JPH0421667A - 2―スルホニルアミノ―5―アルコキシベンゼンスルホン酸類の製造方法 - Google Patents

2―スルホニルアミノ―5―アルコキシベンゼンスルホン酸類の製造方法

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JPH0421667A
JPH0421667A JP12541890A JP12541890A JPH0421667A JP H0421667 A JPH0421667 A JP H0421667A JP 12541890 A JP12541890 A JP 12541890A JP 12541890 A JP12541890 A JP 12541890A JP H0421667 A JPH0421667 A JP H0421667A
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JP
Japan
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sulfonylamino
alkoxybenzenesulfonic
acid
acids
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JP12541890A
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English (en)
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Satoru Ikesu
悟 池洲
Kazuhiko Kimura
和彦 木村
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C303/00Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
    • C07C303/36Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids
    • C07C303/40Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids by reactions not involving the formation of sulfonamide groups

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規な2−スルホニルアミノ−5アルコキシ
ベンゼンスルホン酸類およびその製造方法に関し、更に
詳しくは、写真用添加剤や各種化合物の中間体として有
用な2−スルホニルアミノ−5−アルコキシベンゼンス
ルホン酸類を簡単な方法で製造する方法に関する。
〔発明の背景〕
2−スルホニルアミノ−5−アルコキシベンゼンスルホ
ン酸類は、新規な化合物であり、例えば写真用カプラー
等の写真用添加剤並びに界面活性化作用を有する化合物
の中間体として有用であることがわかった。
しかしながら、この2−スルホニルベンゼンスルホン酸
類化合物の合成法は従来知られていなかったが、ここに
その簡便な合成法を見い出した。
〔発明の目的〕
従って本発明の目的は、写真用カプラー等の写真用添加
剤、並びに界面活性化作用を有する化合物の中間体°と
して有用な2−スルホニルベンゼンスルホン酸類の新規
な、かつ簡便な合成法を提供することである。
〔発明の構成〕
本発明の上記目的は、 1)一般式〔I〕で表される2−スルホニルアミノ−5
−アルコキシベンゼンスルホン酸を製造する方法におい
て、−最大[II)で表される4−スルホニルアミノ−
1−アルコキシベンゼンをスルホン化することを特徴と
する2−スルホニルアミノ−5−アルコキシベンゼンス
ルホン酸類の製造方法。
一般式CI) 〔式中、R5はアルキル基およびシクロアルキル基を表
し、R2はアルキル基、シクロアルキル基およびアリー
ル基を表し、Mは水素原子、アルカリ金属を表す。〕 一般式(n) 〔式中、R1はアルキル基およびシクロアルキル基を表
し、R2はアルキル基、シクロアルキル基およびアリー
ル基を表す。〕 2)請求項1記載の一般式(n)で表される4−スルホ
ニルアミノ−1−アルコキシベンゼンをクロロスルホン
酸または60%〜95%硫酸を用いてスルホン化するこ
とを特徴とする2−スルホニルアミノ−5−アルコキシ
ベンゼンスルホン酸類の製造方法によってそれぞれ達成
された。
次に一般式CI)で表される化合物について説明する。
−最大(1)において、R,はアルキル基およびシクロ
アルキル基を表すが、このうちアルキル基としては、直
鎖又は分岐のアルキル基、例えばメチル、エチル、イソ
プロピル、ブチル、を−ブチル、オクチル、ペンタデシ
ル、エイコキシル等の各基が挙げられ、またシクロアル
キル基としては、例えばシクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘキセニル等の各基が挙げられる。
−最大(1)において、R,はアルキル基およびシクロ
アルキル基を表すが、これらの基はいずれも置換基を有
するものを含み、そして置換基の例としては、ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基
、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、
スルホンアミド基、スルファモイル基等を挙げることが
できる。
一般式(1)において、R2はアルキル基、シクロアル
キル基およびアリール基を表すが、このうちアルキル基
としては、直鎖又は分岐のアルキル基、例えばメチル、
エチル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、オクチル
、ペンタデシル、エイコキシル等が挙げられ、またシク
ロアルキル基としては、例えばシクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロへキセニル等の各基が挙げられ、さら
にアリール基としては、例えばフェニル、ナフチル等の
多基が挙げられる。
−a式(I〕において、R工はアルキル基、シクロアル
キル基およびアリール基を表すが、これらの基はいずれ
も置換基を有するものを含み、そして置換基の例として
は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、アシルオキシ基、カルバモ
イル基、スルファモイル基等を挙げることができる。
−最大CI)において、Mは水素原子またはアルカリ金
属(例えばナトリウム、カリウム等)を表す。
次に一般式〔I〕で示される化合物の代表的な具体例を
以下に示すが、本発明は、これらに限定されるものでは
ない。
NHS(lzに+ zHzs 次に一般式(n)で表される化合物について説明する。
−最大(II)において、R1はアルキル基およびシク
ロアルキル基を表すが、このうちアルキル基としては、
直鎖又は分岐のアルキル基、例えばメチル、エチル、イ
ソプロピル、ブチル、tブチル、オクチル、ペンタデシ
ル、エイコキシル等の多基が挙げられ、またシクロアル
キル基としては、例えばシクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロへキセニル等の多基が挙げられる。
−最大[I[)において、R3はアルキル基およびシク
ロアルキル基を表すが、これらの基はいずれも置換基を
有するものを含み、そして置換基の例としては、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基
、スルホンアミド基、スルファモイル基等を挙げること
ができる。
一般式CI[)において、R2はアルキル基、シクロア
ルキル基およびアリール基を表わすが、このうちアルキ
ル基としては、直鎖又は分岐のアルキル基、例えばメチ
ル、エチル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、オク
チル、ペンタデシル、エイコキシル等が挙げられ、また
シクロアルキル基としては、例えばシクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロへキセニル等の多基が挙げられ、
さらにアリール基としては、例えばフェニル、ナフチル
等の多基が挙げられる。
一般式(n)において、R2はアルキル基、シクロアル
キル基およびアリール基を表わすが、これらの基はいず
れも置換基を有するものを含み、そして置換基の例とし
ては、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、アシルオキシ基、カルバ
モイル基、スルファモイル基等を挙げることができる。
次に一般大CIりで示される化合物の代表的な具体例を
以下に示すが、本発明は、これらに限定されるものでは
ない。
NH30□Cz)Is ■ CH3 ■ OC,H C411,0 −最大(II)で表される化合物は、市販品として入手
するか、従来知られているように対応する4−アルコキ
シアニリンとスルホニルクロライドのスルホンアミド化
反応によって容易に得ることができる。
本発明の一般式(1)で表される2−スルホニルアミノ
−5−アルコキシベンゼンスルホン酸化合物は、−最大
(II)で表される化合物をスルホン化することにより
合成される。
この反応で用いられるスルホン化剤としては硫酸、発煙
硫酸、二酸化硫黄、クロロスルホン酸、二酸化硫黄−ピ
リジン錯体、三酸化硫黄−ジオキサン錯体、アミドスル
ホン酸を挙げることができる。これらのうち、クロロス
ルホン酸および60%〜95%硫酸が好ましく、クロロ
スルホン酸および60%〜95%硫酸をスルホン化剤と
して用いると高収率で目的とする2−スルホニルアミノ
−5−アルコキシベンゼンスルホン酸類が得られる。
本発明に用いられるスルホン化反応は溶媒中で行なうこ
とも、溶媒を用いずニートで反応させることもできる。
スルホン化の際に用いることのできる溶媒としては、例
えば酢酸、無水酢酸、酢酸エチル、ジエチルエーテル、
四塩化炭素、アセトニトリル、二硫化炭素、クロロホル
ム、塩化メチレン、1.1−ジクロロエタン、1.2−
ジクロロエタン等を挙げることができる。
反応温度は特に限定されないが、好ましくは50°C〜
200°C1より好ましくは一20°C〜120°Cで
ある。
〔実施例] 以下に本発明の具体的実施例を記載するが、本発明はこ
れらによって限定されるものではない。
実施例1 2−メタンスルホニルアミノ−5−メトキシヘンゼンス
ルホン酸(例示化合物1−1)(その1)の製造 N−(4−メトキシフェニル)メタンスルホンアミド(
例示化合物U  1)20g (0,1mof)をクロ
ロホルム100mfに分散し、水冷下、約0°Cにてク
ロロスルホン酸23.3 g (0,2moffi)を
滴下し、その後、約15°Cにて12時間反応させる。
反応終了後、氷水200m!!、、酢酸エチル200m
1を加えて水層を減圧乾固させ、得られた残渣を酢酸エ
チル−メタノールで再結晶;7、目的とする例示化合物
1−1を22.4.g(収率80%)得た。融点は95
〜97°Cで、FD−マススペクトルは281を示し、
IR,NMRも上記構造を支持した。
元素分析値(CaH+ lN06S2)計算値(χ) 
  C:34.16  H:3.940:34.13 
 N:4.98 実測値(χ)  C:34.20  H:3.960:
34.12  N:4.95 実施例2 2−メタンスルホニルアミノ−5−メトキシヘンゼンス
ルホン酸(例示化合物1−1)(その2)の製造 N−(4−メトキシフェニル)メタンスルホンアミド(
例示化合物El−1)20gに、水冷下、O′Cにて4
0m1の95%硫酸を加え、その後約15°Cにて一昼
夜反応させる。反応終了後、氷水200mj2、酢酸エ
チル200ni!、を加えて水層を減圧濃縮し、酢酸エ
チル−メタノールでカラムクロマトグラフィーを用いて
精製し、さらに酢酸エチル−メタノールで再結晶し、目
的とする例示化合物I−1を18.8g(収率67%)
得た。融点94〜96°C,IRおよびNMRは実施例
1で得た例示化合物I−1と完全に一致した。
実施例3 2−(2−オクトキシ−5−tert−オクチルフェニ
ル)スルホニルアミノ−5−エトキシエトキシヘンゼン
スルホン酸ナトリウム(例示化合物■12)の合成 N−(4−エトキシエトキシベンゼン)−2オクトキシ
−5tert−オクチルベンゼンスルホンアミド28 
g (50m mol)をクロロホルム175mj2に
溶解し、水冷下、0゛Cにてクロロスルホン酸11.7
 g (100m mof)を加え、室温で一昼夜反応
させる。反応終了後、酢酸エチル300mj2、飽和食
塩水100mj2を加え、有機層を抽出し、溶媒を減圧
留去する。
得られたオイルをクロロホルム−メタノールでカラムク
ロマトグラフィーを用いて精製し、目的とする例示化合
物l−12をオイルとして22g(収率66%)得た。
FO−マススペクトルが663を示し、IRNMRも上
記構造を支持した。
元素分析値(C:+zHsoNOaSJa)計算値(χ
)  C:57.90  H:  7.59N:  2
.Ll  0:19.28 S:9.66 実測値(χ)  C:57.91  )1:  7.5
8N:    2.10   0:19.26S:9.
64 〔発明の効果〕 実施例からもわかるように、本発明によれば、写真用添
加剤、並びに界面活性化作用を有する化合物の中間体と
して有用な2−スルホニルベンゼンスルホン酸類化合物
を簡単な製造方法で容易に製造する事ができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)一般式〔 I 〕で表される2−スルホニルアミノ−
    5−アルコキシベンゼンスルホン酸を製造する方法にお
    いて、一般式〔II〕で表される4−スルホニルアミノ−
    1−アルコキシベンゼンをスルホン化することを特徴と
    する2−スルホニルアミノ−5−アルコキシベンゼンス
    ルホン酸類の製造方法。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1はアルキル基およびシクロアルキル基を
    表し、R_2はアルキル基、シクロアルキル基およびア
    リール基を表し、Mは水素原子、アルカリ金属を表す。 〕 一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔式中、R_1はア
    ルキル基およびシクロアルキル基を表し、R_2はアル
    キル基、シクロアルキル基およびアリール基を表す。〕 2)請求項1記載の一般式〔II〕で表される4−スルホ
    ニルアミノ−1−アルコキシベンゼンをクロロスルホン
    酸または60%〜95%硫酸を用いてスルホン化するこ
    とを特徴とする2−スルホニルアミノ−5−アルコキシ
    ベンゼンスルホン酸類の製造方法。
JP12541890A 1990-05-17 1990-05-17 2―スルホニルアミノ―5―アルコキシベンゼンスルホン酸類の製造方法 Pending JPH0421667A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013510097A (ja) * 2009-11-03 2013-03-21 リウ、リー タンシノンiiaスルホン酸ナトリウム水和物、並びにその調製方法及び使用

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013510097A (ja) * 2009-11-03 2013-03-21 リウ、リー タンシノンiiaスルホン酸ナトリウム水和物、並びにその調製方法及び使用

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