JPH04225255A - Cvd装置におけるウェハ−の移載・装填制御方法及びその装置 - Google Patents
Cvd装置におけるウェハ−の移載・装填制御方法及びその装置Info
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- JPH04225255A JPH04225255A JP2413943A JP41394390A JPH04225255A JP H04225255 A JPH04225255 A JP H04225255A JP 2413943 A JP2413943 A JP 2413943A JP 41394390 A JP41394390 A JP 41394390A JP H04225255 A JPH04225255 A JP H04225255A
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体の単結晶を材料で
あるウェハ−上に形成するCVD装置であって,このC
VD装置の反応装置においてウェハ−を熱処理するため
に,所定のストック場所からウェハ−を取り出してボ−
トに対して移載・装填する場合のウェハ−の移載・装填
制御方法及びその装置に関するものである。
あるウェハ−上に形成するCVD装置であって,このC
VD装置の反応装置においてウェハ−を熱処理するため
に,所定のストック場所からウェハ−を取り出してボ−
トに対して移載・装填する場合のウェハ−の移載・装填
制御方法及びその装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来,半導体の単結晶を材料ウェハ−の
上に形成するCVD装置の概要は,図4及び図5に示す
ような構成となっていた。各図において,1はCVD装
置であって無塵室を形成しており,図4はこのCVD装
置内部を示す平面図,図5はこのCVD装置内部を示す
側面図である。各図において,2は移載装置であるロボ
ット本体であって,このロボットのア−ム22の先端に
設けたウェハ−保持部(以下ペン先と略記する)21に
よって材料であるウェハ−のキャリアステ−ジ上のカセ
ット等の一時置き場5からウェハ−6をとってボ−ト3
内部の棚に自動的に移載・装填し,ウェハ−の装填を完
了したボ−ト3は上昇してこの材料ウェハ−6を所要の
熱処理を行う反応装置4に収納する。また,10は本C
VD装置の制御装置,11はその操作盤である。
上に形成するCVD装置の概要は,図4及び図5に示す
ような構成となっていた。各図において,1はCVD装
置であって無塵室を形成しており,図4はこのCVD装
置内部を示す平面図,図5はこのCVD装置内部を示す
側面図である。各図において,2は移載装置であるロボ
ット本体であって,このロボットのア−ム22の先端に
設けたウェハ−保持部(以下ペン先と略記する)21に
よって材料であるウェハ−のキャリアステ−ジ上のカセ
ット等の一時置き場5からウェハ−6をとってボ−ト3
内部の棚に自動的に移載・装填し,ウェハ−の装填を完
了したボ−ト3は上昇してこの材料ウェハ−6を所要の
熱処理を行う反応装置4に収納する。また,10は本C
VD装置の制御装置,11はその操作盤である。
【0003】次に,ボ−ト3とロボット2との詳細な関
係を図6に示す。同図はボ−トの内部を含めて示してい
るCVD装置の移載機構関連部を取り出して示した側面
図で,ボ−ト3の内部には,複数個の溝3Aが上下に並
んでウェハ−6を保持する棚を形成しており,ロボット
2は,ア−ム22を回転移動させ,ア−ム22の先端に
設けたペン先21によってウェハ−6を保持してウェハ
−の一時置き場5からウェハ−6をとってボ−ト3内部
の溝に対して移載し,装填させるようにしている。
係を図6に示す。同図はボ−トの内部を含めて示してい
るCVD装置の移載機構関連部を取り出して示した側面
図で,ボ−ト3の内部には,複数個の溝3Aが上下に並
んでウェハ−6を保持する棚を形成しており,ロボット
2は,ア−ム22を回転移動させ,ア−ム22の先端に
設けたペン先21によってウェハ−6を保持してウェハ
−の一時置き場5からウェハ−6をとってボ−ト3内部
の溝に対して移載し,装填させるようにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで,上述したよ
うにロボット先端のペン先によって,ボ−ト内に設けた
収納用の溝にウェハ−を自動的に装填しようとすると,
次の事態を生じることがあった。即ち,一般に,ウェハ
−の厚さは0.6 ミリ位,ボ−トの溝はこれよりも若
干大の厚さという微小間隔に形成されるので,搭載すべ
きウェハ−が熱等の原因で若干の反りがあるような場合
には,ロボットのペン先に保持するウェハ−とボ−トの
収納棚との対向位置にずれを生じてウェハ−がボ−ト内
に装填(収納)されず,ボ−トの外周に接触(衝突)す
ることになる。このような衝突が起きた場合には,別途
設けられるセンサによりウェハ−の装填失敗が検知され
る。
うにロボット先端のペン先によって,ボ−ト内に設けた
収納用の溝にウェハ−を自動的に装填しようとすると,
次の事態を生じることがあった。即ち,一般に,ウェハ
−の厚さは0.6 ミリ位,ボ−トの溝はこれよりも若
干大の厚さという微小間隔に形成されるので,搭載すべ
きウェハ−が熱等の原因で若干の反りがあるような場合
には,ロボットのペン先に保持するウェハ−とボ−トの
収納棚との対向位置にずれを生じてウェハ−がボ−ト内
に装填(収納)されず,ボ−トの外周に接触(衝突)す
ることになる。このような衝突が起きた場合には,別途
設けられるセンサによりウェハ−の装填失敗が検知され
る。
【0005】従来のものでは,このようなウェハ−の装
填失敗が起きた場合,操作員がロボットに動作を教えて
そのウェハ−を再度移動して装填させるか,あるいは操
作員がCVD装置が配置されている室内に入ってそのウ
ェハ−を手動でボ−ト内に装填させるようにしていた。 しかしながら,ロボットに動作を教えて再度ウェハ−を
適正に装填させるように移動させる操作は時間がかかり
,また操作員がCVD装置の配置されている室内に入っ
てウェハ−をボ−トに装填させることは無塵室に塵埃を
持ち込む原因になって製品品質に影響する恐れがあり,
またロボットが動いた場合には操作員に危険が生じる恐
れもあった。本発明は従来のものの上記問題点(課題)
を解決するようにしたCVD装置におけるウェハ−の移
載・装填制御方法及びその制御装置を提供することを目
的とする。
填失敗が起きた場合,操作員がロボットに動作を教えて
そのウェハ−を再度移動して装填させるか,あるいは操
作員がCVD装置が配置されている室内に入ってそのウ
ェハ−を手動でボ−ト内に装填させるようにしていた。 しかしながら,ロボットに動作を教えて再度ウェハ−を
適正に装填させるように移動させる操作は時間がかかり
,また操作員がCVD装置の配置されている室内に入っ
てウェハ−をボ−トに装填させることは無塵室に塵埃を
持ち込む原因になって製品品質に影響する恐れがあり,
またロボットが動いた場合には操作員に危険が生じる恐
れもあった。本発明は従来のものの上記問題点(課題)
を解決するようにしたCVD装置におけるウェハ−の移
載・装填制御方法及びその制御装置を提供することを目
的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
,本願の第1の発明であるCVD装置におけるウェハ−
の移載・装填制御方法では,ウェハ−がボ−トに対して
装填できなかったときに次の順序動作によってこのウェ
ハ−の移載・装填制御を行うように構成している。■ウ
ェハ−の装填失敗を検知した自動移載装置が警報を通報
する。■上記通報を確認した操作員がタッチパネルによ
りロボットの移載高さが所要のものとなるように選択す
る。■自動移載装置は,■で選択された移載高さによっ
てウェハ−をボ−トに対して移動させ,ウェハ−をボ−
トに対して装填させる。■上記■,■の動作をウェハ−
がボ−トに装填されるまで繰り返す。
,本願の第1の発明であるCVD装置におけるウェハ−
の移載・装填制御方法では,ウェハ−がボ−トに対して
装填できなかったときに次の順序動作によってこのウェ
ハ−の移載・装填制御を行うように構成している。■ウ
ェハ−の装填失敗を検知した自動移載装置が警報を通報
する。■上記通報を確認した操作員がタッチパネルによ
りロボットの移載高さが所要のものとなるように選択す
る。■自動移載装置は,■で選択された移載高さによっ
てウェハ−をボ−トに対して移動させ,ウェハ−をボ−
トに対して装填させる。■上記■,■の動作をウェハ−
がボ−トに装填されるまで繰り返す。
【0007】また,第2の発明であるウェハ−の移載・
装填制御装置では,ウェハ−がボ−トに対して装填でき
なかったときは,タッチパネルの操作によって,その移
載高さを所要値のものとなるように選択し,自動移載手
段によって移載されるウェハ−のボ−トに対する移載高
さを自動的に制御するように構成している。
装填制御装置では,ウェハ−がボ−トに対して装填でき
なかったときは,タッチパネルの操作によって,その移
載高さを所要値のものとなるように選択し,自動移載手
段によって移載されるウェハ−のボ−トに対する移載高
さを自動的に制御するように構成している。
【0008】
【作用】上述した第1の発明によれば,ボ−トへの装填
に失敗したウェハ−をセンサからの自動報知によって操
作員がタッチパネルの操作で移載高さを選択することに
より,自動移載装置がその移載高さを所要の高さに調整
して前記ウェハ−を再度ボ−トに対して移動し,ボ−ト
への装填を行うものである。もし,一回目の移載再処理
動作で装填ができなかったときは,その移載高さを繰り
返し,調整してウェハ−を移載し,ボ−トへの装填を実
現させる。
に失敗したウェハ−をセンサからの自動報知によって操
作員がタッチパネルの操作で移載高さを選択することに
より,自動移載装置がその移載高さを所要の高さに調整
して前記ウェハ−を再度ボ−トに対して移動し,ボ−ト
への装填を行うものである。もし,一回目の移載再処理
動作で装填ができなかったときは,その移載高さを繰り
返し,調整してウェハ−を移載し,ボ−トへの装填を実
現させる。
【0009】また,第2の発明によれば,上記のボ−ト
への装填失敗のウェハ−に対して,移載高さを調整して
行う移載・装填の再処理制御を,操作員のパネル操作に
基づいて制御装置からの指令によって自動的に行われる
。第1及び第2の各発明とも,このような再処理制御の
結果,ウェハ−がボ−トに装填された後は,自動移載装
置は所定のシ−ケンスによる移載作業に復帰し,CVD
装置は所定の作業を継続する。上述の如く自動移載装置
が所定の移載作業に復帰するので,CVD装置は所定の
作業を継続する。従って,このCVD装置の制御装置ま
たは自動移載装置に複雑な自動制御機能を設けることな
く,たとえ,装填失敗のウェハ−が発生しても,操作員
が無塵室に入り込み,また自動移載装置に接近する必要
がなく,ほとんど遅滞することなく正規の運転に復帰で
きる。
への装填失敗のウェハ−に対して,移載高さを調整して
行う移載・装填の再処理制御を,操作員のパネル操作に
基づいて制御装置からの指令によって自動的に行われる
。第1及び第2の各発明とも,このような再処理制御の
結果,ウェハ−がボ−トに装填された後は,自動移載装
置は所定のシ−ケンスによる移載作業に復帰し,CVD
装置は所定の作業を継続する。上述の如く自動移載装置
が所定の移載作業に復帰するので,CVD装置は所定の
作業を継続する。従って,このCVD装置の制御装置ま
たは自動移載装置に複雑な自動制御機能を設けることな
く,たとえ,装填失敗のウェハ−が発生しても,操作員
が無塵室に入り込み,また自動移載装置に接近する必要
がなく,ほとんど遅滞することなく正規の運転に復帰で
きる。
【0010】
【実施例】以下図1〜図3に示す一実施例について本発
明を具体的に説明する。図1は,本発明の説明に関連す
る自動移載装置を含むCVD装置の制御装置,即ち,従
来技術の説明に使用した図4〜5の制御装置10の内容
に対応するブロック回路図であって,反応装置,ボ−ト
等の制御機能,自動移載装置の自動位置決め機能等に関
するセンサやアクチュエ−タ等の制御部品や加熱炉機能
と回路及び電源回路等は,ここでは図示を省略している
。図1において,30はCVD装置全体の制御装置,3
1は自動移載装置であるロボット(以下ロボットと記す
)の制御装置,32は反応装置及びボ−トの制御装置で
ある。また,33はロボットの腕(図4,5に図示)の
先端に設けたウェハ−保持機能(以下ペン先と記す)(
図4,5に図示)に装着された近接スイッチ等の装填に
失敗したウェハ−を検知するセンサ,34はブザ−等の
装填失敗を通報する報知装置,35は本CVD装置の集
中操作盤である。36はこの集中操作盤に設けたタッチ
パネルで図3に示すようにロボットに対して装填失敗処
理フロ−を開始するYES釦スイッチ36a,移載高さ
を選択するための複数個の選択釦スイッチ36b,操作
員の判断により装填失敗処理フロ−終了を手動で報知し
て所定の作業復帰を指令するNO釦スイッチ36Cとを
備えている。
明を具体的に説明する。図1は,本発明の説明に関連す
る自動移載装置を含むCVD装置の制御装置,即ち,従
来技術の説明に使用した図4〜5の制御装置10の内容
に対応するブロック回路図であって,反応装置,ボ−ト
等の制御機能,自動移載装置の自動位置決め機能等に関
するセンサやアクチュエ−タ等の制御部品や加熱炉機能
と回路及び電源回路等は,ここでは図示を省略している
。図1において,30はCVD装置全体の制御装置,3
1は自動移載装置であるロボット(以下ロボットと記す
)の制御装置,32は反応装置及びボ−トの制御装置で
ある。また,33はロボットの腕(図4,5に図示)の
先端に設けたウェハ−保持機能(以下ペン先と記す)(
図4,5に図示)に装着された近接スイッチ等の装填に
失敗したウェハ−を検知するセンサ,34はブザ−等の
装填失敗を通報する報知装置,35は本CVD装置の集
中操作盤である。36はこの集中操作盤に設けたタッチ
パネルで図3に示すようにロボットに対して装填失敗処
理フロ−を開始するYES釦スイッチ36a,移載高さ
を選択するための複数個の選択釦スイッチ36b,操作
員の判断により装填失敗処理フロ−終了を手動で報知し
て所定の作業復帰を指令するNO釦スイッチ36Cとを
備えている。
【0011】上述した集中操作盤35及びタッチパネル
36は,本CVD装置を構成する無塵室の所定の1箇所
の外面部等の後述するようにロボットの腕の移動に支障
がなく,また,本CVD装置を操作するに適切な場所に
設けることが望ましいが,困難な場合には,集中操作盤
35及びタッチパネル36の各本体は適当な位置に配設
し,操作用の釦スイッチ36a,36b等,所定の操作
用のスイッチをまとめて現場操作盤として上記適切な場
所に配設しても良い。また,集中操作盤35は操作項目
が少ないときは,タッチパネル36中に一括内蔵するよ
うにしても良い。さらに,本発明は反応装置の直下に配
置されるボ−トにに対してウェハ−をロボットから移載
する場合の実施例(図6)で説明したが,ロボットから
ボ−トハンドラ−,支持テ−ブルを介して反応装置に移
載するように配置したボ−トに対しても適用可能である
。
36は,本CVD装置を構成する無塵室の所定の1箇所
の外面部等の後述するようにロボットの腕の移動に支障
がなく,また,本CVD装置を操作するに適切な場所に
設けることが望ましいが,困難な場合には,集中操作盤
35及びタッチパネル36の各本体は適当な位置に配設
し,操作用の釦スイッチ36a,36b等,所定の操作
用のスイッチをまとめて現場操作盤として上記適切な場
所に配設しても良い。また,集中操作盤35は操作項目
が少ないときは,タッチパネル36中に一括内蔵するよ
うにしても良い。さらに,本発明は反応装置の直下に配
置されるボ−トにに対してウェハ−をロボットから移載
する場合の実施例(図6)で説明したが,ロボットから
ボ−トハンドラ−,支持テ−ブルを介して反応装置に移
載するように配置したボ−トに対しても適用可能である
。
【0012】次に上述の回路における本発明の動作を図
2に示すフロ−チャ−ト図によって説明する。ロボット
がウェハ−を反応装置近傍に配設されたボ−トへの移載
装填作業中にロボットの保持機能のペン先または保持ウ
ェハ−がボ−トの外周に衝突しウェハ−がボ−トに対し
て装填失敗したことをセンサ33が検知すると(ステッ
プ1),ロボットの制御装置31はロボットの運転を一
時停止させ(ステップ2),制御装置30は装填失敗の
報知装置34によって警報を操作員に通報する(ステッ
プ3)。一方,センサ33からの検知信号に基づいて,
タッチパネル36上には,図3に示すように「ペン先衝
突,再トライしますか」というメッセ−ジと共に,各釦
スイッチ36a〜36cが表示される。従って,操作員
は先ず,タッチパネル36中のYES釦スイッチ36a
を押圧した後,ボ−トに対して衝突しているウェハ−の
状態を目視で確認し,より適正と思われる移載高さを選
択釦スイッチ36bで選択する(ステップ4)。たとえ
ば,+0.3を選択した場合には,ロボットは前回より
も上方に0.3ミリ移載高さを上げた状態でボ−トへ移
動することになる。このように選択釦スイッチ36bを
操作すると,ロボットの制御装置31は,継続中であっ
た作業フロ−を一時ホ−ルドして上記選択釦スイッチの
指示に基づいて,ロボット本体の回転及び各腕の回転,
伸縮等の動作を行い,たとえば0.3ミリ上方へ移載高
さを変更し,ロボットのペン先部は前記ウェハ−を保持
してボ−トに対して再度移動し,ウェハ−をボ−トの棚
に装填させる動作を行う(ステップ5)。この再処理動
作によってウェハ−がボ−トに円滑に装填されたか否か
は,センサ33の監視によってチエックされる(ステッ
プ6)。この結果,ウェハ−がボ−トに装填されたとき
は再処理フロ−は自動的に終了されるが,再度,装填に
失敗したときは,センサ33の検知に基づき報知装置3
4により報知されるので,上記ステップ1〜6の各動作
を繰り返し,ウェハ−を装填するための再処理フロ−が
繰り返される。
2に示すフロ−チャ−ト図によって説明する。ロボット
がウェハ−を反応装置近傍に配設されたボ−トへの移載
装填作業中にロボットの保持機能のペン先または保持ウ
ェハ−がボ−トの外周に衝突しウェハ−がボ−トに対し
て装填失敗したことをセンサ33が検知すると(ステッ
プ1),ロボットの制御装置31はロボットの運転を一
時停止させ(ステップ2),制御装置30は装填失敗の
報知装置34によって警報を操作員に通報する(ステッ
プ3)。一方,センサ33からの検知信号に基づいて,
タッチパネル36上には,図3に示すように「ペン先衝
突,再トライしますか」というメッセ−ジと共に,各釦
スイッチ36a〜36cが表示される。従って,操作員
は先ず,タッチパネル36中のYES釦スイッチ36a
を押圧した後,ボ−トに対して衝突しているウェハ−の
状態を目視で確認し,より適正と思われる移載高さを選
択釦スイッチ36bで選択する(ステップ4)。たとえ
ば,+0.3を選択した場合には,ロボットは前回より
も上方に0.3ミリ移載高さを上げた状態でボ−トへ移
動することになる。このように選択釦スイッチ36bを
操作すると,ロボットの制御装置31は,継続中であっ
た作業フロ−を一時ホ−ルドして上記選択釦スイッチの
指示に基づいて,ロボット本体の回転及び各腕の回転,
伸縮等の動作を行い,たとえば0.3ミリ上方へ移載高
さを変更し,ロボットのペン先部は前記ウェハ−を保持
してボ−トに対して再度移動し,ウェハ−をボ−トの棚
に装填させる動作を行う(ステップ5)。この再処理動
作によってウェハ−がボ−トに円滑に装填されたか否か
は,センサ33の監視によってチエックされる(ステッ
プ6)。この結果,ウェハ−がボ−トに装填されたとき
は再処理フロ−は自動的に終了されるが,再度,装填に
失敗したときは,センサ33の検知に基づき報知装置3
4により報知されるので,上記ステップ1〜6の各動作
を繰り返し,ウェハ−を装填するための再処理フロ−が
繰り返される。
【0013】数回に亙る再処理フロ−動作にもかかわら
ず,ウェハ−が装填されない場合,あるいは,当初の通
報時の目視によってもウェハ−の状態が悪く,(たとえ
ば,反りが大)装填が不能であると操作員が判断したと
きは,NO釦スイッチ36cを操作することにより,再
処理フロ−は終了する。(この場合は,別のプログラム
シ−ケンスにより,この不良ウェハ−は外部に除去され
る。)再処理フロ−の終了に伴い,ロボットは中断時の
作業に復帰し,次のウェハ−を取ってボ−トの棚に移載
し装填する。また,CVD装置全体としても,中断した
作業に復帰するので,制御装置に記録された所定の作業
を継続実施する。
ず,ウェハ−が装填されない場合,あるいは,当初の通
報時の目視によってもウェハ−の状態が悪く,(たとえ
ば,反りが大)装填が不能であると操作員が判断したと
きは,NO釦スイッチ36cを操作することにより,再
処理フロ−は終了する。(この場合は,別のプログラム
シ−ケンスにより,この不良ウェハ−は外部に除去され
る。)再処理フロ−の終了に伴い,ロボットは中断時の
作業に復帰し,次のウェハ−を取ってボ−トの棚に移載
し装填する。また,CVD装置全体としても,中断した
作業に復帰するので,制御装置に記録された所定の作業
を継続実施する。
【0014】
【発明の効果】上述したように本発明によれば,ボ−ト
への装填に失敗したウェハ−の報知によって,操作員が
タッチパネルを操作することにより,自動移載装置が上
記ウェハ−を移載高さが調整された状態でボ−トへ再度
移載されるという再処理フロ−動作を以下自動的に行っ
てボ−トへの装填をさせるものであるが,1回の再処理
動作で装填ができなかったときは,再処理フロ−動作が
自動的に繰り返されることによってタッチパネルにより
移載高さの調整をさらに行い,装填のための再トライを
簡単な操作で行うようにしたものであるから,次に述べ
るような優れた効果を有する。
への装填に失敗したウェハ−の報知によって,操作員が
タッチパネルを操作することにより,自動移載装置が上
記ウェハ−を移載高さが調整された状態でボ−トへ再度
移載されるという再処理フロ−動作を以下自動的に行っ
てボ−トへの装填をさせるものであるが,1回の再処理
動作で装填ができなかったときは,再処理フロ−動作が
自動的に繰り返されることによってタッチパネルにより
移載高さの調整をさらに行い,装填のための再トライを
簡単な操作で行うようにしたものであるから,次に述べ
るような優れた効果を有する。
【0015】■複雑な自動制御機能を設ける必要がない
。
。
【0016】■従って,低コストの制御装置が得られる
。
。
【0017】■操作員が無塵室に入り込む必要がなく,
従って害になる塵埃が無塵室に入らない。
従って害になる塵埃が無塵室に入らない。
【0018】■操作員がロボット(自動移載装置)に接
近する必要がなく,従って安全である
近する必要がなく,従って安全である
【0019】■装填失敗のウェハ−の再トライ操作の制
御を外部から簡単な操作で実施できる
御を外部から簡単な操作で実施できる
【図1】本発明の一実施例を示すブロック回路図である
。
。
【図2】本発明による動作フロ−を示すフロ−チャ−ト
図である。
図である。
【図3】本発明のタッチパネルの表示画面を示す平面図
である。
である。
【図4】従来例の問題点を説明するために描いたもので
,CVD装置とロボット(自動移載装置)を含む無塵室
内の主要構成を示す平面図である。
,CVD装置とロボット(自動移載装置)を含む無塵室
内の主要構成を示す平面図である。
【図5】図4の主要構成の側面図である。
【図6】図4及び図5に示した主要構成中の反応装置の
ボ−トとロボット(自動移載装置)との相関関係を示す
側面図である。
ボ−トとロボット(自動移載装置)との相関関係を示す
側面図である。
2:自動移載装置(ロボット)本体
3:ボ−ト
4:反応装置
6:ウェハ−
21:ウェハ−の保持装置(ペン先)
30:CVD装置全体の制御装置
31:自動移載装置(ロボット)の制御装置33:装填
失敗のウェハ−のセンサ 34:装填失敗の報知装置 35:集中操作盤 36:タッチパネル 36b:選択釦スイッチ
失敗のウェハ−のセンサ 34:装填失敗の報知装置 35:集中操作盤 36:タッチパネル 36b:選択釦スイッチ
Claims (2)
- 【請求項1】 ボ−トに対して材料であるウェハ−を
ロボットにより自動的に移載・装填するようにしたCV
D装置において,ウェハ−がボ−トに対して装填できな
かったときに次の順序動作によってこのウェハ−の移載
・装填制御を行うようにしたことを特徴とするCVD装
置におけるウェハ−の移載・装填制御方法。■ウェハ−
の装填失敗を検知した自動移載装置が警報を通報する。 ■上記通報を確認した操作員がタッチパネルによりロボ
ットの移載高さが所要のものとなるように選択する。■
自動移載装置は,■で選択された移載高さによってウェ
ハ−をボ−トに対して移動させ,ウェハ−をボ−トに対
して装填させる。■上記■,■の動作をウェハ−がボ−
トに装填されるまで繰り返す。 - 【請求項2】 ボ−トに対して材料であるウェハ−を
自動的に移載・装填するようにしたCVD装置において
,ウェハ−がボ−トに対して装填できなかったときは,
タッチパネルの操作によって,その移載高さを所要値の
ものとなるように選択し,自動移載手段によって移載さ
れるウェハ−のボ−トに対する移載高さを自動的に制御
するようにしたことを特徴とするCVD装置におけるウ
ェハ−の移載・装填制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2413943A JPH04225255A (ja) | 1990-12-26 | 1990-12-26 | Cvd装置におけるウェハ−の移載・装填制御方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2413943A JPH04225255A (ja) | 1990-12-26 | 1990-12-26 | Cvd装置におけるウェハ−の移載・装填制御方法及びその装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04225255A true JPH04225255A (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=18522492
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2413943A Pending JPH04225255A (ja) | 1990-12-26 | 1990-12-26 | Cvd装置におけるウェハ−の移載・装填制御方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04225255A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10157848A (ja) * | 1996-11-27 | 1998-06-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板の回収装置 |
JP2009135433A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-06-18 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
-
1990
- 1990-12-26 JP JP2413943A patent/JPH04225255A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10157848A (ja) * | 1996-11-27 | 1998-06-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板の回収装置 |
JP2009135433A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-06-18 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
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