JPH04214750A - 耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物 - Google Patents
耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物Info
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- JPH04214750A JPH04214750A JP40213690A JP40213690A JPH04214750A JP H04214750 A JPH04214750 A JP H04214750A JP 40213690 A JP40213690 A JP 40213690A JP 40213690 A JP40213690 A JP 40213690A JP H04214750 A JPH04214750 A JP H04214750A
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は放射線を照射した時に物
性の劣化が起こりにくいポリプロピレン樹脂組成物に関
する。
性の劣化が起こりにくいポリプロピレン樹脂組成物に関
する。
【０００２】
【従来の技術】ポリプロピレンは安価でしかも物性のバ
ランスが比較的良好であることから食品用、医療用に用
いられている。これらの用途では滅菌することが必要で
あり、そのために放射線を照射することが行われる。放
射線による滅菌は簡便であるがポリマーの分子量が低下
し物性が低下する。
ランスが比較的良好であることから食品用、医療用に用
いられている。これらの用途では滅菌することが必要で
あり、そのために放射線を照射することが行われる。放
射線による滅菌は簡便であるがポリマーの分子量が低下
し物性が低下する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】滅菌の必要な用途が延
びてきており、放射線の照射に対して物性の低下が比較
的生じにくい物性バランスに優れたポリプロピレンの開
発が望まれている。
びてきており、放射線の照射に対して物性の低下が比較
的生じにくい物性バランスに優れたポリプロピレンの開
発が望まれている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題を
解決して耐放射線に優れ、物性バランスに優れたポリプ
ロピレンについて鋭意探索し本発明を完成した。
解決して耐放射線に優れ、物性バランスに優れたポリプ
ロピレンについて鋭意探索し本発明を完成した。
【０００５】即ち本発明は、ポリプロピレンに脂肪族ポ
リカーボネートを配合してなる耐放射線ポリプロピレン
樹脂組成物である。
リカーボネートを配合してなる耐放射線ポリプロピレン
樹脂組成物である。
【０００６】本発明において用いるポリプロピレンとし
てはアイソタクチック構造のプロピレン単独の重合体あ
るいはプロピレンとエチレンあるいは炭素数４〜２０の
α−オレフィンとの共重合体も利用できそれらは種々の
銘柄のものが市場で入手できるが、より好ましくはシン
ジオタクチック構造のポリプロピレンが利用される。シ
ンジオタクチックポリプロピレンを製造するに用いる触
媒としては、Ｊ．Ａ．ＥＷＥＮらによるＪ．Ａｍ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｓｏｃ．，１９８８，１１０，６２５５−６２５
６に記載された化合物が例示できるが、異なる構造の触
媒であっても、プロピレンの単独重合をおこなったとき
得られるポリプロピレンのシンジオタクチックペンタッ
ド分率が０．７ 以上のポリプロピレンを製造すること
ができるようなものであれば利用できる。
てはアイソタクチック構造のプロピレン単独の重合体あ
るいはプロピレンとエチレンあるいは炭素数４〜２０の
α−オレフィンとの共重合体も利用できそれらは種々の
銘柄のものが市場で入手できるが、より好ましくはシン
ジオタクチック構造のポリプロピレンが利用される。シ
ンジオタクチックポリプロピレンを製造するに用いる触
媒としては、Ｊ．Ａ．ＥＷＥＮらによるＪ．Ａｍ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｓｏｃ．，１９８８，１１０，６２５５−６２５
６に記載された化合物が例示できるが、異なる構造の触
媒であっても、プロピレンの単独重合をおこなったとき
得られるポリプロピレンのシンジオタクチックペンタッ
ド分率が０．７ 以上のポリプロピレンを製造すること
ができるようなものであれば利用できる。
【０００７】非対称な配位子を有する遷移金属化合物と
しては上記文献に記載されたイソプロピル（シクロペン
タジエニル−１−フルオレニル） ハフニウムジクロリ
ド、あるいはイソプロピル（シクロペンタジエニル−１
−フルオレニル） ジルコニウムジクロリドなどが例示
される。 またアルミノキサンとしては、下記２種類の化１、化２
の構造（式中、Ｒは炭素数１〜３の炭化水素残基、ｎは
１〜５０の整数。）のものが知られており、これらはい
ずれでも使用でき、特にＲがメチル基であるメチルアル
ミノキサンでｎ が５以上、好ましくは１０以上のも
のが利用される。
しては上記文献に記載されたイソプロピル（シクロペン
タジエニル−１−フルオレニル） ハフニウムジクロリ
ド、あるいはイソプロピル（シクロペンタジエニル−１
−フルオレニル） ジルコニウムジクロリドなどが例示
される。 またアルミノキサンとしては、下記２種類の化１、化２
の構造（式中、Ｒは炭素数１〜３の炭化水素残基、ｎは
１〜５０の整数。）のものが知られており、これらはい
ずれでも使用でき、特にＲがメチル基であるメチルアル
ミノキサンでｎ が５以上、好ましくは１０以上のも
のが利用される。
【０００８】
【化１】
【０００９】
【化２】
【００１０】上記遷移金属化合物に対するアルミノキサ
ンの使用割合としては１０〜１００００００ モル倍、
通常５０〜５０００モル倍である。
ンの使用割合としては１０〜１００００００ モル倍、
通常５０〜５０００モル倍である。
【００１１】また重合条件については特に制限はなく不
活性媒体を用いる溶媒重合法、或いは実質的に不活性媒
体の存在しない塊状重合法、気相重合法も利用できる。
活性媒体を用いる溶媒重合法、或いは実質的に不活性媒
体の存在しない塊状重合法、気相重合法も利用できる。
【００１２】重合温度としては−１００〜２００ ℃、
重合圧力としては常圧〜１００ ｋｇ／ｃｍ２ で行う
のが一般的である。好ましくは−１００〜１００ ℃、
常圧〜５０ｋｇ／ｃｍ２ である。
重合圧力としては常圧〜１００ ｋｇ／ｃｍ２ で行う
のが一般的である。好ましくは−１００〜１００ ℃、
常圧〜５０ｋｇ／ｃｍ２ である。
【００１３】好ましい分子量としては、１３５ ℃テト
ラリン溶液で測定した極限粘度として０．１ 〜３．０
程度であるのが一般的である。
ラリン溶液で測定した極限粘度として０．１ 〜３．０
程度であるのが一般的である。
【００１４】またタクティシティーとしてはプロピレン
の単独重合体では、シンジオタクチックペンタッド分率
（１，２，４−トリクロロベンゼン溶液で測定した１３
Ｃ−ＮＭＲ でスペクトルにおいてテトラメチルシラン
を基準として約２０．２ｐｐｍ に観測されるシンジオ
タクチックペンタッドに帰属されるピークの強度のプロ
ピレンの全メチル基に帰属されるピークの強度の総和に
対する割合。以下、同様） として０．７ 以上好まし
くは０．８ 以上である。０．７ より小さいものでは
、結晶性のポリプロピレンとしての特性が充分でなく物
性が不良であり好ましくない。
の単独重合体では、シンジオタクチックペンタッド分率
（１，２，４−トリクロロベンゼン溶液で測定した１３
Ｃ−ＮＭＲ でスペクトルにおいてテトラメチルシラン
を基準として約２０．２ｐｐｍ に観測されるシンジオ
タクチックペンタッドに帰属されるピークの強度のプロ
ピレンの全メチル基に帰属されるピークの強度の総和に
対する割合。以下、同様） として０．７ 以上好まし
くは０．８ 以上である。０．７ より小さいものでは
、結晶性のポリプロピレンとしての特性が充分でなく物
性が不良であり好ましくない。
【００１５】またエチレン、あるいは他の炭素数４〜２
０のα−オレフィンを共重合して用いることももちろん
可能であり、この場合には１，２，４−トリクロロベン
ゼン溶液で測定した１３Ｃ−ＮＭＲ でテトラメチルシ
ランを基準として約２０．２ｐｐｍ に観測されるピー
クの強度がプロピレン単位のメチル基に帰属されるピー
クの強度の総和の０．５ 以上であるような高度にシン
ジオタクチック構造のものが利用される。ここで他のオ
レフィンの割合としては２０ｗｔ％ 以下であるのが剛
性の点から好ましい。
０のα−オレフィンを共重合して用いることももちろん
可能であり、この場合には１，２，４−トリクロロベン
ゼン溶液で測定した１３Ｃ−ＮＭＲ でテトラメチルシ
ランを基準として約２０．２ｐｐｍ に観測されるピー
クの強度がプロピレン単位のメチル基に帰属されるピー
クの強度の総和の０．５ 以上であるような高度にシン
ジオタクチック構造のものが利用される。ここで他のオ
レフィンの割合としては２０ｗｔ％ 以下であるのが剛
性の点から好ましい。
【００１６】本発明において用いる脂肪族ポリカーボネ
ートとしてはアルキレン基として炭素数２〜２０程度の
ものが利用でき一般には、炭素数２〜２０のジオールと
ジアルキルカーボネートをエステル交換で重合すること
で製造されるが二酸化炭素とアルキレンオキサイドの共
重合によっても製造できる。具体的にはアルキレン基と
してエチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセ
ン、ヘプテン、オクテン、ノネンなどが例示される。
ートとしてはアルキレン基として炭素数２〜２０程度の
ものが利用でき一般には、炭素数２〜２０のジオールと
ジアルキルカーボネートをエステル交換で重合すること
で製造されるが二酸化炭素とアルキレンオキサイドの共
重合によっても製造できる。具体的にはアルキレン基と
してエチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセ
ン、ヘプテン、オクテン、ノネンなどが例示される。
【００１７】脂肪族ポリカーボネートの使用量としては
ポリプロピレン１００部に対し０．００１ 〜１０部程
度、好ましくは０．０１〜１部である。これより少ない
と効果がなくまた多すぎてもより効果的なわけでは無く
物性が低下して好ましくない。
ポリプロピレン１００部に対し０．００１ 〜１０部程
度、好ましくは０．０１〜１部である。これより少ない
と効果がなくまた多すぎてもより効果的なわけでは無く
物性が低下して好ましくない。
【００１８】発明においては、より好ましくはリン系、
あるいはアミン系の酸化防止剤を添加することが行われ
、こうすることで成形時の劣化あるいは滅菌の際の劣化
をより有効に避けることが可能である。
あるいはアミン系の酸化防止剤を添加することが行われ
、こうすることで成形時の劣化あるいは滅菌の際の劣化
をより有効に避けることが可能である。
【００１９】上記酸化防止剤の具体例としてはすでに多
くのものが知られているが具体的にはリン系の酸化防止
剤としてトリアルキルホスファイト（イソデシル、トリ
デシル等）、フェニルジアルキルホスファイト（イソデ
シル、イソオクチル等）、ジフェニルアルキルホスファ
イト（イソデシル、イソオクチル、イソデシル等）、ト
リフェニルホスファイト、置換トリフェニルホスファイ
ト、ホスファラスアシド（１，１−ビフェニル−４，４
’−ジイルビステトラキス（２，４−ビス（１，１’−
ジメチルエチル）フェニル）エステル、３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスフェイト−ジエ
チルエステル、９，１０− ジヒドロ−９−キサ−１０
−ホスフォペナントレン−１０−オキシド、ソジウムビ
ス（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフェイト、ソジウム
−２，２’−メチレン−ビス（４，６−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）−ホスフェイト、１，３−ビス（ジフェノキ
シホスフォニルオキシ）−ベンゼンなどが例示でき、ア
ミン系の酸化防止剤として、アルキル置換ジフェニルア
ミン、ジアリル−ｐ−フェニレンジアミンあるいはその
置換体などのｐ−フェニレンジアミンのＮ置換体、６−
エトキシ２，２’−４−トリメチル−１，２−ジヒドロ
キノリンなどの置換キノリン、２，２’，６，６’−テ
トラアルキルピペリジンなどの置換ピペリジンなどが例
示される。
くのものが知られているが具体的にはリン系の酸化防止
剤としてトリアルキルホスファイト（イソデシル、トリ
デシル等）、フェニルジアルキルホスファイト（イソデ
シル、イソオクチル等）、ジフェニルアルキルホスファ
イト（イソデシル、イソオクチル、イソデシル等）、ト
リフェニルホスファイト、置換トリフェニルホスファイ
ト、ホスファラスアシド（１，１−ビフェニル−４，４
’−ジイルビステトラキス（２，４−ビス（１，１’−
ジメチルエチル）フェニル）エステル、３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスフェイト−ジエ
チルエステル、９，１０− ジヒドロ−９−キサ−１０
−ホスフォペナントレン−１０−オキシド、ソジウムビ
ス（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフェイト、ソジウム
−２，２’−メチレン−ビス（４，６−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）−ホスフェイト、１，３−ビス（ジフェノキ
シホスフォニルオキシ）−ベンゼンなどが例示でき、ア
ミン系の酸化防止剤として、アルキル置換ジフェニルア
ミン、ジアリル−ｐ−フェニレンジアミンあるいはその
置換体などのｐ−フェニレンジアミンのＮ置換体、６−
エトキシ２，２’−４−トリメチル−１，２−ジヒドロ
キノリンなどの置換キノリン、２，２’，６，６’−テ
トラアルキルピペリジンなどの置換ピペリジンなどが例
示される。
【００２０】本発明の組成物を構成するシンジオタクチ
ックポリプロピレンのゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィーで測定した分子量分布としては比較的狭い方が
より放射線の照射で分解を受けにくく、好ましくは重量
平均分子量と数平均分子量の比（以下、ＭＷ／ＭＮ と
略記）で１．５〜５、より好ましくは１．５ 〜４程度
である。このＭＷ／ＭＮ の測定は例えば、１３５ ℃
の１，２，４−トリクロロベンゼンを溶媒として市販の
カラムを用いて測定される。
ックポリプロピレンのゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィーで測定した分子量分布としては比較的狭い方が
より放射線の照射で分解を受けにくく、好ましくは重量
平均分子量と数平均分子量の比（以下、ＭＷ／ＭＮ と
略記）で１．５〜５、より好ましくは１．５ 〜４程度
である。このＭＷ／ＭＮ の測定は例えば、１３５ ℃
の１，２，４−トリクロロベンゼンを溶媒として市販の
カラムを用いて測定される。
【００２１】この組成物の利用方法については特に制限
はなく通常の方法で成形して利用される。
はなく通常の方法で成形して利用される。
【００２２】
【実施例】以下に実施例を示しさらに本発明を説明する
。
。
【００２３】実施例１
常法にしたがって合成したイソプロピルシクロペンタジ
エニル−１− フルオレンをリチウム化し、四塩化ジル
コニウムと反応し再結晶することで得たイソプロピル（
シクロペンタジエニル−１− フルオレニル） ジルコ
ニウムジクロリド０．２ｇと東ソー・アクゾ（株）製メ
チルアルミノキサン（重合度１６．１）３０ｇ を用い
、内容積２００ リッターのオートクレーブでプロピレ
ンを装入して２０℃で重合圧力３ｋｇ／ｃｍ２−Ｇ と
なる様にプロピレンを追加しながら、２０℃で２時間重
合し、ついでメタノールとアセト酢酸メチルで脱灰処理
し塩酸水溶液で洗浄し、ついで濾過して５．６ ｋｇの
シンジオタクチックポリプロピレンを得た。このポリプ
ロピレンは１３Ｃ−ＮＭＲ によればシンジオタクチッ
クペンタッド分率は０．９３５ であり、１３５ ℃テ
トラリン溶液で測定した極限粘度（以下、ηと略記）は
１．４５、１，２，４−トリクロロベンゼンで測定した
ＭＷ／ＭＮ は２．２ であった。
エニル−１− フルオレンをリチウム化し、四塩化ジル
コニウムと反応し再結晶することで得たイソプロピル（
シクロペンタジエニル−１− フルオレニル） ジルコ
ニウムジクロリド０．２ｇと東ソー・アクゾ（株）製メ
チルアルミノキサン（重合度１６．１）３０ｇ を用い
、内容積２００ リッターのオートクレーブでプロピレ
ンを装入して２０℃で重合圧力３ｋｇ／ｃｍ２−Ｇ と
なる様にプロピレンを追加しながら、２０℃で２時間重
合し、ついでメタノールとアセト酢酸メチルで脱灰処理
し塩酸水溶液で洗浄し、ついで濾過して５．６ ｋｇの
シンジオタクチックポリプロピレンを得た。このポリプ
ロピレンは１３Ｃ−ＮＭＲ によればシンジオタクチッ
クペンタッド分率は０．９３５ であり、１３５ ℃テ
トラリン溶液で測定した極限粘度（以下、ηと略記）は
１．４５、１，２，４−トリクロロベンゼンで測定した
ＭＷ／ＭＮ は２．２ であった。
【００２４】このポリプロピレンにポリプロピレンカー
ボネート１ｗｔ％、トリス（２，４− ジ−ｔ− ブチ
ルフェニル） フォスファイトを０．１ ｗｔ％、コハ
ク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒ
ドロキシ−２，２’，６，６’−テトラメチルピペリジ
ン重縮合物０．０１ｗｔ％加えて造粒し、厚さ２ｍｍ
のシートとし１ Ｍｒａｄ／ｈｒ でγ線を３Ｍｒａｄ
照射し前後の以下の物性を測定した。 曲げ剛性度： ｋｇ／ｃｍ２ ＡＳＴＭ Ｄ−
７４７（２３ ℃） 引張降伏強さ： ｋｇ／ｃｍ
２ ＡＳＴＭ Ｄ−６３８（２３℃） 破断時伸び：
％ ＡＳＴＭ Ｄ−６３８（２３
℃） アイゾット（ ノッチ付） 衝撃強度：ｋｇ・ｃ
ｍ／ｃｍ ＡＳＴＭ Ｄ−６３８（２３℃、−１０℃）
照射前の曲げ剛性度、引張降伏強さ、破断時伸び、ア
イゾット衝撃強度 （２３℃、−１０℃） はそれぞれ
６１００、２５０ 、６８０ 、４８、３．８ であり
、照射後はそれぞれ６１００、２５５ 、６４０ 、４
８、３．７ であった。
ボネート１ｗｔ％、トリス（２，４− ジ−ｔ− ブチ
ルフェニル） フォスファイトを０．１ ｗｔ％、コハ
ク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒ
ドロキシ−２，２’，６，６’−テトラメチルピペリジ
ン重縮合物０．０１ｗｔ％加えて造粒し、厚さ２ｍｍ
のシートとし１ Ｍｒａｄ／ｈｒ でγ線を３Ｍｒａｄ
照射し前後の以下の物性を測定した。 曲げ剛性度： ｋｇ／ｃｍ２ ＡＳＴＭ Ｄ−
７４７（２３ ℃） 引張降伏強さ： ｋｇ／ｃｍ
２ ＡＳＴＭ Ｄ−６３８（２３℃） 破断時伸び：
％ ＡＳＴＭ Ｄ−６３８（２３
℃） アイゾット（ ノッチ付） 衝撃強度：ｋｇ・ｃ
ｍ／ｃｍ ＡＳＴＭ Ｄ−６３８（２３℃、−１０℃）
照射前の曲げ剛性度、引張降伏強さ、破断時伸び、ア
イゾット衝撃強度 （２３℃、−１０℃） はそれぞれ
６１００、２５０ 、６８０ 、４８、３．８ であり
、照射後はそれぞれ６１００、２５５ 、６４０ 、４
８、３．７ であった。
【００２５】比較例１
ポリプロピレンカーボネートを使用しなかった他は実施
例１と同様にしたところ照射前の曲げ剛性度、引張降伏
強さ、破断時伸び、アイゾット衝撃強度 （２３℃、−
１０℃） それぞれ６２００、２６０ 、５５０ 、４
５、３．６ であり、照射後はそれぞれ６１００、２６
５ 、３９０ 、３８、３．４ であった。
例１と同様にしたところ照射前の曲げ剛性度、引張降伏
強さ、破断時伸び、アイゾット衝撃強度 （２３℃、−
１０℃） それぞれ６２００、２６０ 、５５０ 、４
５、３．６ であり、照射後はそれぞれ６１００、２６
５ 、３９０ 、３８、３．４ であった。
【００２６】
【発明の効果】本発明の組成物は耐放射線に優れ、しか
も極めて物性バランスに優れており、工業的に極めて価
値がある。
も極めて物性バランスに優れており、工業的に極めて価
値がある。
Claims (2)
- 【請求項１】 ポリプロピレンに脂肪族ポリカーボネ
ートを配合してなる耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物
。 - 【請求項２】 ポリプロピレンが１，２，４−トリク
ロロベンゼン溶液で測定した１３Ｃ−ＮＭＲ でテトラ
メチルシランを基準として約２０．２ｐｐｍ に観測さ
れるピークの強度がプロピレン単位のメチル基に帰属さ
れるピークの強度の総和の０．５ 以上である実質的に
シンジオタクチック構造のポリプロピレンである請求項
１記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40213690A JP3016601B2 (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | 耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40213690A JP3016601B2 (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | 耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04214750A true JPH04214750A (ja) | 1992-08-05 |
| JP3016601B2 JP3016601B2 (ja) | 2000-03-06 |
Family
ID=18511957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40213690A Expired - Fee Related JP3016601B2 (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | 耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3016601B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6231936B1 (en) | 1995-08-29 | 2001-05-15 | Exxon Chemical Patents, Inc. | Radiation tolerant polypropylene and its useful articles |
| JP2013542290A (ja) * | 2010-10-11 | 2013-11-21 | ノボマー， インコーポレイテッド | ポリマーブレンド |
| WO2014175364A1 (ja) * | 2013-04-25 | 2014-10-30 | 住友精化株式会社 | ポリオレフィン系樹脂組成物 |
-
1990
- 1990-12-14 JP JP40213690A patent/JP3016601B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6231936B1 (en) | 1995-08-29 | 2001-05-15 | Exxon Chemical Patents, Inc. | Radiation tolerant polypropylene and its useful articles |
| JP2013542290A (ja) * | 2010-10-11 | 2013-11-21 | ノボマー， インコーポレイテッド | ポリマーブレンド |
| JP2017057422A (ja) * | 2010-10-11 | 2017-03-23 | ノボマー， インコーポレイテッド | ポリマーブレンド |
| US9738784B2 (en) | 2010-10-11 | 2017-08-22 | Novomer, Inc. | Polymer blends |
| WO2014175364A1 (ja) * | 2013-04-25 | 2014-10-30 | 住友精化株式会社 | ポリオレフィン系樹脂組成物 |
| CN105209538A (zh) * | 2013-04-25 | 2015-12-30 | 住友精化株式会社 | 聚烯烃类树脂组合物 |
| JPWO2014175364A1 (ja) * | 2013-04-25 | 2017-02-23 | 住友精化株式会社 | ポリオレフィン系樹脂組成物 |
| US9783665B2 (en) | 2013-04-25 | 2017-10-10 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Polyolefin-based resin composition |
| TWI615432B (zh) * | 2013-04-25 | 2018-02-21 | 住友精化股份有限公司 | 聚烯烴系樹脂組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3016601B2 (ja) | 2000-03-06 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |