JPH04218216A - 酸化物超電導線材の製造方法 - Google Patents
酸化物超電導線材の製造方法Info
- Publication number
- JPH04218216A JPH04218216A JP3077889A JP7788991A JPH04218216A JP H04218216 A JPH04218216 A JP H04218216A JP 3077889 A JP3077889 A JP 3077889A JP 7788991 A JP7788991 A JP 7788991A JP H04218216 A JPH04218216 A JP H04218216A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- oxide superconducting
- base material
- tape
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 94
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 claims description 15
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 claims description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 4
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 8
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910001233 yttria-stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、酸化物超電導線材の
製造方法に関するもので、特に、テープ状基材上に酸化
物超電導層が形成されてなる酸化物超電導線材の製造方
法に関するものである。
製造方法に関するもので、特に、テープ状基材上に酸化
物超電導層が形成されてなる酸化物超電導線材の製造方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】テープ状基材上に酸化物超電導層を形成
してなる酸化物超電導線材を製造しようとするとき、超
電導層の形成には、たとえば気相法が用いられる。
してなる酸化物超電導線材を製造しようとするとき、超
電導層の形成には、たとえば気相法が用いられる。
【０００３】このような気相法を用いて製造される酸化
物超電導線材においては、通常、テープ状基材上に、基
材と超電導層との拡散を防ぐバッファ層、超電導層、超
電導状態の熱じょう乱によるクエンチを防ぐ安定化層が
それぞれ形成される。
物超電導線材においては、通常、テープ状基材上に、基
材と超電導層との拡散を防ぐバッファ層、超電導層、超
電導状態の熱じょう乱によるクエンチを防ぐ安定化層が
それぞれ形成される。
【０００４】気相法のうち、レーザアブレーション法は
、超電導層を、高速（１μｍ／分以上）でかつ高い品質
をもって形成できる方法であることが確認されている。
、超電導層を、高速（１μｍ／分以上）でかつ高い品質
をもって形成できる方法であることが確認されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、テー
プ状基材上に、超電導層に加えて、バッファ層および安
定化層が形成される酸化物超電導線材の製造において、
バッファ層および安定化層は、いずれも、超電導層とは
別の種類の形成方法によって形成されていた。そのため
、これらバッファ層および安定化層のような機能層の形
成と、超電導層の形成とを、タンデム形式の連続した工
程によって行なうことが困難であった。なぜなら、異な
る種類の形成方法のすべてについて、最適な成膜速度範
囲が一致することは極めて稀であり、それゆえに、タン
デム形式で複数工程を連続させることは、成膜速度およ
びラインの速度を同期させる上で無理があったためであ
る。
プ状基材上に、超電導層に加えて、バッファ層および安
定化層が形成される酸化物超電導線材の製造において、
バッファ層および安定化層は、いずれも、超電導層とは
別の種類の形成方法によって形成されていた。そのため
、これらバッファ層および安定化層のような機能層の形
成と、超電導層の形成とを、タンデム形式の連続した工
程によって行なうことが困難であった。なぜなら、異な
る種類の形成方法のすべてについて、最適な成膜速度範
囲が一致することは極めて稀であり、それゆえに、タン
デム形式で複数工程を連続させることは、成膜速度およ
びラインの速度を同期させる上で無理があったためであ
る。
【０００６】したがって、上述のような酸化物超電導線
材を製造するには、長時間必要とし、そのため、製造コ
ストも高いものであった。
材を製造するには、長時間必要とし、そのため、製造コ
ストも高いものであった。
【０００７】それゆえに、この発明の目的は、製造時間
の短縮およびコスト低減を可能にする、酸化物超電導線
材の製造方法を提供しようとすることである。
の短縮およびコスト低減を可能にする、酸化物超電導線
材の製造方法を提供しようとすることである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明は、テープ状基
材上に酸化物超電導層および前記酸化物超電導層に接す
る少なくとも１つの機能層が積層されてなる酸化物超電
導線材の製造方法に向けられるものであって、上述した
技術的課題を解決するため、次のような構成を備えるこ
とを特徴としている。
材上に酸化物超電導層および前記酸化物超電導層に接す
る少なくとも１つの機能層が積層されてなる酸化物超電
導線材の製造方法に向けられるものであって、上述した
技術的課題を解決するため、次のような構成を備えるこ
とを特徴としている。
【０００９】まず、この発明では、酸化物超電導層の形
成にレーザアブレーション法が用いられ、そして、酸化
物超電導層に接する少なくとも１つの機能層も、また、
レーザアブレーション法により形成される。このように
することにより、これら超電導層および少なくとも１つ
の機能層の形成は、タンデム形式の連続した工程によっ
て行なわれる。
成にレーザアブレーション法が用いられ、そして、酸化
物超電導層に接する少なくとも１つの機能層も、また、
レーザアブレーション法により形成される。このように
することにより、これら超電導層および少なくとも１つ
の機能層の形成は、タンデム形式の連続した工程によっ
て行なわれる。
【００１０】上述したように、酸化物超電導層とともに
レーザアブレーション法による形成が適用される機能層
としては、種々のものがある。
レーザアブレーション法による形成が適用される機能層
としては、種々のものがある。
【００１１】たとえば、テープ状基材上に、バッファ層
が形成され、その上に酸化物超電導層が形成され、さら
にその上に安定化層が形成された酸化物超電導線材の製
造においては、酸化物超電導層の形成に加えて、バッフ
ァ層の形成、もしくは安定化層の形成、またはこれらバ
ッファ層および安定化層の形成に、レーザアブレーショ
ン法を適用することができる。
が形成され、その上に酸化物超電導層が形成され、さら
にその上に安定化層が形成された酸化物超電導線材の製
造においては、酸化物超電導層の形成に加えて、バッフ
ァ層の形成、もしくは安定化層の形成、またはこれらバ
ッファ層および安定化層の形成に、レーザアブレーショ
ン法を適用することができる。
【００１２】また、テープ状基材上に、酸化物超電導層
が形成され、その上にバッファ層が形成され、さらにそ
の上に安定化層が形成される酸化物超電導線材の製造に
おいては、バッファ層の形成、またはバッファ層および
安定化層の形成にレーザアブレーション法を適用するこ
とができる。
が形成され、その上にバッファ層が形成され、さらにそ
の上に安定化層が形成される酸化物超電導線材の製造に
おいては、バッファ層の形成、またはバッファ層および
安定化層の形成にレーザアブレーション法を適用するこ
とができる。
【００１３】また、テープ状基材上に、第１のバッファ
層が形成され、その上に酸化物超電導層が形成され、さ
らにその上に第２のバッファ層が形成され、さらにその
上に安定化層が形成された酸化物超電導線材の製造にお
いては、第１のバッファ層の形成、第２のバッファ層の
形成、第１および第２のバッファ層の形成、または第１
および第２のバッファ層ならびに安定化層の形成に、レ
ーザアブレーション法を適用することができる。
層が形成され、その上に酸化物超電導層が形成され、さ
らにその上に第２のバッファ層が形成され、さらにその
上に安定化層が形成された酸化物超電導線材の製造にお
いては、第１のバッファ層の形成、第２のバッファ層の
形成、第１および第２のバッファ層の形成、または第１
および第２のバッファ層ならびに安定化層の形成に、レ
ーザアブレーション法を適用することができる。
【００１４】
【作用】レーザアブレーション法によれば、バッファ層
、安定化層のような機能層を、高速の成膜速度によって
形成しても、良好な品質を得ることができる。したがっ
て、高速成膜で高品質が得られる酸化物超電導層のレー
ザアブレーション法による形成に連続して、バッファ層
、安定化層のような機能層を、同じレーザアブレーショ
ン法によって形成することができる。
、安定化層のような機能層を、高速の成膜速度によって
形成しても、良好な品質を得ることができる。したがっ
て、高速成膜で高品質が得られる酸化物超電導層のレー
ザアブレーション法による形成に連続して、バッファ層
、安定化層のような機能層を、同じレーザアブレーショ
ン法によって形成することができる。
【００１５】
【発明の効果】したがって、この発明によれば、酸化物
超電導層の形成に加えて、バッファ層、安定化層のよう
な機能層の形成も、ともにレーザアブレーション法によ
りタンデム形式の連続した工程をもって行なうことがで
きるので、酸化物超電導線材の製造の高速化を図れ、製
造コストの低減を可能にするとともに、装置の簡略化を
図ることができる。
超電導層の形成に加えて、バッファ層、安定化層のよう
な機能層の形成も、ともにレーザアブレーション法によ
りタンデム形式の連続した工程をもって行なうことがで
きるので、酸化物超電導線材の製造の高速化を図れ、製
造コストの低減を可能にするとともに、装置の簡略化を
図ることができる。
【００１６】また、レーザアブレーション法は、用いら
れるレーザ光の繰返し周波数を変えることにより、成膜
速度を調整することが容易である。そのため、タンデム
形式の連続した工程を採用しても、酸化物超電導層およ
び機能層の各々について、最適な成膜速度を設定するこ
とを容易に行なえる。
れるレーザ光の繰返し周波数を変えることにより、成膜
速度を調整することが容易である。そのため、タンデム
形式の連続した工程を採用しても、酸化物超電導層およ
び機能層の各々について、最適な成膜速度を設定するこ
とを容易に行なえる。
【００１７】
【実施例】図１は、この発明の一実施例を実施している
状態を示している。
状態を示している。
【００１８】長尺の可撓性を有するテープ状基材１は、
サプライチャンバ２内のリール３から引出され、第１の
成膜チャンバ４およびこれに後続する第２の成膜チャン
バ５を通った後、巻取チャンバ６内のリール７に巻取ら
れる。
サプライチャンバ２内のリール３から引出され、第１の
成膜チャンバ４およびこれに後続する第２の成膜チャン
バ５を通った後、巻取チャンバ６内のリール７に巻取ら
れる。
【００１９】第１の成膜チャンバ４内には、バッファ層
となるべき、たとえばＭｇＯからなるターゲット８が配
置される。ターゲット８には、レーザ９によって発生さ
れたレーザ光が照射される。これによって、ターゲット
８から飛散した粒子は、バッファ層を形成するように、
テープ状基材１上に堆積される。
となるべき、たとえばＭｇＯからなるターゲット８が配
置される。ターゲット８には、レーザ９によって発生さ
れたレーザ光が照射される。これによって、ターゲット
８から飛散した粒子は、バッファ層を形成するように、
テープ状基材１上に堆積される。
【００２０】また、第２の成膜チャンバ５内には、酸化
物超電導層となるべき、たとえばＹ１ Ｂａ２ Ｃｕ３
Ｏ７−ｙ からなるターゲット１０が配置される。タ
ーゲット１０には、レーザ１１から発生されたレーザ光
が照射される。これによって、ターゲット１０から飛散
した粒子は、酸化物超電導層を形成するように、テープ
状基材１上のバッファ層上に堆積される。
物超電導層となるべき、たとえばＹ１ Ｂａ２ Ｃｕ３
Ｏ７−ｙ からなるターゲット１０が配置される。タ
ーゲット１０には、レーザ１１から発生されたレーザ光
が照射される。これによって、ターゲット１０から飛散
した粒子は、酸化物超電導層を形成するように、テープ
状基材１上のバッファ層上に堆積される。
【００２１】図１に示した装置において、サプライチャ
ンバ２から第１および第２の成膜チャンバ４および５を
経て巻取チャンバ６に至るまで、閉じられた空間または
実質的に閉じられた空間を形成している。第１および第
２の成膜チャンバ４および５内に、所望の雰囲気を形成
できるようにするためである。
ンバ２から第１および第２の成膜チャンバ４および５を
経て巻取チャンバ６に至るまで、閉じられた空間または
実質的に閉じられた空間を形成している。第１および第
２の成膜チャンバ４および５内に、所望の雰囲気を形成
できるようにするためである。
【００２２】以下に、図１に示した装置を用いて行なっ
た実験例について説明する。
た実験例について説明する。
【００２３】実験例１
テープ状基材１として、厚さ０．１ｍｍのステンレス鋼
からなるテープを用いた。第１の成膜チャンバ４におい
て、ＭｇＯからなるターゲット８を、ＫｒＦエキシマレ
ーザ光によってアブレーションし、ＭｇＯからなる厚さ
０．２μｍのバッファ層をテープ状基材１上に形成した
。さらに、第２の成膜チャンバ５において、Ｙ１ Ｂａ
２ Ｃｕ３ Ｏ７−ｙ からなるターゲット１０を、Ｋ
ｒＦエキシマレーザ光によってアブレーションし、バッ
ファ層が形成されたテープ状基材１上に、Ｙ１ Ｂａ２
Ｃｕ３ Ｏ７−ｙ からなる酸化物超電導層を形成し
た。
からなるテープを用いた。第１の成膜チャンバ４におい
て、ＭｇＯからなるターゲット８を、ＫｒＦエキシマレ
ーザ光によってアブレーションし、ＭｇＯからなる厚さ
０．２μｍのバッファ層をテープ状基材１上に形成した
。さらに、第２の成膜チャンバ５において、Ｙ１ Ｂａ
２ Ｃｕ３ Ｏ７−ｙ からなるターゲット１０を、Ｋ
ｒＦエキシマレーザ光によってアブレーションし、バッ
ファ層が形成されたテープ状基材１上に、Ｙ１ Ｂａ２
Ｃｕ３ Ｏ７−ｙ からなる酸化物超電導層を形成し
た。
【００２４】この場合、重要なことは、第１の成膜チャ
ンバ４および第２の成膜チャンバ５の各々におけるテー
プ状基材１の速度を同じにすることである。
ンバ４および第２の成膜チャンバ５の各々におけるテー
プ状基材１の速度を同じにすることである。
【００２５】第２の成膜チャンバ５におけるＹ１ Ｂａ
２ Ｃｕ３ Ｏ７−ｙ からなる酸化物超電導層の形成
を、レーザ光の繰返し周波数が２００Ｈｚ、成膜速度が
３μｍ／分の条件で行なったとき、臨界電流密度が１０
６ Ａ／ｃｍ２ 以上の酸化物超電導層を形成すること
が可能である。 このとき、１μｍの厚さをもって酸化物超電導層を形成
するには、３ｃｍ／分の速度をもってテープ状基材１を
搬送する必要がある。レーザアブレーション法によって
、厚さ０．２μｍのバッファ層を、これに先立って、か
つ３ｃｍ／分の速度を保って形成するには、ＫｒＦレー
ザ光のエネルギが２００ｍＪ、ＭｇＯのターゲット８上
でのエネルギ密度が２．８Ｊ／ｃｍ２ であって、繰返
し周波数を３４Ｈｚで行なえばよいことを確認できた。
２ Ｃｕ３ Ｏ７−ｙ からなる酸化物超電導層の形成
を、レーザ光の繰返し周波数が２００Ｈｚ、成膜速度が
３μｍ／分の条件で行なったとき、臨界電流密度が１０
６ Ａ／ｃｍ２ 以上の酸化物超電導層を形成すること
が可能である。 このとき、１μｍの厚さをもって酸化物超電導層を形成
するには、３ｃｍ／分の速度をもってテープ状基材１を
搬送する必要がある。レーザアブレーション法によって
、厚さ０．２μｍのバッファ層を、これに先立って、か
つ３ｃｍ／分の速度を保って形成するには、ＫｒＦレー
ザ光のエネルギが２００ｍＪ、ＭｇＯのターゲット８上
でのエネルギ密度が２．８Ｊ／ｃｍ２ であって、繰返
し周波数を３４Ｈｚで行なえばよいことを確認できた。
【００２６】実験例２
長尺の可撓性を有するテープ状基材１として、厚さ０．
１ｍｍ、幅１０ｍｍのイットリア安定化ジルコニアテー
プを用いた。サプライチャンバ２から、テープ状基材１
が第１の成膜チャンバ４に送られ、ここで、Ｙ１ Ｂａ
２ Ｃｕ３ Ｏｘ からなるターゲット８を、ＫｒＦエ
キシマレーザ光によってアブレーションし、厚さ２μｍ
のＹ１ Ｂａ２ Ｃｕ３ Ｏ７−ｙ からなる酸化物超
電導層をテープ状基材１上に形成した。続いて、この超
電導層が形成されたテープ状基材１を第２の成膜チャン
バ５に送り、ここで、Ａｇからなるターゲット１０をＫ
ｒＦエキシマレーザ光によってアブレーションし、厚さ
１μｍのＡｇからなる安定化層を超電導層の上に形成し
た。
１ｍｍ、幅１０ｍｍのイットリア安定化ジルコニアテー
プを用いた。サプライチャンバ２から、テープ状基材１
が第１の成膜チャンバ４に送られ、ここで、Ｙ１ Ｂａ
２ Ｃｕ３ Ｏｘ からなるターゲット８を、ＫｒＦエ
キシマレーザ光によってアブレーションし、厚さ２μｍ
のＹ１ Ｂａ２ Ｃｕ３ Ｏ７−ｙ からなる酸化物超
電導層をテープ状基材１上に形成した。続いて、この超
電導層が形成されたテープ状基材１を第２の成膜チャン
バ５に送り、ここで、Ａｇからなるターゲット１０をＫ
ｒＦエキシマレーザ光によってアブレーションし、厚さ
１μｍのＡｇからなる安定化層を超電導層の上に形成し
た。
【００２７】前述したバッファ層を形成した実験例１の
場合と同様、この実験例２においても、成膜チャンバ４
および５の各々におけるテープ状基材１の移動速度を同
じにすることが重要である。
場合と同様、この実験例２においても、成膜チャンバ４
および５の各々におけるテープ状基材１の移動速度を同
じにすることが重要である。
【００２８】第１の成膜チャンバ４におけるＹ１ Ｂａ
２ Ｃｕ３ Ｏ７−ｙ からなる酸化物超電導層の形成
を、レーザ光の繰返し周波数が２００Ｈｚ、成膜速度が
３μｍ／分の条件で行なったとき、臨界電流密度が１０
６ Ａ／ｃｍ２ 以上の酸化物超電導層を形成すること
が可能である。 このとき、２μｍの厚さをもって酸化物超電導層を形成
するには、１５ｍｍ／分の速度でテープ状基材１を搬送
する必要がある。これに引続いて、Ａｇの安定化層を１
μｍの厚さで、かつ１５ｍｍ／分の速度を保って形成す
るには、ＫｒＦエキシマレーザ光のエネルギが４００ｍ
Ｊ、Ａｇターゲット１０上でのエネルギ密度が３．５Ｊ
／ｃｍ２ 、レーザ光の繰返し周波数が６８Ｈｚという
成膜条件を用いればよいことが実験的に確認できた。
２ Ｃｕ３ Ｏ７−ｙ からなる酸化物超電導層の形成
を、レーザ光の繰返し周波数が２００Ｈｚ、成膜速度が
３μｍ／分の条件で行なったとき、臨界電流密度が１０
６ Ａ／ｃｍ２ 以上の酸化物超電導層を形成すること
が可能である。 このとき、２μｍの厚さをもって酸化物超電導層を形成
するには、１５ｍｍ／分の速度でテープ状基材１を搬送
する必要がある。これに引続いて、Ａｇの安定化層を１
μｍの厚さで、かつ１５ｍｍ／分の速度を保って形成す
るには、ＫｒＦエキシマレーザ光のエネルギが４００ｍ
Ｊ、Ａｇターゲット１０上でのエネルギ密度が３．５Ｊ
／ｃｍ２ 、レーザ光の繰返し周波数が６８Ｈｚという
成膜条件を用いればよいことが実験的に確認できた。
【図１】この発明の一実施例を実施するための装置を示
す概略的断面図である。
す概略的断面図である。
１ テープ状基材
４，５ 成膜チャンバ
８，１０ ターゲット
９，１１ レーザ
Claims (3)
- 【請求項１】 テープ状基材上に酸化物超電導層およ
び前記酸化物超電導層に接する少なくとも１つの機能層
が積層されてなる酸化物超電導線材の製造方法において
、前記酸化物超電導層および前記少なくとも１つの機能
層が、ともにレーザアブレーション法により、タンデム
形式の連続した工程を経て形成されることを特徴とする
、酸化物超電導線材の製造方法。 - 【請求項２】 前記機能層は、バッファ層である、請
求項１に記載の酸化物超電導線材の製造方法。 - 【請求項３】 前記機能層は、安定化層である、請求
項１に記載の酸化物超電導線材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03077889A JP3092961B2 (ja) | 1990-04-11 | 1991-04-10 | 酸化物超電導線材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-95466 | 1990-04-11 | ||
| JP9546690 | 1990-04-11 | ||
| JP03077889A JP3092961B2 (ja) | 1990-04-11 | 1991-04-10 | 酸化物超電導線材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04218216A true JPH04218216A (ja) | 1992-08-07 |
| JP3092961B2 JP3092961B2 (ja) | 2000-09-25 |
Family
ID=26418934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03077889A Expired - Fee Related JP3092961B2 (ja) | 1990-04-11 | 1991-04-10 | 酸化物超電導線材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3092961B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005534157A (ja) * | 2002-07-26 | 2005-11-10 | メトル、アクサイド、テクナラジズ、インク | テープ基板上の超伝導材料のための方法および装置 |
| JP2006513553A (ja) * | 2002-07-26 | 2006-04-20 | メトル、アクサイド、テクナラジズ、インク | テープ基板上の超伝導材料 |
| JP2007526597A (ja) * | 2003-06-27 | 2007-09-13 | スーパーパワー インコーポレイテッド | 新規な超伝導物品、及びそれを形成する及び使用する方法 |
| US8124170B1 (en) | 2004-01-23 | 2012-02-28 | Metal Oxide Technologies, Inc | Method for forming superconductor material on a tape substrate |
| US8716188B2 (en) | 2010-09-15 | 2014-05-06 | Superpower, Inc. | Structure to reduce electroplated stabilizer content |
-
1991
- 1991-04-10 JP JP03077889A patent/JP3092961B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005534157A (ja) * | 2002-07-26 | 2005-11-10 | メトル、アクサイド、テクナラジズ、インク | テープ基板上の超伝導材料のための方法および装置 |
| JP2006513553A (ja) * | 2002-07-26 | 2006-04-20 | メトル、アクサイド、テクナラジズ、インク | テープ基板上の超伝導材料 |
| JP2007526597A (ja) * | 2003-06-27 | 2007-09-13 | スーパーパワー インコーポレイテッド | 新規な超伝導物品、及びそれを形成する及び使用する方法 |
| US8124170B1 (en) | 2004-01-23 | 2012-02-28 | Metal Oxide Technologies, Inc | Method for forming superconductor material on a tape substrate |
| US8716188B2 (en) | 2010-09-15 | 2014-05-06 | Superpower, Inc. | Structure to reduce electroplated stabilizer content |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3092961B2 (ja) | 2000-09-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0398374B1 (en) | Method of and apparatus for fabricating oxide superconducting wire | |
| CA2156878A1 (en) | Method and apparatus for manufacturing superconducting components via laser ablation followed by laser material processing | |
| US5127364A (en) | Apparatus for making A-15 type tape superconductors which includes means to melt a wire at its tip so a beam is formed and means for wiping the bead onto a continuous tape substrate | |
| JP2866265B2 (ja) | 高臨界温度超伝導可撓性導体の製造方法 | |
| JPH04218216A (ja) | 酸化物超電導線材の製造方法 | |
| JPH0798854A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置 | |
| JPH04214007A (ja) | 酸化物超電導膜の製造方法および装置 | |
| KR960013372B1 (ko) | 자기기록매체의 제조방법 | |
| JP4128358B2 (ja) | 酸化物超電導導体の製造方法 | |
| EP0329116B1 (en) | Method for manufacturing perpendicular magnetic recording medium | |
| EP0434246B1 (en) | Method and apparatus for producing tape superconductors | |
| JP2963901B1 (ja) | 超電導薄膜の製造方法 | |
| JPH04212214A (ja) | 酸化物超電導薄膜の製造方法 | |
| JPH04212217A (ja) | 酸化物超電導線材の製造方法および装置 | |
| JPH03174305A (ja) | 酸化物超電導体の製造方法 | |
| JPH11269645A (ja) | 化学的気相析出装置 | |
| JPH11185544A (ja) | 配向制御多結晶薄膜の蒸着方法及び蒸着装置 | |
| JP2010165543A (ja) | 超電導薄膜線材の製造方法、超電導薄膜線材および超電導薄膜線材製造装置 | |
| JPH0468695B2 (ja) | ||
| JP2001357739A (ja) | 酸化物超電導線材の製造方法および装置 | |
| WO2005008688A1 (ja) | 酸化物超電導線材の製造方法 | |
| JP2003317557A (ja) | 線材の製造方法および線材の製造装置 | |
| JP2000195044A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置 | |
| JPH08246129A (ja) | 酸化物超伝導薄膜の製造方法 | |
| JP2000260021A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000704 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080728 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080728 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090728 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090728 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100728 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |