施されることができ、例え
ばドイツ特許公開公報第3615973号中に開示され
ている。ドイツ特許公開公報第3615973号による
方法では、ヒドロキシルアミン誘導体IIIはエタノー
ルアミンにより遊離することができ、好適な方法である
。ヒドロキシルアミン誘導体IIIを、他の塩基、例え
ば無機塩基水溶液、アミン、ヒドラジン、ヒドロキシル
アミンまたは酸水溶液により遊離させることも、同様に
可能である。
【0037】この方法に従って得られる反応混合物から
、ヒドロキシルアミン誘導体IIIが通常の精製方法、
例えば抽出または結晶化によって単離されることができ
る。このヒドロキシルアミン誘導体の結晶化傾向を向上
するためには、しばしばこれを無機酸または有機酸との
塩生成に導くことが必要となる。このためには、一般的
にこれらの酸の希薄溶液が正確に当量でヒドロキシルア
ミン誘導体と反応させることが、合目的である。得られ
たヒドロキシルアンモニウム塩は、遊離アミノ基を有す
るヒドロキシルアミン誘導体と同様に直接式Iの除草剤
に反応されることができるか、または望まれる場合には
、貯蔵されることもできる。
【0038】生物学的活性に関しては、式Iのシクロヘ
キセノンにおいて置換基が以下の意味を有することが好
適である:R1  アルキル例えばメチル、エチル、プ
ロピル、1−メチルエチル、ブチル、1−メチルプロピ
ル、2−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチル、ペ
ンチル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メ
チルブチル、1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジメ
チルプロピル、2,2−ジメチルプロピル、1−エチル
プロピル、ヘキシル、1−メチルペンチル、2−メチル
ペンチル、3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、
1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1
,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、2,
3−ジメチルブチル、3,3−ジメチルブチル、1−エ
チルブチル、2−エチルブチル、1,1,2−トリメチ
ルプロピル、1,2,2−トリメチルプロピル、1−エ
チル−1−メチルプロピルおよび1−エチル−2−メチ
ルプロピル、特にエチルおよびプロピル;A    ア
ルキレンまたはアルケニレン例えばエチレン、プロピレ
ン、プロペニレン−2、ブチレン、ブテニレン−2、ブ
テニレン−3、ペンチレン、ペンテニレン−4、ヘキシ
レン、ヘキセニレン−5、ここで上述の基は1個乃至3
個の置換基、特にメチルまたはエチルおよび/またはフ
ッ素または塩素で置換されていることができる;不飽和
結合鎖においては、シス型並びにトランス型が同様に使
用される。特に好適には、ブテニレン−2およびブテニ
レン−3。Z    5員のヘテロ芳香族環例えばフラ
ニル、ピロリル、チエニル、イミダゾリル、ピラゾリル
、イソオキサゾリル、オキサゾリル、イソチアゾリル、
チアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、トリ
アゾリル、特にフラニルおよびチエニル、6員のヘテロ
芳香族環例えばピリジル、ピリダジル、ピリミジル、ピ
ラジル、チアジル、テトラジル、特にピリジルおよびピ
リミジル;X    ニトロ、シアノハロゲン例えばフ
ッ素、塩素、臭素およびヨウ素、特にフッ素および塩素
;アルキル例えばメチル、エチル、プロピル、1−メチ
ルエチル、ブチル、1−メチルプロピル、2−メチルプ
ロピルおよび1,1−ジメチルエチル、特にメチルおよ
び1,1−ジメチルエチル、アルコキシ例えばメトキシ
、エトキシ、プロポキシ、1−メチルエトキシ、ブトキ
シ、1−メチルプロポキシ、2−メチルプロポキシおよ
び1,1−ジメチルエトキシ、特にメトキシ、エトキシ
、1−メチルエトキシおよび1,1−ジメチルエトキシ
、アルキルチオ例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピ
ルチオ、1−メチルエチルチオ、ブチルチオ、1−メチ
ルプロピルチオ、2−メチルプロピルチオおよび1,1
−ジメチルエチルチオ、特にメチルチオおよびエチルチ
オ、ハロゲンアルキル例えばフルオロメチル、ジフルオ
ロメチル、トリフルオロメチル、クロロジフルオロメチ
ル、ジクロロフルオロメチル、トリクロロメチル、1−
フルオロエチル、2−フルオロエチル、2,2−ジフル
オロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2−ク
ロロ−2,2−ジフルオロエチル、2,2−ジクロロ−
2−フルオロエチル、2,2,2−トリクロロエチルお
よびペンタフルオロエチル、特にジフルオロメチル、ト
リフルオロメチル、2,2,2−トリフルオロエチルお
よびペンタフルオロエチル、ハロゲンアルコキシ例えば
ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、クロロジ
フルオロメトキシ、ジクロロフルオロメトキシ、1−フ
ルオロエトキシ、2−フルオロエトキシ、2,2−ジフ
ルオロエトキシ、1,1,2,2−テトラフルオロエト
キシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ、2−クロロ
−1,1,2−トリフルオロエトキシおよびペンタフル
オロエトキシ、特にトリフルオロメトキシ、カルボキシ
ル、アルコキシカルボニル例えばメトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、1−
メチルエトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニルお
よび1,1−ジメチルエトキシカルボニル、特にメトキ
シカルボニル、エトキシカルボニルおよび1,1−ジメ
チルエトキシカルボニル、特に好適にはメトキシカルボ
ニル。
【0039】ベンジルオキシカルボニルおよびフェニル
、ここにおいて芳香族基は1個乃至3個の以下の置換基
を有することができる:即ちニトロ、シアノ、カルボキ
シル、ベンジルオキシカルボニル、ハロゲン例えば一般
的および特別にXとして表わされている;アルキル例え
ばR1として表わされ、特にメチル、エチルおよび1−
メチルエチル;アルコキシ例えば前述のように表わされ
ており、特にメトキシおよびエトキシ;アルキルチオ例
えば前述のように表わされており、特にメチルチオ;ハ
ロゲンアルキル例えば前述のように表わされており、特
にトリフルオロメチル;ハロゲンアルコキシ例えば前述
のように表わされており、特にジフルオロメトキシおよ
びトリフルオロメトキシおよび/またはアルコキシカル
ボニル例えば前述のように表わされており、特にメトキ
シカルボニルおよびエトキシカルボニル。
【0040】アミノ基−NRaRb:Ra  水素;ア
ルキル例えばメチル、エチル、プロピル、1−メチルエ
チル、ブチル、1−メチルプロピル、2−メチルプロピ
ルおよび1,1−ジメチルエチル、特にメチルおよびエ
チル;アルケニル例えば2−プロペニル、2−ブテニル
、3−ブテニル、1−メチル−2−プロペニル、2−メ
チル−2−プロペニル、2−ペンテニル、3−ペンテニ
ル、4−ペンテニル、1−メチル−2−ブテニル、2−
メチル−2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、1
−メチル−3−ブテニル、2−メチル−3−ブテニル、
3−メチル−3−ブテニル、1,3−ジメチル−2−プ
ロペニル、1,2−ジメチル−2−プロペニル、1−エ
チル−2−プロペニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニ
ル、4−ヘキセニル、5−ヘキセニル、1−メチル−2
−ペンテニル、2−メチル−2−ペンテニル、3−メチ
ル−2−ペンテニル、4−メチル−2−ペンテニル、1
−メチル−3−ペンテニル、2−メチル−3−ペンテニ
ル、3−メチル−3−ペンテニル、4−メチル−3−ペ
ンテニル、1−メチル−4−ペンテニル、2−メチル−
4−ペンテニル、3−メチル−4−ペンテニル、4−メ
チル−4−ペンテニル、1,1−ジメチル−2−ブテニ
ル、1,1−ジメチル−3−ブテニル、1,2−ジメチ
ル−2−ブテニル、1,2−ジメチル−3−ブテニル、
1,3−ジメチル−2−ブテニル、1,3−ジメチル−
3−ブテニル、2,2−ジメチル−3−ブテニル、2,
3−ジメチル−2−ブテニル、1−エチル−2−ブテニ
ル、1−エチル−3−ブテニル、2−エチル−2−ブテ
ニル、2−エチル−3−ブテニル、1,1,2−トリメ
チル−2−プロペニル、1−エチル−1−メチル−2−
プロペニルおよび1−エチル−2−メチル−2−プロペ
ニル、特に2−プロペニルおよび2−ブテニル;Rb 
 水素;アルキル、一般的および特別に前述と同様;ア
ルケニル、一般的および特別に前述と同様;アルキニル
例えば2−プロピニル、2−ブチニル、2−ペンチニル
、3−ペンチニル、4−ペンチニル、1−メチル−3−
ブチニル、2−メチル−3−ブチニル、1−メチル−2
−ブチニル、1,1−ジメチル−2−プロピニル、1−
エチル−2−プロピニル、2−ヘキシニル、3−ヘキシ
ニル、4−ヘキシニル、5−ヘキシニル、1−メチル−
2−ペンチニル、1−メチル−3−ペンチニル、1−メ
チル−4−ペンチニル、2−メチル−3−ペンチニル、
2−メチル−4−ペンチニル、3−メチル−4−ペンチ
ニル、4−メチル−2−ペンチニル、1,1−ジメチル
−2−ブチニル、1,1−ジメチル−3−ブチニル、1
,2−ジメチル−3−ブチニル、2,2−ジメチル−3
−ブチニル、1−エチル−2−ブチニル、1−エチル−
3−ブチニル、2−エチル−3−ブチニルおよび1−エ
チル−1−メチル−2−プロピニル、特に2−プロピニ
ルおよび2−ブチニル;アシル基例えばアセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、2−メチルプロピオニル、ペンタ
ノイル、2−メチルブチリル、3−メチルブチリル、2
,2−ジメチルプロピオニル、ヘキサノイル、2−メチ
ルペンタノイル、3−メチルペンタノイル、4−メチル
ペンタノイル、2,2−ジメチルブチリル、2,3−ジ
メチルブチリル、3,3−ジメチルブチリルおよび2−
エチルブチリル、特にアセチルおよびプロピオニル;ま
たはベンゾイル基、ここでは芳香族基が1個乃至3個の
以下に示す置換基を有することができる。即ち:ニトロ
、シアノ、カルボキシル、ベンジルオキシカルボニル、
ハロゲン即ち一般および特別にもXで表わされる;R1
で表わされるアルキル、特にメチル、エチルおよび1−
メチルエチル;前述のアルコキシ、特にメトキシおよび
エトキシ;前述のアルキルチオ、特にメチルチオ;前述
のハロゲンアルキル、特にトリフルオロメチル;前述の
ハロゲンアルコキシ、特にジフルオロメトキシおよびト
リフルオロメトキシおよび/または前述のアルコキシカ
ルボニル、特にメトキシカルボニルおよびエトキシカル
ボニル;n    0,1,2または3、特に0,1お
よび2、Zがハロゲン置換ピリジル基を意味する場合に
おいても、また1乃至4を意味している。 特に好適には、nが0,1または2である。数個の基で
あるXの場合には、置換基は同じであることもできるし
または異なっていることもできる。R2  Xで表わさ
れているアルキル、並びにペンチル、1−メチルブチル
、2−メチルブチル、3−メチルブチル、1,1−ジメ
チルプロピル、1,2−ジメチルプロピル、2,2−ジ
メチルプロピル、1−エチルプロピル、ヘキシル、1−
メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペン
チル、4−メチルペンチル、1,1−ジメチルブチル、
1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル、2
,2−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、3,
3−ジメチルブチル、1−エチルブチル、2−エチルブ
チル、1,1,2−トリメチルプロピル、1,2,2−
トリメチルプロピル、1−エチル−1−メチルプロピル
および1−エチル−2−メチルプロピルであり、これら
はXで表わされるアルコキシ基またはアルキルチオ基を
特に1−位、2−位または3−位に置換されて有してお
り、特に好適には2−エチルチオプロピル;5員複素環
基例えばテトラヒドロフラニル、テトラヒドロチエニル
、ジオキソラニル、ジチオラニルおよびオキサチオラニ
ル、特にテトラヒドロフラニル、テトラヒドロチエニル
およびジオキソラニルであり、ここでこれらの複素環基
は既にXで表わされているC1−C4−アルキル基、C
1−C4−アルコキシ基、C1−C4−アルキルチオ基
および/またはC1−C4−ハロゲンアルキル基の1個
乃至3個を有することができる、5員のヘテロ芳香族環
基例えばピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、イソオ
キサゾリル、オキサゾリル、イソチアゾリル、チアゾリ
ル、フラニルおよびチエニル、特にイソオキサゾリルお
よびフラニル、6員または7員の複素環基例えばテトラ
ヒドロピラン−3−イル、ジヒドロピラン−3−イル、
テトラヒドロピラン−4−イル、ジヒドロピラン−4−
イル、テトラヒドロチオピラン−3−イル、ジヒドロチ
オピラン−3−イル、テトラヒドロチオピラン−4−イ
ル、ジヒドロチオピラン−4−イルおよびジオキセパン
−5−イル、特にテトラヒドロピラン−3−イル、テト
ラヒドロピラン−4−イルおよびテトラヒドロチオピラ
ン−3−イル、フェニル基またはピリジル基、ここにお
いて環状基はXで表わされるアルキル基、アルコキシ基
、アルキルチオ基および/またはハロゲンアルキル基を
有することができる。
【0041】R2として表わされる5員のヘテロ芳香族
環基は、置換基として以下の基を有することができる:
Xで表わされるハロゲン原子、特にフッ素および塩素、
アルコキシアルキル例えばメトキシメチル、2−メトキ
シエチル、2−メトキシプロピル、3−メトキシプロピ
ル、2−メトキシ−1−メチルエチル、エトキシメチル
、2−エトキシエチル、2−エトキシプロピル、3−エ
トキシプロピル、2−エトキシ−1−メチルエチルおよ
び1−エトキシ−1−メチルエチル、特にメトキシエチ
ルおよびエトキシエチル、アルケニル例えばエテニル、
1−プロペニル、2−プロペニル、1−メチルエテニル
、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニル、1−メ
チル−1−プロペニル、1−メチル−2−プロペニル、
2−メチル−1−プロペニル、2−メチル−2−プロペ
ニル、1−ペンテニル、2−ペンテニル、3−ペンテニ
ル、4−ペンテニル、1−メチル−1−ブテニル、2−
メチル−1−ブテニル、3−メチル−1−ブテニル、1
−メチル−2−ブテニル、2−メチル−2−ブテニル、
3−メチル−2−ブテニル、1−メチル−3−ブテニル
、2−メチル−3−ブテニル、3−メチル−3−ブテニ
ル、1,1−ジメチル−2−プロペニル、1,2−ジメ
チル−1−プロペニル、1,2−ジメチル−2−プロペ
ニル、1−エチル−1−プロペニル、1−エチル−2−
プロペニル、1−ヘキセニル、2−ヘキセニル、3−ヘ
キセニル、4−ヘキセニル、5−ヘキセニル、1−メチ
ル−1−ペンテニル、2−メチル−1−ペンテニル、3
−メチル−1−ペンテニル、4−メチル−1−ペンテニ
ル、1−メチル−2−ペンテニル、2−メチル−2−ペ
ンテニル、3−メチル−2−ペンテニル、4−メチル−
2−ペンテニル、1−メチル−3−ペンテニル、2−メ
チル−3−ペンテニル、3−メチル−3−ペンテニル、
4−メチル−3−ペンテニル、1−メチル−4−ペンテ
ニル、2−メチル−4−ペンテニル、3−メチル−4−
ペンテニル、4−メチル−4−ペンテニル、1,1−ジ
メチル−2−ブテニル、1,1−ジメチル−3−ブテニ
ル、1,2−ジメチル−1−ブテニル、1,2−ジメチ
ル−2−ブテニル、1,2−ジメチル−3−ブテニル、
1,3−ジメチル−1−ブテニル、1,3−ジメチル−
2−ブテニル、1,3−ジメチル−3−ブテニル、2,
2−ジメチル−3−ブテニル、2,3−ジメチル−1−
ブテニル、2,3−ジメチル−2−ブテニル、2,3−
ジメチル−3−ブテニル、3,3−ジメチル−1−ブテ
ニル、1−エチル−1−ブテニル、1−エチル−2−ブ
テニル、1−エチル−3−ブテニル、2−エチル−1−
ブテニル、2−エチル−2−ブテニル、2−エチル−3
−ブテニル、1,1,2−トリメチル−2−プロペニル
、1−エチル−1−メチル−2−プロペニル、1−エチ
ル−2−メチル−1−プロペニルおよび1−エチル−2
−メチル−2−プロペニル、特に1−メチルエテニルま
たは対応するアルケニルオキシおよび/またはハロゲン
アルケニル。
【0042】6員および7員の複素環基は、前述の置換
基のほかにまたヒドロキシ基を有することができる。
【0043】フェニル基およびピリジル基の場合には、
置換基として上述の基のほかにまた以下の基が含まれる
ことができる:アルケニルオキシ例えば2−プロペニル
オキシ、2−ブテニルオキシ、3−ブテニルオキシ、1
−メチル−2−プロペニルオキシ、2−メチル−2−プ
ロペニルオキシ、2−ペンテニルオキシ、3−ペンテニ
ルオキシ、4−ペンテニルオキシ、1−メチル−2−ブ
テニルオキシ、2−メチル−2−ブテニルオキシ、3−
メチル−2−ブテニルオキシ、1−メチル−3−ブテニ
ルオキシ、2−メチル−3−ブテニルオキシ、3−メチ
ル−3−ブテニルオキシ、1,1−ジメチル−2−プロ
ペニルオキシ、1,2−ジメチル−2−プロペニルオキ
シ、1−エチル−2−プロペニルオキシ、2−ヘキセニ
ルオキシ、3−ヘキセニルオキシ、4−ヘキセニルオキ
シ、5−ヘキセニルオキシ、1−メチル−2−ペンテニ
ルオキシ、2−メチル−2−ペンテニルオキシ、3−メ
チル−2−ペンテニルオキシ、4−メチル−2−ペンテ
ニルオキシ、1−メチル−3−ペンテニルオキシ、2−
メチル−3−ペンテニルオキシ、3−メチル−3−ペン
テニルオキシ、4−メチル−3−ペンテニルオキシ、1
−メチル−4−ペンテニルオキシ、2−メチル−4−ペ
ンテニルオキシ、3−メチル−4−ペンテニルオキシ、
4−メチル−4−ペンテニルオキシ、1,1−ジメチル
−2−ブテニルオキシ、1,1−ジメチル−3−ブテニ
ルオキシ、1,2−ジメチル−2−ブテニルオキシ、1
,2−ジメチル−3−ブテニルオキシ、1,3−ジメチ
ル−2−ブテニルオキシ、1,3−ジメチル−3−ブテ
ニルオキシ、2,2−ジメチル−3−ブテニルオキシ、
2,3−ジメチル−2−ブテニルオキシ、2,3−ジメ
チル−3−ブテニルオキシ、1−エチル−2−ブテニル
オキシ、1−エチル−3−ブテニルオキシ、2−エチル
−2−ブテニルオキシ、2−エチル−3−ブテニルオキ
シ、1,1,2−トリメチル−2−プロペニルオキシ、
1−エチル−1−メチル−2−プロペニルオキシおよび
1−エチル−2−メチル−2−プロペニルオキシ、特に
2−プロペニルオキシおよび2−ブテニルオキシ;アル
キニルオキシ例えば2−プロピニルオキシ、2−ブチニ
ルオキシ、3−ブチニルオキシ、1−メチル−2−プロ
ピニルオキシ、2−ペンチニルオキシ、3−ペンチニル
オキシ、4−ペンチニルオキシ、1−メチル−3−ブチ
ニルオキシ、2−メチル−3−ブチニルオキシ、1−メ
チル−2−ブチニルオキシ、1,1−ジメチル−2−プ
ロピニルオキシ、1−エチル−2−プロピニルオキシ、
2−ヘキシニルオキシ、3−ヘキシニルオキシ、4−ヘ
キシニルオキシ、5−ヘキシニルオキシ、1−メチル−
2−ペンチニルオキシ、1−メチル−3−ペンチニルオ
キシ、1−メチル−4−ペンチニルオキシ、2−メチル
−3−ペンチニルオキシ、2−メチル−4−ペンチニル
オキシ、3−メチル−4−ペンチニルオキシ、4−メチ
ル−2−ペンチニルオキシ、1,1−ジメチル−2−ブ
チニルオキシ、1,1−ジメチル−3−ブチニルオキシ
、1,2−ジメチル−3−ブチニルオキシ、2,2−ジ
メチル−3−ブチニルオキシ、1−エチル−2−ブチニ
ルオキシ、1−エチル−3−ブチニルオキシ、2−エチ
ル−3−ブチニルオキシおよび1−エチル−1−メチル
−2−プロピニルオキシ、特に2−プロピニルオキシお
よび2−ブチニルオキシ;一般におよび特別に表わされ
ているアルコキシアルキル;一般におよび特別にXで表
わされている−NRaRb。
【0044】式Iの特に優れたシクロヘキセノンオキシ
ムエーテルは、以下の表にまとめられている。
【0045】
【表1】
【0046】
【表2】
【0047】
【表3】
【0048】
【表4】
【0049】
【表5】
【0050】
【表6】
【0051】
【表7】
【0052】
【表8】
【0053】
【表9】
【0054】
【表10】
【0055】
【表11】
【0056】
【表12】
【0057】
【表13】
【0058】
【表14】
【0059】
【表15】
【0060】
【表16】
【0061】
【表17】
【0062】
【表18】
【0063】
【表19】
【0064】
【表20】
【0065】
【表21】
【0066】
【表22】
【0067】
【表23】
【0068】
【表24】
【0069】
【表25】
【0070】
【表26】
【0071】
【表27】
【0072】
【表28】 表Cに示されている基R1,R2およびWは、次式構造
式のDおよびEのシクロヘキセノンオキシムエーテルに
対して同様の方法で導入される(W=Z−Xn)。
【0073】
【化9】 対応するヒドロキシルアミンIIIは、同様に好適であ
る。
【0074】シクロヘキセノンオキシムエーテルIは、
除草剤として特に禾本科植物(草本性)からの栽培植物
用に適している。
【0075】シクロヘキセノンオキシムエーテルI又は
これを含有する除草剤は例えば直接的に噴霧可能な溶液
、粉末、懸濁液、更にまた高濃度の水性又は油性又はそ
の他の懸濁液又は分散液、エマルジョン、油性分散液、
ペースト、ダスト剤、散布剤又は顆粒の形で噴霧、ミス
ト法、ダスト法、散布法又は注入法によって適用するこ
とができる。適用形式は、完全に使用目的に基づいて決
定される;いずれの場合にも、本発明の  効物質の可
能な限りの微細分が保証されるべきである。
【0076】化合物Iは通常直接飛散可能の溶液、乳濁
液、ペースト又は油分散液を製造するために適する。不
活性な添加物として中位乃至高位の沸点の鉱油留分例え
ば燈油又はディーゼル油、更にコールタール油等、並び
に植物性又は動物性産出源の油、脂肪族、環状及び芳香
族炭化水素例えばトルオール、キシロール、パラフィン
、テトラヒドロナフタリン、アルキル置換ナフタリン又
はその誘導体、メタノール、エタノール、プロパノール
、ブタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン
、クロルベンゾール、イソフォロン等、強極性溶剤例え
ばN,N−ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフォ
キシド、N−メチルピロリドン、水が使用される。
【0077】水性使用形は乳濁液濃縮物、分散液、ペー
スト、湿潤可能の粉末又は水分散可能な顆粒より水の添
加により製造することができる。乳濁液、ペースト又は
油分散液を製造するためには、物質はそのまま又は油又
は溶剤中に溶解して、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化
剤により水中に均質に混合されることができる。しかも
有効物質及、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤及び場
合により溶剤又は油よりなる濃縮物を製造することもで
き、これは水にて希釈するのに適する。
【0078】表面活性物質としては次のものが挙げられ
る:リグニンスルフォン酸、ナフタリンスルフォン酸、
フェノールスルフォン酸及びジブチルナフタリンスルフ
ォン酸等の芳香族スルフォン酸並びに脂肪酸の各アルカ
リ塩、アルカリ土類塩、アンモニウム塩、アルキルスル
フォナート、アルキルアリールスルフォナート、アルキ
ルスルファート、ラウリルエーテルスルファート、脂肪
アルコールスルファート、並びに硫酸化ヘキサデカノー
ル、ヘプタデカノール及びオクタデカノールの塩、並び
に脂肪アルコールグリコールエーテルの塩、スルフォン
化ナフタリン及びナフタリン誘導体とフォルムアルデヒ
ドとの縮合生成物、ナフタリン或はナフタリンスルフォ
ン酸とフェノール及びフォルムアルデヒドとの縮合生成
物、ポリオキシエチレン−オクチルフェノールエーテル
、エトキシル化イソオクチルフェノール、オクチルフェ
ノール、ノニルフェノール、アルキルフェノールポリグ
リコールエーテル、トリブチルフェニルポリグリコール
エーテル、アルキルアリールポリエーテルアルコール、
イソトリデシルアルコール、脂肪アルコールエチレンオ
キシド−縮合物、エトキシル化ヒマシ油、ポリオキシエ
チレンアルキルエーテル、又はポリオキシプロピレン、
ラウリルアルコールポリグリコールエーテルアセタート
、ソルビットエステル、リグニン−亜硫酸廃液及びメチ
ル繊維素。
【0079】粉末、散布剤及び振りかけ剤は有効物質と
固状担体物質とを混合又は一緒に磨砕することにより製
造することができる。
【0080】粒状体例えば被覆−、透浸−及び均質粒状
体は、有効物質を固状担体物質に結合することにより製
造することができる。固状担体物質は例えば鉱物土例え
ば珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩、滑石、カオリン、石灰石、
石灰、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土、粘土、白雲石
、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、酸化マ
グネシウム、磨砕合成樹脂、肥料例えば硫酸アンモニウ
ム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、尿素及び植
物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及びクルミ穀粉、
繊維素粉末及び他の固状担体物質である。
【0081】使用形は有効物質を通常0.02乃至95
重量%殊に0.5乃至90重量%を含有する。この際有
効物質は純度90〜100%、好ましくは95〜100
%(NMRスペクトルによる)で使用される。
【0082】除草剤製剤品は、0.02乃至95重量%
、好適には0.5乃至90重量%の有効物質を含んでい
る。有効物質は、この際に90%乃至100%の純度、
好適には95%乃至100%純度(NMR−スペクトル
による純度測定)で加えられる。
【0083】本発明による化合物Iの製剤例は以下の通
りである。
【0084】I.90重量部の化合物8.01を、N−
メチル−α−ピロリドン10重量部と混合する時は、極
めて小さい滴の形にて使用するのに適する溶液が得られ
る。
【0085】II  20重量部の化合物8.02を、
キシロール80重量部、エチレンオキシド8乃至10モ
ルをオレイン酸−N−モノエタノールアミド1モルに付
加した付加生成物10重量部、ドデシルベンゾールスル
フォン酸のカルシウム塩5重量部及びエチレンオキシド
40モルをヒマシ油1モルに付加した付加生成物5重量
部よりなる混合物中に溶解する。この溶液を水1000
00重量部に注入しかつ細分布することにより有効成分
0.02重量%を含有する水性分散液が得られる。
【0086】III.20重量部の化合物8.03を、
シクロヘキサノン40重量部、イソブタノール30重量
部、エチレンオキシド7モルをイソオクチルフェノール
1モルに付加した付加生成物20重量部及びエチレンオ
キシド40モルをヒマシ油1モルに付加した付加生成物
10重量部よりなる混合物中に溶解する。この溶液を水
100000重量部に注入しかつ細分布することにより
有効成分0.02重量%を含有する水性分散液が得られ
る。
【0087】IV.20重量部の化合物8.04をシク
ロヘキサノン25重量部、沸点210乃至280℃の鉱
油留分65重量部及びエチレンオキシド40モルをヒマ
シ油1モルに付加した付加生成物10重量部よりなる混
合物中に溶解する。この溶液を水100000重量部に
注入しかつ細分布することにより有効成分0.02重量
%を含有する水性分散液が得られる。
【0088】V.20重量部の化合物8.05を、ジイ
ソブチル−ナフタリン−α−スルフォン酸のナトリウム
塩3重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルフォン酸
のナトリウム塩17重量部及び粉末状珪酸ゲル60重量
部と充分に混和し、かつハンマーミル中において磨砕す
る。この混合物を水20000重量部に細分布すること
により有効成分0.1重量%を含有する噴霧液が得られ
る。
【0089】VI.3重量部の化合物8.06を、細粒
状カオリン97重量部と密に混和する。かくして有効物
質3重量%を含有する噴霧剤が得られる。
【0090】VII.30重量部の化合物8.07を、
粉末状珪酸ゲル92重量部及びこの珪酸ゲルの表面上に
吹きつけられたパラフィン油8重量部よりなる混合物と
密に混和する。かくして良好な接着性を有する有効物質
の製剤が得られる。
【0091】VIII.20重量部の化合物8.08を
、ドデシルベンゾールスルフォン酸のカルシウム塩2重
量部、脂肪アルコールポリグリコールエーテル8重量部
、フェノール−尿素−フォルムアルデヒド−縮合物のナ
トリウム塩2重量部及びパラフィン系鉱油68重量部と
密に混和する。安定な油状分散液が得られる。
【0092】本剤の適用は、発芽前処理または発芽後処
理で実施されることができる。本剤の有効成分に対して
ある種の栽培植物の耐性が少ない場合には、本除草剤が
スプレー装置の助けによって散布され、除草剤に敏感な
栽培植物の葉面が可及的に薬剤にかからないようにし、
一方で有効物質が栽培植物の下に成長している望ましく
ない植物の葉面に到達するように、または覆われていな
い土壌表面に達するように施用技術が利用されることが
できる(中期除草)。
【0093】本有効物質の使用量は、施用時期、目標植
物および成長段階によってそれぞれ異なるが、0.00
1乃至3kg/ヘクタール、好適には0.01乃至2.
0kg/ヘクタールとなる。
【0094】雑草防除のための総括的な作用スペクトル
、栽培植物の耐性または同植物の成長に対する望ましい
影響並びに適用方法の多様性を考えると、本発明化合物
は多くの栽培植物に使用されることができる。適用が考
えられる栽培植物は、例えば以下のようになる:タマネ
ギ(Allium  cepa)パイナップル(Ana
nas  comosus)ナンキンマメ(Arach
is  hypogaea)アスパラガス(Aspar
agus  officinalis)オートムギ(A
vena  sativa)フダンソウ(Beta  
vulgaris  spp.altissima)サ
トウジシヤ(Beta  Vulgaris  spp
.rapa)アカテイサイ(Beta  vulgar
is  spp.esculenta)ブラシーカ  
ナパス(変種ナパス)(Brassica  napu
s  var.  napus) ブラシーカ  ナパス(変種ナポブラシーカ)(Bra
ssica  napus             
       var.napobrassica)ブ
ラシーカ  ラパ(変種シルベストリス)(Brass
ica  rapa                
  var.silvestris)トウツバキ(Ca
mellis  sinensis)ベニバナ(Car
thamus  tinctorius)キヤリーヤイ
リノイネンシス(Carya  illinoinen
sis)マルブシユカン(Citrus  limon
)グレープフルーツ(Citrus  reticul
ata)ダイダイ(Citrus  reticula
ata)ナツミカン(Citrus  sinensi
s)コーヒーノキ〔Coffea  arabica(
Coffea  canepho  ra,Coffe
a  liberica)〕アミメロン(Cucumi
s  melo)キユウリ(Cucumis  sat
ivus)ギヨウギシバ(Cynodon  dact
ylon)ニンジン(Daucus  carota)
アブラヤミ(Elaeis  guineenis)イ
チゴ(Fragaria  vesca)大豆(Glv
cins  max) 木棉〔Gossypium  hirsutum(Go
ssypium      arboreum       Gossypium  herbaceu
m  Gossypium      vitifol
ium)〕ヒマワリ(Helianthus  ann
uus)キクイモ(Helianthus  tube
rosus)ゴムノキ(Heveabrasilins
is)大麦(Hordeum  vulgare)カラ
ハナソウ(Humulus  lupulus)アメリ
カイモ(Ipomoea  batatas)オニグル
ミ(Juglans  regia)ニガナ(Lact
uca  sativa)レンズマメ(Lens  c
ulinaris)アマ(Linum  usitat
issimum)トマト(Lycopersicon 
 lycopersicum)リンゴ属(Malus 
 spp.) キヤツサバ(Manihot  esculenta)
ムラサキウマゴヤシ(Medicago  sativ
a)ハツカ(Mentha  piperita)バシ
ヨウ属(Musa  spp.) タバコ〔Nicotiana  tabacum(N.
rustica)〕オリーブ(Olea  europ
aea)イネ(Oryza  sativa) アズキ(Phaseolus  lunatus)ササ
ゲ(Phaseolus  mungo)ゴガツササゲ
(Phaseolus  vulgaris)パセリ(
Pennisetum  glaucum)ペトロセリ
ウム  クリスパム(変種チユベロサム)(Petro
selinum  crispum  spp.tub
erosum)トウヒ(Picea  abies) モミ(Abies  alba) マツ属(Pinus  spp.) シロエンドウ(Pisum  sativum)サクラ
(Prunus  avium)アンズ(Prunus
  domestica)プルヌス  ダルシス(Pr
unus  dulcis)モモ(Prunus  P
ersica)ナシ(Pyrus  communis
)サグリ(Ribes  sylvestre)サンデ
ン(Ribes  uva−crispa)トウゴマ(
Ricinus  communis)サトウキビ(S
accharum  officinarum)ライム
ギ(Secale  cereale)ゴマ(Sesa
mum  indicum)ジヤガイモ(Solanu
m  tuberosum)モロコシ〔Sorghum
  bicolor(s.vulgare)〕モロコシ
ガヤ(Sorghum  dochna)ホウレンソウ
(Spinacia  oleracea)カカオノキ
(Theobroma  cacao)ムラサキツユク
サ(Trifolium  pratense)小麦(
Triticum  aestivum)トリテイカム
、ドラム(Triticum  durum)イワツツ
ジ(Vaccinium  carymbosum)コ
ケモモ(Vaccinium  vitis−idae
a)ソラマメ(Vicia  faba) ヒグナ  シネンシス(変種ウングイキユラータ)〔V
igna  sinensi  s(V.unguic
ulata)〕ブドウ(Vitis  vinifer
a)トウモロコシ(Zea  mays) 作用スペクトルを拡げるためおよび相乗効果を挙げるた
めに、式Iのシクロヘキセノン誘導体は他の除草剤また
は成長調節剤グループの代表薬剤と混合されて併用され
ることができる。例えば混合剤として、ジアジン、4H
−3,1−ベンズオキサジン誘導体、ベンゾチアジアジ
ノン、2,6−ジニトロアニリン、N−フェニルカーバ
メート、チオールカーバメート、ハロゲンカルボン酸、
トリアジン、アミド、尿素、ジフェニルエーテル、トリ
アジノン、ウラシル、ベンゾフラン誘導体、キノリンカ
ルボン酸、スルホニル尿素誘導体、シクロヘキセノン、
(ヘテロ)−アリールオキシプロピオン酸、その塩、エ
ステルおよびアミドおよびその他が考えられる。
【0095】このほかに、式Iのシクロヘキセノン誘導
体またはそれを含む除草剤を単独でかまたは他の除草剤
との組み合わせで使うか、またはなお別の農薬、例えば
殺虫剤または植物病害真菌または細菌防除の殺菌剤と混
合して併用する利用法が使用されることができる。さら
に興味あるのは、栄養要素および痕跡元素の欠乏を防除
するための無機塩溶液との混合使用である。また植物毒
性のない油状物および濃縮油状物を、加えることもでき
る。
【0096】後述する合成実施例において与えられる方
法は、出発化合物の対応する反応によって式IIIのヒ
ドロキシルアミンおよび式Iのシクロヘキセノンオキシ
ムエーテルを合成するのに利用された。得られた化合物
は、以下の表中において物性値を与えられている。
【0097】
【実施例】ヒドロキシルアミンIII製造のための合成
実施例 (E)−4−ブロム−1−(2−チエニル)−1−ブテ
ン 5−10℃で、225g(1.46モル)のシクロプロ
ピル−2−チエニルカルビノールを1時間以内で972
mlの48%臭化水素酸に滴下した。室温で2時間経過
した後に有機層が分離されて、水溶液が3回それぞれ3
00mlのジクロルメタンで抽出された。有機層と抽出
液を一緒にした有機層が、希薄カセイソーダおよび水で
中性になるまで洗浄されてから硫酸マグネシウム上で乾
燥されて真空濃縮された。322g(94%訂正収率)
粗製臭化物(ガスクロマト純度:92%)。
【0098】
【外1】 δ=2.65−2.80(m,2H),3.46(t,
2H),5.90−6.10(m,1H),6.61(
d,1H),6.80−7.00(m,2H),7.1
4(d,1H)。
【0099】N−[(E)−4−(2−チエニル)−3
−ブテニルオキシ]フタルイミド 20−25℃で、上述で製造された臭化物の283g(
1.30モル)、1300mlN−メチル−2−ピロリ
ジノン、10gヨウ化カリウムおよび212g(1.3
0モル)のN−ヒドロキシフタルイミドからの混合物に
、2.5時間かけて190ml(1.37モル)のトリ
エチルアミンを滴下した。20−25℃で4時間経過し
た後に、4000mlの氷水中に注加し、続いて500
mlの10%カセイソーダ水溶液を少量に別けて加えた
。これを4回、各500ml酢酸エステルで抽出した。 抽出液を一緒にし、希薄カセイソーダ水溶液および水で
洗浄してから、硫酸マグネシウム上で乾燥し真空濃縮し
た。粗生成物は、1000gシリカゲル/カラム30×
15cmでクロマトグラフィー精製された(展開剤:n
−ヘキサン/ジクロルメタン7:3)。113g(29
%)フタルイミドエーテル、融点69−71℃(イソプ
ロパノール)。
【0100】
【外2】 δ=2.55−2.70(m,2H),4.28(t,
2H),6.00−6.20(m,1H),6.77(
d,1H),7.00(m,2H),7.35(m,1
H),7.87(s,4H)。
【0101】O−[(E)−4−(2−チエニル)−3
−ブテニル]ヒドロキシルアミン 上述のようにして製造されたフタルイミドエーテルの9
0.2g(0.30モル)および136mlのエタノー
ルアミンからの混合物が、3時間60℃で撹拌された。 この冷反応混合物を、200ml氷水中に注加した。次
に200mlの飽和食塩水溶液を加え、この水溶液を3
回各300mlジクロルメタンで抽出した。抽出液を一
緒にした有機層が3回各100mlの飽和食塩水溶液で
洗浄され、硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空濃縮した
。45g(89%)ヒドロキシルアミン。
【0102】
【外3】 δ=2.40−2.55(m,2H),3.78(t,
2H),5.40(bs,2H),5.95−6.20
(m,1H),6.57(d,1H),6.80−7.
15(m,3H)。
【0103】シクロヘキセノンオキシムエーテル−誘導
体I製造のための合成実施例 2−[1−[[(E)−4−(2−チエニル)−3−ブ
テニルオキシ]イミノ]−ブチル]−3−ヒドロキシ−
5−(2H−テトラヒドロピラン−4−イル)−2−シ
クロヘキセン−1−オン 2−ブチリル−3−ヒドロキシ−5−(2H−テトラヒ
ドロピラン−4−イル)−2−シクロヘキセン−1−オ
ンの35g(0.13モル)およびO−[(E)−4−
(2−チエニル)−3−ブテニル]ヒドロキシルアミン
の24g(0.14モル)からの混合物が、300ml
メタノール中で16時間撹拌された。真空濃縮してから
、1000mlの10%カセイソーダ水溶液に入れた。 3回各200mlの塩化メチレンで抽出し、水層を氷冷
下で濃塩酸によりpHを1に調整した。次に水層が3回
各200mlのエーテルで抽出され、硫酸マグネシウム
上で乾燥し真空濃縮した。粗生成物は、1000gシリ
カゲル/カラム30×15cmでクロマトグラフィー精
製された(展開剤:酢酸エステル)。46g(85%)
シクロヘキセノンオキシムエーテル。
【0104】
【外4】 δ=0.95(t,3H),1.17−1.96(m,
9H),2.13(m,1H),2.36(m,1H)
,2.43−2,70(m,3H),2.88(m,2
H),3.36(t,2H),4.02(d,2H),
4.15(t,2H),6.00(dt,1H),6.
60(d,1H),6.80−7.20(m,3H),
14.75(s,1H)。
【0105】
【表29】
【0106】
【表30】
【0107】
【表31】
【0108】
【表32】
【0109】
【表33】
【0110】
【表34】
【0111】
【表35】
【0112】
【表36】
【0113】
【表37】
【0114】
【表38】
【0115】
【表39】
【0116】
【表40】
【0117】
【表41】
【0118】
【表42】
【0119】
【表43】
【0120】
【表44】
【0121】
【表45】
【0122】
【表46】
【0123】
【表47】
【0124】
【表48】
【0125】
【表49】
【0126】
【表50】
【0127】
【表51】
【0128】
【表52】
【0129】
【表53】
【0130】
【表54】
【0131】
【表55】
【0132】
【表56】
【0133】
【表57】
【0134】
【表58】
【0135】
【表59】
【0136】
【表60】
【0137】
【表61】 応用実施例 植物成長に対する式Iのシクロヘキセノン誘導体の作用
は、温室実験によって示される:栽培容器としては、培
養土として約3.0%腐植質を含むローム質土壌を入れ
たプラスチック植木鉢が使われた。試験植物の種子が、
種類により別けられてまかれた。
【0138】発芽前処理においては、水中に懸濁された
かまたは乳剤にされた有効物質が播種後に直接微細スプ
レーノズルによって散布された。栽培容器は発芽および
成長を促進するために簡単に散水されてから、次に透明
なプラスチック蓋でカバーされ、植物が成長した。植物
が有効物質によって妨害されない限りでは、このように
カバーすることによって試験植物の同時発芽が可能とな
る。
【0139】発芽後処理の目的のためには、試験植物が
それぞれ成育形状に応じて成長高さが3cm乃至15c
mに達したときにはじめて、水中懸濁または乳化された
有効物質で処理された。発芽後処理の使用量は、0.2
5kg/ヘクタールであった。
【0140】植物は種類に応じて、10−25℃または
20−35℃の温度に保持された。試験期間は、2乃至
4週間続いた。この期間中に植物が育成されて、個々の
処理に対する植物の反応が評価された。
【0141】測定尺度を0から100までに別けて、評
価された。この場合に、100は植物が全く発芽しない
かまたは植物の地上部が少なくとも完全に破壊されるこ
とであり、0は全く損傷がないかまたは正常の成育経過
を示すことである。
【0142】温室試験で使用された植物は、以下の種類
となっている。
【0143】温室試験で使用した植物種は次のものであ
る。 イネ                  (Oryz
a  sativa)エノコログサ         
 (Setaria  viridis)発芽後処理で
0.25kg/ヘクタールの量で処理した場合に、実施
例8.08化合物では望ましくない草本性植物が優れた
除草効果で除去され、同時に栽培植物の実例である稲(
いね)は完全に耐性を有していた。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  次の一般式Iで表わされるシクロヘキ
    セノンオキシムエーテル 【化1】 (ただし、式中置換基は以下の意味を有し、即ち:R1
    がC1−C6−アルキル基;A  が1乃至3個のC1
    −C3−アルキル基、ハロゲン原子を含むことができる
    C2−C6−アルキレンまたはC3−C6−アルケニレ
    ン;Z  が3個の窒素原子および1個の酸素原子また
    は硫黄原子からなる群から選ばれる1乃至3個のヘテロ
    原子を有する5員のヘテロ芳香族環、1乃至4個の窒素
    原子を有する6員のヘテロ芳香族環;X  がアミノ基
    −NRaRbであり、ここにおいてRaが水素、C1−
    C4−アルキル基、C3−C6−アルケニル基またはC
    3−C6−アルキニル基であり、Rbが水素、C1−C
    4−アルキル基、C3−C6−アルケニル基、C3−C
    6−アルキニル基、C1−C6−アシル基またはベンゾ
    イル基であり、ここで芳香族環がなお1乃至3個の次の
    置換基、即ちニトロ、シアノ、ハロゲン、C1−C4−
    アルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アル
    キルチオおよびC1−C4−ハロゲンアルキルを有する
    ことができ、またはニトロ、シアノ、ハロゲン、C1−
    C4−アルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4
    −アルキルチオ、C1−C4−ハロゲンアルキル、C1
    −C4−ハロゲンアルコキシ、カルボキシル、C1−C
    4−アルコキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル
    、フェニルであり、ここで芳香族基はなお1乃至3個の
    次の置換基、即ちニトロ、シアノ、ハロゲン、C1−C
    4−アルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−
    アルキルチオ、C1−C4−ハロゲンアルキル、C1−
    C4−ハロゲンアルキルオキシ、カルボキシル、C1−
    C4−アルコキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
    ルを有することができ;n  が0乃至3またはZがハ
    ロゲン置換ピリジル基を意味している時には1乃至4;
    R2がC1−C4−アルコキシ−C1−C6−アルキル
    −またはC1−C4−アルキルチオ−C1−C6−アル
    キル基;C3−C7−シクロアルキル基またはC5−C
    7−シクロアルケニル基であり、ここでこれらの基がC
    1−C4−アルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−
    C4−アルキルチオ、C1−C4−ハロゲンアルキル、
    ヒドロキシおよびハロゲンからなる群から選ばれる1乃
    至3個の置換基を有することができ;酸素および硫黄か
    ら選ばれる1個乃至2個のヘテロ原子を含む5員の飽和
    複素環基であり、この複素環基がC1−C4−アルキル
    、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオ
    およびC1−C4−ハロゲンアルキルからなる群から選
    ばれる1乃至3個の置換基を有することができ;飽和ま
    たは1個乃至2個の不飽和結合を有する6員または7員
    の複素環基であり、酸素および硫黄から選ばれる1個乃
    至2個のヘテロ原子を有しており、この複素環基がなお
    ヒドロキシ、ハロゲン、C1−C4−アルキル、C1−
    C4−アルコキシ、C1−C4−アルキルチオおよびC
    1−C4−ハロゲンアルキルからなる群から選ばれる1
    個乃至3個の置換基を有することができ;2個の窒素原
    子および1個の酸素原子または硫黄原子からなる群から
    選ばれる1個乃至3個のヘテロ原子を含む5員のヘテロ
    芳香族環基であり、ここでこの環基がなおハロゲン、シ
    アノ、C1−C4−アルキル、C1−C4−アルコキシ
    、C1−C4−アルキルチオ、C1−C4−ハロゲンア
    ルキル、C2−C6−アルケニル、C2−C6−アルケ
    ニルオキシ、C2−C6−ハロゲンアルケニルおよびC
    1−C4−アルコキシ−C1−C4−アルキルからなる
    群から選ばれる1個乃至3個の置換基を有することがで
    き;フェニル基またはピリジル基であり、ここでこれら
    の基がなおハロゲン、ニトロ、シアノ、C1−C4−ア
    ルキル、C1−C4−アルコキシ、C1−C4−アルキ
    ルチオ、C1−C4−ハロゲンアルキル、C3−C6−
    アルケニルオキシ、C3−C6−アルキニルオキシ、C
    1−C4−アルコキシ−C1−C4−アルキルおよびR
    aとRbが上述の意味を有している−NRaRbからな
    る群から選ばれる1個乃至3個の置換基を有することが
    できる)並びに、その農業上利用できるC1−C10−
    カルボン酸および無機酸との塩およびエステル。
  2. 【請求項2】  不活性添加剤および請求項1記載の式
    Iの化合物の少なくとも1種を除草活性有効量含むこと
    を特徴とする除草剤。
JP3101241A 1990-05-09 1991-05-07 シクロヘキセノンオキシムエーテル、およびそれを含有する除草剤 Withdrawn JPH04225957A (ja)

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